JPH07111120B2 - 地中構造物の構築方法 - Google Patents
地中構造物の構築方法Info
- Publication number
- JPH07111120B2 JPH07111120B2 JP63261977A JP26197788A JPH07111120B2 JP H07111120 B2 JPH07111120 B2 JP H07111120B2 JP 63261977 A JP63261977 A JP 63261977A JP 26197788 A JP26197788 A JP 26197788A JP H07111120 B2 JPH07111120 B2 JP H07111120B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- underground structure
- dome
- side wall
- vertical shaft
- ground
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Classifications
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E21—EARTH OR ROCK DRILLING; MINING
- E21D—SHAFTS; TUNNELS; GALLERIES; LARGE UNDERGROUND CHAMBERS
- E21D13/00—Large underground chambers; Methods or apparatus for making them
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mining & Mineral Resources (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Geology (AREA)
- Underground Structures, Protecting, Testing And Restoring Foundations (AREA)
- Lining And Supports For Tunnels (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は地下数10m以深の大深度の地中に大空間を構
成する構造物を構築する、地中構造物の構築方法に関す
るものである。
成する構造物を構築する、地中構造物の構築方法に関す
るものである。
大深度の地中に３次元の拡がりを持つ大空間の構造物を
建設し、研究施設等各種の施設に利用する計画が現在現
実的な課題として浮上しつつあるが、この技術的課題に
対し、従来の地表面から直接的に大規模な地下構造物を
構築する開削工法やケーソン工法では工事期間中地上に
大きな敷地面積を占有し、近隣区域に及ぼす影響が大き
いことに加え、既設地下構造物が工事進行の障害になる
等、特に都心部及びその近郊では環境面と施工面で不適
切な点が多く、計画の実現にはこれらの点を解決する方
法が望まれる。
建設し、研究施設等各種の施設に利用する計画が現在現
実的な課題として浮上しつつあるが、この技術的課題に
対し、従来の地表面から直接的に大規模な地下構造物を
構築する開削工法やケーソン工法では工事期間中地上に
大きな敷地面積を占有し、近隣区域に及ぼす影響が大き
いことに加え、既設地下構造物が工事進行の障害になる
等、特に都心部及びその近郊では環境面と施工面で不適
切な点が多く、計画の実現にはこれらの点を解決する方
法が望まれる。
この発明はこうした背景を踏まえてなされたもので、従
来工法の弱点を克服し、上記の要請に応える方法を提案
しようとするものである。
来工法の弱点を克服し、上記の要請に応える方法を提案
しようとするものである。
本発明では目標とする地中構造物の外周部と中心部の上
層より地盤を所定深度まで掘削し、それぞれ側壁用立坑
とドーム用立坑を形成し、両立坑を基点としてシールド
工法、ナトム工法、山岳トンネル工法その他の工法によ
って地中に空間を造成することにより地上の占有敷地面
積を狭小化し、地上に与える影響を最小限に抑えると共
に、既設地下構造物の存在を回避して地中構造物を構築
する。
層より地盤を所定深度まで掘削し、それぞれ側壁用立坑
とドーム用立坑を形成し、両立坑を基点としてシールド
工法、ナトム工法、山岳トンネル工法その他の工法によ
って地中に空間を造成することにより地上の占有敷地面
積を狭小化し、地上に与える影響を最小限に抑えると共
に、既設地下構造物の存在を回避して地中構造物を構築
する。
地中構造物の外周部に位置する側壁用立坑からはシール
ド機を平面的に円弧状に、地中を循環させて地中構造物
外周部の側壁施工用の、円環状の基地が造成され、その
基地より鉛直下方へ、円筒状に連続する側壁が造成され
る。
ド機を平面的に円弧状に、地中を循環させて地中構造物
外周部の側壁施工用の、円環状の基地が造成され、その
基地より鉛直下方へ、円筒状に連続する側壁が造成され
る。
地中構造物の中心部に位置するドーム用立坑からはシー
ルド機を平面的に渦巻き状に、且つ螺旋状に掘進させ、
地中構造物の屋根部を構成する、径の異なる円環が上下
に連接する形態の、チューブ状のドームが造成される。
ルド機を平面的に渦巻き状に、且つ螺旋状に掘進させ、
