JPH02102771A - 平面基板用の液切り装置 - Google Patents
平面基板用の液切り装置Info
- Publication number
- JPH02102771A JPH02102771A JP25317888A JP25317888A JPH02102771A JP H02102771 A JPH02102771 A JP H02102771A JP 25317888 A JP25317888 A JP 25317888A JP 25317888 A JP25317888 A JP 25317888A JP H02102771 A JPH02102771 A JP H02102771A
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- JP
- Japan
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- liquid
- flat substrate
- roll body
- cylinder
- roll bodies
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- Pending
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- Cleaning In General (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガラス基板やPCB (PrintedCi
rcuit Board)等の平面基板を洗浄する工
程等において上記平面基板上の液体を除去するのに利用
される平面基板用の液切り装置に関するものである。
rcuit Board)等の平面基板を洗浄する工
程等において上記平面基板上の液体を除去するのに利用
される平面基板用の液切り装置に関するものである。
従来より、この種の平面基板用の液切り装置として、例
えば、 ■平面基板をステージ上に吸着固定した状態で上記ステ
ージを回転駆動することにより、そのときに生じる遠心
力で平面基板上の液を切るスピンナ一方式。
えば、 ■平面基板をステージ上に吸着固定した状態で上記ステ
ージを回転駆動することにより、そのときに生じる遠心
力で平面基板上の液を切るスピンナ一方式。
■平面基板上の液に高圧のエアーを吹きかけることによ
り上記の液を吹き飛ばずようにしたエアーナイフ方式(
発明協会公開技報、公技番号88−4997参照)。
り上記の液を吹き飛ばずようにしたエアーナイフ方式(
発明協会公開技報、公技番号88−4997参照)。
■平面基板上でローラーを回転させることにより平面基
板上の液を堰き止めて除去するようにしたローラ一方式
。
板上の液を堰き止めて除去するようにしたローラ一方式
。
■例えば、フロン系溶剤やIPA(イソプロピルアルコ
ール)などの低沸点溶剤を用いて液切りを行うペーパ一
方式(特開昭61−290445号公報参照)。
ール)などの低沸点溶剤を用いて液切りを行うペーパ一
方式(特開昭61−290445号公報参照)。
等を用いた液切り装置が提案されている。
ところが、上記のスピンナ一方式では、処理能力が低い
という最大の欠点を有する他、基板回転部と基板搬送部
とでそれぞれ別の駆動系を必要として装置が大型化する
傾向がある。さらに、遠心力にて飛散した液体で基板を
汚しがらになるという欠点も有している。
という最大の欠点を有する他、基板回転部と基板搬送部
とでそれぞれ別の駆動系を必要として装置が大型化する
傾向がある。さらに、遠心力にて飛散した液体で基板を
汚しがらになるという欠点も有している。
エアーナイフ方式では、上記スピンナ一方式と同様、吹
き飛ばされた液で基板を汚すという欠点を有するのに加
えて、高圧エアーが液切り前後の処理槽に吹き込んで洗
浄条件に悪影響を及ぼしたり、また、エアーナイフにお
けるエアー吹きつけ角度や圧力等の条件設定が複雑であ
るという欠点も有している。
き飛ばされた液で基板を汚すという欠点を有するのに加
えて、高圧エアーが液切り前後の処理槽に吹き込んで洗
浄条件に悪影響を及ぼしたり、また、エアーナイフにお
けるエアー吹きつけ角度や圧力等の条件設定が複雑であ
るという欠点も有している。
ローラ一方式では、装置構造が簡単であるとい−う利点
は有するものの、完全な液切りは行えず、−最に前段階
の筒易液切り装置として使用されるだけで、R終仕上げ
には用いることができないというのが実情である。
は有するものの、完全な液切りは行えず、−最に前段階
の筒易液切り装置として使用されるだけで、R終仕上げ
には用いることができないというのが実情である。
ベーパ一方式は、パンチ式洗浄機に使用されるもので枝
葉型洗浄機には不向きであり、また、装置が大型化する
という欠点を有している。
葉型洗浄機には不向きであり、また、装置が大型化する
という欠点を有している。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る平面基板用の液切り装置は、上記の課題を
解決するために、平面基板に対し接触または近接した状
態でこの平面基板の移動に同期回転してこの平面基板上
の液体を堰き止める多孔質筒状のロール体と、このロー
ル体の筒内部を減圧することにより上記堰き止められた
平面基板上の液体を上記ロール体の多孔質周壁面を介し
てロール体の内部に吸引する液体吸引装置とを備えてい
ることを特徴としている。
解決するために、平面基板に対し接触または近接した状
態でこの平面基板の移動に同期回転してこの平面基板上
の液体を堰き止める多孔質筒状のロール体と、このロー
ル体の筒内部を減圧することにより上記堰き止められた
平面基板上の液体を上記ロール体の多孔質周壁面を介し
てロール体の内部に吸引する液体吸引装置とを備えてい
ることを特徴としている。
上記の構成によれば、平面基板上の液体はロール体にて
一旦堰き止められるとともに、この堰き止められた液体
は、液体吸引装置によるロール体の筒内部の減圧によっ
て、多孔質周壁面を介してロール体の筒内部に吸引され
た後、例えば所定の場所に排出されることになる。これ
によって、単なるローラ一方式によるものに比べると、
液切り処理の確実性および信頼性が格段に向上し、洗浄
の最終仕上げの段階においても本発明の平面基板用の液
切り装置を十分に適用することができる。
一旦堰き止められるとともに、この堰き止められた液体
は、液体吸引装置によるロール体の筒内部の減圧によっ
て、多孔質周壁面を介してロール体の筒内部に吸引され
た後、例えば所定の場所に排出されることになる。これ
によって、単なるローラ一方式によるものに比べると、
液切り処理の確実性および信頼性が格段に向上し、洗浄
の最終仕上げの段階においても本発明の平面基板用の液
切り装置を十分に適用することができる。
その上、かかる液切りの際に液体の飛散は全く伴わない
のでエアーナイフ方式のように跳ね返った液体で平面基
板を汚すといった事態を回避でき、また、スピンナ一方
式のように平面基板を回転部・助する手段は要らないの
で装置の大型化は招来せず、ヘーパ一方式のように平面
基板の搬送円滑化を妨げることもない。
のでエアーナイフ方式のように跳ね返った液体で平面基
板を汚すといった事態を回避でき、また、スピンナ一方
式のように平面基板を回転部・助する手段は要らないの
で装置の大型化は招来せず、ヘーパ一方式のように平面
基板の搬送円滑化を妨げることもない。
本発明の一実施例を第1図ないし第3図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
本発明にかかる平面基板用の液切り装置において、第1
図に示すように、多数の小孔1a・・・が形成されたス
テンレスからなるメツシュ状筒体lの外周部には、多孔
質周壁面を構成する多孔質のスポンジ筒体2が外嵌され
ており、これらメツシュ状筒体lおよびスポンジ筒体2
は、それらの両端部に固着された円筒状のフランジ3・
3にて一体化されている。上記メンシュ状筒体lとスポ
ンジ筒体2とフランジ3・3にてロール体4が構成され
ており、このロール体4は、第2図にも示すように、そ
の筒内部に貫通して設けられたステンレスの吸引パイプ
5を軸としてこれと相対回転可能に設けられている。か
かる回転駆動力を伝達するために、一方のフランジ3に
形成された延設部3aにはスプロケット7が嵌着されて
おり、このスプロケット7に図示しない駆動系から駆動
力が伝達されるようになっている。
図に示すように、多数の小孔1a・・・が形成されたス
テンレスからなるメツシュ状筒体lの外周部には、多孔
質周壁面を構成する多孔質のスポンジ筒体2が外嵌され
ており、これらメツシュ状筒体lおよびスポンジ筒体2
は、それらの両端部に固着された円筒状のフランジ3・
3にて一体化されている。上記メンシュ状筒体lとスポ
ンジ筒体2とフランジ3・3にてロール体4が構成され
ており、このロール体4は、第2図にも示すように、そ
