JPH02101616A - Thin-film magnetic recording medium - Google Patents
Thin-film magnetic recording mediumInfo
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- JPH02101616A JPH02101616A JP25338288A JP25338288A JPH02101616A JP H02101616 A JPH02101616 A JP H02101616A JP 25338288 A JP25338288 A JP 25338288A JP 25338288 A JP25338288 A JP 25338288A JP H02101616 A JPH02101616 A JP H02101616A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ディスク等の薄膜磁気記録媒体に関し、
特にそのカーボン保護膜の摩擦係数の低減に関するもの
である。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a thin film magnetic recording medium such as a magnetic disk,
In particular, it relates to reducing the coefficient of friction of the carbon protective film.
本発明は、磁性層の上にカーボン保護膜を有する薄膜磁
気記録媒体において、該カーボン保護膜を密度2.0g
/cm’以上のカーボン材をターゲットとするスパッタ
リングにより形成することにより、得られるカーボン保
護膜の摩擦係数の低減を可能とするものである。The present invention provides a thin film magnetic recording medium having a carbon protective film on a magnetic layer, in which the carbon protective film has a density of 2.0 g.
By forming the carbon protective film by sputtering using a carbon material of /cm' or more as a target, it is possible to reduce the coefficient of friction of the resulting carbon protective film.
現在、コンピュータ等の記録媒体としてはランダムアク
セスが可能な円板状の磁気ディスクが広く用いられてい
る。なかでも応答性に優れること、記憶容量が大きいこ
と、保存性が良好で信頼性が高いこと等から、基板にA
I!、合金板、ガラス板9プラスチツク板等の硬質材料
を用い、その上にCo−Ni合金等からなる磁性層を形
成したいわゆるハードディスクが内部ディスク、あるい
は外部ディスクとして使用されるようになりでいる。Currently, disk-shaped magnetic disks that can be randomly accessed are widely used as recording media for computers and the like. Among them, A
I! So-called hard disks are now being used as internal disks or external disks, which are made of hard materials such as alloy plates, glass plates, and plastic plates, on which a magnetic layer of Co--Ni alloy or the like is formed.
このような磁気ディスクに対する情報の記録・再生は、
磁気ディスクを高速に回転させながら磁性層内の同心円
状のトラックで行われる。Recording and reproducing information on such magnetic disks is
This is done on concentric tracks within the magnetic layer while rotating the magnetic disk at high speed.
ところで、上述の磁気ディスクに対して記録再生を行う
場合、掻作開始前には静止している磁気ディスクの磁性
層面と磁気ヘッドとが接触保持されているが、操作が開
始されると上記磁気ディスクが高速で回転するとともに
磁性層面と磁気ヘッドとが微小な間隙を介して対向し、
操作終了時には再び両者が接触するという方式が一般に
採用されている。この方式はC3S (コンタクト・ス
タート・ストップ)方式と呼ばれている。By the way, when performing recording and reproduction on the above-mentioned magnetic disk, the magnetic layer surface of the stationary magnetic disk and the magnetic head are held in contact with each other before scratching starts, but when the operation starts, the magnetic layer surface of the magnetic disk is held in contact with the magnetic head. As the disk rotates at high speed, the magnetic layer surface and the magnetic head face each other with a small gap between them.
A method is generally adopted in which the two come into contact again at the end of the operation. This method is called the C3S (contact start-stop) method.
このように、C3S方弐では操作開始時と終了時に磁性
層面と磁気ヘッドとが繰り返し接触することになるので
、両者の間に生ずる摩擦力はこれら磁気ヘッドや磁気デ
ィスクを摩耗させる原因となる。あるいは、磁気ヘッド
に塵埃や磁性層から脱落した粉体が付着すると、ヘッド
クラッシュ(磁気へントの落下)が発生したり、磁気へ
ンドの跳躍等による突発的な磁性層面への衝撃が発生し
たりする虞れがあり、記録・再生の信顛性や装置の耐久
性等の観点から好ましくない。特に、近年では真空薄膜
形成技術や無電解メツキ等により磁性層が薄膜化される
傾向にあり、このような薄膜磁気記録媒体においては上
述の現象による障害も大きくなる。In this manner, in the C3S system, the magnetic layer surface and the magnetic head come into contact repeatedly at the start and end of operation, and the frictional force generated between the two causes wear on the magnetic head and the magnetic disk. Alternatively, if dust or powder that has fallen off from the magnetic layer adheres to the magnetic head, a head crash (falling of the magnetic head) may occur, or a sudden shock to the magnetic layer surface may occur due to the magnetic head jumping. This is undesirable from the viewpoint of reliability of recording/reproduction and durability of the device. In particular, in recent years, there has been a tendency for magnetic layers to be made thinner by means of vacuum thin film forming technology, electroless plating, etc., and such thin film magnetic recording media are increasingly subject to problems due to the above-mentioned phenomena.
そこで従来、薄膜磁気記録媒体の表面にカーボン保護膜
を形成して耐久性を向上させることが検討されている。Therefore, it has been conventionally considered to form a carbon protective film on the surface of a thin film magnetic recording medium to improve its durability.
このカーボン保護膜は、たとえばカーボン焼結体をター
ゲットとするスパッタリングにより成膜されている。こ
こで用いられるカーボン焼結体は、一般に1.7〜1.
9g/cm3程度の密度を有するものである。This carbon protective film is formed, for example, by sputtering using a carbon sintered body as a target. The carbon sintered body used here is generally 1.7 to 1.
It has a density of about 9 g/cm3.
しかしながら、上述のカーボン保護膜によっても耐久性
、走行性、耐衝撃性等の種々の要求を同時に満足させる
ことは難しいのが現状である。However, even with the carbon protective film described above, it is currently difficult to simultaneously satisfy various requirements such as durability, runnability, and impact resistance.
そこで本発明は、種々の特性(いわゆるC8S特性)に
優れるカーボン保護膜を有する薄膜磁気記録媒体の提供
を目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a thin film magnetic recording medium having a carbon protective film having excellent various properties (so-called C8S properties).
〔課題を解決するための手段]
本発明者らは、上述の目的を達成するために鋭意検討を
重ねた結果、スパッタリング用のターゲットとして従来
のカーボン焼結体に代えてより密度の高いカーボン材を
使用することにより、成膜されるカーボン保護膜の摩擦
係数が低減され、C3S特性の良好な薄膜磁気記録媒体
が得られることを見出し、本発明に至ったものである。[Means for Solving the Problem] As a result of extensive studies to achieve the above-mentioned object, the present inventors have developed a carbon material with higher density as a target for sputtering in place of the conventional carbon sintered body. The inventors have discovered that by using this method, the friction coefficient of the carbon protective film formed can be reduced and a thin film magnetic recording medium with good C3S characteristics can be obtained, leading to the present invention.
すなわち、本発明にかかる薄膜磁気記録媒体は、密度2
.0g/cm’以上のカーボン材をターゲットとするス
パッタリングにより形成されたカーボン保護膜を有する
ことを特徴とするものである。That is, the thin film magnetic recording medium according to the present invention has a density of 2
.. It is characterized by having a carbon protective film formed by sputtering using a carbon material of 0 g/cm' or more as a target.
本発明は、主として基板上に金属磁性層を形成した磁気
ディスクに適用されるものであり、カーボン保護膜は該
金属磁性層の上に上述のようなカーボン材をターゲット
としてスパッタリングを行うことにより形成される。The present invention is mainly applied to a magnetic disk in which a metal magnetic layer is formed on a substrate, and a carbon protective film is formed on the metal magnetic layer by sputtering using the above-mentioned carbon material as a target. be done.
本発明ではスパッタリング用のターゲットとして密度2
.0g/cm’以上、より好ましくは2.1g/cm3
以上のカーボン材が使用される。黒鉛の真密度はχ線回
折等により2.25g/cm3であることが知られてお
り、本発明で使用されるカーボン材は従来のカーボン材
に比べて上記の真密度に近い値を有するものであると言
える。このようなカーボン材としては、たとえばCVD
法により作成されるパイロリティフク・グラファイトが
あり、種々の密度のものが市販品として入手可能である
。従来の焼結法では、密度2.0g/cm3以上のカー
ボン材を作成することは困難であるが、何らかの改良あ
るいは工夫を加えることにより密度2.0g/cm’以
上のカーボン焼結体を得ることができれば、これも使用
可能である。In the present invention, as a target for sputtering, the density is 2.
.. 0 g/cm' or more, more preferably 2.1 g/cm3
The above carbon materials are used. The true density of graphite is known to be 2.25 g/cm3 by χ-ray diffraction etc., and the carbon material used in the present invention has a value closer to the above true density than conventional carbon materials. It can be said that As such carbon material, for example, CVD
Pyrolytifuku graphite is produced by this method and is commercially available in various densities. With conventional sintering methods, it is difficult to create a carbon material with a density of 2.0 g/cm or more, but by making some improvements or ingenuity, a carbon sintered body with a density of 2.0 g/cm or more can be obtained. If possible, you can also use this.
