JPH02111470A - 有機薄膜製造装置 - Google Patents
有機薄膜製造装置Info
- Publication number
- JPH02111470A JPH02111470A JP26137788A JP26137788A JPH02111470A JP H02111470 A JPH02111470 A JP H02111470A JP 26137788 A JP26137788 A JP 26137788A JP 26137788 A JP26137788 A JP 26137788A JP H02111470 A JPH02111470 A JP H02111470A
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- Japan
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- membranes
- peltier element
- org
- water tank
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/122—Separate manufacturing of ultra-thin membranes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は水槽及び水面上の有機材料の加熱及び冷却を行
なう有機薄膜製造装置に関するものである。
なう有機薄膜製造装置に関するものである。
従来の技術
近年、水面展開膜やこれを基板上に移し取るラングミュ
ア−・プロジット膜を用いた各種の電子デバイス、記録
材料が盛んに研究されている。この水面展開膜は、諸条
件、例えば水温、気温、ｐＨ等により膜密度、結晶性、
配向性が変化することが知られている。特に水温制御（
有機物の温度間ｇ４）は、従来から、水槽下部または側
面に水を循環させる空間を設け、温度調整した水を流す
方法（例えば、特開昭８２−２９４４３４号公報、特開
昭６３−５４９３３号公報）、水槽に直接温度調整した
溶液を流す方法（例えば、特開昭８０−１９３５３６号
公報）が行なわれている。しかし、これらの方法では、
強制的に流体を移動させているため水面上の有機分子に
振動が生じ、また水槽の温度変化に要する時間も長くな
り、有４１Ｆ！ｌｉ膜の結晶性、配向性、生産性の点で
非常に問題がある。
ア−・プロジット膜を用いた各種の電子デバイス、記録
材料が盛んに研究されている。この水面展開膜は、諸条
件、例えば水温、気温、ｐＨ等により膜密度、結晶性、
配向性が変化することが知られている。特に水温制御（
有機物の温度間ｇ４）は、従来から、水槽下部または側
面に水を循環させる空間を設け、温度調整した水を流す
方法（例えば、特開昭８２−２９４４３４号公報、特開
昭６３−５４９３３号公報）、水槽に直接温度調整した
溶液を流す方法（例えば、特開昭８０−１９３５３６号
公報）が行なわれている。しかし、これらの方法では、
強制的に流体を移動させているため水面上の有機分子に
振動が生じ、また水槽の温度変化に要する時間も長くな
り、有４１Ｆ！ｌｉ膜の結晶性、配向性、生産性の点で
非常に問題がある。
発明が解決しようとする課題
本発明は無振動かつ短時間に均一に水温（有機物の温度
）を調整し、有機薄膜の結晶性、配向性を精密にコント
ロールするとともに、生産性を向上させることが可能な
有機薄膜製造装置を提供することを目的とする。
）を調整し、有機薄膜の結晶性、配向性を精密にコント
ロールするとともに、生産性を向上させることが可能な
有機薄膜製造装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
水面上に水に不溶な有機材料（脂肪酸１色素。
タンパク質、その他ＬＢ膜に成り得る材料、例えばステ
アリン酸、スピロピラン、ポルフィリン誘導体、フラビ
ン誘導体等）を展開し薄膜とする有機薄膜製造装置にお
いて、水槽の加熱及び冷却用のペルチェ素子を設置した
水槽、更には有機材料の加熱効率を上げるために水面へ
の加熱源として赤外光照射装置を有する有機薄膜製造装
置である。
アリン酸、スピロピラン、ポルフィリン誘導体、フラビ
