JPH02101152A - 金属フィラメントの浸漬被覆フィルム厚さを制御するための気体噴射払拭方法,該方法を実施するための装置、および気体噴射払拭ノズル - Google Patents
金属フィラメントの浸漬被覆フィルム厚さを制御するための気体噴射払拭方法,該方法を実施するための装置、および気体噴射払拭ノズルInfo
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- JPH02101152A JPH02101152A JP1217178A JP21717889A JPH02101152A JP H02101152 A JPH02101152 A JP H02101152A JP 1217178 A JP1217178 A JP 1217178A JP 21717889 A JP21717889 A JP 21717889A JP H02101152 A JPH02101152 A JP H02101152A
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
- B05B1/26—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means with means for mechanically breaking-up or deflecting the jet after discharge, e.g. with fixed deflectors; Breaking-up the discharged liquid or other fluent material by impinging jets
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
- C23C2/16—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using fluids under pressure, e.g. air knives
- C23C2/18—Removing excess of molten coatings from elongated material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は液体金属浴に浸漬被覆された金属フィラメント
材料を噴射払拭づる方法、この方法を実施づる装置並び
にこの装置に用いられる噴射払拭ノズルに関するもので
ある。
材料を噴射払拭づる方法、この方法を実施づる装置並び
にこの装置に用いられる噴射払拭ノズルに関するもので
ある。
従来技術、および発明が解決しようとする課題金属ワイ
A7またはストリップ等のフィラメント材11が溶融仰
鉛、アルミニウム、またはその合金に浸漬被覆されるど
き、通常、フィラメントの表面から余剰の被Inを除去
でることが必要である。
A7またはストリップ等のフィラメント材11が溶融仰
鉛、アルミニウム、またはその合金に浸漬被覆されるど
き、通常、フィラメントの表面から余剰の被Inを除去
でることが必要である。
これを達成する方法としては多くのものが知られており
、その1つは−・殻内には気体噴射払拭法か知られてい
る。気体噴射払拭法においては気体流がフィラメントに
衝突し余剰の被i飼料を除去する。気体噴射払拭法の典
型的な装置及びノズルは以下の特許に記載されている。
、その1つは−・殻内には気体噴射払拭法か知られてい
る。気体噴射払拭法においては気体流がフィラメントに
衝突し余剰の被i飼料を除去する。気体噴射払拭法の典
型的な装置及びノズルは以下の特許に記載されている。
米国特許用2,194.565号
3.060.889号
3.270.364号
3.611.986号
3.707,400号
3.736.174号
4.287,238号
豪州特許用 458.892号
537.94/1号
539.396号
544.27’7号
従来の気体噴射払拭法によるフィラメントの被覆■稈、
特に亜鉛、アルミニウムまたはその合金等の溶融金属で
鉄線を被覆する工程においては多くの問題点がある。
特に亜鉛、アルミニウムまたはその合金等の溶融金属で
鉄線を被覆する工程においては多くの問題点がある。
金属シー1〜等の平坦な月利に″ついては、気体噴射払
拭法は材料の被覆金属の厚さを制御すること及び−4!
ななめらかな表面処理を形成することには有効である。
拭法は材料の被覆金属の厚さを制御すること及び−4!
ななめらかな表面処理を形成することには有効である。
円形、または非円形の線管状材料及び小ス1〜リップ、
等の角形フイラメン1−については、払拭される材料の
形状にJ:り平坦材料では生じない問題が生じる。払拭
領域の手で金属酸化物がフイラメン[−トに形成され、
フィラメントの全外周にリングまたはバンドを形成する
。フィラメントの外周が小さいため酸化物の形成により
払拭気体流を介して分断され好ましくないフイラメント
上の被覆リングまたはバンドの厚さを増大してしまう。
等の角形フイラメン1−については、払拭される材料の
形状にJ:り平坦材料では生じない問題が生じる。払拭
領域の手で金属酸化物がフイラメン[−トに形成され、
フィラメントの全外周にリングまたはバンドを形成する
。フィラメントの外周が小さいため酸化物の形成により
払拭気体流を介して分断され好ましくないフイラメント
上の被覆リングまたはバンドの厚さを増大してしまう。
本発明はこの問題を解決するものである。
この問題を解決づ−るため従来の気体噴射払拭方法が多
く提案され、フィラメントが金属浴から離れ払拭される
までフィラメントに対しで完全に保護づる雰囲気を供給
4るフード内にフィラメントを閉込めており、この方法
は米国特泊第3,707.400号及び第4.287.
238号に記載されている。
く提案され、フィラメントが金属浴から離れ払拭される
までフィラメントに対しで完全に保護づる雰囲気を供給
4るフード内にフィラメントを閉込めており、この方法
は米国特泊第3,707.400号及び第4.287.