なお、市販品として入手できるパイロリティフク・グラ
ファイトには、肉眼でも判別できる裏表の区別がある。In addition, commercially available Pyroritifuku graphite has two sides that can be distinguished with the naked eye.
これは、CVDの過程において基板上でグラファイトの
ノジュールが上方に向かって円錐形状に広がるように成
長してゆくためであり、表面(基板から違い面)からは
ノジュール径が大きく、裏面(基板に接する面)からは
ノジュール径が小さく見える。スパッタリングに際して
は、ノジュール径の小さい裏面をターゲットのスパッタ
面とした方が異常放電(アーキング)を抑制する観点か
ら好ましい。This is because graphite nodules grow upwards in a conical shape on the substrate during the CVD process. The nodule diameter appears small from the contact surface). During sputtering, it is preferable to use the back surface of the target with a smaller nodule diameter as the sputtering surface from the viewpoint of suppressing abnormal discharge (arcing).
スパッタリングには気体放電の方法によって直1JL2
極スパツタリング、直流3極スパツタリング。Direct 1JL2 sputtering is performed by gas discharge method.
Polar sputtering, DC three-pole sputtering.
高周波スパッタリング、あるいはマグネトロンスパッタ
リング等の様々な種類があるが、適宜選択して行えば良
い。条件としては通常の一般的な条件が適用され、アル
ゴンガス圧10− ’〜10− ”Torr基板温度5
0〜250°Cにて投入パワー1〜10kWの高周波ス
パッタリング、あるいは投入パワー0.5〜10kWの
直流スパッタリングを行う。形成されるカーボン保護膜
の膜厚は10〜800人であることが好ましい。There are various types of sputtering, such as high frequency sputtering and magnetron sputtering, which may be selected as appropriate. Normal general conditions are applied as conditions, argon gas pressure 10-' to 10-'' Torr substrate temperature 5
High frequency sputtering with input power of 1 to 10 kW or DC sputtering with input power of 0.5 to 10 kW is performed at 0 to 250°C. The thickness of the carbon protective film to be formed is preferably 10 to 800.
本発明の薄膜磁気記録媒体に使用される基板としては、
アルミニウム合金、チタン合金等の軽合金、ポリスチレ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ABS樹脂等
のプラスチック、アルミナガラス等のセラミクス、ガラ
ス、単結晶シリコン等が挙げられる。ここで、上記基板
として比較的柔らかい材質のものを使用する場合には、
表面を固くする非磁性金属下地膜を形成しておくことが
好ましい。この非磁性金属下地膜の材料としては、N1
−P合金、Cu、Cr、Zn、 ステンレス等が挙げら
れる。これらをメツキ、スパッタリング。The substrate used in the thin film magnetic recording medium of the present invention includes:
Examples include light alloys such as aluminum alloys and titanium alloys, plastics such as polystyrene, polyethersulfone, polyimide, and ABS resin, ceramics such as alumina glass, glass, and single crystal silicon. Here, when using a relatively soft material as the above board,
It is preferable to form a nonmagnetic metal base film to harden the surface. The material for this non-magnetic metal base film is N1
-P alloy, Cu, Cr, Zn, stainless steel, etc. These are covered and sputtered.
蒸着等の手法により基板表面に4〜20μm程度の膜厚
に形成する。たとえばA/!−Mg合金基板の表面にN
1−Pメツキを施して磁性層を形成すると、その硬度は
約400となる。あるいはAl基板を使用する場合には
、アルマイト処理等によってその表面の硬度を増大させ
ても良い。The film is formed to a thickness of about 4 to 20 μm on the surface of the substrate by a method such as vapor deposition. For example, A/! -N on the surface of the Mg alloy substrate
When a magnetic layer is formed by applying 1-P plating, its hardness is approximately 400. Alternatively, when an Al substrate is used, the hardness of its surface may be increased by alumite treatment or the like.
また上記磁性層の材料としては、Fe、Co。The magnetic layer may be made of Fe or Co.
Ni等の金属の他、Co−Ni合金、Co−pt金合金
Co−Ni−Pt合金、Fe−Co合金。In addition to metals such as Ni, Co-Ni alloy, Co-pt gold alloy, Co-Ni-Pt alloy, and Fe-Co alloy.
Fe−Ni合金、Fe−Co−Ni合金、Fe−Co−
B合金、Co−N1−Fe−B合金、C。Fe-Ni alloy, Fe-Co-Ni alloy, Fe-Co-
B alloy, Co-N1-Fe-B alloy, C.
