JPH02102742A - 窒素酸化物分解触媒 - Google Patents
窒素酸化物分解触媒Info
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- JPH02102742A JPH02102742A JP63254492A JP25449288A JPH02102742A JP H02102742 A JPH02102742 A JP H02102742A JP 63254492 A JP63254492 A JP 63254492A JP 25449288 A JP25449288 A JP 25449288A JP H02102742 A JPH02102742 A JP H02102742A
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- Japan
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- zeolite
- metal
- nitrogen oxides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、排ガス中に含まれる窒素酸化物を除去する方
法に関する。
法に関する。
(従来の技術)
従来排ガス中に含まれる窒素酸化物は、■窒素酸化物を
酸化しアルカリ吸収させる方法 ■窒素酸化物をNH3
+ H2p Co等の還元剤により、N2とする方法な
どにより除去されてきた。これらの方法は■の場合、排
水処理が必要となり、■の場合はNH3等の還元剤が必
要であるため処理コストが高い。またこれらとSOxと
の反応による塩類生成による活性低下があるなとの問題
を有してきた。またそのため還元剤を添加することなく
窒素酸化物を直接分解することができる触媒が提案され
ているがこれらは活性が低く実用に供し得ないという問
題点を有してきた。
酸化しアルカリ吸収させる方法 ■窒素酸化物をNH3
+ H2p Co等の還元剤により、N2とする方法な
どにより除去されてきた。これらの方法は■の場合、排
水処理が必要となり、■の場合はNH3等の還元剤が必
要であるため処理コストが高い。またこれらとSOxと
の反応による塩類生成による活性低下があるなとの問題
を有してきた。またそのため還元剤を添加することなく
窒素酸化物を直接分解することができる触媒が提案され
ているがこれらは活性が低く実用に供し得ないという問
題点を有してきた。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は、上記の欠点を解決し、還元剤を添加すること
なく窒素酸化物を高効率に直接分解することができる触
媒にかかるものである。
なく窒素酸化物を高効率に直接分解することができる触
媒にかかるものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明にかかる触媒は、排ガス中に含有する窒素酸化物
を、 (a)III成式HAMB [(A IO2) x ・
(s t02)Yコ−ZH20(ここてMは金属、nは
その価数。A+nB=X)であられされ、Mがアルカリ
金属、及びもしくはアルカリ土類金属であることを特徴
とするゼオライト。
を、 (a)III成式HAMB [(A IO2) x ・
(s t02)Yコ−ZH20(ここてMは金属、nは
その価数。A+nB=X)であられされ、Mがアルカリ
金属、及びもしくはアルカリ土類金属であることを特徴
とするゼオライト。
(b)RLI、Rh、Pd、Ag、Pt、Au、Co、
Cu、Cr、Niから選択される金属もしくは金属酸化
物とからなることを特徴とする窒素酸化物分解触媒であ
る。
Cu、Cr、Niから選択される金属もしくは金属酸化
物とからなることを特徴とする窒素酸化物分解触媒であ
る。
本触媒は、一般に、組成式MB [(A 102)X・
(slo2)、] ・ZH20(上記組成式でA=0.
nB=X)であられ仕る市販のゼオライトを前駆体とし
て、公知の方法により調製することが出来ろ。これらの
市販品としては、NX−100P、CX−100P、C
A−100P、NA−100P、 KA−100P、
GA−100P及びNM−100P(いづれも日本
化学)などをあげることが出来る。これらを用いて、目
的の組成のゼオライトを得、次いて触媒を調製する場合
には、先ず、上記組成式のアルカリ及びもしくはアルカ
リ土類金属の一部をN Haて置換する。この処理は、
適当量のゼオライトを適当濃度のNH4Cl水溶液に浸
漬し、常温もしくは加熱下で一定時間撹拌し、ろ別する
。この操作を必要に応じて繰り返すことによって所定量
の金属をNH,で置換する。目的のゼオライトはこれら
を乾燥後、300℃〜700℃で焼成することによって
得られる。このようにして得られたゼオライトを含有す
る触媒の製造方法、公知のものを適宜選択すればよく、
又通常、触媒製造時に使用される成形助剤、成形体補強
体、無機繊維、有機バインダーなどを適宜使用してもよ
いのは勿論である。(b)群より選択される金属、もし
くは金属酸化物は、この触媒製造時に導入されてもよい
し、あるいは又、以上のようにして得られた成形体に含
浸させてもよい。
(slo2)、] ・ZH20(上記組成式でA=0.