238号に記載されている。
米国特許用3,707.400号に示されている方法の
問題点は、気体流噴射払拭ノズルに入るガス聞を調整す
ることによりフィラメント覆金属の厚さを制御すること
が困難また【よ不i1 (指なことである。ノズルのV
イズを変更することなしに被覆層の厚さを変えるために
は必要な被覆層の厚さに比例してフィラメントの供給速
度を変化させる必要がある。すなわち被覆層の厚さを小
さくするためには供給速度を遅くし被覆層の貯さを大ぎ
くするためには供給速度を高くする必要がある。所定の
被覆層の厚さを得るためフィラメントの供給速度を調整
することはメツキラインにお番プる操作性Jなわち熱処
理及び浄化セクションの操作性が低下し製造されるワイ
ヤの量が変化してしまうことに通じるので好ましくない
。
問題点は、気体流噴射払拭ノズルに入るガス聞を調整す
ることによりフィラメント覆金属の厚さを制御すること
が困難また【よ不i1 (指なことである。ノズルのV
イズを変更することなしに被覆層の厚さを変えるために
は必要な被覆層の厚さに比例してフィラメントの供給速
度を変化させる必要がある。すなわち被覆層の厚さを小
さくするためには供給速度を遅くし被覆層の貯さを大ぎ
くするためには供給速度を高くする必要がある。所定の
被覆層の厚さを得るためフィラメントの供給速度を調整
することはメツキラインにお番プる操作性Jなわち熱処
理及び浄化セクションの操作性が低下し製造されるワイ
ヤの量が変化してしまうことに通じるので好ましくない
。
米国特許用4,287,238号に示された方法の問題
点は、被覆金属の発散材がノズルのワイX/Aリフイス
面に高払拭ガスL「及びフィラメント速度で形成される
ことである。払拭作用の結果、フィラメントが除去され
る発散材は、ノズルのワイヤ及びオリフィスの面にすぐ
に形成されフィラメントと接触づるので気体流の有効払
拭動作と]=渉しフィラメントの不完全な面を形成して
しまう問題がある。この方法における別の問題点は使用
ガスの(イ)が比較的多いことであり、このためパッド
払拭法を用いるほうが軒済的になることである。
点は、被覆金属の発散材がノズルのワイX/Aリフイス
面に高払拭ガスL「及びフィラメント速度で形成される
ことである。払拭作用の結果、フィラメントが除去され
る発散材は、ノズルのワイヤ及びオリフィスの面にすぐ
に形成されフィラメントと接触づるので気体流の有効払
拭動作と]=渉しフィラメントの不完全な面を形成して
しまう問題がある。この方法における別の問題点は使用
ガスの(イ)が比較的多いことであり、このためパッド
払拭法を用いるほうが軒済的になることである。
パッド払拭法においてはフィラメントは、米国特許用3
,892.894号に示されるようにアスベスト等の4
′A石により物理的に払拭される。
,892.894号に示されるようにアスベスト等の4
′A石により物理的に払拭される。
米国特罎第4.287.238号による方法の別の欠点
は払拭装置の全体の大きさが比較的大きくなることであ
る。全体の大きさが大きくなることはワイA7が通常よ
り高温浸漬金属浴の出口から離れてしまい、ワイA7の
処理場が少なくなり、歩留が悪くなることである。豪州
第539,396号に示されlごこの方法の変形による
と、気体噴射′1F) 払拭が保護フード無しに実行されるが米国141訂第4
.287,238号について述べた問題が生じ、上述の
ように払拭後フィラメントに残る保護リングの厚さが大
きくなるという問題もあった。本発明は従来の気体Di
射払拭方法及びこの方法を実施する装置の上述の欠点を
解消づるものである。
は払拭装置の全体の大きさが比較的大きくなることであ
る。全体の大きさが大きくなることはワイA7が通常よ
り高温浸漬金属浴の出口から離れてしまい、ワイA7の
処理場が少なくなり、歩留が悪くなることである。豪州
第539,396号に示されlごこの方法の変形による
と、気体噴射′1F) 払拭が保護フード無しに実行されるが米国141訂第4
.287,238号について述べた問題が生じ、上述の
ように払拭後フィラメントに残る保護リングの厚さが大
きくなるという問題もあった。本発明は従来の気体Di
射払拭方法及びこの方法を実施する装置の上述の欠点を
解消づるものである。
米国特許用3.736.174号は払拭されるフィラメ
ントに衝突する航に互いに衝突する複数の気体流を有す
る気体噴射払拭ノズルを開示している。この装置により
フィラメントへの気体の衝突角度が可変となる。この発
明のノズルに極めてこのノズル部品は似ているので、全
体としC本明細書のノズルは、本発明によるノズルの所
定の品質を製造する物理的な形状は示されていイ1い。
ントに衝突する航に互いに衝突する複数の気体流を有す
る気体噴射払拭ノズルを開示している。この装置により
フィラメントへの気体の衝突角度が可変となる。この発
明のノズルに極めてこのノズル部品は似ているので、全
体としC本明細書のノズルは、本発明によるノズルの所
定の品質を製造する物理的な形状は示されていイ1い。
課題を達成するための手段
液体金属浴を介して金属フイラメン]〜の浸漬塗布から
のフィルムを制御する気体噴射払拭り法において、本発
明の1つの特徴によると、環状気体噴射払拭ノズルが上
方環状部分と−F方環状部分とを有しており、その環状
部分のそれぞれがほぼ鋭い環状縁部を形成“する上下の
環状面を有しており1.1−下の環状部分の隣接する面
がその間に環状気体オリフィスまで延びた環状気体通路
を形成しており、その縁部及び気体オリフィスがフィラ
メントが通過−ijるフィラメントオリフィスを形成し
ており、上部環状部分の上面と気体オリノイズから離れ
るガスの搬送方向とが成づ一内角和 (80−x ) ’ J:り小さく、上部環状部分の下
面と気体通路を離れるガスの搬送方向とが成り各内角用
(70−x)’より小さく(Xは気体噴射払拭ノズルを
通過4るフィラメントの移動方向に対して垂直な而と気
体通路を離れる気体搬送方向とが成り内角である)、下
部環状部分の下面は液体浴に対向しており、その下面と
気体噴射払拭ノズルを通過するフイラメン1−の18a
方向との間の最小内角が少なくとも20°になるように
配置されており、下部環状部分の上面はその面と気体噴
