JPH02108799A - 地中構造物の構築方法 - Google Patents
地中構造物の構築方法Info
- Publication number
- JPH02108799A JPH02108799A JP63261977A JP26197788A JPH02108799A JP H02108799 A JPH02108799 A JP H02108799A JP 63261977 A JP63261977 A JP 63261977A JP 26197788 A JP26197788 A JP 26197788A JP H02108799 A JPH02108799 A JP H02108799A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- underground structure
- shaft
- constructing
- ground
- side wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E21—EARTH OR ROCK DRILLING; MINING
- E21D—SHAFTS; TUNNELS; GALLERIES; LARGE UNDERGROUND CHAMBERS
- E21D13/00—Large underground chambers; Methods or apparatus for making them
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mining & Mineral Resources (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Geology (AREA)
- Underground Structures, Protecting, Testing And Restoring Foundations (AREA)
- Lining And Supports For Tunnels (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は特に地下数１０ｍ以深０大深度の地中に、大
空間を構成する構造物を構築する、地中構造物の構築方
法に関するものである。
空間を構成する構造物を構築する、地中構造物の構築方
法に関するものである。
大深度の地中に３次元の拡がりを持つ大空間の構造物を
建設し、研究施設等各種の施設に利用する計画が現在現
実的な課題として浮上しつつあるが、この技術的課題に
対し、従来の地表面から直接的に大規模な地下構造物を
構築する、開削工法やケーソン工法では工事期間中地上
に大きな敷地面積を占有し、近隣区域に及ぼす影響が大
きいことに加え、既設地下構造物が工事進行の障害にな
る等特に都心部及びその近郊では環境面、施工面で不適
切な点が多く、計画の実現にはこれらの点を解決する方
法が望まれる。
建設し、研究施設等各種の施設に利用する計画が現在現
実的な課題として浮上しつつあるが、この技術的課題に
対し、従来の地表面から直接的に大規模な地下構造物を
構築する、開削工法やケーソン工法では工事期間中地上
に大きな敷地面積を占有し、近隣区域に及ぼす影響が大
きいことに加え、既設地下構造物が工事進行の障害にな
る等特に都心部及びその近郊では環境面、施工面で不適
切な点が多く、計画の実現にはこれらの点を解決する方
法が望まれる。
この発明はこうした背景を踏まえてなされたもので、従
来工法の弱点を克服し、上記の要請に応える方法を提案
しようとするものである。
来工法の弱点を克服し、上記の要請に応える方法を提案
しようとするものである。
本発明ではまず目標とする地中構造物の外周部、または
中心部の上層より地盤を所定深度まで掘削して立坑を形
成し、この立坑を基点としてシールド工法、ナトムエ法
、その他山岳トンネル工法等によって地中に空間を造成
することにより地上の占有敷地面積を狭小化し、地上に
与える影響を最小限に抑えるとともに、既設地下構造物
の存在を回避して地中構造物を構築することを可能とす
る。
中心部の上層より地盤を所定深度まで掘削して立坑を形
成し、この立坑を基点としてシールド工法、ナトムエ法
、その他山岳トンネル工法等によって地中に空間を造成
することにより地上の占有敷地面積を狭小化し、地上に
与える影響を最小限に抑えるとともに、既設地下構造物
の存在を回避して地中構造物を構築することを可能とす
る。
地中構造物の外周部に位置する立坑からはシールド機を
平面的に円弧状に、地中を循環させて地中構造物外周部
の側壁施工用の、円環状の基地が造成され、その基地よ
り鉛直下方へ、円筒状に連続する側壁が造成される。
平面的に円弧状に、地中を循環させて地中構造物外周部
の側壁施工用の、円環状の基地が造成され、その基地よ
り鉛直下方へ、円筒状に連続する側壁が造成される。
地中構造物の中心部に位置する立坑からはシールド機を
平面的に渦巻き状に、且つ螺旋状に掘進させ、地中構造
物の屋根部を構成する、円環が上下に連接する形態の、
チューブ状のドームが造成される。
平面的に渦巻き状に、且つ螺旋状に掘進させ、地中構造
物の屋根部を構成する、円環が上下に連接する形態の、
チューブ状のドームが造成される。
以下本発明を一実施例を示す図面に基づいて説明する。
まず第１請求項記載の発明を説明する。
この発明は目標の地中構造物Ｂの外周部位置に穿設され
る立坑ｌを利用して側壁Ｗを造成する方法である。
る立坑ｌを利用して側壁Ｗを造成する方法である。
立坑１は第１図、第２図に示すように地中構造物Ｂの外
