JPH02110523A - 光偏向装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、音響光学素子に入射させた光ビームを該素子
への電圧印加状態を連続的に変化させることによって連
続的に偏向させる光偏向装置に関し、特に詳細にはこの
偏向された光ビームが平面上を等速で走査するようにし
た光偏向装置に関するものである。

（従来の技術） 例えば光走査記録装置や光走査読取装置等において光ビ
ームを偏向させる光偏向装置の一つとして、従来よりＡ
ＯＤ　（音響光学光偏向器）が公知となっている。この
ＡＯＤは、ＡＯ材料のバルク結晶に印加する電圧の大き
さを変えると、そこに入射している光ビームの回折角が
変化することを利用して、上記印加電圧の値を連続的に
変化させることによって光ビームを連続的に偏向させる
ものである。

一方例えば特開昭ｅｉ　−１８３６２８号公報に示され
るように、表面弾性波が伝播可能な材料から形成された
光導波路に光ビームを入射させ、この光導波路内を進行
する導波光と交わる方向に表面弾性波を発生させて該表
面弾性波によって導波光をブラッグ回折させ、そして上
記表面弾性波の周波数を連続的に変化させることにより
導波光の回折角（偏向角）を連続的に変化させるように
した光偏向装置も公知となっている。この構成において
、表面弾性波の進行方向に対する導波光の入射角をθと
すると、表面弾性波と導波光との音響光学相互作用によ
る導波光の偏向角αは、α−２θである。モして導波光
の波長、実効屈折率をλ、Ｎｅとし、表面弾性波の波長
、周波数、速度をそれぞれＡＳ　ｆ、ｖとすれば、 ２θ−２ｓｉｎ’（λ／（２Ｎｅ・Δ））ユλ／　（Ｎ
ｅ　・Δ） 一λ・ｆ／　（Ｎｅ−ｖ）・・・・・・（１）である。

つまり偏向角δは表面弾性波周波数ｆにほぼ比例する。

この光偏向装置においては、回折した導波光は回折格子
（グレーティングカプラー）やカプラープリズム等によ
って光導波路外に取り出され、こうして出射した光ビー
ムは光導波路外の空間において偏向する。

ところで、以上述べたＡＯＤや、先導波路に表面弾性波
を伝播させるタイプの光偏向装置によって光ビームを平
面上に走査させる場合、ガルバノメータミラー等のその
他の光偏向装置を用いる場合と同様、偏向された光ビー
ムを像面湾曲を補正する平面走査レンズに通す必要があ
る。周知の通り、この平面走査レンズとしてｆ　ｔａｎ
θレンズを用いると、走査端側に行くほど平面上の光ビ
ーム走査速度が大きくなる。一般に画像記録や画像読取
りにおける信号処理は走査速度が一定であることを前提
としてなされるので、通常は上記の平面走査レンズとし
てｆθレンズを用いて像面湾曲を補正し、また走査速度
も等速化するようにしている。

（発明が解決しようとする問題点） ところが、上記のｆθレンズは大変高価であり、また多
くの場合３枚のレンズから構成されるので、このｆθレ
ンズを用いると光走査記録装置あるいは読取装置のコス
トアップおよび大型化を招く。

そこで本発明は、上記のｆθレンズを用いなくても、平
面上を走査する光ビームを等速化させることができる光
偏向装置を提供することを目的とするものである。

（問題点を解決するための手段及び作用）本発明の光偏
向装置は、先に述べたようなＡＯＤや、光導波路に表面
弾性波を伝播させるタイプの光偏向装置においては、電
圧印加状態に応じた音響光学作用を示す音響光学素子へ
の電圧印加状態（すなわち前者にあっては印加電圧の大
きさであり、後者にあっては印加される交番電圧の周波
数）を電圧印加制御手段によって連続的に変化させるこ
とにより光ビームを連続的に偏向させていることに管目
し、この電圧印加状態の時間当りの変化率（前者にあっ
ては印加電圧値の変化率であり、後者にあっては交番電
圧周波数の変化率）を制御する手段を設けて、該変化率
を連続的に変えることによって、偏向ビームが平面上を
等速で走査するようにしたことを特徴とするものである
。