射払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向との最
小内角が少なくとも10°になるように配置されている
。
のフィルムを制御する気体噴射払拭り法において、本発
明の1つの特徴によると、環状気体噴射払拭ノズルが上
方環状部分と−F方環状部分とを有しており、その環状
部分のそれぞれがほぼ鋭い環状縁部を形成“する上下の
環状面を有しており1.1−下の環状部分の隣接する面
がその間に環状気体オリフィスまで延びた環状気体通路
を形成しており、その縁部及び気体オリフィスがフィラ
メントが通過−ijるフィラメントオリフィスを形成し
ており、上部環状部分の上面と気体オリノイズから離れ
るガスの搬送方向とが成づ一内角和 (80−x ) ’ J:り小さく、上部環状部分の下
面と気体通路を離れるガスの搬送方向とが成り各内角用
(70−x)’より小さく(Xは気体噴射払拭ノズルを
通過4るフィラメントの移動方向に対して垂直な而と気
体通路を離れる気体搬送方向とが成り内角である)、下
部環状部分の下面は液体浴に対向しており、その下面と
気体噴射払拭ノズルを通過するフイラメン1−の18a
方向との間の最小内角が少なくとも20°になるように
配置されており、下部環状部分の上面はその面と気体噴
射払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向との最
小内角が少なくとも10°になるように配置されている
。
液体金属浴を通過する金属フイラメンt〜の浸漬塗布か
らのフィルムのJ9さを連続塗布制御づる装置において
、本発明の第2の特徴は、以上の構成要件を有している
。
らのフィルムのJ9さを連続塗布制御づる装置において
、本発明の第2の特徴は、以上の構成要件を有している
。
(2) 液体金属塗布浴
(へ)加圧気体源
(へ) 気体噴射払拭ノズル
気体噴射払拭ノズルは上部環状部分及び下部環状部分を
有しており、環状部分のそれぞれがほぼ鋭い環状縁部を
形成する上下向を有しており、−上部及び下部環状部分
の隣接する面がその間に加H気体源に動作的に接続され
かつ環状気体オリフィスに延びた環状気体通路を形成し
ており、ぞの縁部及び気体オリフィスがフィラメントが
通過づるフィラメントオリフィスを形成しており、上部
環状部分の上面と気体オリフィスを離れる気体搬送方向
とが成す内角が(80−x) 0よりも小さく、下部環
状部分の下面と気体通路を離れた気体搬送方向とが成す
角が(704X)’よりも小さく(気体噴射払拭ノズル
を通過するフィラメントの移動方向に対して垂直な面と
気体通路を離れる気体搬送方向とが成す内角である)、
下部環状部分の下面は液体浴と対向しており、その面と
気体噴射払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向
とが成で一最小内角は少なくとも20°であるように配
置され、上部環状部分の上面はその面と気体噴射払拭ノ
ズルを通過するフィラメントの移動方向とがなす最小内
角が少なくとも10″となるように配置されている。
有しており、環状部分のそれぞれがほぼ鋭い環状縁部を
形成する上下向を有しており、−上部及び下部環状部分
の隣接する面がその間に加H気体源に動作的に接続され
かつ環状気体オリフィスに延びた環状気体通路を形成し
ており、ぞの縁部及び気体オリフィスがフィラメントが
通過づるフィラメントオリフィスを形成しており、上部
環状部分の上面と気体オリフィスを離れる気体搬送方向
とが成す内角が(80−x) 0よりも小さく、下部環
状部分の下面と気体通路を離れた気体搬送方向とが成す
角が(704X)’よりも小さく(気体噴射払拭ノズル
を通過するフィラメントの移動方向に対して垂直な面と
気体通路を離れる気体搬送方向とが成す内角である)、
下部環状部分の下面は液体浴と対向しており、その面と
気体噴射払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向
とが成で一最小内角は少なくとも20°であるように配
置され、上部環状部分の上面はその面と気体噴射払拭ノ
ズルを通過するフィラメントの移動方向とがなす最小内
角が少なくとも10″となるように配置されている。
液体浴を通過16ノイラメントの浸漬塗布から供給され
るフィルムを副1[lシるのに用いられる気体@銅払拭
ノズルにおいて、本発明の第3の特徴によるとノズルが
−に部環状部分と下部環状部分とを有してJ5す、各環
状部分がほぼ鋭い環状縁部を形成リ−る十ドの環状面を
有しており、上下の環状部分の隣接する面がその間に環
状気体オリフィスまで延びた環状気体通路を形成してお
り、その縁部と気体オリフィスとが払拭されるフィラメ
ントを使用前に包囲するフィラメントオリフィスを画定
しでおり、L部環状部分の上面と気体オリフイスを離れ
る気体搬送方向とが成す内角が(80−x)’よりも小
さく、上部環状部分の下面と気体通路を離れる気体搬送
方向とが成す角が(70+x)’よりも小さく(気体噴
射払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向に対し
て垂直な面と気体通路を離れる気体搬送方向とが成す内
角である)、下部環状部分の下面は液体浴と対向してお
り、その面と気体噴射払拭ノズルを通過するフィラメン
トの移動方向とが成す最小内角は少なくとも20°であ
るように配置され、上111環状部分の上面はその而と
気体噴射払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向
とが成″IJ最小内角が少なくとも100となるように
配置されている。
るフィルムを副1[lシるのに用いられる気体@銅払拭
ノズルにおいて、本発明の第3の特徴によるとノズルが
−に部環状部分と下部環状部分とを有してJ5す、各環
状部分がほぼ鋭い環状縁部を形成リ−る十ドの環状面を
有しており、上下の環状部分の隣接する面がその間に環
状気体オリフィスまで延びた環状気体通路を形成してお
り、その縁部と気体オリフィスとが払拭されるフィラメ
ントを使用前に包囲するフィラメントオリフィスを画定
しでおり、L部環状部分の上面と気体オリフイスを離れ