周部の上層より地盤を鉛直に掘削して形成される。立坑
ｌの山留め壁１゜は地中連続壁、柱列杭、鋼管矢板等に
より施工される。
周部の上層より地盤を鉛直に掘削して形成される。立坑
ｌの山留め壁１゜は地中連続壁、柱列杭、鋼管矢板等に
より施工される。
この立坑１の側面より第３図に示すようにシールド機２
を平面的に円弧状に掘進させながらセグメント３により
覆工し、地中を循環させて側壁Ｗ施工用の、円環状の基
地４を造成する。
を平面的に円弧状に掘進させながらセグメント３により
覆工し、地中を循環させて側壁Ｗ施工用の、円環状の基
地４を造成する。
更にこの基地４より第４図に示すように例えば地中連続
壁用の掘削機５等により鉛直下方へ掘削し、地中連続壁
等による、円筒状に連続する側壁Ｗを造成する。
壁用の掘削機５等により鉛直下方へ掘削し、地中連続壁
等による、円筒状に連続する側壁Ｗを造成する。
側壁Ｗの造成後、空洞の基地４内には必要により鉄筋コ
ンクリート、または無筋コンクリート等が充填される。
ンクリート、または無筋コンクリート等が充填される。
次に第２請求項記載の発明を説明する。
この発明は第５図に示すように地中構造物Ｂの中心部位
置に設けられる立坑１°よりその屋根部を構成するドー
ムＤを造成する方法である。
置に設けられる立坑１°よりその屋根部を構成するドー
ムＤを造成する方法である。
第６図に示すように中心部の立坑１°の側面より第１請
求項発明と同様にシールド機２を平面的に渦巻き状に、
且つ螺旋状に掘進させ、第７図に示すような、径の異な
る円環が上下に連接する形態の、チューブ状のドームＤ
を造成する。
求項発明と同様にシールド機２を平面的に渦巻き状に、
且つ螺旋状に掘進させ、第７図に示すような、径の異な
る円環が上下に連接する形態の、チューブ状のドームＤ
を造成する。
このドームＤを構成する、隣接する円環は必要により互
いに連結されて、相互に拘束され、更に内部に鉄筋コン
クリートや無筋コンクリート等が充填される。
いに連結されて、相互に拘束され、更に内部に鉄筋コン
クリートや無筋コンクリート等が充填される。
続いて第３請求項記載の発明を説明する。
この発明は第１．第２請求項発明を並行して実施し、地
中構造物Ｂの全体を構築する方法である。： 施工は第８図に示すように地中構造物Ｂの外周部と中心
部にそれぞれ立坑（側壁用立坑）１立坑（ドーム用立坑
）１′を形成し、第９図に示すように各立坑１．１°よ
り前記した通り円環状の基地４．螺旋状のドームＤを造
成し、基地４より鉛直下方へ円筒状の側壁Ｗを造成する
、という要領で行われる。
中構造物Ｂの全体を構築する方法である。： 施工は第８図に示すように地中構造物Ｂの外周部と中心
部にそれぞれ立坑（側壁用立坑）１立坑（ドーム用立坑
）１′を形成し、第９図に示すように各立坑１．１°よ
り前記した通り円環状の基地４．螺旋状のドームＤを造
成し、基地４より鉛直下方へ円筒状の側壁Ｗを造成する
、という要領で行われる。
ドームＤ造成終了地点のレベルは立坑１の基地４造成出
発地点のレベルに一敗してドームＤの施工が行われるこ
とから立坑１における基地４の出発地点と終了地点とは
第３図に示すようにラップしている。
発地点のレベルに一敗してドームＤの施工が行われるこ
とから立坑１における基地４の出発地点と終了地点とは
第３図に示すようにラップしている。
更に第１０図に示すように基地４内及びドームＤ内にコ
ンクリート等を充填し、側壁ＷとドームＤが連続し、一
体化した躯体Ｓを構築した後、躯体Ｓ内部の地盤を掘削
、排土し、下方に底版Ｆを造成し、躯体Ｓ内周面側に仕
上げとしての内部躯体Ｓが構築される。
ンクリート等を充填し、側壁ＷとドームＤが連続し、一
体化した躯体Ｓを構築した後、躯体Ｓ内部の地盤を掘削
、排土し、下方に底版Ｆを造成し、躯体Ｓ内周面側に仕
上げとしての内部躯体Ｓが構築される。
この発明は以上の通りであり、地中構造物が構築される
所定深度まで地上より立坑を形成し、この立坑からシー
ルド工法により地中に空間を造成する方法であるため工
事時地上に占める敷地面積は狭小であり、そのため既設
構造物が障害になることはなく、また地上への影響も最
小に抑えながら工事を遂行することが可能である。
所定深度まで地上より立坑を形成し、この立坑からシー
ルド工法により地中に空間を造成する方法であるため工
事時地上に占める敷地面積は狭小であり、そのため既設
構造物が障害になることはなく、また地上への影響も最
小に抑えながら工事を遂行することが可能である。
第１図は第１請求項発明の立坑と構造物の位置関係を示
した平面図、第２図は立坑を示した断面図、第３図は基
地造成の様子を示した概要図、第４図は側壁造成の様子
を示した概要図、第５図は第２請求項発明の立坑と構造
物の位置関係を示した平面図、第６図、第７図はドーム
造成の様子を示した概要図、第８図は第３請求項発明の
立坑と構造物の関係を示した平面図、第９図は施工の様
子を示した概要図、第１０図は地中構造物内部の様子を
示した断面図である。 Ｂ・・・・・・地中構造物、１・・・・・・立坑、１、
・・・・・・山留め壁、２・・・・・・シールド機、３
・・・・・・セグメント、４・・・・・・基地、Ｗ・・
・・・・側壁、５・・・・・・掘削機、１“・・・・・
・立坑、Ｄ・・・・・・ドーム、Ｓ・・・・・・躯体、
Ｓ・・・・・・内部躯体、Ｆ・・・・・・底版。 第 図 第 図 第 図
した平面図、第２図は立坑を示した断面図、第３図は基
地造成の様子を示した概要図、第４図は側壁造成の様子
を示した概要図、第５図は第２請求項発明の立坑と構造
物の位置関係を示した平面図、第６図、第７図はドーム
造成の様子を示した概要図、第８図は第３請求項発明の
