JPH021108A - 縮小投影露光装置 - Google Patents

縮小投影露光装置

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Publication number
JPH021108A
JPH021108A JP63142391A JP14239188A JPH021108A JP H021108 A JPH021108 A JP H021108A JP 63142391 A JP63142391 A JP 63142391A JP 14239188 A JP14239188 A JP 14239188A JP H021108 A JPH021108 A JP H021108A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lcd
pattern
reticle
exposure
exposure pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63142391A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Tsuchimoto
淳一 土本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP63142391A priority Critical patent/JPH021108A/ja
Publication of JPH021108A publication Critical patent/JPH021108A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレチクルに形成された露光パターンを半導体ウ
ェーハに縮小投影して、所定のパターンを有する半導体
チップを製造する縮小投影露光装置に係り、特に異なる
露光パターン毎にレチクルを取り換える必要のない縮小
投影露光装置に関する。
〔従来の技術〕
従来の縮小投影露光装置は、所定の露光パターンが描か
れたレチクルと、所定の縮尺率で露光パターンを縮小す
る縮小投影レンズとが紫外線などの照明光の光路内に配
設されると共に、縮小投影レンズの光路下流側にはフォ
トレジストが均一に塗布された半導体ウェーハがセット
されて構成されている。半導体ウェーハへの露光にあた
っては、光源から出射した照明光をレチクルを通過させ
、縮小投影レンズで露光パターンを縮小してフォトレジ
ストを感光させることにより行い、この操作を半導体ウ
ェーハ上でステップ・アンド・リピートして、−チップ
ごとに焼き付けていく。
〔発明が解決しようとする課題〕
このような従来の縮小投影露光装置においては2露光パ
ターンがレチクルに描かれているため、露光パターンの
切り替え毎にレチクルを取り替える必要がある。しかし
、このレチクルの交換はレチクルを照明光の光路内の所
定位置に取り付けることが必要なため、その交換作業が
面倒となっている。また、レチクル交換時には光路内に
埃が混入し易く、侵入した埃が露光されてパターン不良
ともなる。
そこで本発明は、異なる露光パターンへの切り替えにあ
たっても、レチクルの交換を不要とした縮小投影露光装
置を提供することにより、上記問題を解決するものであ
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、液晶(LCD)分子の配向変形を露光パター
ンに適用して露光パターンの切り替えに応用したもので
あり、LCD板を備えてなるLCDレチクルと、このL
CDレチクルを駆動するLCD駆動部と、LCDレチク
ルで表わされる露光パターンを記憶するパターン記憶部
と、露光パターンを切り替えるパターン切替部と、この
パターン切替部で切り替えられた露光パターンがLCD
レチクルで表わされるようにLCD駆動部を制御する制
御部とを備えていることを特徴とする。
〔作用〕
本発明は上記の通りに構成されるので、パターン記憶部
は複数の露光パターンが記憶されており、その内の−の
露光パターンがパターン切替部により取り出される。取
り出された露光パターンはLCD駆動部の駆動によって
LCDレチクルに表現される。従って、LCD駆動部の
駆動を制御することにより、LCDレチクルでは取り出
された露光パターンに対応する露光パターンを切り替え
表示する。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を添付図面により詳細に説明する
。
第1図は実施例に係る縮小投影露光装置10の斜視図を
示す。縮小投影露光装置10はLCD板11が支持枠1
2内に取り付けられたLCDレチクル13と、LCDレ
チクル13を駆動するためのLCD駆動部14.15と
、このLCD駆動部14.15を制御する制御部16と
、複数の露光パターンが記憶されたパターン記憶部17
と、パターン記憶部17から所定の露光パターンを取り
出して露光パターンの切り替えを行うパターン切替部1
8とを備えている。また、LCDレチクル13の下方に
は、縮小投影レンズ(図示せず)が適宜、配設される。
LCD板11内には電界の印加によって液晶分子が直交
方向に配向する液晶セルが設けられている。そして、L
CD駆動部14.15は多数の駆動リード線19.20
を備えており、LCD駆動部14の駆動リード線19は
例えばLCD板11の上面に配設された透明電極(図示
せず)に接続され、LCD駆動部15の駆動リード線2
0は例えばLCD板の下面に配設された透明電極(図示
せず)に接続され、これによって上記の液晶分子を配向
させるように駆動する。このような構成では、LCD駆
動部14.15の駆動を制御することにより上記の透明