る気体搬送方向とが成す内角が(80−x)’よりも小
さく、上部環状部分の下面と気体通路を離れる気体搬送
方向とが成す角が(70+x)’よりも小さく(気体噴
射払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向に対し
て垂直な面と気体通路を離れる気体搬送方向とが成す内
角である)、下部環状部分の下面は液体浴と対向してお
り、その面と気体噴射払拭ノズルを通過するフィラメン
トの移動方向とが成す最小内角は少なくとも20°であ
るように配置され、上111環状部分の上面はその而と
気体噴射払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向
とが成″IJ最小内角が少なくとも100となるように
配置されている。
亜鉛、アルミニウム、またはアルミニウム11!鉛の合
金の鉄線として用いられる本発明の好適実施例は、以下
の利点を先行技術に対して有している。
金の鉄線として用いられる本発明の好適実施例は、以下
の利点を先行技術に対して有している。
(1) 本発明のノズルの払拭効率は、所定の金属被
覆重量に対して払拭気体圧ツノ及び体積がかなり低い先
行技術よりもかなり高くなる。払拭気体は全作動コスト
の重要な要件であるから、これは充分な利点を有づ−る
といえる。
覆重量に対して払拭気体圧ツノ及び体積がかなり低い先
行技術よりもかなり高くなる。払拭気体は全作動コスト
の重要な要件であるから、これは充分な利点を有づ−る
といえる。
(2) 後の払拭動作においてフィラメントに残る被
覆リングの厚さが厚くなることを防止することは本発明
のノズルを用いる場合かなり利点がある。
覆リングの厚さが厚くなることを防止することは本発明
のノズルを用いる場合かなり利点がある。
特にこの利点は払拭気体圧が低い場合、低被覆速度及び
高被覆圧のとき顕著である。
高被覆圧のとき顕著である。
(3) ノズルのワイヤオリフィス及び気体オリフィ
スの面に対する亜鉛の蒸着が防止される。
スの面に対する亜鉛の蒸着が防止される。
(4) 払拭気体Iff力と本発明のノズルを用いた
フィラメントの被覆厚さとの関係は被覆厚さが気体圧力
を高精度に変更することによりぬ楼内に制御調整可能な
ことである。
フィラメントの被覆厚さとの関係は被覆厚さが気体圧力
を高精度に変更することによりぬ楼内に制御調整可能な
ことである。
(5) 本発明によるノズルは小さなワイヤオリフィ
ス径を有するので一様に気体オリフィスのまわりに配置
されるのに充分な長さの気体通路長が保護フードまたは
保護室なして゛ノズルの全サイズが小さくなる。
ス径を有するので一様に気体オリフィスのまわりに配置
されるのに充分な長さの気体通路長が保護フードまたは
保護室なして゛ノズルの全サイズが小さくなる。
本川Mt’Jに1J5tノる用5n[フィラメントJは
厚さに対して10倍以トの幅を有する狭いストリップ材
または円形及び非円形の断面を右するワイヤを意味する
。本発明は円形断面のワイヤについて原則的には述べら
れるが、本発明は非円形断面のワイヤ及び上述のストリ
ップ材にも適用できることはいうまでもない。
厚さに対して10倍以トの幅を有する狭いストリップ材
または円形及び非円形の断面を右するワイヤを意味する
。本発明は円形断面のワイヤについて原則的には述べら
れるが、本発明は非円形断面のワイヤ及び上述のストリ
ップ材にも適用できることはいうまでもない。
本明細書に述べられるように[気体通路を断れる気体の
搬送方向」は便宜上ノズルの径方向からみた下部環状部
材の上面と」一部環状部拐の下面との間に形成される理
論上の中心線とみなされる。
搬送方向」は便宜上ノズルの径方向からみた下部環状部
材の上面と」一部環状部拐の下面との間に形成される理
論上の中心線とみなされる。
気体通路の形状は、好ましくは、上部環状部分の下面と
下部環状部分の上面とが気体オリフィスの方向に収束す
るようになっている。気体を特定の角変に向番ブるため
気体オリフィスの近くの面は、好ましくは、径方向断面
について、所定の方向に曲がった気体通路を通る理論上
の中心線のまわりに対称である。この線が非線形であれ
ば、気体が気体通路を離れるときの気体の実際の搬送方
向を計測することが好ましい。米国特許用3,736゜
174号に示されるように互いに衝突して合流する気体
流の複数の気体通路を形成するように気体通路がイ」加
的な環状グイ部により分割されていると気体の搬送方向
は、気体流が衝突した後の方向となる。1気体流の搬送
方向がフイラメン1−の移動方向に対して垂直であれば
角axはOoになる。
下部環状部分の上面とが気体オリフィスの方向に収束す
るようになっている。気体を特定の角変に向番ブるため
気体オリフィスの近くの面は、好ましくは、径方向断面
について、所定の方向に曲がった気体通路を通る理論上
の中心線のまわりに対称である。この線が非線形であれ
ば、気体が気体通路を離れるときの気体の実際の搬送方
向を計測することが好ましい。米国特許用3,736゜
174号に示されるように互いに衝突して合流する気体
流の複数の気体通路を形成するように気体通路がイ」加
的な環状グイ部により分割されていると気体の搬送方向
は、気体流が衝突した後の方向となる。1気体流の搬送
方向がフイラメン1−の移動方向に対して垂直であれば
角axはOoになる。
気体流のm返方向がフィラメントの移動方向に対向して
いれば角度Xは任の角度になり、気体の搬送方向がフィ
ラメントの移動方向ど同じであれば、角度Xは負の角度
となる。好まくしは、気体通路(,1フイラメントの移
動り向に対して垂直な面に対し十60パの角度で気体オ
リフィスから気体を噴射させ、より女「ましくは+60
°〜−30゜、最も好ましく【よ−1−45′へ・O゛
の範囲で気体を噴射ざゼる。
いれば角度Xは任の角度になり、気体の搬送方向がフィ
ラメントの移動方向ど同じであれば、角度Xは負の角度
となる。好まくしは、気体通路(,1フイラメントの移
動り向に対して垂直な面に対し十60パの角度で気体オ
リフィスから気体を噴射させ、より女「ましくは+60
°〜−30゜、最も好ましく【よ−1−45′へ・O゛
の範囲で気体を噴射ざゼる。
ノズルの下部及び下部はそれぞれはば鋭い環状縁部を形
