JPH0210237B2 - - Google Patents
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- JPH0210237B2 JPH0210237B2 JP12757282A JP12757282A JPH0210237B2 JP H0210237 B2 JPH0210237 B2 JP H0210237B2 JP 12757282 A JP12757282 A JP 12757282A JP 12757282 A JP12757282 A JP 12757282A JP H0210237 B2 JPH0210237 B2 JP H0210237B2
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は鉄、ニツケル合金のメツキ処理に好適
な電解前処理剤に関する。
な電解前処理剤に関する。
鉄（例えばステンレスステイール）、ニツケル
合金（例えばNi42％、Fe残部の「42アロイ」、
Ni29％、コバール17％、Fe残部の「コバール」
等）をメツキする場合、従来は本メツキ前にスト
ライクメツキすることが不可欠であるとされてい
る。これは素地に対するメツキ（例えば銀メツ
キ）の密着性が悪いのでこれを予め向上させるた
めのものであり、従来は一般的に脱脂、活性、ス
トライク、の各処理を施して後に本メツキし更に
必要に応じ不要なストライクメツキを剥離する等
の工程を経て鉄、ニツケル合金のメツキ処理を行
なつている。
合金（例えばNi42％、Fe残部の「42アロイ」、
Ni29％、コバール17％、Fe残部の「コバール」
等）をメツキする場合、従来は本メツキ前にスト
ライクメツキすることが不可欠であるとされてい
る。これは素地に対するメツキ（例えば銀メツ
キ）の密着性が悪いのでこれを予め向上させるた
めのものであり、従来は一般的に脱脂、活性、ス
トライク、の各処理を施して後に本メツキし更に
必要に応じ不要なストライクメツキを剥離する等
の工程を経て鉄、ニツケル合金のメツキ処理を行
なつている。
しかしながら、ストライクメツキ処理は本メツ
キ処理同様に慎重な扱いが要求され、高価でもあ
り（例えば金ストライク、銀ストライクの場合）、
剥離工程が必要なので（例えば銅ストライク−銀
本メツキの場合の銅ストライクの剥離）、これを
省略できれば各種のメツキ処理に於いて多くの利
点がある。
キ処理同様に慎重な扱いが要求され、高価でもあ
り（例えば金ストライク、銀ストライクの場合）、
剥離工程が必要なので（例えば銅ストライク−銀
本メツキの場合の銅ストライクの剥離）、これを
省略できれば各種のメツキ処理に於いて多くの利
点がある。
本発明はこの点に注目して従来のメツキ処理に
不可欠なストライク処理、ストライク工程を省略
できるような電解前処理剤を提供せんとするもの
である。そして具体的には、本発明に係る鉄、ニ
ツケル合金の電解前処理剤は各種電導塩と、アノ
ード活性剤と、シアン化金カリウムを含有してい
るものである。
不可欠なストライク処理、ストライク工程を省略
できるような電解前処理剤を提供せんとするもの
である。そして具体的には、本発明に係る鉄、ニ
ツケル合金の電解前処理剤は各種電導塩と、アノ
ード活性剤と、シアン化金カリウムを含有してい
るものである。
先ずこの電解前処理剤は各種電導塩として以下
のものを選択的に含有する。
のものを選択的に含有する。
シアン化カリウム ５〜150g／
シアン化ナトリウム 10〜250g／
有機酸（例えばクエン酸、修酸、酒石酸等の塩
類） 20〜200g／ スルフアミン酸（例えばスルフアミン酸及び塩
類） 10〜250g／ 次にこの電解前処理剤はアノード活性剤を含有
する。このアノード活性剤としては、例えばニツ
ケル、コバルト等の金属錯体が好適であり、0.5
〜50g／程度含有せしめるものである。
類） 20〜200g／ スルフアミン酸（例えばスルフアミン酸及び塩
類） 10〜250g／ 次にこの電解前処理剤はアノード活性剤を含有
する。このアノード活性剤としては、例えばニツ
ケル、コバルト等の金属錯体が好適であり、0.5
〜50g／程度含有せしめるものである。
更に電解前処理剤はシアン化金カリウムを含有
する。含有量は微量でよく、例えば金メタルとし
て５〜200ppm0.05〜2g／）程度でよい。
する。含有量は微量でよく、例えば金メタルとし
て５〜200ppm0.05〜2g／）程度でよい。
このような電解前処理剤で鉄、ニツケル合金を
脱脂、活性、に続いて前処理するには電解前処理
剤を用いた液（以下「電解前処理剤」と称す）
を、以下の条件で操作するものである。
脱脂、活性、に続いて前処理するには電解前処理
剤を用いた液（以下「電解前処理剤」と称す）
を、以下の条件で操作するものである。
PH 3.0以上
電圧 １〜8V
時間 ５〜120秒
温度 室温〜70℃
次に実施例を説明する。
実施例 １
電解前処理液組成
シアン化カリウム 50g／
炭酸カリウム 20g／
シアン化ニツケルカリウム 10g／
シアン化金カリウム
0.1g／（金メタルとして） 操作条件 電圧 6V 時間 20sec 温度 35℃ 以上の条件でコバール材ICリードフレームを
脱脂、活性に続いて電解前処理し、ストライクメ
ツキすることなく、直接銀メツキを3μ施した。
そしてセロハンテープ（商品名）にて剥離テスト
を行なつたが銀メツキの剥離はなく密着性の向上
していることが確認できた。更に380℃、５分間
の耐熱テストを加えたが変色やふくれは見当らな
かつた。
0.1g／（金メタルとして） 操作条件 電圧 6V 時間 20sec 温度 35℃ 以上の条件でコバール材ICリードフレームを
脱脂、活性に続いて電解前処理し、ストライクメ
ツキすることなく、直接銀メツキを3μ施した。
