JPH0622192B2 - 表示パネル製造方法 - Google Patents

表示パネル製造方法

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JPH0622192B2 JP60087551A JP8755185A JPH0622192B2 JP H0622192 B2 JPH0622192 B2 JP H0622192B2 JP 60087551 A JP60087551 A JP 60087551A JP 8755185 A JP8755185 A JP 8755185A JP H0622192 B2 JPH0622192 B2 JP H0622192B2
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、被露光体（基板）を分割露光する露光装置を
利用して被露光体上に表示パネルを製造する表示パネル
製造方法に関する。
［従来の技術］ 本件出願人は、先の昭和６０年４月１日に出願した特願
昭６０−６８７３６号で、半導体チップの製造コスト低
減を目的としたウエハの大口径化や、液晶ＴＶ用等の大
型の液晶表示板の製造に対応可能な大画面露光用の露光
装置を提案している。
第３図は、先の出願に示された露光装置の構成を示すも
ので、同図において、１（１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ）は
焼付パターンが形成されているフォトマスク、２はマス
ク１を搭載してＸ，Ｙ，θ方向に移動可能なマスクステ
ージである。３は液晶表示板を製造するためにその表面
に多数の画素とこれらの画素のオン・オフを制御するた
めのスイッチングトランジスタが通常のフォトリソグラ
フィの手順で形成されるガラス基板で、対角線の長さが
１４インチ程度の方形である。４は基板３を保持して
Ｘ，Ｙ，θ方向に移動可能な基板ステージである。基板
ステージ４のステップ移動は不図示のレーザ干渉計を用
いた精密測長システムによって制御される。５は凹面鏡
と凸面鏡の組み合せからなる周知のミラー投影系で、マ
スクステージ２によつて所定位置にアライメントされた
マスク１のパターン像を基板３上へ等倍投影する。６は
不図示の光源からの特定の波長の光で露光位置にあるマ
スク１を照明する照明光学系で、マスク上のパターンを
介して基板３上の感光層を露光することにより、マスク
上のパターンを基板３に転写可能とするためのものであ
る。なお、投影系５の光軸は照明系６の光軸と一致させ
てある。
７はＹ方向（紙面に垂直な方向）に設けられた２つのガ
イドレール８に沿って移動可能なＬＡＢ（リニアエアベ
アリング）で、一方はＸ方向（紙面の左右方向），Ｚ方
向（紙面の上下方向）拘束タイプ、他方はＺ方向拘束タ
イプである。９はマスクステージ２と基板ステージ４を
一定の関係で保持するホルダ（キャリッジ）で、ＬＡＢ
７に支持されることによりマスクステージ２上のマスク
１と基板ステージ４上の基板３とを一体的に移送可能と
している。
１１はホルダ９の移送によって基板３が分割露光される
ごとにマスク１ａ〜１ｄを順次マスクステージ２へ搬送
するためのマスク搬送装置、１２は投影系５のピント面
と基板３の表面との間隔を検出するためのギャップセン
サで、例えばエアマイクロセンサや、基板３からの反射
光で間隔を検出する光電タイプのセンサである。１３は
投影系５、照明系６およびガイドレール８を一定の関係
で取付けるための基台である。
ところで、同図の装置においては、基板３上を例えば４
つの被露光領域に分割し、これらの被露光領域をマスク
１および投影光学系５下の露光領域に順番に位置させな
がらマスクパターンの焼付けを行なうが、この際、上記
基板３上の各被露光領域に対応して第４図に示すような
４種類のマスク１ａ〜１ｄを用意し、基板３の移動と連
動してこれらのマスク１ａ〜１ｄを順番に交換してい
た。従って、１枚の基板に１つの画面を焼付けるために
は分割数に応じた回数例えば４回のマスク交換が必要で
あり、このマスク交換およびそれに伴うマスクの位置合
せが時間を要し、スループット低下の原因になるという
不都合があった。
［発明の目的］ 本発明は、前述の問題点に鑑みてなされたもので、その
目的は、被露光体（基板）を分割露光する露光装置を利
用して被露光体上に表示パネルを少ないマスクで効率良
く製造することのできる表示パネル製造方法を提供する
ことにある。
［実施例の説明］ 以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。なお、
前述した第３図の装置と共通または対応する部分につい
ては同一の符号で表わす。
第１図は、本発明の一実施例に系るミラープロジェクシ
ョン露光装置の構成を示す。同図の装置は、第２図のも
のに対し、マスク１の露光範囲を変更可能とするブレー
ド１５（１５ａ〜１５ｄ）および各ブレード１５の位置
を調節するためのパルスモータ１６（１６ａ〜１６ｄ）
を付加したものである。また、第１図の露光装置は、後
述するように、１レイヤ分の転写を１つのマスクで行な
うようにしているため、第３図に示されているマスクス
テージ２および搬送装置１１はホルダ９上から除去され
ている。なお、第１図にブレード１５ａ，１５ｃおよび
パルスモータ１６ａ，１６ｃしか現われていないが、紙
面に対して手前と奥に各ブレード１５ｂ，１５ｄおよび
パルスモータ１６ｂ，１６ｄが設けられているものとす
る。
液晶表示板用のマスクは、通常、第４図のアライメント
マークや液晶駆動用配線パターンが形成される領域３１
を除けば、画素や実素子部分については同一パターン多
数の繰返しである。そこで、第２図のマスクにおいて
は、基板１を４分割した分に相当する画素パターン群を
中央部３２に形成し、周辺部３１には配線パターンおよ
びアライメントマークのパターンを形成してある。従っ
て、焼付け時は、基板３上の各被露光領域に対応して不
要部分をブレード１５ａ〜１５ｂで遮蔽することによ
り、第４図のマスク１ａ〜１ｄと等価なパターンを順次
基板３上に露光することができる。
第５図は、第１図の装置で第２図のマスクを用いて基板
３上に転写したパターンの様子を示す。なお、第５図か
らも分るように、マスク１の各周辺領域３１ａ〜３１ｄ
は２度ずつ使用されるが、このようにアライメントマー
クや液晶表示板の配線パターン等が上下および左右に対
称となるように設計することは可能であり、容易であ
る。
［発明の適用例］ なお、上述においては、本発明をミラープロジェクショ
ン方式の露光装置に適用した例について説明したが、本
発明は、一括または分割露光方式の他の装置例えばプロ
キシミティまたはコンタクト方式の露光装置に適用する
ことも可能である。
また、上述の実施例においてブレードはマスク近傍に配
置しているが、マスクと露光用光源との間にマスクと光
学的に共役な面を形成し、この共役面にブレードを配置
するようにしてもよい。さらに、上述においては、Ｌ型
のブレードを用い、露光領域には各ブレードを１つずつ
出し入れしてマスクの不要部分を遮蔽するようにしてい
るが、複数個の所望形状のブレード（例えば露光領域周
囲に矩形に配置した４個の直線ブレード）を所定の組み
合せで出し入れしてマスクの不要部分を遮蔽するように
してもよい。
［発明の効果］ 以上のように、本発明によれば、１つのマスクでも複数
種のパターンの焼付けが可能となるので、表示パネルを
製造するために必要なマスクの数が減少して管理が容易
になる。また、本発明によれば、表示パネルを製造する
ために基板を分割露光する際に、基板等の被露光体上で
分割された各被露光領域ごとにマスクを交換する必要が
なくなるので、マスクの位置合せ時間を省略してスルー
プットを向上させることができ、表示パネルの製造を効
率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る露光装置の概略構成図、 第２図は第１図の装置におけるブレードとマスクの各露
光領域ごとの位置関係を示す図、 第３図は本件出願人の先願に係る露光装置の概略構成
図、 第４図は第３図の装置で各露光領域ごとに用いられるマ
スクの説明図、 第５図は基板上への転写パターンの状態を示す説明図で
ある。 １：フオトマスク、３：基板、４：基板ステージ、５：
ミラー投影系、９：ホルダ（キャリッジ）、１３：基
台、１５（１５ａ〜１５ｄ）：ブレード、１６（１６ａ
〜１６ｄ）：パルスモータ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮崎 真 神奈川県川崎市中原区今井上町53番地 キ ヤノン株式会社小杉事業所内 (72)発明者 小沢 邦貴 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 吉成 秀樹 神奈川県川崎市中原区今井上町53番地 キ ヤノン株式会社小杉事業所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】基板上に表示エレメントと駆動エレメント
    を形成するためのパターンを準備するステップと、前記
    基板を所定平面に沿ってステップ移動する基板ステージ
    に前記基板を載置するステップと、前記表示エレメント
    用のパターンと前記駆動エレメント用のパターンを前記
    基板に焼付けるための露光光をマスキングブレードによ
    って規定される露光範囲に照射するステップと、前記基
    板を前記露光範囲を通過した露光光で分割露光する際、
    前記基板上に前記表示エレメント用のパターンが複数焼
    付けられ、前記基板上で前記表示エレメント用のパター
    ンが焼付けられる領域の範囲に前記駆動エレメント用の
    パターンが焼付けられるように前記基板ステージによる
    前記基板のステップ移動と前記マスキングブレードによ
    る前記露光範囲の変更を関連付けて行うステップを有す
    ることを特徴とする表示パネル製造方法。
JP60087551A 1985-04-25 1985-04-25 表示パネル製造方法 Expired - Lifetime JPH0622192B2 (ja)

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