成する土1・−面を有している。「はぼ鋭い環状縁部」
とは縁部が約3InIR以トのθざ、好ましくは2m以
1・の厚さを有するよう上面取りされているか約2#I
II+以下の半径、好ましくは1#以下の半径にラウン
ドされでいるJ:うに2つの面により形成された縁8(
5をいう1.ド811ノズル部の下面と気体通路を離れ
る気体搬送方向とのなす角は70十xoより小さくなけ
ればならない。上部環状部分の内角は好ましくは80°
より小さく、より好ましくは50’、J:り小さく、最
も好ましくは400より小さい。−F部ノズル部の土1
6jと気体通路を離れる気体搬送方向とのなず角は80
−x’J、り小さくなりればならない。下部環状部分の
内角は好ましくは70″より小さく、J:り好ましくは
5)0°より小さく、最も虹ましくは40°より小さい
。
成する土1・−面を有している。「はぼ鋭い環状縁部」
とは縁部が約3InIR以トのθざ、好ましくは2m以
1・の厚さを有するよう上面取りされているか約2#I
II+以下の半径、好ましくは1#以下の半径にラウン
ドされでいるJ:うに2つの面により形成された縁8(
5をいう1.ド811ノズル部の下面と気体通路を離れ
る気体搬送方向とのなす角は70十xoより小さくなけ
ればならない。上部環状部分の内角は好ましくは80°
より小さく、より好ましくは50’、J:り小さく、最
も好ましくは400より小さい。−F部ノズル部の土1
6jと気体通路を離れる気体搬送方向とのなず角は80
−x’J、り小さくなりればならない。下部環状部分の
内角は好ましくは70″より小さく、J:り好ましくは
5)0°より小さく、最も虹ましくは40°より小さい
。
上部及び下部の面、Jなわち、上部の下面ど下部の上面
とは、その間に気体オリフィスまで延びた気体通路を形
成する。気体オリフィスはノズルの上部及び下部の環状
縁部の間にこのように形成される。気体通路は空気また
は窒素哲の適当な噴射払拭気体源に接続されていてる。
とは、その間に気体オリフィスまで延びた気体通路を形
成する。気体オリフィスはノズルの上部及び下部の環状
縁部の間にこのように形成される。気体通路は空気また
は窒素哲の適当な噴射払拭気体源に接続されていてる。
好ましくは、気体圧力源は環状バッフルリングを41し
cおり一様な気体圧を気体オリフィスのまわりに形成す
るような気体通路収縮を捉供する。好ましくはノズルの
まわりに−様な間隔をもって複数の気体導入源が設けら
れ気体通路のまわりの気体の分配を改良する。径方向の
気体通路の長さは気体オリフィスのまわりに気体を〜・
様に分配するのに充分な長さであることが好ましい。好
ましくは気体通路は、上部環状部分の下面と下部環状部
分の上面とが断面において少なくとも2 rryn 、
好ましくは6 an気体オリフィスのすぐ前において気
体オリフィスに近づくように11いに収束するJ、うに
なっている。
cおり一様な気体圧を気体オリフィスのまわりに形成す
るような気体通路収縮を捉供する。好ましくはノズルの
まわりに−様な間隔をもって複数の気体導入源が設けら
れ気体通路のまわりの気体の分配を改良する。径方向の
気体通路の長さは気体オリフィスのまわりに気体を〜・
様に分配するのに充分な長さであることが好ましい。好
ましくは気体通路は、上部環状部分の下面と下部環状部
分の上面とが断面において少なくとも2 rryn 、
好ましくは6 an気体オリフィスのすぐ前において気
体オリフィスに近づくように11いに収束するJ、うに
なっている。
ノズルはフイラメンI−Aリフイスを有しており、フィ
シメン1〜オリノイスとの間に一様4丁クリアランスが
形成され、このクリアランスはワイヤが環状のダイ部分
の縁部に接触しない場合と同じくらい小さい。フィラメ
ントとフイラメントオリフィスとの間のクリアランスは
、好ましくは10allより小さく、より好ましくは7
.5馴より小さく、最も好ましくはAmmより小さい。
シメン1〜オリノイスとの間に一様4丁クリアランスが
形成され、このクリアランスはワイヤが環状のダイ部分
の縁部に接触しない場合と同じくらい小さい。フィラメ
ントとフイラメントオリフィスとの間のクリアランスは
、好ましくは10allより小さく、より好ましくは7
.5馴より小さく、最も好ましくはAmmより小さい。
これらの好ましいワイVオリフィスのクリアランス距離
は従来の噴射払拭ノズルよりもかなり小さい。より小さ
いワイVオリノイスクリアランスを用いることにより少
ない気体でスムーズな−様な塗布が可能となる。ノズル
を通過しつつ1ツイヤが制限される横方向の移動が少な
くなればなるほど許容−ノイ1ノオリフイスのクリアラ
ンスは小さくなる。ワイ−7が通過しワイヤよりも大ぎ
さが周辺でのみ人きくなるワイヤガイドはワイヤの横移
動をより制限するように用いられる。このガイドは溶融
浴に入り、ノズルオ゛リフイスの垂直画]・でワイVと
同軸的に配置されている。このようなワイヤガイドを用
いることによりフイラメン1−とノズルのワイX7″A
リフイスとの間のクリアランスの1ノ−イズがさらに小
さくなる。
は従来の噴射払拭ノズルよりもかなり小さい。より小さ
いワイVオリノイスクリアランスを用いることにより少
ない気体でスムーズな−様な塗布が可能となる。ノズル
を通過しつつ1ツイヤが制限される横方向の移動が少な
くなればなるほど許容−ノイ1ノオリフイスのクリアラ
ンスは小さくなる。ワイ−7が通過しワイヤよりも大ぎ
さが周辺でのみ人きくなるワイヤガイドはワイヤの横移
動をより制限するように用いられる。このガイドは溶融
浴に入り、ノズルオ゛リフイスの垂直画]・でワイVと
同軸的に配置されている。このようなワイヤガイドを用
いることによりフイラメン1−とノズルのワイX7″A
リフイスとの間のクリアランスの1ノ−イズがさらに小
さくなる。
本発明の好適実施例においては液体浴の液面上の気体噴
射払拭ノズルの高さは液面から液体がはねないようにで
きるだ()小さくづべきである。I!tI想的にはノズ
ルから1噴射される気体が、液面のはねがないように浴
からフィラメントが引出されるとぎフィラメントを取囲
む浴における液面にスムーズなパドルを形成している。
射払拭ノズルの高さは液面から液体がはねないようにで