そしてセロハンテープ（商品名）にて剥離テスト
を行なつたが銀メツキの剥離はなく密着性の向上
していることが確認できた。更に380℃、５分間
の耐熱テストを加えたが変色やふくれは見当らな
かつた。
実施例 ２
前処理液組成
クエン酸カリウム 100g／
リン酸カリウム 10g／
シアン化コバルトカリウム 10g／
シアン化金カリウム
0.2g／（金メタルとして） 操作条件 PH 6.8 電圧 4V 時間 20sec 温度 60℃ 以上の条件で42アロイ材の半導体のリード線を
脱脂、活性に続いて電解前処理し、ストライクメ
ツキすることなく、直接銀メツキを3μ施した。
このリード線を折り曲げテストにかけたが、銀メ
ツキの剥離は全く見られず、更に380℃、５分間
の耐熱テストを加えたが変色もふくれも発生しな
かつた。
0.2g／（金メタルとして） 操作条件 PH 6.8 電圧 4V 時間 20sec 温度 60℃ 以上の条件で42アロイ材の半導体のリード線を
脱脂、活性に続いて電解前処理し、ストライクメ
ツキすることなく、直接銀メツキを3μ施した。
このリード線を折り曲げテストにかけたが、銀メ
ツキの剥離は全く見られず、更に380℃、５分間
の耐熱テストを加えたが変色もふくれも発生しな
かつた。
以上説明してきたように、本発明によれば各種
電導塩にアノード活性剤を組合わせ且つ微量のシ
アン化金カリウムを用いることとしたため、鉄、
ニツケル合金の素地にニツケルストライク、金ス
トライク、銀ストライク、銅ストライク等のスト
ライクメツキ処理を施すことなく脱脂、活性に続
いてこの電解前処理剤を用いた電解前処理を行な
うのみで直接本メツキすることが可能となり、従
来ストライクの不可欠であつたメツキ処理に対し
その分処理が簡便化されコストダウンに寄与で
き、それでいて従来同等の密着性の向上が期待で
きる上に、強酸ではなく弱酸性アルカリ処理なの
で耐食性の向上があり、しかも銅ストライク−銀
メツキの如き従来のメツキ処理の場合析出物の表
面に銅がいわば拡散現象で出て来て酸化物を生成
し易いという不具合が見受けられたが本発明の前
処理剤を使用すれば銅ストライクを不要とするた
めこのような不具合を完全に解消し電気的特性の
向上に寄与できるという効果もある。更には剥離
処理も省略可能なのでその分経済的でもあり従来
のメツキ処理に比べて多くの利点がある。
電導塩にアノード活性剤を組合わせ且つ微量のシ
アン化金カリウムを用いることとしたため、鉄、
ニツケル合金の素地にニツケルストライク、金ス
トライク、銀ストライク、銅ストライク等のスト
ライクメツキ処理を施すことなく脱脂、活性に続
いてこの電解前処理剤を用いた電解前処理を行な
うのみで直接本メツキすることが可能となり、従
来ストライクの不可欠であつたメツキ処理に対し
その分処理が簡便化されコストダウンに寄与で
き、それでいて従来同等の密着性の向上が期待で
きる上に、強酸ではなく弱酸性アルカリ処理なの
で耐食性の向上があり、しかも銅ストライク−銀
メツキの如き従来のメツキ処理の場合析出物の表
面に銅がいわば拡散現象で出て来て酸化物を生成
し易いという不具合が見受けられたが本発明の前
処理剤を使用すれば銅ストライクを不要とするた
めこのような不具合を完全に解消し電気的特性の
向上に寄与できるという効果もある。更には剥離
処理も省略可能なのでその分経済的でもあり従来
のメツキ処理に比べて多くの利点がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 各種電導塩を５〜250g／、アノード活性
剤を0.5〜50g／及びシアン化金カリウムを金メ
タルとして0.05〜2g／含有して成る鉄、ニツケ
ル合金の電解前処理剤。 ２ アノード活性剤がニツケル、コバルトの金属
錯体である特許請求の範囲第１項記載の鉄、ニツ
ケル合金の電解前処理剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12757282A JPS5920493A (ja) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | 鉄、ニッケル合金の電解前処理剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12757282A JPS5920493A (ja) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | 鉄、ニッケル合金の電解前処理剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5920493A JPS5920493A (ja) | 1984-02-02 |
| JPH0210237B2 true JPH0210237B2 (ja) | 1990-03-07 |
Family
ID=14963357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12757282A Granted JPS5920493A (ja) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | 鉄、ニッケル合金の電解前処理剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5920493A (ja) |
-
1982
- 1982-07-23 JP JP12757282A patent/JPS5920493A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5920493A (ja) | 1984-02-02 |
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