JPH0210789B2 - - Google Patents

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JPH0210789B2
JPH0210789B2 JP56212234A JP21223481A JPH0210789B2 JP H0210789 B2 JPH0210789 B2 JP H0210789B2 JP 56212234 A JP56212234 A JP 56212234A JP 21223481 A JP21223481 A JP 21223481A JP H0210789 B2 JPH0210789 B2 JP H0210789B2
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JP
Japan
Prior art keywords
temperature
hip
sintered body
magnesium fluoride
mgf
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP56212234A
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English (en)
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JPS58110466A (ja
Inventor
Hajime Ichanagi
Kenichiro Shibata
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、弗化マグネシウム(MgF2)多結晶
体の製造方法に関するものである。
MgF2は波長9μm以下の赤外光透過性が良好な
ため、赤外線機器用窓材、赤外光フイルター等へ
適用される。多くの場合、単結晶の形で製造され
使用されるが、大寸法なものが必要な場合及び高
い機械的強度が必要とされる用途には多結晶体の
方が適当である。
MgF2多結晶体の製造方法として従来知られて
いるのは、原料としてMgF2粉末を用い、これを
型を用いたホツトプレスにより高密度化する方法
及び、本発明者らが既に提案した封入容器を用い
た熱間静水圧成形(HIP)により高密度化する方
法等がある。これによれば材質的にはかなり良好
な多結晶体が得られており、波長2〜8μmの範
囲での赤外光透過率が80%(2mm厚み)以上のも
のが製造可能である。
しかし、製造技術的及び、製造コスト的な面で
は上記ホツトプレス法及びHIP法ともに以下の様
な問題点が多かつた。
即ち、MgF2のホツトプレス法の場合、製造条
件としてホツトプレス温度が600〜900℃、圧力が
1000〜3000Kg/cm2も必要とするため使用する型材
料に問題があつた。ホツトプレス型材としては通
常グラフアイトが用いられるが温度1000℃以上、
圧力600Kg/cm2以下程度の条件下で適当であり、特
に圧力条件はグラフアイトの機械的強度により制
限され、1000Kg/cm2以上での使用は難しい。
1000Kg/cm2以上の高圧力下での型材としてはア
ルミナ、SiC、W乃至Mo系合金等の材料の中か
ら選択する必要がある。しかし、これらの材料は
機械加工が困難、熱衝撃に弱い、クリーププし易
い、高価である、大型化が困難等いくつかの欠点
を有するものが多い。鉄合金系耐熱鋼が使えれば
非常に有利であるが、600℃以上、1000〜3000Kg/
cm2の条件下では変形してしまうのが問題であつ
た。
一方HIPにより高密度化する方法に関しても製
造コストの面でも問題点が多かつた。すなわち
HIP法には大別して、封入容器を用いる方法(カ
プセルHIP法)と封入容器を用いない方法(裸
HIP法)があるが、MgF2の場合製造コスト的に
不利なカプセルHIP法による必要があつた。カプ
セルHIP法は、真空封入に要する工程が複雑、
HIPへの封入率が低い、HIPのサイクルが長い等
品質的には良好にもかかわらず経済的には必ずし
も有利でない。
裸HIP法を適用するためには、HIPする材料
は、いわゆる閉空孔(closed pore)状態にまで
高密度化されている必要がある。閉空孔にする為
には超硬合金の様に液相焼結を行い、理論密度の
95%以上に焼結する方法が通常とられる。
しかし、MgF2の場合、閉空孔焼結を行うには
900℃を超える焼結温度が必要であり、900℃以上
の高温焼結では異常粒成長を起し機械的強度が著
しく低下してしまう問題があつた。
通常の粉末治金法の場合、粒成長抑制の為の添
加物が用いられるが、本発明法の対象材である赤
外光透過用材料の場合、この様な添加物は添加物
特有の光吸収又は第2相の生成による光散乱を起
し透過率の低下を招く場合が殆んどである。
以上の様に、MgF2の場合、経済的に有利な裸
HIP法を用いることができない問題があつた。
本発明者らは、この様な従来法の問題点を解決
すべく種々検討した結果、材質的に良好で、かつ
製造技術的、製造コスト的に有利なMgF2多結晶
体の製造方法を提供するものである。
本発明法では、MgF2多結晶体の製造方法に関
しホツトプレス法とHIP法の各々の利点を組み合
わせ波長2〜8μmの光透過性の良好な多結晶体
を得ることを特徴とする。
第一段階として、MgF2粉末の金型によるホツ
トプレスを行うが、本発明者らはこの条件を詳細
に検討した。第1図に圧力条件一定(2ton/cm2
のもとで、温度及び時間条件を変化させた場合の
到達密度比を示す。この際、理論密度(100%密
度比)としては3.18g/cm3を適用した。
第1図から明らかな様に、500〜800℃の範囲で
は、温度が高い程、高密度化化し易い傾向にあり
650〜800℃で良好な赤外透過性を示すことが判つ
た。しかし、本発明者らが着目したのは、500〜
600℃の比較的低温域でも透光性は不十分ではあ
るが、密度比は95%以上に到達することである。
更に詳細な検討の結果、400℃以上でも圧力を3
〜4ton/cm2とすれば95%以上の密度比になること
が判つた。
温度条件が400〜600℃の程度であれば、ホツト
プレス用の型材として、アルミナ・SiC、W、乃
至Mo系合金等の前述の様な問題点の多い材料を
必ずしも使用する必要は無く鉄合金系耐熱鋼が使
えることになる。
第2図に、12Cr耐熱鋼の引張強さ−温度曲線
を示す。この図から明らかな様に、400℃以上で
の強度低下の傾向が著しく、50〜100℃使用温度
を低くすることによる強度の向上効果は大きい。
実際、400〜600℃の温度で、12Cr耐熱鋼を金型
として、MgF2のホツトプレスを行つた結果、95
%以上の密度比を得ることができ、金型の耐久性
も経済的に有利なものであることが明らかになつ
た。
鉄合金系耐熱鋼としては、前述のCr鋼の他Mo
系、Ni系、Ti系、Al系の合金鋼の他、高速度鋼
系等の耐熱材も有効である。
この様にして得た95%以上の密度比を有する
MgF2成形体は、閉空孔状態に迄高密度化されて
いるためカプセルなしの裸HIP法が適用できる。
裸HIP法は、真空封入の様な前処理工程が不要
でHIPへの封入率も高く、HIPサイクルも短時間
で済む等経済的に有利である。
ホツトプレスにより閉空孔状態に高密度化した
MgF2成形体を、Arガスを圧力媒体とし、温度条
件600〜900℃、圧力条件1500〜3000Kg/cm2でHIP
処理した結果、波長2〜8μmの光透過性の良好
な多結晶体が得られた。
HIP条件として、温度600℃未満では透光性を
得るに十分な高密度化が達成されず、900℃を越
えると異常粒成長による機械的強度の低下並びに
粒界散乱による透過特性の低下が著しく、圧力
1500Kg/cm2未満では高密度化に要する時間が長く
なる傾向にあり、不適当であることが解つた。
第3図は、上記の方法で得られた厚さ2mmの
MgF2多結晶体の赤外光透過特性の一例を示す。
3〜8μm波長域で80%以上の良好な透過特性を
示す。
実施例 純度99.95%、平均粒径5μmのMgF2粉末を
12Cr耐熱鋼の金型を用い温度550℃、圧力2ton/
cm2にて20分間ホツトプレス、密度比96%の焼結体
を得た。これをArガスを圧力媒体としたHIP装
置にてカプセルなしで700℃、2500Kg/cm2、30分の
条件にて処理した、処理後、厚み2mmに研磨加工
し、赤外分光測定を行つた結果、3〜7μmで80
%以上の良好な透過率を得た。
【図面の簡単な説明】
第1図はホツトプレス条件と到達密度比の関係
を示すグラフ、第2図は12%Cr耐熱鋼の引張強
さと温度の関係を示すグラフ、第3図は本発明法
にて製造したMgF2の赤外光透過特性を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 弗化マグネシウム多結晶焼結体の製造におい
    て、粉末状弗化マグネシウムを原料とし、これを
    型に充填してホツトプレスにより理論密度95%以
    上の焼結体とし、しかるのちこの焼結体をそのま
    まの状態で熱間静水圧成型処理して、波長2〜
    8μmの光透過性の良好な焼結体を得ることを特
    徴とする弗化マグネシウム多結晶体の製造方法。 2 特許請求の範囲第1項記載の製造法において
    最初のホツトプレスの温度が400〜600℃であり後
    工程の熱間静水圧成型の温度が600〜900℃であり
    圧力が1500Kg/cm2以上であることを特徴とする弗
    化マグネシウム多結晶体の製造方法。
JP56212234A 1981-12-24 1981-12-24 弗化マグネシウム多結晶体の製造方法 Granted JPS58110466A (ja)

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JP56212234A JPS58110466A (ja) 1981-12-24 1981-12-24 弗化マグネシウム多結晶体の製造方法

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JP56212234A JPS58110466A (ja) 1981-12-24 1981-12-24 弗化マグネシウム多結晶体の製造方法

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JPS58110466A JPS58110466A (ja) 1983-07-01
JPH0210789B2 true JPH0210789B2 (ja) 1990-03-09

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JP56212234A Granted JPS58110466A (ja) 1981-12-24 1981-12-24 弗化マグネシウム多結晶体の製造方法

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US5502015A (en) * 1992-07-01 1996-03-26 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Infrared transmitting barium fluoride sintered body
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JPS58110466A (ja) 1983-07-01

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