きるだ()小さくづべきである。I!tI想的にはノズ
ルから1噴射される気体が、液面のはねがないように浴
からフィラメントが引出されるとぎフィラメントを取囲
む浴における液面にスムーズなパドルを形成している。
ノズルが液面J:り高く上がりすぎると払拭効率が低下
しフィラメントの表面の質が落ちる。す(型内な応用例
にa3いては、好ましくはノズルの気体オリスイスは1
0mm”□ 200 rrvnの距離、J、り好Jニジ
<は15M〜100姻の距頗??i面からilねでいる
。
しフィラメントの表面の質が落ちる。す(型内な応用例
にa3いては、好ましくはノズルの気体オリスイスは1
0mm”□ 200 rrvnの距離、J、り好Jニジ
<は15M〜100姻の距頗??i面からilねでいる
。
気体通路のIf 71なわち気体オリノーtスの幅は気
体噴射払拭ノズルの軸方向においで勾いに調整可能なノ
ズルの1一部及び下部の位置により可変となる。本発明
の好通実膿例においてはこの調整は、下部及び下部の相
対的な回転が気体通路の幅を変更16ように上部及び下
部を螺合さUることにJ:り達成される。気体通路の幅
を変更ざlることは他の手段によっても達成され例えば
一方の部分を他方の部分に対して摺動可能にしたりノズ
ルの上部及び下fgIlの間にシムを用いてもよい。
体噴射払拭ノズルの軸方向においで勾いに調整可能なノ
ズルの1一部及び下部の位置により可変となる。本発明
の好通実膿例においてはこの調整は、下部及び下部の相
対的な回転が気体通路の幅を変更16ように上部及び下
部を螺合さUることにJ:り達成される。気体通路の幅
を変更ざlることは他の手段によっても達成され例えば
一方の部分を他方の部分に対して摺動可能にしたりノズ
ルの上部及び下fgIlの間にシムを用いてもよい。
実施例
噴射払拭ノズル10は鋼線のメツ4−工程に関連して用
いられる1、鋼線Jなりらfノー(Al15は溶融―1
]−鉛浴24は通過し、スニ1ツド28のまわりで、曲
鉛浴24の表面から20繍の位置に位置する噴射払拭ノ
ズル10を通過する前にワイヤガイド27から垂直に引
かれる1、噴射払拭ノズル1oを通過した後メツ4−さ
れたワイーlは従来の冷却装置(図示せず)ににり冷却
される。
いられる1、鋼線Jなりらfノー(Al15は溶融―1
]−鉛浴24は通過し、スニ1ツド28のまわりで、曲
鉛浴24の表面から20繍の位置に位置する噴射払拭ノ
ズル10を通過する前にワイヤガイド27から垂直に引
かれる1、噴射払拭ノズル1oを通過した後メツ4−さ
れたワイーlは従来の冷却装置(図示せず)ににり冷却
される。
噴射ノズル10は上部ノズル部11及び−下部ノズルi
!1112を有している。ノズル部11及び12のそれ
ぞれは−上面13及び14及びド面15及び16を有し
ている。これらの−上面及び下部Gま鋭い円型の縁部1
7及び18を形成している、1気体通路19は環状気体
オリフィス20まで延びノζ面14及び15の間に形成
されている。気体オリフィス20の近くで面14及び1
5の間の中心線はワイヤに対して垂直な水平面内にある
。面13と中心線との角度は35°であり面16と中心
線との角度は35°である。ワイ1725とそれぞれの
而とのなす内角は55°である。
!1112を有している。ノズル部11及び12のそれ
ぞれは−上面13及び14及びド面15及び16を有し
ている。これらの−上面及び下部Gま鋭い円型の縁部1
7及び18を形成している、1気体通路19は環状気体
オリフィス20まで延びノζ面14及び15の間に形成
されている。気体オリフィス20の近くで面14及び1
5の間の中心線はワイヤに対して垂直な水平面内にある
。面13と中心線との角度は35°であり面16と中心
線との角度は35°である。ワイ1725とそれぞれの
而とのなす内角は55°である。
上部及び下部ノズル部分11及び12はぞれぞれノズル
本体21に対して外側螺合外周において螺合している。
本体21に対して外側螺合外周において螺合している。
気体通路19の幅GELノズル部フ)11及び12の一
方または両ブJど本体21を相対的に回転させることに
より変更できる。気体通路19はノズル部分11及び1
2と本体21との間に形成された気体室22と連通して
いる。ノズル10内への気体入1]23は本体21を通
過し気体室22に形成されている。気体バッフル26は
気体通路19内に位置しており気体人口23から気体オ
リフィス20までの払拭気体の−様な気体流を形成して
いる。好ましくは窒素ガス等の非酸化性の気体が気体人
1.123を介して気体室22から環状気体通路19に
導入される。通路19から流れる気体はワイ髪725に
衝突し、噴射払拭ノズル10を通るワイヤ25から余剰
の溶融亜鉛を取去る。
方または両ブJど本体21を相対的に回転させることに
より変更できる。気体通路19はノズル部分11及び1
2と本体21との間に形成された気体室22と連通して
いる。ノズル10内への気体入1]23は本体21を通
過し気体室22に形成されている。気体バッフル26は
気体通路19内に位置しており気体人口23から気体オ
リフィス20までの払拭気体の−様な気体流を形成して
いる。好ましくは窒素ガス等の非酸化性の気体が気体人
1.123を介して気体室22から環状気体通路19に
導入される。通路19から流れる気体はワイ髪725に
衝突し、噴射払拭ノズル10を通るワイヤ25から余剰
の溶融亜鉛を取去る。
本発明の好適/J払におい(は2.50gの径を右する
光線が仙鉛浴24を通過した後60TrL/分の速庶C
ノスル10を垂1上りに通過した。気体オリノイズは0
.50mでありフィシメン1−オリノイスの縁部17及
び18とワイヤ25どの間のクリアランスは3 、−/
!′)mm T:あった。圧力5 KPa及び流速4
.5m3/時(SIP)で窒素ガスが払拭気体として用
いられた。払拭されたワイヤは被覆リング及び他の表面
欠陥がないスムーズな弗鉛被覆を右しく J)す、被蕾
重!iHL 281 am/m2であ′つた5、ノズル
10への1Tli鉛の発散は数時間の動作後も見られな
かった。
光線が仙鉛浴24を通過した後60TrL/分の速庶C
ノスル10を垂1上りに通過した。気体オリノイズは0
.50mでありフィシメン1−オリノイスの縁部17及
び18とワイヤ25どの間のクリアランスは3 、−/
!′)mm T:あった。圧力5 KPa及び流速4
.5m3/時(SIP)で窒素ガスが払拭気体として用
いられた。払拭されたワイヤは被覆リング及び他の表面
欠陥がないスムーズな弗鉛被覆を右しく J)す、被蕾
重!iHL 281 am/m2であ′つた5、ノズル
10への1Tli鉛の発散は数時間の動作後も見られな
かった。
第1図は本発明にJ:る気体噴q・1払拭ノズルの断面
図である。 10・・・噴射払拭ノズル、11・・・上部ノズル部分
、12・・・下部ノズル部分、13・・・上面、14・
・・上面、15・・・下面、16・・・−ト面、17・
・・鋭い円形縁部、18・・・鋭い円形縁部、19・・
・気体通路、20・・・気体オリフィス、21・・・ノ
ズル本体、22・・・気体室、23・・・気体入口、2
4・・・仙鉛浴、25・・・鋼線よIこはワイヤ、26
・・・バッフル、27・・・ワイヤガイド、28・・・
スニtツド。
図である。 10・・・噴射払拭ノズル、11・・・上部ノズル部分
、12・・・下部ノズル部分、13・・・上面、14・
・・上面、15・・・下面、16・・・−ト面、17・
・・鋭い円形縁部、18・・・鋭い円形縁部、19・・
・気体通路、20・・・気体オリフィス、21・・・ノ
ズル本体、22・・・気体室、23・・・気体入口、2
4・・・仙鉛浴、25・・・鋼線よIこはワイヤ、26
・・・バッフル、27・・・ワイヤガイド、28・・・
スニtツド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)液体金属浴を通過した金属フィラメントの浸漬被
覆のフィルムを制御する気体噴射払拭方法において、環
状気体噴射払拭ノズルが上部環状部分及び下部環状部分
を有しており、前記環状部分のそれぞれがほぼ鋭い環状
縁部を形成する上部及び下部環状面を有しており、前記
上部及び下部環状部分の隣接する面がその間に環状気体
オリフィスまで延びた環状気体通路を形成し、前記縁部
と前記気体通路が前記フィラメントが通過するフィラメ
ントオリフィスを画定し、前記上部環状部分の前記上面
と前記気体オリフィスを離れる気体の搬送方向とがなす
内角が(80−x)゜より小さく前記下部環状部材の下
面と前記気体通路を離れる気体搬送方向とがなす内角が
(70+x)゜より小さく(ここで、xは前記気体噴射
払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向に対して
垂直な面と前記気体通路を離れる気体の搬送方向とがな
す内角である)、前記下部環状部材の前記下面は液体浴
に直接対抗しているとともにその下面と前記気体噴射払
拭ノズルを通過する前記フィラメントの移動速度とがな
す最小内角は少なくとも20゜であるように配置され前
記上部環状部分の前記面が、その面と前記気体噴射ノズ
ルを通過する前記フィラメントの移動方向とがなす最小
内角が少なくとも10゜になるように配置されているこ
とを特徴とする気体噴射払拭方法。 (2)請求項1に記載の気体噴射払拭方法において、前
記金属フィラメントが円形断面の鉄線であり、液体金属
被覆が亜鉛、アルミニウム、またはアルミニウム/亜鉛
合金であることを特徴とする気体噴射払拭方法。 (3)請求項1に記載の気体噴射払拭方法において、前
記上部環状部分の前記内角が80゜より小さく、好まし
くは50゜より小さく、より好ましくは40°より小さ
く、前記下部環状部分の前記内角が70゜より小さく、
好ましくは50゜より小さく、より好ましくは40゜よ
り小さいことを特徴とする気体噴射払拭方法。 (4)請求項1に記載の気体噴射払拭方法において、径
方向にて前記気体通路の長さが前記フィラメントのまわ
りに気体を一様に分配するのに充分な長さであることを
特徴とする気体噴射払拭方法。 (5)請求項4に記載の気体噴射払拭方法において、前
記気体通路は前記上部環状部分の前記下面と前記下部環
状部分を上面が径方向に前記気体オリフィスに近づくに
従つて収束しており、前記オリフィスの直前で少なくと
も2mm、好ましくは6mmに収束していることを特徴
とする気体噴射払拭方法。 (6)請求項1に記載の気体噴射払拭方法において、前
記気体通路が前記フィラメントの移動方向に対して垂直
な面に対し+60゜〜−60゜までの角度で前記気体オ
リフィスから気体を指向させており、好ましくは+60
゜〜−30゜、より好ましくは+45°〜0゜指向させ
ていることを特徴とする気体噴射払拭方法。 (7)請求項1に記載の気体噴射払拭方法において、前
記上部及び下部環状部材の環状縁部が前記フィラメント
から10mm、好ましくは7.5mm、より好ましくは
4mm離れていることを特徴とする気体噴射払拭方法。 (8)請求項1に記載の気体噴射払拭方法において、前
記ノズルの気体オリフィスが前記液体浴の液面から10
〜200mm、好ましくは15〜100mm離れている
ことを特徴とする気体噴射払拭方法。 (9)請求項1に記載の気体噴射払拭方法において、前
記気体通路の幅が前記気体噴射払拭ノズルの軸方向に調
整される前記上部及び下部環状部材の相対位置により可
変であることを特徴とする気体噴射払拭方法。 (10)液体金属浴を通過する金属フィラメントの浸漬
被覆フィルムの厚さを連続的に被覆制御する気体噴射払
拭装置において、 (a)液体金属被覆層、 (b)加圧気体源及び (c)気体噴射払拭ノズルを具備しており、前記気体噴
射払拭ノズルが前記上部環状部分及び下部環状部分を有
しており、前記環状部分がほぼ鋭い環状縁部を形成する
上面及び下面を有しており、前記上部及び下部環状部分
の隣接する面がその間に、加圧気体源に動作的に接続さ
れるとともに環状気体オリフィスまで延びた環状気体通
路を画定しており、前記縁部及び前記気体オリフイスが
払拭されるフイラメントが通過するフィラメントオリフ
ィスを画定しており、前記上部環状部分の上面と前記気
体オリフィスを離れる気体の搬送方向とがなす内角が(
80−x)゜より小さく前記下部環状部分の下面と前記
気体通路を離れる気体の搬送方向とがなす内角が(80
+x)゜より小さく(xは前記気体噴射払拭ノズルを通
過するフイラメントの移動方向に対して垂直な面と前記
