JPH0210118Y2 - - Google Patents

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JPH0210118Y2
JPH0210118Y2 JP14754384U JP14754384U JPH0210118Y2 JP H0210118 Y2 JPH0210118 Y2 JP H0210118Y2 JP 14754384 U JP14754384 U JP 14754384U JP 14754384 U JP14754384 U JP 14754384U JP H0210118 Y2 JPH0210118 Y2 JP H0210118Y2
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JP
Japan
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cover
vapor deposition
boat
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csi
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JP14754384U
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 この考案は、たとえばX線螢光増倍管入力螢光
面に沃化セシウムを蒸着するのに用いられる蒸着
用ボートの改良に関するものである。
(ロ) 従来の技術 X線螢光増倍管入力螢光面は、第3図に示すよ
うに曲率半径の大きな凹球面をなすアルミニウム
基板1の内面に沃化セシウム(CsI)が真空蒸着
法によつて数十μm〜数百μmの厚さで蒸着さ
れ、その際に消費されるCsI粉体は数十grから数
百grに達する。
したがつてかなり大量に消費されるCsIを出来
る限り効率よく基板1面に蒸着させることが要求
されるため、従来CsI粉体を収容した蒸着ボート
2をアルミニウム基板1に接近させて蒸着が行わ
れている。この場合均一に蒸着させる手段として
基板1は図示のとおり回転させられるのである
が、蒸着ボート2を基板1に接近させる程基板1
面に蒸着するCsIの膜厚が均一になりにくいとい
う問題が生ずる。
蒸着ボート2は、融点が2850℃ときわめて高温
で、しかも電気抵抗がタングステンよりも大きい
タンタルの板材から形成され、その内部に収容さ
れたCsI粉体を、蒸着ボート2自身の電気抵抗加
熱によつて蒸発させるのであるが、一様な膜厚の
被膜を基板1面に形成させるために、第4図に示
すように蒸着ボート2の上方に近接してシヤツタ
ー3を設けるとともに、蒸着膜厚検出センサー
(図示せず)をシヤツター3の近傍に挿脱自在に
設置し、蒸着スピードがたとえば10μm/分に到
達したことを検知すると、シヤツター3を外部か
ら操作できる腕部4によつてスライドして蒸着ボ
ート2の上方を開口する方法もとられるが、この
方法によるときは、前記蒸着スピードに到達する
までにかなりの量のCsIが蒸発し、蒸発したCsIが
シヤツター3の下面に蒸着し、ロスになるという
問題がある。
またX線螢光増倍管には、7″,9″,12″な
ど種々のサイズのものがあり、これらサイズの相
違に伴い入力螢光面基板1のサイズも当然異なる
ことから、単一の形状・大きさの蒸着ボート2を
用いるのであれば基板1のもつとも大きいサイズ
のものの蒸着に使える大きさにしておかねばなら
ないので、それ以下のサイズの基板1に対してこ
の蒸着ボート2で蒸着を行う場合には前記したロ
スが大きくなることはさけられない。
(ハ) 目的 この考案は、従来の蒸着ボートにおける前記し
た種々の問題点を解決し、被蒸着基板のサイズが
異なつても単一の形状大きさのもので、蒸着物質
のロスを排除して有効な蒸着が行いうるととも
に、被蒸着基板面における蒸着被膜の膜厚を均一
にするように操作ができる蒸着ボートを提供する
ことを目的とするものである。
(ニ) 構成 この考案にかかる蒸着ボートは、蒸着物質を収
容するボート本体と、このボート本体と同一材料
からなり、前記本体の開口部に摺動自在に係合さ
れるカバーと、このカバーに連設し、前記カバー
を外部から摺動させる腕部とから構成されてお
り、この腕部を外部から操作することによつて蒸
着ボートの開口面積を調整できるようにされてい
るものである。
(ホ) 実施例 第1図はこの考案の1実施例である蒸着用ボー
トの外観斜視図である。この蒸着用ボートはたと
えばタンタル板材から形成され、上部が全面部に
開口された筐体をなし、その内部にたとえばCsI
粉体を数百gr収容できる本体2と、同じくタンタ
ル板材から形成され、本体2の開口部に摺動自在
に係合されたカバー4とから構成されている。前
記したとおりタンタルは融点が2850℃ときわめて
高温であり、しかもその電気抵抗がタングステン
よりも大きいものであるので、本体2に通電する
と、本体2に接触しているカバー4にも通電がな
され、両者2,4はともに電気抵抗加熱によつて
高温状態となる。したがつてその内部に収容され
ているCsI粉体は高温となる本体2によつて加熱
され、620゜〜630℃程度に熱せられると蒸気し始
める。
真空蒸着は、この蒸着ボートを真空チヤンバー
の内部の所定位置に固定して行われるので、カバ
ー4には前記真空チヤンバーの外部からカバー4
を本体2の開口部に沿つて摺動させ、開口面積を
調整するための操作用腕部5が連結されている。
この操作用腕部5は高熱に耐え、しかも熱ならび
に電気に対し良好な絶縁性を有する材料、たとえ
ばセラミツクの板材から形成されている。
さて、第2図に示すように、真空チヤンバー
(図示せず)の内部に被蒸着板、たとえば曲率半
径の大きな凹球面をなすアルミニウム基板1を、
その上面で前記チヤンバーの天井に設けられた回
転駆動軸に保持させ、一方CsI粉体が収容された
蒸着ボートの本体2をその長手方向において前記
回転駆動軸に対してオフセツトした位置に固定
し、当初はカバー4で本体2の開口全域を覆蓋し
て本体2に通電を行う。この通電により前記した
とおり、本体2およびカバー4がともに発熱し、
高温状態となり、内部に収容されているCsI粉体
は、高温状態となつた本体2およびカバー4から
の伝導ならびに放射伝熱によつて620゜〜630℃程
度に加熱されると蒸発し始める。この場合、カバ
ー4の加熱温度は本体2の加熱温度と略同等で、
蒸発するCsI粉体自身の温度より高温に保たれて
いるので、蒸発したCsIはカバー4の内面には全
く蒸着せず、本体2内の空間を浮遊する。さらに
CsI粉体の蒸発が盛んとなり蒸発スピードが所定
値たとえば10μm/分に到達する直前に、アルミ
ニウム基板1を前記回転駆動軸を駆動することに
よつて回転させ、ついで操作用腕5を外部から操
作することによつてカバー4を本体2の開口部に
沿つて左方へ摺動させ、開口部を全開させて、ア
ルミニウム基板1に対してCsIを蒸着させる。し
たがつて所定の蒸着スピードにCsIの蒸発程度が
到達するまでは、カバー4が本体2の蒸発開口部
を閉塞しており、しかもカバー4にはCsIは全く
蒸着しないので、従来の装置に生じた前記ロスを
完全に排除することができる。またアルミニウム
基板1よりサイズの小さな2点鎖線で示したアル
ミニウム基板1′に蒸着を行う場合には、本体2
の開口を図示のとおりカバー4によつて部分的に
行うようにすればよい。
アルミニウム基板1または1′にCsI被膜の膜厚
が全面にわたつて均一になるように蒸着させるこ
とも、これら基板1,1′の中央部よりは周縁部
に若干膜厚が厚くなるように蒸着させることも、
この蒸着ボートにおいては、本体1をその長手方
向における前記回転駆動軸に対するオフセツト量
を適宜加減して固定するとともに、カバー4によ
る本体2の開口面積の調整を蒸着中に行うことに
よつて可能である。
(ヘ) 効果 この考案にかかる蒸着ボートにおいてはつぎの
効果を奏する。
(i) 蒸着ボート本体の開口面積をカバーによつて
調整することにより被蒸着板面上の蒸着被膜の
膜厚のコントロールが蒸着物質を無駄にするこ
となく行ない得る。
(ii) カバーで本体の開口全域を覆蓋し、所定の蒸
着スピードに蒸着物質の蒸発程度が到達した時
点でカバーを摺動させ、本体を開口するように
することにより、所定の蒸着スピードに到達す
るまでの蒸着物質のロスの発生を排除すること
ができる。
(iii) 被蒸着板のサイズに対応してカバーを摺動さ
せ、本体開口部の開口程度を調整することによ
つて、単一の形状、大きさの蒸着ボートで種々
のサイズの被蒸着板に蒸着をロス少く、所望ど
おり行うことが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の1実施例である蒸着ボート
の外観斜視図、第2図はこの蒸着ボートの作動状
態を示す模式説明図、第3図、第4図は従来の蒸
着ボートの、それぞれ作動状態を示す模式説明図
である。 1,1′……被蒸着板(アルミニウム基板)、2
……蒸着ボート本体、4……カバー、5……操作
用腕。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 蒸着物質を収容するボート本体と、このボート
    本体と同一材料からなり、前記本体の開口部に摺
    動自在に係合されるカバーと、このカバーに連設
    し、前記カバーを外部から摺動させる腕部とから
    なる蒸着用ボート。
JP14754384U 1984-09-29 1984-09-29 Expired JPH0210118Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP14754384U JPH0210118Y2 (ja) 1984-09-29 1984-09-29

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JP14754384U JPH0210118Y2 (ja) 1984-09-29 1984-09-29

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Publication Number Publication Date
JPS6164160U JPS6164160U (ja) 1986-05-01
JPH0210118Y2 true JPH0210118Y2 (ja) 1990-03-13

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ID=30705768

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005029895A (ja) * 2003-07-04 2005-02-03 Agfa Gevaert Nv 蒸着装置
JP5709588B2 (ja) * 2011-03-03 2015-04-30 ホーヤ レンズ マニュファクチャリング フィリピン インク 蒸着装置

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JPS6164160U (ja) 1986-05-01

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