JPH019933Y2 - - Google Patents

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JPH019933Y2
JPH019933Y2 JP1983196991U JP19699183U JPH019933Y2 JP H019933 Y2 JPH019933 Y2 JP H019933Y2 JP 1983196991 U JP1983196991 U JP 1983196991U JP 19699183 U JP19699183 U JP 19699183U JP H019933 Y2 JPH019933 Y2 JP H019933Y2
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optical
electro
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Description

【考案の詳細な説明】 (技術分野) 本考案は、光変調装置に関するものであつて、
詳しくは、光導波路を通過する光を強度変調する
ように構成された光変調装置の改良に関するもの
である。
(従来例) ニオブ酸リチウム(LiNbO0)のような電気光
学材料よりなる基板にチタン(Ti)などの金属
不純物を熱拡散することにより基板よりも屈折率
の高い光導波路が形成され、電気光学効果の効率
の極めて高い光導波路体が得られる。このような
光導波路に電界を加えると、光導波路を通過する
光は電気光学効果により強度変調される。
このような光導波路体の一種に、第1図に示す
ような分岐干渉形光導波路体がある。
第1図において、10は基板、20は光導波
路、30は電極、40は信号源である。
基板10は電気光学効果を有するニオブ酸リチ
ウム(LiNbO0)のような電気光学材料で構成さ
れている。光導波路20は基板10にチタン
(Ti)のような金属不純物を熱拡散することによ
り線状に形成され基板10よりも高い屈折率を有
するものであり、Y字形の分岐部21、互いに平
行な位相推移部22及びY字形の結合部23が連
続的に一体化されている。電極30は光導波路2
0を通過する光を強度変調するために光導波路2
0に電界を印加するものであり、位相推移部22
を挟むようにして第1の電極31及び第2の電極
32が基板10上に設けられている。信号源40
は電界を供給するものであり、第1の電極31と
第2の電極32との間に接続されている。なお、
光導波路20のY字形の分岐部21の端部にはレ
ーザダイオードなどの光源からの光を伝送するた
めの光フアイバーが接続され、Y字形の結合部2
3の端部には強度変調された光をフオトトランジ
スタなどの受光素子に伝送するための光フアイバ
ーが接続されるが図示しない。
このような構成において、光導波路20のY字
形の分岐部21の端部に光源からの光が加えらる
と、光は分岐部21で2分割されて位相推移部2
2に伝送される。位相推移部22では2分割され
た光の間に電極30を介して加えられる信号源4
0の出力の大きさに応じた位相差が与えられる。
そして、位相差を有するこれら光は結合部23で
再び結合される。これにより、結合部23の端部
から強度変調された光が送出されることになる。
ここで、位相推移部22にλ/4の位相差を与え
て強度変調された光を結合部23から受光素子に
加えることにより電極30を介して加えられる信
号源40の出力の大きさに応じた電気信号を得る
ことができる。
ところで、このような装置では、基板10とし
て第2図に示すようにX,Z軸が水平面となりY
軸が垂直面となるようにカツトされたものを用い
ることにより高感度特性が得られる。
しかし、高感度特性が得られる反面、Z軸方向
の屈折率neおよびZ軸方向の電気光学係数r00
温度変化に応じて大きく変化するという欠点があ
る。
(考案の目的) 本考案は、このような従来の欠点を解決したも
のであり、その目的は、高感度特性が得られ、温
度変化によるZ軸方向の屈折率neおよびZ軸方
向の電気光学係数r00の変化が小さな光変調装置
を提供することにある。
(考案の構成) このような目的を達成する本考案は、X,Z軸
が水平面となりY軸が垂直面となるようにカツト
された電気光学材料よりなる基板と、基板上に形
成された光導波路と、光導波路を通過する光に電
界を印加して強度変調するように基板上に形成さ
れた電極と、これら光導波路および電極を覆うよ
うに基板上に形成され基板と極性の異なる温度係
数を有する絶縁保護層とで構成されたことを特徴
とする。
(実施例) 以下、図面を用いて詳細に説明する。
第3図は、本考案の一実施例の要部を示す断面
図であつて、第1図と同等部分には同一符号を付
けている。第3図において、50は光導波路20
および電極30を覆うように基板10上に形成さ
れた二酸化シリコン(SiO2)よりなる絶縁保護
層である。このような絶縁保護層50は、例えば
スパツタにより形成することができ、1μm程度設
けるようにする。
このような構成において、常温雰囲気では、ニ
オブ酸リチウムよりなる基板10は正の温度係数
を有し、二酸化シリコンよりなる絶縁保護層50
は負の温度係数を有する。ここで、温度係数とは
熱膨張率や剛性率を含むが、熱膨張率が支配的で
ある。
このように構成することにより、逆の温度係数
による変位の境界面は基板10の表面から数μm
程度の内部に形成されることになり、基板10の
表面から深さ5μm程度までは絶縁保護層50と同
じ方向に変位することになる。従つて、基板10
と絶縁保護層50との境界面に、温度変化に起因
した機械的な歪みを生じることはない。
これにより、基板10の表面層数μmの領域の
温度係数をほぼ零にすることができ、Z軸方向の
屈折率neおよびZ軸方向の電気光学係数r00の温
度特性を大幅に改善することができる。
また、このような絶縁保護層50を設けること
により、電極30相互間の絶縁が図れると共に装
置表面を外部雰囲気から隔離することができ、長
期安定化が図れる。
このような構成によれば、例えば信号源の出力
信号の大きさを電気的に完全に絶縁した状態で測
定できる光電圧計が実現できるのをはじめ、光通
信システムにおける各種の光信号処理装置に用い
ることができる。
なお、上記実施例では、分岐干渉形光導波路体
の例を説明したが、ゲート結合形、カツトオフ
形、コブラ形などについても同様の効果が得られ
る。
また、基板としては、タンタル酸リチウム
(LiTaO0)で構成されたものを用いてもよい。
(考案の効果) これらから明らかなように、本考案によれば、
高感度特性が得られ、温度変化によるZ軸方向の
屈折率neおよびZ軸方向の電気光学係数r00の変
化が小さな光変調装置が実現でき、実用上の効果
は大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は分岐干渉形光導波路体の一例を示す構
成説明図、第2図は本考案で用いる基板の結晶方
ツ位の説明図、第3図は本考案の一実施例の要部
を示す拡大断面図である。 10……基板、20……光導波路、30……電
極、40……信号源、50……絶縁保護層。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. X,Z軸が水平面となりY軸が垂直面となるよ
    うにカツトされた電気光学材料よりなる基板と、
    基板上に形成された光導波路と、光導波路を通過
    する光に電界を印加して強度変調するように基板
    上に形成された電極と、これら光導波路および電
    極を覆うように基板上に形成され基板と極性の異
    なる温度係数を有する絶縁保護層とで構成された
    ことを特徴とする光変調装置。
JP1983196991U 1983-12-21 1983-12-21 光変調装置 Granted JPS60104821U (ja)

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JPH0760226B2 (ja) * 1987-11-20 1995-06-28 日本電信電話株式会社 光変調器
JPH0769494B2 (ja) * 1988-09-12 1995-07-31 横浜国立大学長 光導波路
DE69933642T2 (de) * 1998-08-10 2007-02-01 Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. Lichtmodulator vom wellenleitertyp

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