JPS606307B2 - セレン化亜鉛多結晶体の製造方法 - Google Patents
セレン化亜鉛多結晶体の製造方法Info
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、セレン化亜鉛(以下ZnSeと称す)粉末を
熱間静水圧プレスにより加熱圧縮し、繊密で高純度な透
明多結晶体を製造する方法に関するものである。
熱間静水圧プレスにより加熱圧縮し、繊密で高純度な透
明多結晶体を製造する方法に関するものである。
ZnSeはいわゆるローW族化合物半導体材料の1種で
あり、その良好な赤外透光性、機械的特性及び熱的特性
から近年光学部品、特に炭酸ガスレーザー用窓材などの
部品として注目されている。
あり、その良好な赤外透光性、機械的特性及び熱的特性
から近年光学部品、特に炭酸ガスレーザー用窓材などの
部品として注目されている。
この場合、素材として空孔(ボィド)及び不純物等の含
有量の少ない材料の開発が望まれている。これらの欠陥
は、レーザー光の散乱及び吸収の原因となり、ひいては
それが窓材の過熱、破壊などにつながるからである。レ
ーザー窓材用ZnSeは、良好な機械的特性(強度)が
必要であり、男開性のない、多結晶体が用いられる。
有量の少ない材料の開発が望まれている。これらの欠陥
は、レーザー光の散乱及び吸収の原因となり、ひいては
それが窓材の過熱、破壊などにつながるからである。レ
ーザー窓材用ZnSeは、良好な機械的特性(強度)が
必要であり、男開性のない、多結晶体が用いられる。
ZnSe多結晶体の製造方法の1つとして、Z船e粉末
のホットプレス法が実用化されているが、一方向のみの
加圧のため、圧力の不均一による異常粒成長及び空孔の
残留等の問題があるとされていた。本発明は、これらの
問題を解決するために、熱間静水圧プレス(Hotls
ostaticPress以下HIPと称す)を用いる
方法に関し、特にその加熱圧縮工程に改善を加え、高密
度、高純度のZnSe多結晶体を提供せんとするもので
ある。
のホットプレス法が実用化されているが、一方向のみの
加圧のため、圧力の不均一による異常粒成長及び空孔の
残留等の問題があるとされていた。本発明は、これらの
問題を解決するために、熱間静水圧プレス(Hotls
ostaticPress以下HIPと称す)を用いる
方法に関し、特にその加熱圧縮工程に改善を加え、高密
度、高純度のZnSe多結晶体を提供せんとするもので
ある。
mP法は、高温高圧ガスの雰囲気下で、種々の材料を高
密度圧縮加工処理する方法として公知である。
密度圧縮加工処理する方法として公知である。
この方法は、高温と等方的な加圧力を同時に加えること
ができるため、高密度化力に優れており、従来主として
金属系材料で粉末の加圧燐績、鋳造品や蟻結品の内部欠
陥(空孔)の除去等に効果的に利用されている。このm
P法により、Z船e粉末を高密度化し空孔及び不純物の
少ない多結晶体を得るには、以下の問題点があった。
ができるため、高密度化力に優れており、従来主として
金属系材料で粉末の加圧燐績、鋳造品や蟻結品の内部欠
陥(空孔)の除去等に効果的に利用されている。このm
P法により、Z船e粉末を高密度化し空孔及び不純物の
少ない多結晶体を得るには、以下の問題点があった。
まず、密閉容器(カプセル)への封入が必要な点である
。
。
ZnSe粉末は通常の粉末冶金的手法で成形、暁結して
も繊密化は殆んど起らず、カプセルへの封入が不要とな
る閉空孔状態に暁結することは困難である。これは、Z
nSeの融点(1520℃=1793K)の約70%で
ある950℃付近以上では、蒸気圧が高く、昇華が激し
くなる為、繊密化が進行しないものと考えられる。関空
孔状態のものをHIPするには、圧力媒体(Arガス)
の試料内部への浸透を防ぐためし通常密閉容器(カプセ
ル)への真空封入を行なう。ZnSeの場合、一般的に
用いられる金属製カプセル(軟鋼等)では、ZnSeと
反応し、気密破れを起すため使用できず、反応性の少な
いガラス質のカプセルが適当である。
も繊密化は殆んど起らず、カプセルへの封入が不要とな
る閉空孔状態に暁結することは困難である。これは、Z
nSeの融点(1520℃=1793K)の約70%で
ある950℃付近以上では、蒸気圧が高く、昇華が激し
くなる為、繊密化が進行しないものと考えられる。関空
孔状態のものをHIPするには、圧力媒体(Arガス)
の試料内部への浸透を防ぐためし通常密閉容器(カプセ
ル)への真空封入を行なう。ZnSeの場合、一般的に
用いられる金属製カプセル(軟鋼等)では、ZnSeと
反応し、気密破れを起すため使用できず、反応性の少な
いガラス質のカプセルが適当である。
第1図にガラスカプセルへの封入からMP迄の工程を順
に示す。
に示す。
イはガラスカプセル1に被加工体(ZnSe)2を装入
後の状態で、口は真空封入後の状態ハはm功ロ工後の状
態でガラスカプセルとZnSeが密着している様子を示
す。このガラスカプセルは、ZnSeのmP温度(90
0〜120ぴ0)において適度に軟化し変形能を有する
必要があり「パイレックスガラスが軟化点、入手のし易
さ、加工性の点で最も望ましい材料である。
後の状態で、口は真空封入後の状態ハはm功ロ工後の状
態でガラスカプセルとZnSeが密着している様子を示
す。このガラスカプセルは、ZnSeのmP温度(90
0〜120ぴ0)において適度に軟化し変形能を有する
必要があり「パイレックスガラスが軟化点、入手のし易
さ、加工性の点で最も望ましい材料である。
しかし、このパイレックスガラスは通常&03Na20
等の成分を多く含有するため、これらの不純物力平nS
eを汚染する問題があった。第1表にパィレツクスガラ
スの組成を示す。圭 これらの不純物がHm後第1図ハの如くカプセルとZn
Seとの直接接触により、ZnSe中に拡散し、不純物
汚染を起こし、透光性の低下の原因となるものである。
等の成分を多く含有するため、これらの不純物力平nS
eを汚染する問題があった。第1表にパィレツクスガラ
スの組成を示す。圭 これらの不純物がHm後第1図ハの如くカプセルとZn
Seとの直接接触により、ZnSe中に拡散し、不純物
汚染を起こし、透光性の低下の原因となるものである。
本発明者らは、上記の不純物汚染及び高密度化の程度(
空孔の量)と造光性の関係を検討するため、世P温度別
の不純物分析、到達密度及び透過率を測定した。第2表
に、代表的な不純物元素の含有量、密度及び0.3側t
に鏡面研摩した試料の10.6ム赤外光の透過率を示す
。
空孔の量)と造光性の関係を検討するため、世P温度別
の不純物分析、到達密度及び透過率を測定した。第2表
に、代表的な不純物元素の含有量、密度及び0.3側t
に鏡面研摩した試料の10.6ム赤外光の透過率を示す
。
第2表
第2表から明らかな様に、不純物汚染に関しては、HI
P温度の低い方が少なく、特にBにおいてその影響が大
きい。
P温度の低い方が少なく、特にBにおいてその影響が大
きい。
これは、ガラスカプセルの組成の中でB203が最も多
く、またB203の蒸気圧が高いことによるものと考え
られる。HIP後の密度に関しては、HIP温度の低い
方がやや高密度化し易い傾向にあるとみられる。
く、またB203の蒸気圧が高いことによるものと考え
られる。HIP後の密度に関しては、HIP温度の低い
方がやや高密度化し易い傾向にあるとみられる。
これは、密度が99%以上の焼結の最終段階においては
、高密度化には拡散機能が寄与しており、結晶粒の微細
な低温mPの方が、粒界拡散による空孔0の消滅が容易
な為と推察される。一方、透光性に関しては、逆にHm
温度の高い方が良好な透過率(10.64)を示す。
、高密度化には拡散機能が寄与しており、結晶粒の微細
な低温mPの方が、粒界拡散による空孔0の消滅が容易
な為と推察される。一方、透光性に関しては、逆にHm
温度の高い方が良好な透過率(10.64)を示す。
これは、結晶粒成長により粒界の割合が減少し、粒界部
での光散乱の減少によるものと考えられる。以上に示し
た通り、高密度、高純度で且つ高透光性のZnSe多結
晶体を得るには、mP温度の設定に問題のあることが明
らかになった。
での光散乱の減少によるものと考えられる。以上に示し
た通り、高密度、高純度で且つ高透光性のZnSe多結
晶体を得るには、mP温度の設定に問題のあることが明
らかになった。
本発明は、上述の問題点を解決するもので、mP工程を
2段階に分け、■ガラスカプセルを用いて比較的低温(
〜900℃)にてmPし、閉空孔化する段階及び、■ガ
ラスカプセルを除去し比較的高温(〜1300℃)にて
、更に高密度化及び透光性の改善を行うことにより、密
度、純度及び透光性に優れたZnSe多結晶体の製造方
法を提供するものである。
2段階に分け、■ガラスカプセルを用いて比較的低温(
〜900℃)にてmPし、閉空孔化する段階及び、■ガ
ラスカプセルを除去し比較的高温(〜1300℃)にて
、更に高密度化及び透光性の改善を行うことにより、密
度、純度及び透光性に優れたZnSe多結晶体の製造方
法を提供するものである。
すなわち、第1段目のHIPにより、不純物が少なく密
度も高い(閉空孔状態になった)が、やや透光性の悪い
焼結体を得た後、不純物汚染の原因となるガラスカプセ
ルを除去し、第2段目のH把を行い、高純度、高密度を
維持したまま、透光性の改善を行うものである。
度も高い(閉空孔状態になった)が、やや透光性の悪い
焼結体を得た後、不純物汚染の原因となるガラスカプセ
ルを除去し、第2段目のH把を行い、高純度、高密度を
維持したまま、透光性の改善を行うものである。
第1段目及び第2段目の加熱圧縮(HIP)工程の温度
及び圧力条件を詳細に検討した結果、ガラスカプセルを
用いる第1段目は温800〜1000qo、圧力50ぴ
気圧以上、第2段副ま温度1000℃〜1400℃、圧
力500気圧以上の条件が最適範囲であることを見し、
出した。
及び圧力条件を詳細に検討した結果、ガラスカプセルを
用いる第1段目は温800〜1000qo、圧力50ぴ
気圧以上、第2段副ま温度1000℃〜1400℃、圧
力500気圧以上の条件が最適範囲であることを見し、
出した。
この理由は、第1段目で800qo未満の温度条件では
、ZnSe粉末の軟化が不十分塑性変形能が不足してい
るため閉空孔状態になる迄の高密度化が達成されないた
めである。
、ZnSe粉末の軟化が不十分塑性変形能が不足してい
るため閉空孔状態になる迄の高密度化が達成されないた
めである。
また第1段目で1000午Cを越える温度条件ではガラ
スカプセルからのB、Si、Na等の不純物汚染が多く
なり本発明の目的である高純度なZnSeが得られない
。第2段目で1000℃未満の温度条件では、結晶粒成
長が不十分であるためか、良好な赤外光透過率が得られ
ない。
スカプセルからのB、Si、Na等の不純物汚染が多く
なり本発明の目的である高純度なZnSeが得られない
。第2段目で1000℃未満の温度条件では、結晶粒成
長が不十分であるためか、良好な赤外光透過率が得られ
ない。
また1400℃を越える高温では結晶粒成長が著しくな
り過ぎ、結晶粒径数肋以上の粗大結晶粒になってしまう
ため、機械的強度が大幅に低下してしまう結果、炭酸ガ
スレーザー用窓材等の赤外光学部品用材料として不適当
と判断される。また第1段目、第2段目ともに圧力が5
0疎気圧未満では加熱圧縮(日把)による高密度化及び
高透光性のZnSe多結晶が得られないことが判った。
り過ぎ、結晶粒径数肋以上の粗大結晶粒になってしまう
ため、機械的強度が大幅に低下してしまう結果、炭酸ガ
スレーザー用窓材等の赤外光学部品用材料として不適当
と判断される。また第1段目、第2段目ともに圧力が5
0疎気圧未満では加熱圧縮(日把)による高密度化及び
高透光性のZnSe多結晶が得られないことが判った。
圧力は原理的に高圧力程有効と考えられるが、現在一般
の加熱圧縮(mP)装置の能力から200ぴ気圧程度が
限度であり、この程度の圧力でも本発明の効果は認めら
れている。以下本発明の内容を実施例により説明する。
の加熱圧縮(mP)装置の能力から200ぴ気圧程度が
限度であり、この程度の圧力でも本発明の効果は認めら
れている。以下本発明の内容を実施例により説明する。
実施例内径25凧.高さ5仇岬の試料袋入部を有するパ
ィしツクスガラスカプセルに、純度99.999%のZ
nSe粉末の成型体(密度化80%)を装入し、700
℃にて1現時間加熱真空引きした後、真空封入した。
ィしツクスガラスカプセルに、純度99.999%のZ
nSe粉末の成型体(密度化80%)を装入し、700
℃にて1現時間加熱真空引きした後、真空封入した。
これを、Arガスを圧力媒体として900℃、2000
気圧にて3時間のHIP加工を行った(第1段mP)。
気圧にて3時間のHIP加工を行った(第1段mP)。
カプセルをmPから、いったん取り出し、ガラスカプセ
ルを割って除去した後、閉空孔となっていることを比重
測定にて確認後、真空封入せずにそのまま、同じ日花装
置にて、1300qo、200疎気圧にて5時間のm功
0工を行った。(第2段HIP)。この試料を測定した
結果、第3表に示す通り、1段階のみのmP(第2表に
示す)よりも、良好な結果を得た。第3表
ルを割って除去した後、閉空孔となっていることを比重
測定にて確認後、真空封入せずにそのまま、同じ日花装
置にて、1300qo、200疎気圧にて5時間のm功
0工を行った。(第2段HIP)。この試料を測定した
結果、第3表に示す通り、1段階のみのmP(第2表に
示す)よりも、良好な結果を得た。第3表
第1図イ,口,ハは、ガラスカプセルへの封入からmP
工程迄のカプセル形状を順に示す。 1:カプセル、2:ZnSe粉末成型体、3:真空封入
部。 升ー図
工程迄のカプセル形状を順に示す。 1:カプセル、2:ZnSe粉末成型体、3:真空封入
部。 升ー図
Claims (1)
- 1 セレン化亜鉛粉末を熱間静水圧プレスにより加熱圧
縮し、高密度、高純度で透光性を有する多結晶を得る方
法において、上記の加熱圧縮工程を、封入容器としてガ
ラスカプセルを用いて、800〜1000℃、500気
圧以上の条件にて実施し閉空孔化する工程と、この後、
封入容器を除去し1000℃〜1400℃、500気圧
以上の条件にて加熱圧縮する工程の2工程とすることを
特徴とする透光性セレン化亜鉛多結晶体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55180371A JPS606307B2 (ja) | 1980-12-22 | 1980-12-22 | セレン化亜鉛多結晶体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55180371A JPS606307B2 (ja) | 1980-12-22 | 1980-12-22 | セレン化亜鉛多結晶体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57106507A JPS57106507A (en) | 1982-07-02 |
| JPS606307B2 true JPS606307B2 (ja) | 1985-02-16 |
Family
ID=16082066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55180371A Expired JPS606307B2 (ja) | 1980-12-22 | 1980-12-22 | セレン化亜鉛多結晶体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606307B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1181557A (en) * | 1980-12-29 | 1985-01-29 | Charles B. Willingham | Polycrystalline zinc sulfide and zinc selenide articles having improved optical quality |
| JPS6011293A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ZnSe単結晶の製造方法 |
| JPH01218081A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-08-31 | Fanuc Ltd | レーザ発振装置 |
| JPH01226747A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Tosoh Corp | 高純度半透明石英ガラスの製造方法 |
| JPH03290350A (ja) * | 1990-04-09 | 1991-12-20 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 酸化亜鉛の透光性焼結体の製造法 |
| JP5257642B2 (ja) * | 2000-12-04 | 2013-08-07 | 住友電気工業株式会社 | セラミックス光学部品及びその製造方法 |
| JP5444397B2 (ja) * | 2012-03-09 | 2014-03-19 | 住友電気工業株式会社 | 光学部品の製造方法 |
-
1980
- 1980-12-22 JP JP55180371A patent/JPS606307B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57106507A (en) | 1982-07-02 |
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