の筒内部に貫通して設けられたステンレスの吸引パイプ
5を軸としてこれと相対回転可能に設けられている。か
かる回転駆動力を伝達するために、一方のフランジ3に
形成された延設部3aにはスプロケット7が嵌着されて
おり、このスプロケット7に図示しない駆動系から駆動
力が伝達されるようになっている。
フランジ3・3の内壁面と上記吸引パイプ5の外壁面と
の間には、0リング6・6(図では一方のみ示している
)が設けられており、これら0リング6・6を介してロ
ール体4が吸引パイプ5に支持されると共に、各フラン
ジ3と吸引パイプ5との間隙から大気中の空気がロール
体4の内部に漏れ入らないようになっている。また、上
記の吸引パイプ5には、その筒内部と上記ロール体4の
筒内部とを連通ずるための貫通長溝(スリット)5aが
、上記Oリング6・6で仕切られた区間内において吸引
パイプ5の長手方向に一本だけ形成されている。そして
、吸引バイブ5の両端には、ロール体4内を減圧させる
ための液体吸引装置として水封式真空ポンプ(図示せず
)が接続されている。
の間には、0リング6・6(図では一方のみ示している
)が設けられており、これら0リング6・6を介してロ
ール体4が吸引パイプ5に支持されると共に、各フラン
ジ3と吸引パイプ5との間隙から大気中の空気がロール
体4の内部に漏れ入らないようになっている。また、上
記の吸引パイプ5には、その筒内部と上記ロール体4の
筒内部とを連通ずるための貫通長溝(スリット)5aが
、上記Oリング6・6で仕切られた区間内において吸引
パイプ5の長手方向に一本だけ形成されている。そして
、吸引バイブ5の両端には、ロール体4内を減圧させる
ための液体吸引装置として水封式真空ポンプ(図示せず
)が接続されている。
上述した平面基板用の液切り装置は、例えば、第3図に
示すように、ローラーコンベア10にて搬送されてくる
平面基板11を表裏両側から挟み込むように、且つ、平
面基板11に対し直交するようにして一対配備される。
示すように、ローラーコンベア10にて搬送されてくる
平面基板11を表裏両側から挟み込むように、且つ、平
面基板11に対し直交するようにして一対配備される。
このとき、ロール体4・4におけるスポンジ筒体2・2
は平面基板llに軽く接するように配され、また、前記
の吸引パイプ5は、スポンジ筒体2における平面基板1
1との接触部位が回転によって平面基板llから離れる
前の段階において、スポンジ筒体2に含まれている液体
を吸い取るべく、その貫通長溝5aを平面基板11に向
けて各々配備される。
は平面基板llに軽く接するように配され、また、前記
の吸引パイプ5は、スポンジ筒体2における平面基板1
1との接触部位が回転によって平面基板llから離れる
前の段階において、スポンジ筒体2に含まれている液体
を吸い取るべく、その貫通長溝5aを平面基板11に向
けて各々配備される。
平面基板用の液切り装置における使用の状態をさらに具
体的に述べると、上記の平面基板11は、例えば、幅3
00mm、長さ300mm、厚み1.0値のサイズを有
しており、図示しない枝葉型ガラス洗浄装置内でブラシ
洗浄された後に給水シャワー洗浄処理を受け、次いで、
前記ローラーコンベア10にて搬送される途中で本発明
に係る液切り装置により液切り処理を受け、さらに、乾
燥オーブン装置にて乾燥処理を受ける。ロール体4・4
におけるスポンジ筒体2・2の長さは、それぞれ平面基
板11の幅より、も100M広い400mmに設定され
ており、また、平面基板11の厚み1.0mmに対応し
てロール配設間隔も1.Ommに設定されている。前記
ローラーコンベア10による平面基板11の搬送速度は
1.8m/minに、搬送方向は入方向にそれぞれ設定
され、これに対応してロール体4・4の周速度も1.8
m/minに、回転方向も入方向に対し順方向となるよ
うにそれぞれ設定される。また、水封式真空ポンプは、
吐出能力501/minのものが使用される。
体的に述べると、上記の平面基板11は、例えば、幅3
00mm、長さ300mm、厚み1.0値のサイズを有
しており、図示しない枝葉型ガラス洗浄装置内でブラシ
洗浄された後に給水シャワー洗浄処理を受け、次いで、
前記ローラーコンベア10にて搬送される途中で本発明
に係る液切り装置により液切り処理を受け、さらに、乾
燥オーブン装置にて乾燥処理を受ける。ロール体4・4
におけるスポンジ筒体2・2の長さは、それぞれ平面基
板11の幅より、も100M広い400mmに設定され
ており、また、平面基板11の厚み1.0mmに対応し
てロール配設間隔も1.Ommに設定されている。前記
ローラーコンベア10による平面基板11の搬送速度は
1.8m/minに、搬送方向は入方向にそれぞれ設定
され、これに対応してロール体4・4の周速度も1.8
m/minに、回転方向も入方向に対し順方向となるよ
うにそれぞれ設定される。また、水封式真空ポンプは、
吐出能力501/minのものが使用される。
上記の構成によれば、平面基板ll上の液体13は各ロ
ール体4にて一旦堰き止められるとともに、この堰き止
められた液体13は、水封式真空ポンプによるロール体
4内の減圧によりスポンジ筒体2およびメツシュ状筒体
1を介してロール体4の内部に吸引され、さらに、貫通
長溝5aを介して吸引バイブ5内に導かれ、この吸引パ
イプ5を通って水封式真空ポンプに導かれて所定の場所
に排出される。これによって、単なるローラ一方式によ
るものに比べると、液切り処理の確実性および信頼性が
格段に向上し、洗浄の最終仕上げの段階においても本発
明の平面基板用の液切り装置を十分に適用することがで
きる。その上、かかる液切りの際に液体13の飛散は全
く伴わないのでエアーナイフ方式のように跳ね返った液
体で平面基板11を汚すといった事態が回避でき、また
、スピンナ一方式のように平面基板11を回転駆動する
手段は要らないので装置の大型化は招来せず、ペーパ一
方式のように平面基板11の搬送円滑化を妨げることも
ない。
ール体4にて一旦堰き止められるとともに、この堰き止
められた液体13は、水封式真空ポンプによるロール体
4内の減圧によりスポンジ筒体2およびメツシュ状筒体
1を介してロール体4の内部に吸引され、さらに、貫通
長溝5aを介して吸引バイブ5内に導かれ、この吸引パ
イプ5を通って水封式真空ポンプに導かれて所定の場所
に排出される。これによって、単なるローラ一方式によ
るものに比べると、液切り処理の確実性および信頼性が
格段に向上し、洗浄の最終仕上げの段階においても本発
明の平面基板用の液切り装置を十分に適用することがで
きる。その上、かかる液切りの際に液体13の飛散は全
く伴わないのでエアーナイフ方式のように跳ね返った液
体で平面基板11を汚すといった事態が回避でき、また
、スピンナ一方式のように平面基板11を回転駆動する
手段は要らないので装置の大型化は招来せず、ペーパ一
方式のように平面基板11の搬送円滑化を妨げることも
ない。
なお、ロール体4の多孔質周壁面を構成するものとして
は、上記のスポンジ筒体2に限定されるものではない。
は、上記のスポンジ筒体2に限定されるものではない。
スポンジ筒体2の代わりに種々の多孔質体が適用できる
が、中でも、鹿皮は平面基板110表面を傷つけずに吸
水が行えるので非常に好適な素材である。
が、中でも、鹿皮は平面基板110表面を傷つけずに吸
水が行えるので非常に好適な素材である。
本発明に係る平面基板用の液切り装置は、以上のように
、平面基板に対し接触または近接した状態でこの平面基
板の移動に同!t11回転してこの平面基板上の液体を
堰き止める多孔質筒状のL2−ル体と、このロール体の
内部を減圧することにより上記堰き止められた平面基板
上の液体を上記ロール体の多孔質周壁面を介してロール
体の内部に吸引する液体吸引装置とを備えている構成で
ある。
、平面基板に対し接触または近接した状態でこの平面基
板の移動に同!t11回転してこの平面基板上の液体を
堰き止める多孔質筒状のL2−ル体と、このロール体の
内部を減圧することにより上記堰き止められた平面基板
上の液体を上記ロール体の多孔質周壁面を介してロール
体の内部に吸引する液体吸引装置とを備えている構成で
ある。
これにより、単なるローラ一方式によるものに比べると
、液切り処理の確実性および信頼性が格段に向上し、洗
浄のQ終仕上げの段階においても本発明の平面基板用の
液切り装置を十分に適用することができる。その上、か
かる液切りの際に液体の飛散は全く伴わないのでエアー
ナイフ方式のように跳ね返った液体で平面基板を汚すと
いった事態を回避でき、また、スピンナ一方式のように
平面基板を回転駆動する手段は要らないので装置の大型
化は招来せず、ペーパ一方式のように平面基板の搬送円
滑化を妨げることもない等の優れた諸効果を奏するもの
である。
、液切り処理の確実性および信頼性が格段に向上し、洗
浄のQ終仕上げの段階においても本発明の平面基板用の
液切り装置を十分に適用することができる。その上、か
かる液切りの際に液体の飛散は全く伴わないのでエアー
ナイフ方式のように跳ね返った液体で平面基板を汚すと
いった事態を回避でき、また、スピンナ一方式のように
平面基板を回転駆動する手段は要らないので装置の大型
化は招来せず、ペーパ一方式のように平面基板の搬送円
滑化を妨げることもない等の優れた諸効果を奏するもの
である。
第1図ないし第3図は本発明の一実施例を示すものであ
って、第1図は平面基板用の液切り装置の破断面回、第
2図は第1図におけるX−X矢視断面図、第3図は平面
基板用の液切り装置の使用の状態を示す説明図である。 lはメツシュ状筒体、2はスポンジ筒体(多孔質周壁面
)、3はフランジ、4はロール体、5は吸引パイプ、5
aは貫通長溝、6はOリング、7はスプロケット、11
は平面基板である。
って、第1図は平面基板用の液切り装置の破断面回、第
2図は第1図におけるX−X矢視断面図、第3図は平面
基板用の液切り装置の使用の状態を示す説明図である。 lはメツシュ状筒体、2はスポンジ筒体(多孔質周壁面
)、3はフランジ、4はロール体、5は吸引パイプ、5
aは貫通長溝、6はOリング、7はスプロケット、11
は平面基板である。
Claims (1)
- 1.平面基板に対し接触または近接した状態でこの平面
基板の移動に同期回転してこの平面基板上の液体を堰き
止める多孔質筒状のロール体と、このロール体の筒内部
を減圧することにより上記堰き止められた平面基板上の
液体を上記ロール休の多孔質周壁面を介してロール体の
内部に吸引する液体吸引装置とを備えていることを特徴
とする平面基板用の液切り装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25317888A JPH02102771A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 平面基板用の液切り装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25317888A JPH02102771A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 平面基板用の液切り装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02102771A true JPH02102771A (ja) | 1990-04-16 |
Family
ID=17247627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25317888A Pending JPH02102771A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 平面基板用の液切り装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02102771A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04111387A (ja) * | 1990-08-30 | 1992-04-13 | Fujitsu Ltd | プリント基板の乾燥装置 |
| WO2010047119A1 (ja) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用基板の洗浄装置及び磁気記録媒体用基板の洗浄方法 |
-
1988
- 1988-10-07 JP JP25317888A patent/JPH02102771A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04111387A (ja) * | 1990-08-30 | 1992-04-13 | Fujitsu Ltd | プリント基板の乾燥装置 |
| WO2010047119A1 (ja) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用基板の洗浄装置及び磁気記録媒体用基板の洗浄方法 |
| JP2010102772A (ja) * | 2008-10-23 | 2010-05-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体用基板の洗浄装置及び磁気記録媒体用基板の洗浄方法 |
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