（実　施　例） 以下、図面に示す実施例に基づいて本発明の詳細な説明
する。

第１図は本発明の一実施例による光偏向装置ＩＯを示す
ものである。この光偏向装置１０は１．１２１．１上に
形成された先導波路１２と、この光導波路１２上に形成
された光ビーム入射用集光性回折格子（Ｆｏｃｕｓｔｎ
ｇ　　ｃ　ｒａｔｔｎｇ　　ｃ　ｏｕｐｌｅｒ、以下Ｆ
Ｃ，Ｃと称する）１３と、光ビーム出射用線状回折格子
（Ｌｌｎｃａｒ　Ｇｒａｔｉｎｇ　　Ｃｏｕｐｌｅｒ、
以下ＬＧＣと称する）１４と、これらのＦＧＣ１３、Ｌ
　Ｇ　Ｃ１４の間を進行する導波光の光路に交わる方向
に進行する表面弾性波１５．１６をそれぞれ発生させる
第１、第２の傾斜化チャーブ交叉くし形電極対（Ｔ　ｌ
１ｔｅｄ　−Ｆ　Ｉｎｇｃｒ　　　Ｃｈｉｒｐｅｄ　　
　Ｉ　ｎＬｅｒ　　Ｄ　１ｇ１Ｌａｌ　　Ｔｒａｎｓｄ
ｕｃｅｒ　　。

以下傾斜化チャーブＥＤＴと称する）　１７．１８と、
上記表面弾性波１５、Ｉ６を発生させるためにこれらの
傾斜化チャーブＩＤＴ１７．１８に高周波の交番″１”
Ｕ圧を印加する高周波アンプ１９と、上記電圧の周波数
を連続的に変化（掃引）させるスィーパ−２０と、上記
電圧周波数の時間当りの変化率を制御するコントローラ
２５とを有している。

本実施例においては一例として、基板１１にＬｉＮｂＯ
３ウェハを用い、このウェハの表面にＴｉ拡散膜を設け
ることにより光導波路１２を形成している。なお基板１
１としてその他サファイア、Ｓｔ等からなる結晶性基板
が用いられてもよい。また先導波路１２も上記のＴｉ拡
散に限らず、基板１１上にその他の材料をスパッタ、蒸
着する等して形成することもできる。なお先導波路につ
いては、例えばティー　タミール（Ｔ、　　Ｔａｍ１ｒ
）編「インチグレイテッド　オブティクスＣＩ　ｎｔｅ
ｇｒａｔｃｄ　　０ｐｔｉｃｓ　）　Ｊ　　（トピック
ス　イン　アプライド　フィジックス（Ｔｏｐｉｃｓ　
　Ｉｎ　　Ａｐｐｌｉｅｄ　　Ｐｈｙｓｉｃｓ）第７巻
）スブリンガー　フエアラーグ（Ｓ　ｐｒｌｎｇｅｒ　
−Ｖｅｒｌａｇ　）刊（１９７５）　　、西原、春名、
楢原共と「光集積回路」オーム社刊（１９８５）等の成
著に詳細な記述があり、本発明では先導波路１２として
これら公知の先導波路のいずれをも使用できる。

ただし、この光導波路１２は、上記Ｔ【拡散膜等、後述
する表面弾性波が伝播可能な材料から形成されなければ
ならない。また先導波路は２層以上の積層構造を有して
いてもよい。

傾斜指チャーブＩＤＴ１７．１８は、例えば先導波路１
２の表面にポジ型電子線レジストを塗布し、さらにその
上にＡｕ導電用薄膜を蒸着し、電極パターンを電子線描
画し、Ａｕ薄膜を剥離後現像を行ない、次いでＣｒ薄膜
、ＡＩ薄膜を蒸着後、有機溶媒中でリフトオフを行なう
ことによって形成することができる。なお傾斜指チャー
ブＩＤＴ１７．１８は、基板１１や光導波路１２が圧電
性を有する材料からなる場合には、直接先導波路１２内
あるいは基板ＩＩ上に設置しても表面弾性波１５．１６
を発生させることができるが、そうでない場合には基板
１１あるいは先導波路１２の一部に例えばＺｎＯ等から
なる圧電性薄膜を蒸着、スパッタ等によって形成し、そ
こに１ＤＴ１７、Ｌ８を設置すればよい。

偏向される光ビームＬは、例えば半導体レーザ等の光源
２１から、ＦＧＣ１３に向けて射出される。

この光ビームＬ（発散ビーム）は、ＦＧＣ１３によって
平行ビームとされた上で先導波路１２内に取り込まれ、
該先導波路１２内を導波する。この導波光り、は、第１
の傾斜指チャーブＩＤＴ１７から発せられた第１の表面
弾性波１５との音響光学相互作用により、図示のように
回折（Ｂ　ｒａｇｇ回折）する。

こうして回折、偏向した導波光Ｌ２は、第２の傾斜指チ
ャーブＩＤＴ１８から発せられた第２の表面弾性波１６
との音響光学相互作用により、上記偏向をさらに増幅さ
せる方向に回折する。そして前述のように、第１の傾斜
指チャーブＩＤＴ１７に印加される交番電圧の周波数が
連続的に変化するので、第１の表面弾性波１５の周波数
が連続的に変化する。

前述の第（１）式から明らかなように、表面弾性波１５
によって回折した導波光Ｌｚの偏向角は表面弾性波１５
の周波数にほぼ比例するので、上記のように表面弾性波
１５の周波数が変化することにより、導波光Ｌ２は矢印
Ａで示すように連続的に偏向する。

この導波光Ｌ２は次に第２の表面弾性波１６によって偏
向されるが、この第２の表面弾性波１６も第１の表面弾
性波１５と同様に周波数が連続的に変化するので、第２
の表面弾性波１６を通過した後の導波光Ｌ３は、矢印Ｂ
で示すように連続的に偏向する。

この導波光Ｌ３はＬ　Ｇ　Ｃ１４によって先導波路１２
外に出射せしめられる。こうして出射した光ビームＬ°
は平面走査レンズ２２に通され、その集光作用によって
被走査面（平面）２３上において１点に集束されつつ、
該被走査面２３上を矢印Ｘ方向に直線的に走査する。

次に、導波光Ｌ３の偏向角範囲２Δ（２θ）について、
第２図を参照して説明する。この第２図は、第１の傾斜
指チャープＩＤＴ１７および第２の傾斜指チャープＩＤ
７１８の詳細な形状と配置状態を示している。図示され
るように第１の傾斜指チャーブＩＤＴ１７および第２の
傾斜指チャーブＩＤ７１ｇはそれぞれ、電極指の間隔が
変化率一定で段階的に変化するとともに、各電極指の向
きも変化率一定で段階的に変化するように形成されてい
る。

第１の傾斜指チャープＩＤＴ１７および第２の傾斜指チ
ャーブＩＤＴ１８とも電極指の間隔が狭い方が（図中上
端部）が導波光側に位置するように配置され、前述のよ
うに印加電圧が掃引されることにより、それぞれこの上
端部が最大周波数ｆ２−２ＧＨｚ、そして下端部が最小
周波数ｆ、−ＩＧＨ２の表面弾性波１５．１６を発生す
るようになっている。そして第１の傾斜指チャーブＩＤ
Ｔ１７は、上端部と下端部の電極指が互いに３＠傾いた
形状とされ、導波光Ｌ１の進行方向に対して上端部の電
極指が６″の角度をなし、下端部の電極指が３ｅの角度
をなすように配置されている。一方策２の傾斜指チャー
ブＩＤＴ１８は、上端部と下端部の電極指が互いに９°
傾いた形状とされ、導波光Ｌ１の進行方向に対して上端
部の電極指が１８°の角度をなし、下端部の電極指が９
＠の角度をなすように配置されている。なお、両傾斜指
チャーブＩＤＴ１７．１ｇのアース電極は互いに一体化
されてもよい。また以上述べたような傾斜指チャーブＩ
ＤＴについては、例えば前述のＣ，Ｓ、ＴＳＡＩによる
文献において詳しい説明がなされている。

第１の傾斜指チャーブＩＤＴ１７、第２の傾斜指チャー
プＩＤＴ１ｇからそれぞれ２　Ｇ　Ｈｚの表面弾性波１
５．１６が発せられたときの光ビームの回折状態は第２
図の■で示す状態となる。つまりこの場合は、２ＧＨｚ
の表面弾性波１５に対して導波光Ｌ１が入射角６″で入
射し、この角度はブラッグ条件を満足している。すなわ
ち導波光し１、回折後の導波光Ｌ２の波数ベクトルをそ
れぞれＩｋｌ、Ｉｋ２、表面弾性波１５の波数ベクトル
をｌＫ１　とすると、第３図（１）に示すように ｌｋｌ　＋ｌＫ１−１に２ となっている。つまり回折された導波光Ｌ２の進行方向
は、ベクトルｌｋ２の向きとなる（（＋２向角α−２θ
−１２°）。またこのとき、２　Ｇ　Ｈｚの表面弾性波
１６は第２の傾斜指チャーブＩＤＴ１８の第２図中上端
部の７１Ｓ極指（第１の傾斜指チャーブＩＤＴ１７の上
端部と１２″の角度をなす）によって励振され該電極指
と直角な向きに進行するから、この表面弾性波１６に対
する導波光Ｌ２の入射角も６゜となり、そして表面弾性
波１６は表面弾性波１５と同波長であるから、ブラッグ
条件を満足する。すなわち表面弾性波１Ｂによる回折後
の導波光り、の波数ベクトルを１に３、表面弾性波１６
の波数ベクトルをＩＫｚとすると、第３図（１）に示す
ように１に２　＋１Ｋ２−１ｋ。

となっている。

上記の状態から表面弾性波１５．１６の周波数がＩＧＨ
ｚまで次第に下げられる。表面弾性波１５．１８の各波
数ベクトルＩＫ１、ＩＫｚの大きさ１１に１１に２　ｌ
は、その波長をＡとすると２π／Δであるから、結局表
面弾性波１５．１６の周波数に比例する。したがって、
表面弾性波１５．１８の周波数がＩＧＨｚのとき、表面
弾性波１５．１６の波数ベクトルｌＫｔ　、ｌＫ２の大
きさは、周波数が２ＧＨｚのときの１／２となる。また
この場合の表面弾性波１５、表面弾性波１６の進行方向
つまり波数ベクトルＩＫＩ、ＩＫｚの向きは、ＩＧＨｚ
の表面弾性波１５．１６を励振する第１の傾斜指チャー
ブＩＤＴ１７、第２の傾斜指チャープＩＤＴ１ｇの電極
指部分が前述のように２ＧＨｚの表面弾性波１５．１６
を励振する電極指部分に対してそれぞれ３″、９＠傾い
ているから、２ＧＨｚの表面弾性波１５．１６の波数ベ
クトルｌＫ１．１に２の向きから各々３″、９″変化す
る。また、第３図（１）においてａ≧ｂであるから結局
、表面弾性波１５．１６の周波数がＩＧＨｚ場合の波数
ベクトルＩＫｌ、ＩＫ２は、第３図（２）に示すものと
なる。

以上説明した通り、表面弾性波１５．　ＩＧの周波数が
ｌ　Ｇ　Ｈｚである場合も、前述の １ｋｌ　＋ｌＫ、　＝ｌｋ２ １に２　＋ＩＫ２　ｍ１ｋ３ の関係が成立している。

そして波数ベクトルｌｋ、の大きさ１ｌｋｌ＋は、導波
光り、の波長をλとするとｎ・２π／λ（ｎは屈折率）
で、この波長は導波光Ｌ２、Ｌ３についても同じである
から、結局常に ｌｋｘ　　ｌ　−！　ｌｋｚ　　ｌ　−１１に３てあり
、−刃表面弾性波Ｉ５の波数ベクトルＩＫ１の大きさは
その波長を八とすると２π／Ａで、この波長は常に表面
弾性波１６の波長と等しいから１１に１１−１１に２ である。また波数ベクトルＩＫ１、ＩＫｚの向きは、先
に説明したように表面弾性波１５．１６の周波数が２Ｇ
ＨｚからＩＧＨｚに変化する際に、それぞれ固有の一定
変化率で変化する。したがって、表面弾性波１５．１６
の周波数が上記のように２ＧＨｚからＩＧＨｚに変化す
る間、常に前述の ｕｃｌ＋ｌＫ１−１に２ １に２　＋ｌＫ２−１に３ の関係が成り立ち、導波光Ｌ１と表面弾性波１５とのブ
ラッグ条件、導波光Ｌ２と表面弾性波１６とのブラッグ
条件が常に満たされる。

以上の説明から明らかなように、表面弾性波１５．１６
の周波数が２ＧＨｚ、ＩＧＨｚのとき、２回回折した導
波光Ｌ３の進行方向はそれぞれ第３図（１）のベクトル
ｌｋ３、第３図（２）のベクトルｌｋ３の向き（第２図
に■、■°で示す向き）であり、その差は２Δ（２θ）
−２４−１２−１２°である。つまり本装置においては
、光導波路内で１２″の広偏向角範囲が得られる。ちな
みに、周波数がＩＧＨｚから２ＧＨｚまで変化する（２
次回折光の影響を受けないように周波数帯域を１オクタ
ーブとする）１つの表面弾性波のみで光ビーム偏向を行
なう場合には、偏向角範囲は６°となる。

先導波路１２から出射した光ビームＬ°の偏向角範囲Δ
δは、上述の先導波路内の偏向角範囲２Δ（２θ）より
もさらに広くなる。これは、光導波路Ｉ２の屈折率が空
気の屈折率よりも大きいためである。

本実施例では、−表面弾性波１５．１６の周波数を２Ｇ
ＨｚからＩＧＨｚに連続的に変化させるようにしている
が、この反対にＩＧＨｚから２ＧＨｚまで変化させるよ
うにしてもよい。この場合は光ビームＬ°の偏向の方向
が逆になるだけである。また上記周波数を２−１−＝　
２−Ｉ　Ｇ　Ｈｚとなるように変化させれば、光ビーム
Ｌ′が往復で偏向するようになり、光ビームの往復走査
が可能となる。

また以上説明の実施例では、周波数２ＧＨｚの表面弾性
波１５に対する導波光Ｌ１の入射角（つまり第１の傾斜
指チャープＩＤＴ１７の２ＧＨｚを励振する電極指と導
波光Ｌ１の進行方向がなす角度）を６＠とじ、第１の傾
斜指チャーブＩＤＴ１７のＩＧＨｚを励振する電極指が
上記導波光Ｌｌの進行方向となす角を３°　一方策２の
傾斜指チャーブＩＤＴ１８の２ＧＨｚ、ＩＧＨｚを励振
する電極指が上記進行方向となす角をそれぞれ１８°、
９″としているが、一般に表面弾性波１５．１６の最小
、最大周波数をｆｌ、ｆｚ　　（ｆｚ　−２ｆｌ　）と
する場合には、上記の例において６°、３°、１８°、
９０と設定された各角度を各々θ、θ／２．３θ、３θ
／２とすれば、いかなる場合も常に前述のブラッグ条件
を満足させることが可能となる。

次に光ビームＬ°の被走査面２３上における走査速度に
ついて説明する。前述したスィーパ−２０は高周波アン
プ１９にＶｌからＶｌの値までスィーブされる電圧信号
■を送り、ＩＤＴ１７．１ｇに印加される交番電圧の周
波数すなわち表面弾性波１５．１６の周波数ｆは、この
電圧信号Ｖの値に比例して（第４図の第２象限の変換特
性で）ｆｚからｆｌの値まで変化する。従来上記電圧信
号■は、第４図の第１象限に破線で示すようにスィーブ
速度（時間ｔに対する変化率）一定でス・ｒ−ブされて
いたが、本装置においてはコントローラ２５がこのスィ
ーブ速度を、第４図第１象限の実線表示の特性で連続的
に変化させる。すなわちこの電圧信号■のスイープ速度
は、電圧値ｖ２およびＶｌの直前あるいは直後で最も遅
く、中心値■ｏに近いほど速くなるように制御される。

このように電圧信号Ｖのスィーブ速度が制御されること
により、交番電圧周波数のスイープ速度つまり表面弾性
波１５．１６の周波数ｆの時間当りの変化率は第４図の
第３象限に示すように、ｆｌおよびｆｌの値の直前ある
いは直後で最も遅く、中心周波数ｆｏに近いほど速くな
るように制御される。

第５図は偏向された光ビームＬ°　と被走査面２３との
位置関係を示す平面図であり、図示されるように被走査
面２３は、偏向角がΔδ／２のとき、つまり表面弾性波
１５．１６の周波数がｆｏのときに光ビームＬ゛が平面
形状において垂直に入射するように配置されている。光
ビームＬ′は第２の表面弾性波１Ｇによる回折点を中心
としてほぼ円運動する形で偏向するから、平面の被走査
面２３上における光ビームＬ′の走査速度は、もし表面
弾性波１５、１６の周波数ｆの時間当り変化率が一定で
あれば、偏向角が上記Δδ／２のときに最小で、走査端
に近づくにつれて大きくなる。しかし本装置においては
、前述のようにして表面弾性波１５．１６の周波数ｆの
時間当り変化率を、第４図の第３象限に示すように連続
的に変化するように制御しているので、このことと、上
記の円運動による不等速性とが相殺されて、光ビームＬ
°は被走査面２３上を終始等速で走査するようになる。