地中構造物の屋根部を構成する、径の異なる円環が上下
に連接する形態の、チューブ状のドームが造成される。
この発明は目標の地中構造物Ｂの外周部位置に穿設され
る側壁用立坑１を利用して側壁Ｗを造成すると共に、地
中構造物Ｂの中心部位置に設けられるドーム用立坑１′
よりその屋根部を構成するドームＤを造成し、地中構造
物Ｂを構築する方法である。
る側壁用立坑１を利用して側壁Ｗを造成すると共に、地
中構造物Ｂの中心部位置に設けられるドーム用立坑１′
よりその屋根部を構成するドームＤを造成し、地中構造
物Ｂを構築する方法である。
側壁用立坑１は第１図，第２図に示すように地中構造物
Ｂの外周部の上層より地盤を鉛直に掘削して形成され
る。側壁用立坑１の山留め壁10は地中連続壁，柱列坑，
鋼管矢板等により施工される。
Ｂの外周部の上層より地盤を鉛直に掘削して形成され
る。側壁用立坑１の山留め壁10は地中連続壁，柱列坑，
鋼管矢板等により施工される。
この側壁用立坑１の側面より第３図に示すようにシール
ド機２を平面的に円弧状に掘進させながらセグメント３
により覆工し、地中を循環させて側壁Ｗ施工用の、円環
状の基地４を造成する。
ド機２を平面的に円弧状に掘進させながらセグメント３
により覆工し、地中を循環させて側壁Ｗ施工用の、円環
状の基地４を造成する。
更にこの基地４より第４図に示すように例えば地中連続
壁用の掘削機５等により鉛直下方へ掘削し、地中連続壁
等による、円筒状に連続する側壁Ｗを造成する。側壁Ｗ
の造成後、空洞の基地４内には必要により鉄筋コンクリ
ート、または無筋コンクリート等が充填される。
壁用の掘削機５等により鉛直下方へ掘削し、地中連続壁
等による、円筒状に連続する側壁Ｗを造成する。側壁Ｗ
の造成後、空洞の基地４内には必要により鉄筋コンクリ
ート、または無筋コンクリート等が充填される。
第６図に示すように中心部のドーム用立坑１′の側面か
らはシールド機２を平面的に渦巻き状に、且つ螺旋状に
掘進させ、第７図に示すような、径の異なる円環が上下
に連接する形態の、チューブ状のドームＤを造成する。
ドームＤの構成する、隣接する円環は必要により互いに
連結されて相互に拘束され、更に内部に鉄筋コンクリー
トや無筋コンクリート等が充填される。
らはシールド機２を平面的に渦巻き状に、且つ螺旋状に
掘進させ、第７図に示すような、径の異なる円環が上下
に連接する形態の、チューブ状のドームＤを造成する。
ドームＤの構成する、隣接する円環は必要により互いに
連結されて相互に拘束され、更に内部に鉄筋コンクリー
トや無筋コンクリート等が充填される。
施工は第８図に示すように地中構造物Ｂの外周部と中心
部にそれぞれ側壁用立坑１とドーム用立坑１′を形成
し、第９図に示すように各立坑1,1′より前記した通り
円環状の基地４と螺旋状のドームＤを造成し、基地４よ
り鉛直下方へ円筒状の側壁Ｗを造成する、という要領で
行われる。
部にそれぞれ側壁用立坑１とドーム用立坑１′を形成
し、第９図に示すように各立坑1,1′より前記した通り
円環状の基地４と螺旋状のドームＤを造成し、基地４よ
り鉛直下方へ円筒状の側壁Ｗを造成する、という要領で
行われる。
ドームＤの施工は、ドームＤ造成終了地点のレベルが側
壁用立坑１の基地４造成出発地点のレベルに一致して行
われることから側壁用立坑１における基地４の出発地点
と終了地点とは第３図に示すようにラップする。
壁用立坑１の基地４造成出発地点のレベルに一致して行
われることから側壁用立坑１における基地４の出発地点
と終了地点とは第３図に示すようにラップする。
更に第10図に示すように基地４内及びドームＤ内にコン
クリート等を充填し、側壁ＷとドームＤが連続して一体
化した躯体Ｓを構築した後、躯体Ｓ内部の地盤を掘削，
排土し、下方に底版Ｆを造成する。また躯体Ｓ内周面側
に仕上げとしての内部躯体ｓが構築される。
クリート等を充填し、側壁ＷとドームＤが連続して一体
化した躯体Ｓを構築した後、躯体Ｓ内部の地盤を掘削，
排土し、下方に底版Ｆを造成する。また躯体Ｓ内周面側
に仕上げとしての内部躯体ｓが構築される。
この発明は以上の通りであり、地中構造物が構築される
所定深度まで地上より立坑を形成し、この立坑からシー
ルド工法により地中に空間を造成する方法であるため工
事時に地上に占める敷地面積は狭小であり、そのため既
設構造物が障害になることはなく、また地上への影響も
最小に抑えながら工事を遂行することが可能である。
所定深度まで地上より立坑を形成し、この立坑からシー
ルド工法により地中に空間を造成する方法であるため工
事時に地上に占める敷地面積は狭小であり、そのため既
設構造物が障害になることはなく、また地上への影響も
最小に抑えながら工事を遂行することが可能である。
第１図は側壁用立坑と側壁の位置関係を示した平面図、
第２図は側壁用立坑を示した断面図、第３図は基地造成
の様子を示した概要図、第４図は側壁造成の様子を示し
た概要図、第５図はドーム用立坑とドームの位置関係を
示した平面図、第６図，第７図はドーム造成の様子を示
した概要図、第８図は両立坑と構造物の関係を示した平
面図、第９図は施工の様子を示した概要図、第10図は地
中構造物内部の様子を示した断面図である。 Ｂ……地中構造物、１……側壁用立坑、10……山留め
壁、２……シールド機、３……セグメント、４……基
地、Ｗ……側壁、５……掘削機、１′……ドーム用立
坑、Ｄ……ドーム、Ｓ……躯体、ｓ……内部躯体、Ｆ…
…底版。
第２図は側壁用立坑を示した断面図、第３図は基地造成
