JPH02106746A - マスクブランクス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は半４体集積回路の製造に用いられるフォ１−マ
スクの材料であるマスクブランクスに関する。

（従来の技術） 従来からフォ１〜マスク（以下、マスクと略す）の材料
として、石英や低膨張ガラス等の基板上にクロムやモリ
ブデンシリサイドなどの遮光膜を形成したマスクブラン
クスが用いられている。この遮光膜は基板全面に形成さ
れている。このマスクブランクスの所定部以外の遮光膜
を除去することによりパターンが形成される。パターン
形成済みのマスク・レチクルは使用前に外観検査、パタ
ーン欠陥検査、素子寸法検査、パターン重ね合わせ検査
などの検査が行われ、合格したものだけが使用される。

上記検査は普通マスクをマスクホルダーに装着した後、
検査装置の移動ステージに搭載して行われる。ステージ
はＸ、Ｙ方向に移動でき、かつ、マスクホルダーは回転
テーブル」−で回転できる構造になっている。」−記検
査を行う場合にはまず、マスクパターンのＸ方向のライ
ンとステジのＸ移動方向が一致するよう回転テーブルを
回転させて傾き（以下、０という）を調整する。

従来、上記０の調整はマスクパターンを用いて以下のよ
うに行っていた。スクライブライン又はＸ方向に長いラ
イン状のパターンが存在するマスクでは、まず顕微鏡の
視野中央の十字マークにスクライブラインを一致させる
。次にステージを右又は左に移動させ、パターンのずれ
る方向から回転方向を決め回転テーブルを回転させる。

再度、ステージを右又は左に移動させ、回転テーブルを
回転させてＯを調整する。−ト記操作を繰り返しながら
パターンのずれがなくなるまでθを調整して、マスクパ
ターンのＸ方向のラインとステージの移動方向を正確に
一致させる。

スクライブライン等の適当なパターンが存在しないマス
クでは、スクライブラインの代りにＸ座標は異なるがＹ
座標が同じ二つのパターンを用いて」１記と同様の操作
を行う。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、」−記従来のマスクブランクスはマスク
装着時のＯ方向のずれが大きい場合には、一方のパター
ンを顕微鏡の視野中央に一致させた後ステージを他方の
パターンの位置まで移動させようとしても、他方のパタ
ーンは顕微鏡の視野外に出てしまうので他方のパターン
を捜すことが難しく、０調整に時間がかかるという問題
点を有していた。

本発明は上記従来の問題点を解決するものであり、θ調
整を容易に行うことができるマスクブランクスを提供す
ることを目的とするものである。。

（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するため、本発明のマスクブランクスは
ガラス基板」―に遮光膜が形成されていない領域を複数
個備えたものである、。

（作　用） したがって、本発明のマスクブランクスを用いて製作さ
れたマスク・レチクルでは、前記遮光膜が形成されてい
ない領域をＯ粗調用のパターンとして用いることにより
、０調整に適したマスクパターンが存在しない場合でも
、０調整の時間を短縮できるとともに同領域を乾板内の
位置座標のｌ」盛りとして用いることができる。

（実施例） 第１図は本発明の一実施例のマスクブランクスの平面図
である。第１図において、１ないし４は各辺の中心に位
置し遮光膜が形成されていない領域であり、各々、長辺
の長さａ、短辺の長さｂの；３ 長方形からなるパターンである。第２図は上記実施例の
Ｏ粗調整の方法を示す図、第３図はθ微調整の方法を示
す図である。第２図において、工ないし４は第１図の１
ないし４に対応しており、５および６はＯ粗調整時のマ
スク位置である。また第３図の７および８はＯ微調整に
用いるパターンである。

次に第１図に示したパターンを有するマスクブランクス
を用いて製作したマスクについて、θ粗調整および微調
整の方法について説明する。第２図において、まずステ
ージをマスク５の位置に移動して顕ｖＩｌ鏡の視野中央
に左辺の長方形１の中心を一致させる。この位置はマス
ク乾板の左辺中央であるから容易に見出すことができる
。次にステージをＸ方向にマスク６の位置まで移動して
右辺の長方形の真下を視野中央にもってくる。この位置
はマスク乾板の右端であるから容易に見出すことができ
る。このとき長方形２は視野中央からｈの高さにある。

ここで、回転テーブルの回転中心がマスク中心にある場
合、回転テーブルをαだけ回転し長方形２をｈ／２の高
さに一致させれば粗調整は終了する。また、回転テーブ
ルの回転中心が左辺中央（長方形１の位置）にある場合
１回転テーブルをαだけ回転し長方形２の視野中央に一
致させれば粗調整は終了する。その後、第３図において
、θ微調整に用いるパターン７および８のようなＹ座標
が同じパターンを、前記従来の技術で説明したＹ座標が
同じ二つのパターンとみなし従来と同様な方法により微
調整を行う。

上記のように、本実施例によればマスクブランクス自体
に形成したパターンをＯ調整に用いることにより、スク
ライブラインのようなＯ調整に適したパターンが存在し
ない場合でも、Ｏ調整を容易に行うことができ調整に要
する時間を短縮することができる。

また、上辺および下辺の遮光膜が形成されていない領域
（長方形パターン）３，４は、マスク乾板内の位置座標
の目盛りとして用いるものであるが、本発明の目的には
無くてもさしつかえない。

なお、遮光膜が形成されていない領域１ないし４以外に
目盛りとして用いるため更に多数の遮光膜が形成されて
いない領域（長方形パターン）を形成してもよい。遮光
膜が形成されていない領域１ないし４のａおよびｂの大
きさは、マスク乾板」−のパターン形成領域、検査装置
の顕微鏡の倍率、マスクホルダーの構造とマスク装着方
法などを考慮して決める。

（発明の効果） ト記実施例より明らかなように、本発明のマスクブラン
クスはガラス基板］−に遮光膜が形成されない領域を有
し、当該領域を検査装置等のＯ粗調用パターンとして用
いることにより、Ｏ調整を容易に行うことができ調整時
間を短縮できるという効果を有する。また、マスク製作
時にθ調整用のパターン詮特別に形成する必要がないた
めマスク製作工数が増加しない効果を有する。

なお、ｊ−１，１，該領域をマスク・レチクル内のパタ
ーンに関する位置座標の目盛りとして利用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例におけるマスクブランクスの
平面図、第２図は０粗調整の方法を示す図、第３図はＯ
微調整の方法を示す図である。 １．２，３．４　　・・遮光膜が形成されていない領域
（長方形パターン）、　５，６・・　Ｏ粗調整時のマス
クの位置、　７，８・・　θ微調整に用いるパターン。 特許出願人　松下電子工業株式会社

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラス基板上に遮光膜が形成されていない領域を
   複数個有していることを特徴とするマスクブランクス。
2. （２）遮光膜が形成されていない領域はガラス基板の複
   数個の辺の中心に位置する長方形からなることを特徴と
   する請求項（１）記載のマスクブランクス。