なお以上の説明から明らかなように、第４図の第１象限
に示される電圧信号Ｖのスイープ速度変化特性は、上述
の不等速性に対応させて、それを解消するように設定す
ればよい。

上述のようにして光ビームＬ′の走査速度を等速化すれ
ば、平面走査レンズ２２として、走査速度等速化の作用
を有する高ｒｉなｆθレンズを用いる必要が無くなる。

つまりこの平面走査レンズとして、像面湾曲補正作用の
みを備えた比較的安価なｆ　ｔａｎθレンズが使用可能
となる。

以上、第１および第２の表面弾性波１５．１６によって
導波光を２回回折させ、それによって大きな偏向角範囲
を得るようにした光偏向装置に本発明を適用した実施例
について説明したが、１つの表面弾性波により導波光を
１回だけ回折させるタイプの光偏向装置に対しても本発
明は勿論適用可能である。

また本発明は、先に述べたＡＯＤ、すなわちＡＯ材料の
バルク結晶に光ビームを入射させ、該結晶に印加する電
圧の値をスィーブさせることによって光ビームの回折角
を連続的に変化させるようにした光偏向装置に対しても
適用可能である。すなわちこの場合は、上記電圧値のス
イープ速度を偏向角範囲の中心において最大とし、最大
偏向角および最小偏向角に近づくにつれて遅くなるよう
に制御する電圧変化率制御手段を設ければよい。

（発明の効果） 以上詳細に説明した通り本発明の光偏向装置においては
、音響光学素子の電圧印加状態の時間当り変化率を制御
することによって、平面上における光ビームの走査速度
を等速化しているので、光走査記録装置や光走査読取装
置等においてこの光（−同装置を用いれば、走査速度等
速化のために高価かつ複雑なｆθレンズを用いる必要が
無くなり、装置のコストダウンおよび小型化が実現でき
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例装置を示す概略斜視図、 第２図は上記実施例装置の一部を拡大して示す平面図、 第３図は上記実施例装置における光ビーム偏向の仕組み
を説明する説明図、 第４図は上を己実施例装置における表面弾性波周波数の
時間当りの変化率特性を示すグラフ、第５図は上記実施
例装置における光ビームと被走査面との関係を示す概略
平面図である。 ｌＯ・・・光偏向装置　　　　　１１・・・基　　板１
２・・・光導波路 Ｉ３・・・光ビーム入射用ＦＣＣ １４・・・光ビーム出射用ＬＧＣ １５・・・第１の表面弾性波　１６・・第２の表面弾性
波１７・・・第１の傾斜指チャーブＩＤＴ１８・・・第
２の傾斜指チャーブＩＤＴ１９・・・高周波アンプ　　
　　２０・・・スィーパ−２１・・光　　源　　　　　
　２２・・・平面走査レンズ２３・・・被走査面　　　
　　　２５・・・コントローラＬ、・・・第１の表面弾
性波に入射する前の導波光Ｌ２・・・第１の表面弾性波
を通過した導波光Ｌ３・・・第２の表面弾性波を通過し
た導波光ｌｋ１・・・導波光Ｌｌの波数ベクトル１に２
・・・導波光Ｌ２の波数ベクトル１に３・・・導波光Ｌ
３の波数ベクトル１に、・・・第１の表面弾性波の波数
ベクトルＩＫ２・・・第２の表面弾性波の波数ベクトル
第 図 第 図 （２〕

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）光ビームが入射され、電圧印加状態に応じた音響
   光学作用を示して、それによりこの光ビームを回折させ
   る音響光学素子と、 この素子への電圧印加状態を連続的に変化させる電圧印
   加制御手段とを備えて、前記素子から出射する光ビーム
   を連続的に偏向させる光偏向装置において、 前記素子から出射した光ビームが平面上を走査したとき
   該平面上での走査速度が一定になるように、前記電圧印
   加状態の時間当りの変化率を制御する手段が設けられた
   ことを特徴とする光偏向装置。