−Cr合金あるいはこれらにCr、A1等の金属が添加
されたものが挙げられる。特にCo−Cr合金を使用し
た場合には、垂直磁化膜が形成される。この磁性層の膜
厚は0.04〜1μm程度に選ばれる。Examples include -Cr alloys or those to which metals such as Cr and A1 are added. In particular, when a Co--Cr alloy is used, a perpendicularly magnetized film is formed. The thickness of this magnetic layer is selected to be approximately 0.04 to 1 μm.
本発明の薄膜磁気記録媒体においては、金属磁性層の上
に形成されるカーボン保護膜が、従来スパッタリング用
ターゲットとして一般に使用されていたカーボン焼結体
に比べて密度の高いカーボン材を使用して形成されてい
る。このようなターゲットを使用することにより、得ら
れるカーボン保護膜の摩擦係数が低減される。In the thin film magnetic recording medium of the present invention, the carbon protective film formed on the metal magnetic layer is made of a carbon material having a higher density than the carbon sintered body commonly used as a conventional sputtering target. It is formed. By using such a target, the coefficient of friction of the resulting carbon protective film is reduced.
アルゴンガス圧1.5X10−”Torr、投入パワー
450■の直流スパッタリングにより膜厚300人のカ
ーボン保護膜を形成し、各薄膜磁気記録媒体を作成した
。このとき、スパッタ面はパイロリティック・グラファ
イトの裏面、すなわち肉眼にてノジュール径が小さく見
える方とした。A carbon protective film with a thickness of 300 mm was formed by direct current sputtering at an argon gas pressure of 1.5 x 10-'' Torr and an input power of 450 mm to create each thin-film magnetic recording medium. At this time, the sputtered surface was made of pyrolytic graphite. The nodule diameter was determined to be smaller on the back side, that is, to the naked eye.
(実施例) 以下、本発明の好適な実施例について説明する。(Example) Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.
実施例1
本実施例は、密度2.03g/cm3のパイロリティッ
ク・グラファイトをターゲットとしてカーボン保護膜を
形成した薄膜磁気記録媒体の例である。Example 1 This example is an example of a thin film magnetic recording medium in which a carbon protective film was formed using pyrolytic graphite with a density of 2.03 g/cm3 as a target.
まず、予めCo−Ni合金をスパッタリングにより磁性
層として形成した5、25インチ径の磁気ディスクと、
密度2.03 g /Cm″のパイロリティック・グラ
ファイトからなるターゲットとをスパッタリング装置の
チャンバー内で対向配置させ、実施例2
パイロリティック・グラファイトの密度を2.15g/
cm’とした他は、第1の実施例と同様にして薄膜磁気
記録媒体を作成した。First, a magnetic disk with a diameter of 5.25 inches, on which a Co-Ni alloy was previously formed as a magnetic layer by sputtering,
Example 2 A target made of pyrolytic graphite with a density of 2.03 g/Cm" was placed facing each other in the chamber of a sputtering device, and the density of the pyrolytic graphite was 2.15 g/Cm".
A thin film magnetic recording medium was produced in the same manner as in the first example except that the thickness was set to cm'.
実施例3
パイロリティック・グラファイトの密度を2.22g/
cm3とした他は、第1の実施例と同様にして薄膜磁気
記録媒体を作成した。Example 3 The density of pyrolytic graphite is 2.22g/
A thin film magnetic recording medium was produced in the same manner as in the first example except that the thickness was changed to cm3.
比較例1
ターゲットとなるカーボン材として密度が1.82g/
cm’ と本発明で限定されるより低いカーボン焼結体
を使用した他は、第1の実施例と同様にして薄膜磁気記
録媒体を作成した。Comparative Example 1 The density of the target carbon material is 1.82g/
A thin film magnetic recording medium was prepared in the same manner as in the first example except that a carbon sintered body having a lower value of cm' than the one defined by the present invention was used.
比較例2
ターゲットとなるカーボン材として密度が1.92g/
cm3と本発明で限定されるより低いカーボン焼結体を
使用した他は、第1の実施例と同様にして薄膜磁気記録
媒体を作成した。Comparative Example 2 The density of the target carbon material is 1.92g/
A thin-film magnetic recording medium was produced in the same manner as in the first example except that a carbon sintered body having a lower carbon sintered body than the cm3 limit according to the present invention was used.
以上の各実施例および各比較例にて作成された各薄膜磁
気記録媒体について、C3S特性を測定した。すなわち
、磁気ヘッドとしてMn−Znミニモノリシックヘッド
を使用し、ヘッド荷重9.5gにてコンタクト・スター
ト・ストップを3000回繰り返した後、各薄膜磁気記
録媒体と磁気ヘッドとの間の静止摩擦係数を測定した。C3S characteristics were measured for each thin film magnetic recording medium produced in each of the above examples and comparative examples. That is, after using an Mn-Zn mini-monolithic head as the magnetic head and repeating contact start and stop 3000 times with a head load of 9.5 g, the coefficient of static friction between each thin film magnetic recording medium and the magnetic head was calculated. It was measured.
この結果を第1図に示す。The results are shown in FIG.
図中、縦軸は静止摩擦係数μ、横軸はターゲットとなる
カーボン材の密度ρ(g/cm’ )を表す。この図よ
り、密度2.Qg/cm’未満のターゲット、すなわち
カーボン焼結体を使用した比較例では静止摩擦係数が約
1.7以−Eといずれも高いのに対し、密度2.Qg/
Cm”以上のターゲット、すなわちパイロリティック・
グラファイトを使用した実施例ではいずれも静止摩擦係
数が約0.7以下に低下していることが明らかである。In the figure, the vertical axis represents the coefficient of static friction μ, and the horizontal axis represents the density ρ (g/cm') of the target carbon material. From this figure, density 2. In comparison examples using a target with a density of less than Qg/cm', that is, a carbon sintered body, the coefficient of static friction is as high as about 1.7 or more -E, whereas with a density of 2. Qg/
Cm" or higher target, i.e. pyrolytic
It is clear that in all of the Examples using graphite, the coefficient of static friction is reduced to about 0.7 or less.
さらに、密度2.22 g / c m’のターゲット
については、ノジュール径の大きい表面をスパッタ面と
してもスパッタリングを行い、同様に薄膜磁気記録媒体
を作成した。その結果、裏面をスパッタ面とした場合に
はスパッタリング中の異常放電の回数が2回であったの
に対し、ターゲットの表面をスパッタ面とした場合には
同一時間内で11回にも増加した。したがって、スパッ
タ面はターゲットの裏面とした方が好ましいことがわか
った。Further, for a target with a density of 2.22 g/cm', sputtering was performed using the surface with a large nodule diameter as the sputtering surface, and a thin film magnetic recording medium was similarly produced. As a result, when the back side was used as the sputtering surface, the number of abnormal discharges during sputtering was 2, but when the front surface of the target was used as the sputtering surface, the number of abnormal discharges increased to 11 times within the same time. . Therefore, it was found that it is preferable to use the back surface of the target as the sputtering surface.
〔発明の効果〕
以上の説明からも明らかなように、本発明にがかる′i
il膜磁気記録媒体はカーボン保護膜が従来よりも高い
密度を有するカーボン材をターゲットを使用したスパッ
タリングにより形成されているため、C8S特性に優れ
、信頼性の高い磁気記録再生が可能となる。また、ター
ゲットの使用法によっては製造時の異常放電も抑制する
ことができるため、生産性や歩留りの向とも可能となる
。[Effect of the invention] As is clear from the above explanation, the present invention
In the il-film magnetic recording medium, the carbon protective film is formed by sputtering using a carbon material with a higher density than before using a target, so it has excellent C8S characteristics and enables highly reliable magnetic recording and reproducing. Furthermore, depending on how the target is used, it is possible to suppress abnormal discharge during manufacturing, thereby improving productivity and yield.
第1図はスパッタリング用ターゲ・ノドであるカーボン
材の密度ρによる薄膜磁気記録媒体の静止摩擦係数μの
変化を示す特性図である。FIG. 1 is a characteristic diagram showing the change in the static friction coefficient μ of a thin film magnetic recording medium depending on the density ρ of the carbon material that is the sputtering target/nod.
Claims (1)
とするスパッタリングにより形成されたカーボン保護膜
を有する薄膜磁気記録媒体。A thin film magnetic recording medium having a carbon protective film formed by sputtering using a carbon material with a density of 2.0 g/cm^3 or more as a target.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25338288A JPH02101616A (en) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | Thin-film magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25338288A JPH02101616A (en) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | Thin-film magnetic recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02101616A true JPH02101616A (en) | 1990-04-13 |
Family
ID=17250587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25338288A Pending JPH02101616A (en) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | Thin-film magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02101616A (en) |
-
1988
- 1988-10-07 JP JP25338288A patent/JPH02101616A/en active Pending
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