立坑と構造物の関係を示した平面図、第９図は施工の様
子を示した概要図、第１０図は地中構造物内部の様子を
示した断面図である。 Ｂ・・・・・・地中構造物、１・・・・・・立坑、１、
・・・・・・山留め壁、２・・・・・・シールド機、３
・・・・・・セグメント、４・・・・・・基地、Ｗ・・
・・・・側壁、５・・・・・・掘削機、１“・・・・・
・立坑、Ｄ・・・・・・ドーム、Ｓ・・・・・・躯体、
Ｓ・・・・・・内部躯体、Ｆ・・・・・・底版。 第 図 第 図 第 図
Claims (3)
- （１）目標とする地中構造物外周部の上層より地盤を鉛
直に掘削して立坑を形成し、この立坑を基点とし、その
側面よりシールド機を平面的に円弧状に掘進させて地中
を循環させ、地中構造物外周の側壁施工用の、円環状の
基地を造成した後、その基地より鉛直下方へ円筒状に連
続する側壁を造成するという工程からなる地中構造物の
構築方法。 - （２）目標とする地中構造物中心部の上層より地盤を鉛
直に掘削して立坑を形成し、その立坑を基点とし、その
側面よりシールド機を平面的に渦巻き状に、且つ螺旋状
に次第に下方へ掘進させ、地中構造物の屋根部を構成す
る、径の異なる円環が上下に連接する形態の、チューブ
状のドームを造成するという工程からなる地中構造物の
構築方法。 - （３）目標とする地中構造物の外周部と中心部の上層よ
り地盤を鉛直に掘削してそれぞれ側壁用立坑、ドーム用
立坑を形成し、側壁用立坑の側面よりシールド機を平面
的に円弧状に掘進させ、地中を循環させて地中構造物外
周の側壁施工用の、円環状の基地を造成するとともに、
ドーム用立坑の側面よりシールド機を平面的に渦巻き状
に、且つ螺旋状に次第に下方へ掘進させ、地中構造物の
屋根部を構成する、径の異なる円環が上下に連接する形
態の、チューブ状のドームを造成した後、側壁施工用の
基地より鉛直下方へ円筒状に連続する側壁を造成すると
いう工程からなる地中構造物の構築方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63261977A JPH07111120B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 地中構造物の構築方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63261977A JPH07111120B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 地中構造物の構築方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02108799A true JPH02108799A (ja) | 1990-04-20 |
| JPH07111120B2 JPH07111120B2 (ja) | 1995-11-29 |
Family
ID=17369290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63261977A Expired - Fee Related JPH07111120B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 地中構造物の構築方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07111120B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02300422A (ja) * | 1989-05-12 | 1990-12-12 | Kajima Corp | 地中構造物の構築方法 |
| JP2007177425A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Ohbayashi Corp | 地下構造物の構築方法及びこの方法にて構築される地下構造物 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6443699A (en) * | 1987-08-07 | 1989-02-15 | Taisei Corp | Method of executing underground cavity |
-
1988
- 1988-10-18 JP JP63261977A patent/JPH07111120B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6443699A (en) * | 1987-08-07 | 1989-02-15 | Taisei Corp | Method of executing underground cavity |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02300422A (ja) * | 1989-05-12 | 1990-12-12 | Kajima Corp | 地中構造物の構築方法 |
| JP2007177425A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Ohbayashi Corp | 地下構造物の構築方法及びこの方法にて構築される地下構造物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07111120B2 (ja) | 1995-11-29 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |