JPH02115559U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH02115559U JPH02115559U JP2318389U JP2318389U JPH02115559U JP H02115559 U JPH02115559 U JP H02115559U JP 2318389 U JP2318389 U JP 2318389U JP 2318389 U JP2318389 U JP 2318389U JP H02115559 U JPH02115559 U JP H02115559U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid nitrogen
- discharge pipe
- pipe
- supply valve
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
第１図は本考案の実施例を示す概略図、第２図
は従来の液体窒素供給装置を示す概略図である。 １……液体窒素容器、２……液体窒素トラツプ
、４……加圧弁、５……吐出管、６……気体供給
弁、７……温度検出器、８……受槽、９……制御
部、１０……気体流出管。
は従来の液体窒素供給装置を示す概略図である。 １……液体窒素容器、２……液体窒素トラツプ
、４……加圧弁、５……吐出管、６……気体供給
弁、７……温度検出器、８……受槽、９……制御
部、１０……気体流出管。
Claims (1)
- スパツタリング装置・真空蒸着装置等の真空装
置に於いて、液体窒素容器から液体窒素トラツプ
に液体窒素を供給する液体窒素供給部と、該液体
窒素トラツプから溢出した液体窒素を溜める受槽
と、液体窒素トラツプと該受槽とを接続する吐出
管と、該吐出管への気体の流出を制御する気体供
給弁と、該吐出管の途中から分岐し他端を気体供
給弁に接続された気体噴射管と、該噴出管の途中
に設けられ、先端を該吐出管内に突出した温度検
出器と、該温度検出器の温度変化によつて液体窒
素供給部及び気体供給弁を制御する制御部とから
成る液体窒素供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2318389U JPH02115559U (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2318389U JPH02115559U (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02115559U true JPH02115559U (ja) | 1990-09-17 |
Family
ID=31241959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2318389U Pending JPH02115559U (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02115559U (ja) |
-
1989
- 1989-02-28 JP JP2318389U patent/JPH02115559U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2056691A1 (en) | Control system for liquefied gas container | |
| JPS6328998U (ja) | ||
| JPH02115558U (ja) | ||
| JPS63102698U (ja) | ||
| JPH03124100U (ja) | ||
| JPH0457257U (ja) | ||
| JPH0310399Y2 (ja) | ||
| JPH0441447U (ja) | ||
| JPS60156986U (ja) | シヤワ−付低温多湿流動空気解凍装置 | |
| JPH0435594U (ja) | ||
| JPH01137762U (ja) | ||
| JPS63102697U (ja) | ||
| JPS62130762U (ja) | ||
| JPS6328999U (ja) | ||
| JPH02112774U (ja) | ||
| JPS6413463U (ja) | ||
| JPS61114197U (ja) | ||
| JPS62199597U (ja) | ||
| JPS58161299U (ja) | 低温液化ガス流出装置 | |
| JPH01149964U (ja) | ||
| JPS6227300U (ja) | ||
| JPS61186787U (ja) | ||
| JPS6311368U (ja) | ||
| JPS6383444U (ja) | ||
| JPS5914611U (ja) | 治療用の極低温液化ガス自動昇圧装置 |