気体通路を離れる気体の搬送方向とがなす内角である)
、前記下部環状部材の前記下面は、前記金属浴と直接対
向しているとともにその面と前記気体噴射払拭ノズルを
通過するフイラメントの移動方向とがなす最小内角が少
なくとも20゜であるように配置され、前記上部環状部
材のその面は、その面と前記気体噴射払拭ノズルを通過
するフィラメントの移動方向とがなす最小内角が少なく
とも10゜に配置されていることを特徴とする気体噴射
払拭装置。 (11)請求項10に記載の気体噴射払拭装置において
、前記上部環状部分の前記内角が80゜より小さく、好
ましくは50゜より小さく、より好ましくは40゜より
小さく、前記下部環状部分の前記内角が70゜より小さ
く、好ましくは50゜より小さく、より好ましくは40
゜より小さいことを特徴とする気体噴射払拭装置。 (12)請求項10に記載の気体噴射払拭装置において
、径方向にて前記気体通路の長さが前記フィラメントの
まわりに気体を一様に分配するのに充分な長さであるこ
とを特徴とする気体噴射払拭装置。 (13)請求項12に記載の気体噴射払拭装置において
、前記気体通路は前記上部環状部分の前記下面と前記下
部環状部分を上面が径方向に前記気体オリフィスに近づ
くに従つて収束しており、前記オリフィスの直前で少な
くとも2mm、好ましくは6mmに収束していることを
特徴とする気体噴射払拭装置。 (14)請求項10に記載の気体噴射払拭装置において
、前記気体通路が前記フイラメントの移動方向に対して
垂直な面に対し+60゜〜−60゜までの角度で前記気
体オリフィスから気体を指向させており、好ましくは+
60〜−30゜、より好ましくは+45゜〜0゜指向さ
せていることを特徴とする気体噴射払拭装置。 (15)請求項10に記載の気体噴射払拭装置において
、前記上部及び下部環状部材の環状縁部が前記フィラメ
ントから10mm、好ましくは7.5mm、より好まし
くは4mm離れていることを特徴とする気体噴射払拭装
置。 (16)請求項10に記載の気体噴射払拭装置において
、前記ノズルの気体オリフィスが前記液体浴の液面から
10〜200mm、好ましくは15〜100mm離れて
いることを特徴とする気体噴射払拭装置。 (17)請求項10に記載の気体噴射払拭装置において
、前記気体通路の幅が前記気体噴射払拭ノズルの軸方向
に調整される前記上部及び下部環状部材の相対位置によ
り可変であることを特徴とする気体噴射払拭装置。 (18)液体金属浴を通過する金属フイラメントの浸漬
被覆のフィルムを制御するのに用いられる気体噴射払拭
ノズルにおいて、前記ノズルは上部環状部分及び下部環
状部分を有しており、前記環状部分のそれぞれがほぼ鋭
い環状縁部を形成する上部及び下部環状面を有しており
前記上部及び下部環状部分の隣接する面が環状気体オリ
フィスまで延びた環状気体通路をその間に画定しており
、前記縁部と前記気体オリフィスとが使用時に払拭され
るフィラメントを包囲するフィラメントオリフィスを画
定しており、前記上部環状部分の上面と前記気体オリフ
ィスを離れる気体の搬送方向とがなす内角が(80−x
)゜より小さく前記下部環状部分の下面と前記気体通路
を離れる気体の搬送方向とがなす内角が(80+x)゜
より小さく(xは前記気体噴射払拭ノズルを通過するフ
ィラメントの移動方向に対して垂直な面と前記気体通路
を離れる気体の搬送方向とがなす内角である)、前記下
部環状部材の前記下面は、前記フィラメントが通過する
前記金属浴と直接対向しているとともにその面と前記気
体噴射払拭ノズルを通過するフイラメントの移動方向と
がなす最小内角が少なくとも20゜であるように使用時
配置され、前記上部環状部材のその面は、その面と前記
気体噴射払拭ノズルを通過するフィラメントの移動方向
とがなす最小内角が少なくとも10゜に配置されている
ことを特徴とする気体噴射払拭ノズル。、(19)請求
項18に記載の気体噴射払拭ノズルにおいて、前記上部
環状部分の前記内角が80゜より小さく、好ましくは5
0゜より小さく、より好ましくは40゜より小さく、前
記下部環状部分の前記内角が70゜より小さく、好まし
くは50゜より小さく、より好ましくは40゜より小さ
いことを特徴とする気体噴射払拭ノズル。 (20)請求項18に記載の気体噴射払拭ノズルにおい
て、径方向に前記気体通路の長さが前記フィラメントの
まわりに気体を一様に分配するのに充分な長さであるこ
とを特徴とする気体噴射払拭ノズル。 (21)請求項20に記載の気体噴射払拭ノズルにおい
て、前記気体通路は前記上部環状部分の前記下面と前記
下部環状部分を上面が径方向に前記気体オリフィスに近
づくに従つて収束しており、前記オリフィスの直前で少
なくとも2mm、好ましくは6mmに収束していること
を特徴とする気体噴射払拭ノズル。 (22)請求項18に記載の気体噴射払拭ノズルにおい
て、前記気体通路が前記フィラメントの移動方向に対し
て垂直な面に対し+60゜〜−60゜までの角度で前記
気体オリフィスから気体を指向させており好ましくは+
60゜〜−30゜、より好ましくは+45°〜0゜指向
させていることを特徴とする気体噴射払拭ノズル。 (23)請求項18に記載の気体噴射払拭ノズルにおい
て、前記上部及び下部環状部材の環状縁部が前記フイラ
メントから10mm、好ましくは7.5mm、より好ま
しくは4mm離れていることを特徴とする気体噴射払拭
ノズル。 (24)請求項18に記載の気体噴射払拭ノズルにおい
て、前記気体通路の幅が前記気体噴射払拭ノズルの軸方
向に調整される前記上部及び下部環状部材の相対位置に
より可変であることを特徴とする気体噴射払拭ノズル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AUPJ003288 | 1988-08-24 | ||
| AU0032 | 1997-10-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH02101152A true JPH02101152A (ja) | 1990-04-12 |
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