ン誘導体等）を展開し薄膜とする有機薄膜製造装置にお
いて、水槽の加熱及び冷却用のペルチェ素子を設置した
水槽、更には有機材料の加熱効率を上げるために水面へ
の加熱源として赤外光照射装置を有する有機薄膜製造装
置である。
作用
本発明によれば、水面上に有機材料を展開し薄膜とする
際、水槽の温度制御をペルチェ素子及び赤外光で行なう
ことで無振動かつ短時間で均一に制御出来る。
際、水槽の温度制御をペルチェ素子及び赤外光で行なう
ことで無振動かつ短時間で均一に制御出来る。
以下詳細に説明する。用いるペルチェ素子は室温付近で
使用可能なものであり、設置場所は水槽の下部や側部で
水槽の形によって決まり、熱拡散が良いように水槽に密
着させる。
使用可能なものであり、設置場所は水槽の下部や側部で
水槽の形によって決まり、熱拡散が良いように水槽に密
着させる。
また、ペルチェ素子は水槽面を冷却する場合、もう一方
の面が加熱になり、冷却しなければならない。これは、
大気との温度差が小さい場合・空冷でも良いが、大きい
場合には放熱禮を設けることが望ましい。
の面が加熱になり、冷却しなければならない。これは、
大気との温度差が小さい場合・空冷でも良いが、大きい
場合には放熱禮を設けることが望ましい。
個々のペルチェ素子と電源との接続は、電源の容量や素
子の信頼性等により直列でも並列でも良く、素子に流れ
る電流の方向は、第４図で説明すると、上面冷却時にＮ
型からＰ型へ、上面加熱時にはＰ型からＮ型へなるよう
にする。
子の信頼性等により直列でも並列でも良く、素子に流れ
る電流の方向は、第４図で説明すると、上面冷却時にＮ
型からＰ型へ、上面加熱時にはＰ型からＮ型へなるよう
にする。
水面に展開した有機材料に加熱効率を更に良くするため
に赤外光を照射するが、光源にはセラミックスヒーター
が良く、可視光を含む場合に起こる有機材料の変化（光
重合反応、会合、劣化等）を抑制出来る。
に赤外光を照射するが、光源にはセラミックスヒーター
が良く、可視光を含む場合に起こる有機材料の変化（光
重合反応、会合、劣化等）を抑制出来る。
照射する赤外光の波長は水及び有機材料が吸収をもつ２
．５４ ｍ以上で、フィルター等を用いて変化させるこ
とが出来る。
．５４ ｍ以上で、フィルター等を用いて変化させるこ
とが出来る。
赤外光の照射は第２図のように水面上部に光源１２を設
置し、金コーティングシャッター１３を用い、照射時間
を調整して行なうか、第３図のように遠方からの赤外光
を金コーティングシャッター１３で照射時間調整し、金
コーティング反射板１４に反射させて行なうか、装置環
境によって選択出来る。
置し、金コーティングシャッター１３を用い、照射時間
を調整して行なうか、第３図のように遠方からの赤外光
を金コーティングシャッター１３で照射時間調整し、金
コーティング反射板１４に反射させて行なうか、装置環
境によって選択出来る。
実施例１
以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は本装置全体を示すもので、１は輻１０Ｃ１＋、
長さ６０ｃｍ、深さ１ｃｍのポリテトラフロロエチレン
でコートされた水槽、２はポリテトラフロロエチレンで
コートされた表面圧縮バーである。これはモーター１１
で移動する。
長さ６０ｃｍ、深さ１ｃｍのポリテトラフロロエチレン
でコートされた水槽、２はポリテトラフロロエチレンで
コートされた表面圧縮バーである。これはモーター１１
で移動する。
３は表面圧変化を測定するためのプレートで、表面圧検
出はプレートの重さを測定する電子天秤４を用い、ｗｉ
ｌｔｈｅ１ｍｙ型で行なっている。
出はプレートの重さを測定する電子天秤４を用い、ｗｉ
ｌｔｈｅ１ｍｙ型で行なっている。
５は本発明の有機薄膜製造装置に具備するペルチェ素子
で上部水槽及び下部放熱槽６と密着している。この場合
アルミニウム製放熱槽を用いペルチェ素子からの熱放出
を吸収するようになっており、放熱槽内部はひれ状構造
で水により熱交換される。
で上部水槽及び下部放熱槽６と密着している。この場合
アルミニウム製放熱槽を用いペルチェ素子からの熱放出
を吸収するようになっており、放熱槽内部はひれ状構造
で水により熱交換される。
ペルチェ素子は合計４０個で直列４個接続し、これをｌ
θ個並列にして電源１６と接続されている。また、ペル
チェ素子はＢ１−Ｔｅ系を用いている。
θ個並列にして電源１６と接続されている。また、ペル
チェ素子はＢ１−Ｔｅ系を用いている。
１５は熱電対で水温測定用である。７は基板ホルダーで
、基板の上下は８の°モーターで、前後、左右は９．１
０のモーターで制御される。以下、本装置を用いた有ａ
薄膜の製造例を説明する。
、基板の上下は８の°モーターで、前後、左右は９．１
０のモーターで制御される。以下、本装置を用いた有ａ
薄膜の製造例を説明する。
まず、ステアリン酸をクロロホルムに溶解し濃度１．０
ｇ／ｌの展開溶媒を調整し、この溶液を１８℃で２．５
Ｘ１０−ＡＭのＣｄＣＩＬｚを含む５００シの水溶液上
に少峨滴下し、クロロホルムを蒸発させた後、バー２を
移動させ表面張力を２０ｄｙｎ／ｃ＋ｓに調整した。
ｇ／ｌの展開溶媒を調整し、この溶液を１８℃で２．５
Ｘ１０−ＡＭのＣｄＣＩＬｚを含む５００シの水溶液上
に少峨滴下し、クロロホルムを蒸発させた後、バー２を
移動させ表面張力を２０ｄｙｎ／ｃ＋ｓに調整した。
表面張力を一定に保ちながらペルチェ素子に２ＯＡ（１
個ちり４ｖ、２Ａ）電流を流し水温を４０℃にした。こ
の時、要した時間は２０分であった。水温を４０℃に２
０分保ち、次にペルチェ素子に加熱時とは逆方向に電流
を流し水槽を１８℃に冷却した。
個ちり４ｖ、２Ａ）電流を流し水温を４０℃にした。こ
の時、要した時間は２０分であった。水温を４０℃に２
０分保ち、次にペルチェ素子に加熱時とは逆方向に電流
を流し水槽を１８℃に冷却した。
この時、要した時間は１５分であった。
この膜を表面張力を２０ｄｙｎ／ｃＩ１１に保ちながら
、金電極を設けたＳｉ基板を１ ｍｍ／＋ｏｉｎの基板
スピードで上下させ３層移し取った。この膜の上に金電
極を蒸着（面積１ｃ＋ｍ２）Ｌ、抵抗を測定したところ
ｔｏ＋６Ω＃ｃｆｆｉテあツタ。
、金電極を設けたＳｉ基板を１ ｍｍ／＋ｏｉｎの基板
スピードで上下させ３層移し取った。この膜の上に金電
極を蒸着（面積１ｃ＋ｍ２）Ｌ、抵抗を測定したところ
ｔｏ＋６Ω＃ｃｆｆｉテあツタ。
実施例２
実施例１の装置に赤外光光源としてセラミックスヒータ
ー１２を水面上に、金コーティングシャッター１３を水
槽と光源の間に設置した。
ー１２を水面上に、金コーティングシャッター１３を水
槽と光源の間に設置した。
次に、実施例１と同様にステアリン酸を展開し、表面張
力を２０ｄｙｎ／ｃｍ一定に保ちながら、ベルチェ素子
に２ＯＡ（１個当り４ｖ、２Ａ）電流を流し、同時に放
射体の温度を２００℃設定し、水温を４０℃にした。こ
の時、要した時間は１０分であった。水温を４０℃に２
０分保ち、次にベルチェ素子に加熱時とは逆方向に電流
を流し水槽を１８℃に冷却した。この時、要した時間は
１５分であった。
力を２０ｄｙｎ／ｃｍ一定に保ちながら、ベルチェ素子
に２ＯＡ（１個当り４ｖ、２Ａ）電流を流し、同時に放
射体の温度を２００℃設定し、水温を４０℃にした。こ
の時、要した時間は１０分であった。水温を４０℃に２
０分保ち、次にベルチェ素子に加熱時とは逆方向に電流
を流し水槽を１８℃に冷却した。この時、要した時間は
１５分であった。
この膜を表面張力を２０ｄｙｎ／ｃ＋ｓに保ちながら、
金電極を設けたＳｉ基板を１ ａｍ／ｓｉｎの基板スピ
ードで上下させ、３層移し取った。この膜の上に金電極
を蒸着（面積１ｃ１１２）Ｌ、抵抗を測定したところ１
０１６Ω・Ｃ１１であった。
金電極を設けたＳｉ基板を１ ａｍ／ｓｉｎの基板スピ
ードで上下させ、３層移し取った。この膜の上に金電極
を蒸着（面積１ｃ１１２）Ｌ、抵抗を測定したところ１
０１６Ω・Ｃ１１であった。
比較例
ステアリン酸をクロロホルムに溶解し濃度１．０ｇ／４
の展開溶媒を調整し、この溶液を１８℃で２．５ＸＩＯ
−４ＭのＣａＣｕ５を含む５００シの水溶液上に少量滴
下し、クロロホルムを蒸発させた後、バー２を移動させ
表面張力を２０ｄｙｎ／ｃ■に調整した。
の展開溶媒を調整し、この溶液を１８℃で２．５ＸＩＯ
−４ＭのＣａＣｕ５を含む５００シの水溶液上に少量滴
下し、クロロホルムを蒸発させた後、バー２を移動させ
表面張力を２０ｄｙｎ／ｃ■に調整した。
表面張力を一定に保ちながら下部水槽にサーキュレータ
を用いて水を循環させ水温を４０℃にした。この時、表
面張力は±５ ｄｙｎ／ｃｍで変化し、要した時間は２
時間であった。
を用いて水を循環させ水温を４０℃にした。この時、表
面張力は±５ ｄｙｎ／ｃｍで変化し、要した時間は２
時間であった。
水温を４０℃に２０分保ち、次にサーキュレータで４０
℃の水を１８℃に冷却し水槽を冷却した。この時、要し
た時間は４時間であった。また、この時も表面張力が±
５ ｄｆｆｎ／ｃ＋ｓで変化した。
℃の水を１８℃に冷却し水槽を冷却した。この時、要し
た時間は４時間であった。また、この時も表面張力が±
５ ｄｆｆｎ／ｃ＋ｓで変化した。
この膜を表面張力を２０ｄｙｎ／ｃ■に保ちながら、金
電極を設けたＳｉ基板を１ ａｍ／ｓｉｎの基板スピー
ドで上下させ３層移し取った。この膜には縞模様があり
、金電極を蒸着（面積１ｅａ２）Ｌ抵抗を測定したとこ
ろ１０８〜１０１′Ω・Ｃ■の範囲でばらつきがあった
。
電極を設けたＳｉ基板を１ ａｍ／ｓｉｎの基板スピー
ドで上下させ３層移し取った。この膜には縞模様があり
、金電極を蒸着（面積１ｅａ２）Ｌ抵抗を測定したとこ
ろ１０８〜１０１′Ω・Ｃ■の範囲でばらつきがあった
。
発明の効果
本発明によれば、無振動かつ短時間で均一に水槽の温度
（有機材料の温度）制御を可能とする有機薄膜製造装置
を提供することが出来る。
（有機材料の温度）制御を可能とする有機薄膜製造装置
を提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
図面はいずれも本発明の実施例を示すもので、第１図は
装置全体を示す斜視図、第２図は水面上からの赤外光照
射を示す説明図、第３図は赤外光の反射照射を示した説
明図、第４図はベルチェ素子を模型的に示した説明図で
ある。 １ＩＩＩＩ・水槽、２・・・バー、３・・拳プレート、
４・６拳電子天秤、５・拳・ベルチェ素子、６・・・放
熱槽、７・−・基板ホルダー、８・・・上下モーター、
９．１０・・・Ｘ−Ｙモーター１１−・・圧縮駆動モー
ター、１２・・・赤外光光源、１３・−台金コーティン
グシャッター、１４・・・金コーティング反射ミラー、
１５・ａ＃熱電対、１６・・・直流電源、１７・・・ア
ルミナ板、１８０畳・電極、１８・・・Ｎ型素子、２０
・・・Ｐ型素子。
装置全体を示す斜視図、第２図は水面上からの赤外光照
射を示す説明図、第３図は赤外光の反射照射を示した説
明図、第４図はベルチェ素子を模型的に示した説明図で
ある。 １ＩＩＩＩ・水槽、２・・・バー、３・・拳プレート、
４・６拳電子天秤、５・拳・ベルチェ素子、６・・・放
熱槽、７・−・基板ホルダー、８・・・上下モーター、
９．１０・・・Ｘ−Ｙモーター１１−・・圧縮駆動モー
ター、１２・・・赤外光光源、１３・−台金コーティン
グシャッター、１４・・・金コーティング反射ミラー、
１５・ａ＃熱電対、１６・・・直流電源、１７・・・ア
ルミナ板、１８０畳・電極、１８・・・Ｎ型素子、２０
・・・Ｐ型素子。
Claims (2)
- （１）水面上に有機材料を展開し薄膜とする有機薄膜製
造装置において、水槽の加熱及び冷却用のペルチェ素子
を水槽に設置して成る有機薄膜製造装置。 - （２）請求項１の装置に水面への加熱源として赤外光を
照射する赤外光照射装置を付加した有機薄膜製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63261377A JPH06220B2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | 有機薄膜製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63261377A JPH06220B2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | 有機薄膜製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02111470A true JPH02111470A (ja) | 1990-04-24 |
| JPH06220B2 JPH06220B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=17361001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63261377A Expired - Lifetime JPH06220B2 (ja) | 1988-10-19 | 1988-10-19 | 有機薄膜製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06220B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100318151B1 (ko) * | 1998-07-25 | 2002-04-22 | 김동호 | 클럽의이중샤프트 |
| EP3034158A1 (de) * | 2014-12-17 | 2016-06-22 | Universität Potsdam | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung ultradüner Filme |
| JP2016156843A (ja) * | 2016-06-07 | 2016-09-01 | シャープ株式会社 | 生体分子分析装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5298038A (en) * | 1976-02-11 | 1977-08-17 | Commissariat Energie Atomique | Method and apparatus for depositing monomolecular layer of bimediophilic molecular on substrate |
| JPS6227069A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 固体状単分子膜形成装置 |
| JPS63224759A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-09-19 | Takashi Sasaki | 対流循環槽の連続成膜装置 |
-
1988
- 1988-10-19 JP JP63261377A patent/JPH06220B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5298038A (en) * | 1976-02-11 | 1977-08-17 | Commissariat Energie Atomique | Method and apparatus for depositing monomolecular layer of bimediophilic molecular on substrate |
| JPS6227069A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 固体状単分子膜形成装置 |
| JPS63224759A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-09-19 | Takashi Sasaki | 対流循環槽の連続成膜装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100318151B1 (ko) * | 1998-07-25 | 2002-04-22 | 김동호 | 클럽의이중샤프트 |
| EP3034158A1 (de) * | 2014-12-17 | 2016-06-22 | Universität Potsdam | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung ultradüner Filme |
| JP2016156843A (ja) * | 2016-06-07 | 2016-09-01 | シャープ株式会社 | 生体分子分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06220B2 (ja) | 1994-01-05 |
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