nB=X)であられ仕る市販のゼオライトを前駆体とし
て、公知の方法により調製することが出来ろ。これらの
市販品としては、NX−100P、CX−100P、C
A−100P、NA−100P、 KA−100P、
GA−100P及びNM−100P(いづれも日本
化学)などをあげることが出来る。これらを用いて、目
的の組成のゼオライトを得、次いて触媒を調製する場合
には、先ず、上記組成式のアルカリ及びもしくはアルカ
リ土類金属の一部をN Haて置換する。この処理は、
適当量のゼオライトを適当濃度のNH4Cl水溶液に浸
漬し、常温もしくは加熱下で一定時間撹拌し、ろ別する
。この操作を必要に応じて繰り返すことによって所定量
の金属をNH,で置換する。目的のゼオライトはこれら
を乾燥後、300℃〜700℃で焼成することによって
得られる。このようにして得られたゼオライトを含有す
る触媒の製造方法、公知のものを適宜選択すればよく、
又通常、触媒製造時に使用される成形助剤、成形体補強
体、無機繊維、有機バインダーなどを適宜使用してもよ
いのは勿論である。(b)群より選択される金属、もし
くは金属酸化物は、この触媒製造時に導入されてもよい
し、あるいは又、以上のようにして得られた成形体に含
浸させてもよい。
本発明にかかる触媒は、組成式HAMB [(A102
) ・ (S10゜)Y] 令ZH20(ここてMは
金属、nはその価数、A+nB=X)であられされ、M
がアルカリ金属、及びもしくはアルカリ土類金属である
ことを特徴とするゼオライトを主成分とし、これに(b
)群より選択される金属もしくは金属酸化物を導入する
ことからなるが、このゼオライトの好ましい組成比はる
比で0. 1<A/X、0,1<nB/Xてあり、触媒
調製時にさらにこれに、(b)群より選択される金属を
0.1〜20重量%導入することが好ましい。本発明者
はらばNOの接触分解の素反応が2NO+2c7
→ 2NO(1)2NO→ N2+20 (2) 20 → 02+2e−(3)02
→ 02↑ (4)からなり、(a)
l?¥のゼオライト中のアルカリ及びもしくはアルカリ
土類金属は、(1)、(2)の反応に、Hは(3)の反
応ζこ、そして(b)群より選択される金属もしくは金
属酸化物は(4)の反応に関与していると考えている。
) ・ (S10゜)Y] 令ZH20(ここてMは
金属、nはその価数、A+nB=X)であられされ、M
がアルカリ金属、及びもしくはアルカリ土類金属である
ことを特徴とするゼオライトを主成分とし、これに(b
)群より選択される金属もしくは金属酸化物を導入する
ことからなるが、このゼオライトの好ましい組成比はる
比で0. 1<A/X、0,1<nB/Xてあり、触媒
調製時にさらにこれに、(b)群より選択される金属を
0.1〜20重量%導入することが好ましい。本発明者
はらばNOの接触分解の素反応が2NO+2c7
→ 2NO(1)2NO→ N2+20 (2) 20 → 02+2e−(3)02
→ 02↑ (4)からなり、(a)
l?¥のゼオライト中のアルカリ及びもしくはアルカリ
土類金属は、(1)、(2)の反応に、Hは(3)の反
応ζこ、そして(b)群より選択される金属もしくは金
属酸化物は(4)の反応に関与していると考えている。
これらのそれぞれの反応速度への寄与は定かではないが
、これらの組成比において最も分解活性を示す結果とな
った。
、これらの組成比において最も分解活性を示す結果とな
った。
本発明の触媒が分解活性を示す温度は300〜800℃
である。また好ましい温度は400〜600℃である。
である。また好ましい温度は400〜600℃である。
この温度において本発明は5V=500〜50000に
おいて使用することができる。
おいて使用することができる。
〈発明の効果)
以上の様に本発明によれば、(a)m威武HAM [(
AlO2) ・(S IO2) y] ・ZHB
X 20(ここでMは金属、nはその価数、A+nB=X)
であられされ、Mがアルカリ金属、及びもしくはアルカ
リ土類金属であることを特徴とするゼオライトを主成分
として、(b)Ru、Rh。
AlO2) ・(S IO2) y] ・ZHB
X 20(ここでMは金属、nはその価数、A+nB=X)
であられされ、Mがアルカリ金属、及びもしくはアルカ
リ土類金属であることを特徴とするゼオライトを主成分
として、(b)Ru、Rh。
Pd、Ag+ pt、Au、Co、Cu、Cr、Nlか
ら選択される金属、もしくは金属酸化物を導入すること
によって、排ガス温度が300〜800℃の温度域にお
いて窒素酸化物を還元剤を添加することなく分解除去す
ることが可能となったのである。
ら選択される金属、もしくは金属酸化物を導入すること
によって、排ガス温度が300〜800℃の温度域にお
いて窒素酸化物を還元剤を添加することなく分解除去す
ることが可能となったのである。
以下に実施例とともに比較例、参考例を挙げて本発明す
るが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるも
のではない。
るが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるも
のではない。
実施例1
組成式M[(A102)X・(S t 02 ) yコ
・ZH2Oであられされ、金属MがCaであるX型ゼオ
ライトノ市販品CX−100P、500gをIN!1度
のNH,CI溶液59中に浸漬し、常温にて2時間撹拌
した後、ろ別した。この操作を必要に応じて繰り返す。
・ZH2Oであられされ、金属MがCaであるX型ゼオ
ライトノ市販品CX−100P、500gをIN!1度
のNH,CI溶液59中に浸漬し、常温にて2時間撹拌
した後、ろ別した。この操作を必要に応じて繰り返す。
これらケーキは最終的に100℃にて8時間乾燥し、さ
らに300℃にて3時間焼成し、冷却後サンプルミルに
て粉砕した。
らに300℃にて3時間焼成し、冷却後サンプルミルに
て粉砕した。
こうして調製された■威武HAMB[(A102)
・(S IO2) yl ・ZH20(ここでMはCa
、n=2.A+2I3=X)であられされるゼオライト
のそれぞれの成分の組成比(モル比、以下同様)を最終
的!、mA/X=0.5.2B/X=0.5となるよう
にした。次にセラミックスファイバー製基材を、これら
ゼオライトを含有するスラリー中(濃度500 g/
Q、)に浸漬し、過剰のスラリーを除去し、乾燥後60
0℃にて3時間焼成し、ゼオライト担持触媒を調製した
。このときセラミックスファイバー基材に担持されたゼ
オライトは、基材重量の約2倍であった。次いてこれら
の触媒を、CuCl 3溶液に浸漬し、Cuとして5重
量%を含浸した。これらを常温にて12時間通風乾燥し
た後、再び600℃にて3時間焼成し窒素酸化物除去用
触媒を得た。
・(S IO2) yl ・ZH20(ここでMはCa
、n=2.A+2I3=X)であられされるゼオライト
のそれぞれの成分の組成比(モル比、以下同様)を最終
的!、mA/X=0.5.2B/X=0.5となるよう
にした。次にセラミックスファイバー製基材を、これら
ゼオライトを含有するスラリー中(濃度500 g/
Q、)に浸漬し、過剰のスラリーを除去し、乾燥後60
0℃にて3時間焼成し、ゼオライト担持触媒を調製した
。このときセラミックスファイバー基材に担持されたゼ
オライトは、基材重量の約2倍であった。次いてこれら
の触媒を、CuCl 3溶液に浸漬し、Cuとして5重
量%を含浸した。これらを常温にて12時間通風乾燥し
た後、再び600℃にて3時間焼成し窒素酸化物除去用
触媒を得た。
実施例2
実施例1において、CuCl3溶1音にかえて、RuC
l3溶液を用いて、Ruとして5重量%を含浸した以外
は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を
得た。
l3溶液を用いて、Ruとして5重量%を含浸した以外
は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を
得た。
実施例3
実施例1において、CuC13溶液にかえて、RhC1
j命3H20溶液を用いて、Rhとして5重量%を含浸
した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去
用触媒を得た。
j命3H20溶液を用いて、Rhとして5重量%を含浸
した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去
用触媒を得た。
実施例4
実施例1において、CuC13溶液にかえて、PdCl
2溶液を用いて、Pdとして5正塩%を含浸した以外は
、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得
た。
2溶液を用いて、Pdとして5正塩%を含浸した以外は
、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得
た。
実施例5
実施例1において、CuCl3溶液にかえて、Ag(N
O3)ra液ヲ用イテ、AgトL、r5ffi量%を含
浸した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除
去用触媒を得た。
O3)ra液ヲ用イテ、AgトL、r5ffi量%を含
浸した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除
去用触媒を得た。
実施例6
実施例1において、CuCl3溶液にかえて、H[Au
C1al−4H20溶液を用いて、Auとして5重量%
を含浸した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化
物除去用触媒を得た。
C1al−4H20溶液を用いて、Auとして5重量%
を含浸した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化
物除去用触媒を得た。
実施例7
実施例1において、CuC13溶液にかえて、CoCl
2・6H20溶液を用いて、Coとして5重量%を含浸
した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去
用触媒を得た。
2・6H20溶液を用いて、Coとして5重量%を含浸
した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去
用触媒を得た。
実施例8
実施例1において、CuCl31:2J液にかえて、C
rCl2溶液を用いて、Crとして5重量%を含浸した
以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触
媒を得た。
rCl2溶液を用いて、Crとして5重量%を含浸した
以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触
媒を得た。
実施例9
実施例1において、CuCl3溶jαにかえて、NiC
1,、・6H20溶液を用いて、Niとして5重量%を
含浸した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
1,、・6H20溶液を用いて、Niとして5重量%を
含浸した以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
実施例10
実施例1において、組成式HAMB[(AlO2)X・
(SiO9)Y] ・ZH20(ここてMはCa、n
=2.A+28=X)であられせるゼオライトのそれぞ
れの成分の組成比を最終的にA/X=0.1.2B/X
=0.9となるようにした以外は実施例1と全く同様に
して窒素酸化物用触媒を得た。
(SiO9)Y] ・ZH20(ここてMはCa、n
=2.A+28=X)であられせるゼオライトのそれぞ
れの成分の組成比を最終的にA/X=0.1.2B/X
=0.9となるようにした以外は実施例1と全く同様に
して窒素酸化物用触媒を得た。
実施例11
実施例1において、キ■成弐トIAMB[(AlO2)
X・ (S IO2) yl ・ZH20(ここでMは
Can n==2.A+2B:X)であられせるゼオラ
イトのそれぞれの成分の組成比を最終的にA/X=0.
9.2B/X=0.1となるようにした以外は実施例1
と全く同様にして窒素酸化物用触媒を得た。
X・ (S IO2) yl ・ZH20(ここでMは
Can n==2.A+2B:X)であられせるゼオラ
イトのそれぞれの成分の組成比を最終的にA/X=0.
9.2B/X=0.1となるようにした以外は実施例1
と全く同様にして窒素酸化物用触媒を得た。
実施例12
実施例1において、Cuの含浸型を1重量%とした以外
は実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得
た。
は実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得
た。
実施例13
実施例1において、CLIの含浸機を20重量%とした
以外は実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒
を得た。
以外は実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒
を得た。
実施例14
実施例1において、CX−100PのかわりにA型ゼオ
ライトの市販品CA−100Pを用いる以外は実施例1
と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
ライトの市販品CA−100Pを用いる以外は実施例1
と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
実施例15
実施例1において、CX−100Pのかわりに組成式M
B[(A102)X・(S i O2) yl・ZH2
0であられされ、金属MがNaであるX型ゼオライトの
市販品NX−100Pを用いて、最終的に組成式HM
[(A I O2) x・(SB 102) YI ・ZH20(ここてMはNa、n=1
、A+B=X)であられせるゼオライトのそれぞれの成
分の組成比がA/X=0.5.B/X=0.5となるよ
うにした以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
B[(A102)X・(S i O2) yl・ZH2
0であられされ、金属MがNaであるX型ゼオライトの
市販品NX−100Pを用いて、最終的に組成式HM
[(A I O2) x・(SB 102) YI ・ZH20(ここてMはNa、n=1
、A+B=X)であられせるゼオライトのそれぞれの成
分の組成比がA/X=0.5.B/X=0.5となるよ
うにした以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
実施例16
実施例15において、NX−100PのかわりにA型ゼ
オライトの市販品NA−100Pを用いる以外は実施例
15と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
オライトの市販品NA−100Pを用いる以外は実施例
15と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
実施りす17
実施例15において、N X −100Pのかわりにモ
ルデナイトの市販品NM−100Pを用いる以外は実施
例15と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
ルデナイトの市販品NM−100Pを用いる以外は実施
例15と全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
実施例18
実施例1において、CX−100Pのかわりに組成式M
[(A102)X・(S IO2) YI・ZH2
0てあられされ、金属MがI(であるA型ゼオライトの
市販品KA−100Pを用いて、最終的に組成式HM
[(AlO2)X・(SiB 02)YI ZH20(ここでMはに、n=1゜A+
B=X)であられせるゼオライトのそれぞれの成分ノ■
酸比がA/X=0.5.B/X=0゜5となるようにし
た以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を得た。
[(A102)X・(S IO2) YI・ZH2
0てあられされ、金属MがI(であるA型ゼオライトの
市販品KA−100Pを用いて、最終的に組成式HM
[(AlO2)X・(SiB 02)YI ZH20(ここでMはに、n=1゜A+
B=X)であられせるゼオライトのそれぞれの成分ノ■
酸比がA/X=0.5.B/X=0゜5となるようにし
た以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を得た。
実施例19
実施例1において、CX−100Pのかわりに組成式M
[(AlO2)X・(S IO2) yコ・ZH20
であられされ。金属MがMgであるA型ゼオライトの市
販品GA−100Pを用いて、最終的に組成式HM
[(A102)X・(SB 102)yコ ・2H20(ここでMはMg、n==2
、A+28=X)であられせるゼオライトのそれぞれの
成分の組成比がA/X=0.5.2B/X=0.5とな
るようにした以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸
化物除去用触媒を得た。
[(AlO2)X・(S IO2) yコ・ZH20
であられされ。金属MがMgであるA型ゼオライトの市
販品GA−100Pを用いて、最終的に組成式HM
[(A102)X・(SB 102)yコ ・2H20(ここでMはMg、n==2
、A+28=X)であられせるゼオライトのそれぞれの
成分の組成比がA/X=0.5.2B/X=0.5とな
るようにした以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸
化物除去用触媒を得た。
実施例20
実施例15において、調製したゼオライトを、さらに1
/2Na度の5rCI2・(3H,、O溶液を用いて、
同様の追加処理を行いNaを全量Srによって置換し最
終的に組成式I]AM8[(A102)X・ (S l
02)yコ ・ZH20(ここてMはSr、n=2.A
+28=X)であられされるゼオライトのそれぞれの成
分の組成比がA/X=0.5.2B/X=0.5となる
ようにした以外は実施例15と全く同様にして窒素酸化
物除去用触媒を得た。
/2Na度の5rCI2・(3H,、O溶液を用いて、
同様の追加処理を行いNaを全量Srによって置換し最
終的に組成式I]AM8[(A102)X・ (S l
02)yコ ・ZH20(ここてMはSr、n=2.A
+28=X)であられされるゼオライトのそれぞれの成
分の組成比がA/X=0.5.2B/X=0.5となる
ようにした以外は実施例15と全く同様にして窒素酸化
物除去用触媒を得た。
実施例21
実施例15において、調製したゼオライトを、さらに1
/2Na度のBaCl2・2H20溶液を用いて、同様
の追加処理を行いNaを全量Baによって置換し最終的
に組成式HAM8[(A102)X・(S iO*)Y
l ・ZH2O(ここでMはBa、n=2.A+28=
X)であられされるゼオライトのそれぞれの成分の組成
比がA/X=0.5.2B/X=0.5となるようにし
た以外は実施例15と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を得た。
/2Na度のBaCl2・2H20溶液を用いて、同様
の追加処理を行いNaを全量Baによって置換し最終的
に組成式HAM8[(A102)X・(S iO*)Y
l ・ZH2O(ここでMはBa、n=2.A+28=
X)であられされるゼオライトのそれぞれの成分の組成
比がA/X=0.5.2B/X=0.5となるようにし
た以外は実施例15と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を得た。
比較例1
実施例15において、調製したゼオライトを、さらに1
/2NJ度のZnCl2溶液を用いて、同様の追加処理
を行いNaを全flZnによって置換し最終的に組成式
HAMB C(A I O2) x(S 102) Y
l ’ ZH20(ここてMはZn。
/2NJ度のZnCl2溶液を用いて、同様の追加処理
を行いNaを全flZnによって置換し最終的に組成式
HAMB C(A I O2) x(S 102) Y
l ’ ZH20(ここてMはZn。
n=2.A+28=X)であられされるゼオライトのそ
れぞれの成分の組成比がA/X=0.5゜2B/X=0
.5となるようにした以外は実施例15と全く同様にし
て窒素酸化物除去用触媒を得た。
れぞれの成分の組成比がA/X=0.5゜2B/X=0
.5となるようにした以外は実施例15と全く同様にし
て窒素酸化物除去用触媒を得た。
比較例2
実施例15において、調製したゼオライトを、さらに1
/2Ni!!度のCeCl3溶液を用いて、同様の追加
処理を行いNaを全faceによって置換し最終的に組
成式HAM8[(A10□)X(S102)Yl ・Z
H20(ここでMはCe。
/2Ni!!度のCeCl3溶液を用いて、同様の追加
処理を行いNaを全faceによって置換し最終的に組
成式HAM8[(A10□)X(S102)Yl ・Z
H20(ここでMはCe。
n=3.A+38=X)であられされるゼオライトのそ
れぞれの成分の組成比がA/X=0.5゜3B/X=0
.5となるようにした以外は実施例15と全く同様にし
て窒素酸化物除去用触媒を青比較例3 実施例15において、調製したゼオライトを、さらに1
/2NX度のInCl3溶液を用いて、同様の追加処理
を行いNaを全!Inによって置換し最終的に組成式H
AMB[(AlO□)X(S102)Yl・ZH20(
ここでMはIn。
れぞれの成分の組成比がA/X=0.5゜3B/X=0
.5となるようにした以外は実施例15と全く同様にし
て窒素酸化物除去用触媒を青比較例3 実施例15において、調製したゼオライトを、さらに1
/2NX度のInCl3溶液を用いて、同様の追加処理
を行いNaを全!Inによって置換し最終的に組成式H
AMB[(AlO□)X(S102)Yl・ZH20(
ここでMはIn。
rl=3.A+38=X)であられされるゼオライトの
それぞれの成分の組成比がA/X=0.5゜3B/X=
0.5となるようにした以外は実施例15と全く同様に
して窒素酸化物除去用触媒を得た。
それぞれの成分の組成比がA/X=0.5゜3B/X=
0.5となるようにした以外は実施例15と全く同様に
して窒素酸化物除去用触媒を得た。
参考例
モーピル石油型ZSM−5,500g@1/2Ni1度
のCuCl 2溶液に漫潰駅還流器付三ツロフラスコで
、90〜100℃で5時間撹拌した後ろ別した。この操
作を繰り返し、Cuの置換量が、10.0重量%となる
ようにした。以後NH4Cl溶液による処理を省略し、
実施例1と同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
のCuCl 2溶液に漫潰駅還流器付三ツロフラスコで
、90〜100℃で5時間撹拌した後ろ別した。この操
作を繰り返し、Cuの置換量が、10.0重量%となる
ようにした。以後NH4Cl溶液による処理を省略し、
実施例1と同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
実施例1〜21、比較例1〜3及び参考例により得られ
た触媒を用いて以下の試験条件にて−(験を行った。
た触媒を用いて以下の試験条件にて−(験を行った。
(1)ガス組成
No 200ppm
02 2%
H2O10%
N2 バランス
(2)SV 1,000
(3)反応温度
300℃、400℃、500℃
試験結果を第1表に示した。
なお、第1表中の値はN2への転換率を表している。
第1表
第1表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 窒素酸化物を含有するガスと接触して、窒素酸化物を分
解除去する触媒において、 (a)組成式H_AM_B[(AlO_2)_X・(S
iO_2)_Y]・ZH_2O(ここでMは金属、nは
その価数。A+nB=X)であられされ、Mがアルカリ
金属、及びもしくはアルカリ土類金属であることを特徴
とするゼオライト(モルデナイトも含む)。(b)Ru
、Rh、Pd、Ag、Pt、Au、Co、Cu、Cr、
Niから選択される金属もしくは金属酸化物とからなる
ことを特徴とする窒素酸化物分解触媒。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63254492A JPH02102742A (ja) | 1988-10-08 | 1988-10-08 | 窒素酸化物分解触媒 |
| EP89202506A EP0362966B1 (en) | 1988-10-07 | 1989-10-04 | Catalysts and methods for denitrization |
| DE89202506T DE68912262T2 (de) | 1988-10-07 | 1989-10-04 | Katalysatoren und Verfahren zur Denitrierung. |
| US07/417,423 US5169814A (en) | 1988-10-07 | 1989-10-05 | Catalysts for denitrization |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63254492A JPH02102742A (ja) | 1988-10-08 | 1988-10-08 | 窒素酸化物分解触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02102742A true JPH02102742A (ja) | 1990-04-16 |
Family
ID=17265807
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63254492A Pending JPH02102742A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-08 | 窒素酸化物分解触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02102742A (ja) |
-
1988
- 1988-10-08 JP JP63254492A patent/JPH02102742A/ja active Pending
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