電極間に所定の電界が発生するので、所定の露光パター
ンを形成することができる。
制御部16はこれらLCD駆動部14.15に接続され
て、所定の露光パターンがLCD板11に表わされるよ
うにLCD駆動部14.1’5を制御する。パターン切
替部18はパターン記憶部17内にディジタル記憶され
ている露光パターンから所定の露光パターンを選択し、
制御部16はこの選択された露光パターンに基いてLC
D駆動部14.15を制御する。ここで、パターン記憶
部17はROMや磁気記憶装置で構成され、パターン切
替部18はキーボード、切替スイッチなどで構成される
。
次に、上記実施例に係る縮小投影露光装置の作動を説明
する。
露光される半導体ウェーハ1は上面にフォトレジストが
塗布されており、ステージ3上の所定位置にセットされ
ている。LCDレチクル13および縮小投影レンズはス
テッパ(図示せず)によって半導体ウェーハ1上方でス
テップ・アンド・リピート駆動されて、チップ2毎に移
動する。光源(図示せず)からの紫外線などの照射光U
Vは、LCDレチクル13を通過し縮小投影レンズで集
光された後、半導体ウェーハ1上に結像する。これによ
り、LCD板11で表わされた露光パターンが縮小され
て露光され、チップ2にパターンが形成される。
かかる作動において、露光パターンを切り替える場合に
はパターン切替部18がその露光パターンをパターン記
憶部17から選択し、この露光パターンを制御部16に
出力する。制御部16はこの露光パターンがLCD板1
1に表わされるようにLCD駆動部14.15を制御す
る。
このような構成では、パターン切替部18で切り替えら
れた複数の露光パターンを−のLCD板11で切り替え
表示することができるので、露光パターンの切り替え毎
にレチクルを交換する必要がない。このため、レチクル
交換作業が不要となり露光処理の迅速化が可能となると
共に、レチクル交換に起因する埃の侵入もなくなり、埃
によるパターン不良もなくなる。なお、LCDによるパ
ターンは微細化の点で問題があるが、光学系の改良など
によって微細化に対応することが可能である。
〔発明の効果〕
以上、詳細に説明したように本発明は、LCD板をレチ
クルとして使用し、LCD駆動部および制御部によって
露光パターンを切り替え可能にLCD板に表わすように
したので、−のレチクルで多数の露光パターンを表示す
ることができ、露光パターン毎のレチクルの交換が不要
となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例に係る縮小投影露光装置を
示す斜視図である。 10・・・縮小投影露光装置、11・・・LCD板、1
3・・・LCDレチクル、14.15・・・LCD駆動
部、16・・・制御部、17・・・パターン記憶部、1
8・・・パターン切替部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 LCD板を備えてなるLCDレチクルと、 このLCDレチクルを駆動するLCD駆動部と、前記L
    CDレチクルで表わされる露光パターンを記憶するパタ
    ーン記憶部と、 前記露光パターンを切り替えるパターン切替部と、 このパターン切替部で切り替えられた露光パターンが前
    記LCDレチクルで表わされるように前記LCD駆動部
    を制御する制御部とを備えていることを特徴とする縮小
    投影露光装置。
JP63142391A 1988-06-08 1988-06-08 縮小投影露光装置 Pending JPH021108A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63142391A JPH021108A (ja) 1988-06-08 1988-06-08 縮小投影露光装置

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JP63142391A JPH021108A (ja) 1988-06-08 1988-06-08 縮小投影露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH021108A true JPH021108A (ja) 1990-01-05

Family

ID=15314272

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63142391A Pending JPH021108A (ja) 1988-06-08 1988-06-08 縮小投影露光装置

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JP (1) JPH021108A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6705228B1 (en) * 1999-09-17 2004-03-16 Basys Print Gmbh Systeme Fuer Druckindustrie Method for synchronizing positioning and exposure processes

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6705228B1 (en) * 1999-09-17 2004-03-16 Basys Print Gmbh Systeme Fuer Druckindustrie Method for synchronizing positioning and exposure processes

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