の様子を示した概要図、第４図は側壁造成の様子を示し
た概要図、第５図はドーム用立坑とドームの位置関係を
示した平面図、第６図，第７図はドーム造成の様子を示
した概要図、第８図は両立坑と構造物の関係を示した平
面図、第９図は施工の様子を示した概要図、第10図は地
中構造物内部の様子を示した断面図である。 Ｂ……地中構造物、１……側壁用立坑、10……山留め
壁、２……シールド機、３……セグメント、４……基
地、Ｗ……側壁、５……掘削機、１′……ドーム用立
坑、Ｄ……ドーム、Ｓ……躯体、ｓ……内部躯体、Ｆ…
…底版。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 999999999 大成建設株式会社 東京都新宿区西新宿１丁目25番１号 (71)出願人 999999999 財団法人電力中央研究所 東京都千代田区大手町１丁目６番１号 (71)出願人 999999999 日立建機株式会社 東京都千代田区大手町２丁目６番２号 (71)出願人 999999999 株式会社フジタ 東京都渋谷区千駄ヶ谷４丁目６番15号 (71)出願人 999999999 株式会社小松製作所 東京都港区赤坂２丁目３番６号 (72)発明者 野間 正治 東京都港区元赤坂１丁目２番７号 鹿島建 設株式会社内 (72)発明者 保国 光敏 東京都港区元赤坂１丁目２番７号 鹿島建 設株式会社内 (72)発明者 三尾 興平 東京都港区元赤坂１丁目２番７号 鹿島建 設株式会社内 (72)発明者 山本 毅史 東京都港区元赤坂１丁目２番７号 鹿島建 設株式会社内 (72)発明者 青木 謙治 東京都港区元赤坂１丁目２番７号 鹿島建 設株式会社内 (72)発明者 石谷 尹利 東京都港区元赤坂１丁目２番７号 鹿島建 設株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−43699（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】目標とする地中構造物の外周部と中心部の
上層より地盤を鉛直に掘削してそれぞれ側壁用立坑、ド
ーム用立坑を形成し、側壁用立坑の側面よりシールド機
を平面的に円弧状に掘進させ、地中を循環させて地中構
造物外周の側壁施工用の、円環状の基地を造成すると共
に、ドーム用立坑の側面よりシールド機を平面的に渦巻
き状に、且つ螺旋状に次第に下方へ掘進させ、地中構造
物の屋根部を構成する、径の異なる円環が上下に連接す
る形態の、チューブ状のドームを造成した後、側壁施工
用の基地より鉛直下方へ円筒状に連続する側壁を造成す
るという工程からなる地中構造物の構築方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63261977A JPH07111120B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 地中構造物の構築方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63261977A JPH07111120B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 地中構造物の構築方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02108799A JPH02108799A (ja) | 1990-04-20 |
| JPH07111120B2 true JPH07111120B2 (ja) | 1995-11-29 |
Family
ID=17369290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63261977A Expired - Fee Related JPH07111120B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 地中構造物の構築方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07111120B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0726406B2 (ja) * | 1989-05-12 | 1995-03-22 | 鹿島建設株式会社 | 地中構造物の構築方法 |
| JP2007177425A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Ohbayashi Corp | 地下構造物の構築方法及びこの方法にて構築される地下構造物 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2524764B2 (ja) * | 1987-08-07 | 1996-08-14 | 大成建設株式会社 | 地下空洞の施工方法 |
-
1988
- 1988-10-18 JP JP63261977A patent/JPH07111120B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02108799A (ja) | 1990-04-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |