JPH02116183A - パルスレーザ発振装置 - Google Patents
パルスレーザ発振装置Info
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- JPH02116183A JPH02116183A JP26806288A JP26806288A JPH02116183A JP H02116183 A JPH02116183 A JP H02116183A JP 26806288 A JP26806288 A JP 26806288A JP 26806288 A JP26806288 A JP 26806288A JP H02116183 A JPH02116183 A JP H02116183A
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- JP
- Japan
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- capacitor
- saturable reactor
- pulse compression
- circuit
- current
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- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
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- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
- Generation Of Surge Voltage And Current (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、高出力パルスレーザ発振装置に関するもので
、特にその磁気パルス圧縮回路の動作を安定化しレーザ
出力の安定化を図るものである。
、特にその磁気パルス圧縮回路の動作を安定化しレーザ
出力の安定化を図るものである。
(従来の技術)
近年、大出力TEA、TEMA−CO2レーザを始め、
エキシマレーザ、銅蒸気レーザ等、各種パルスレーザの
産業への使用が検討されている。
エキシマレーザ、銅蒸気レーザ等、各種パルスレーザの
産業への使用が検討されている。
これらのレーザには高速、大電流、パルス電源が要求さ
れるようになってきた。こうした電源では大電流を開閉
するスイッチ素子の電力負担が極めて大きいため、現在
用いられているスイッチ素子、例えばサイラトロン、サ
イリスタ等では開閉動作が不可能な場合が多い。また、
パルスレーザには動作遅れ時間が小さく(数十n5eC
以下)、しかも長寿命(108シヨツト程度以上)であ
ることが要求されるので、実用となるスイッチ素子は殆
どない状況にある。
れるようになってきた。こうした電源では大電流を開閉
するスイッチ素子の電力負担が極めて大きいため、現在
用いられているスイッチ素子、例えばサイラトロン、サ
イリスタ等では開閉動作が不可能な場合が多い。また、
パルスレーザには動作遅れ時間が小さく(数十n5eC
以下)、しかも長寿命(108シヨツト程度以上)であ
ることが要求されるので、実用となるスイッチ素子は殆
どない状況にある。
そこで、最近では、パルス圧縮回路を付加することによ
りスイッチ素子の電力負担を低減して、高速、大電流、
高出力パルス電源を実現する方法が試みられており、そ
の代表例として磁気パルス圧縮回路が存在している。こ
の磁気パルス圧縮回路は鉄心等の強磁性体の磁化の飽和
を利用したものである。(例えば、Japanese
Journal of AppliedPhysics
Vol、 Na1l、 1985. ppL855−
L857゜”Pu1sed CO2La5er P
umped by an All 5olid
−5tate Magnetic Excitar”に
示された方式)第6図にこの様な磁気パルス圧縮回路の
回路例を示す。
りスイッチ素子の電力負担を低減して、高速、大電流、
高出力パルス電源を実現する方法が試みられており、そ
の代表例として磁気パルス圧縮回路が存在している。こ
の磁気パルス圧縮回路は鉄心等の強磁性体の磁化の飽和
を利用したものである。(例えば、Japanese
Journal of AppliedPhysics
Vol、 Na1l、 1985. ppL855−
L857゜”Pu1sed CO2La5er P
umped by an All 5olid
−5tate Magnetic Excitar”に
示された方式)第6図にこの様な磁気パルス圧縮回路の
回路例を示す。
第6図におい・て、充電電源1は充電抵抗2を介して第
1のコンデンサ3と接続され、第1のコンデンサ3には
第2.第3のコンデンサ4.5が並列に接続されている
。第1.第2のコンデンサ3゜4の間には、第1の可飽
和リアクトル6が直列に接続され、第2.第3のコンデ
ンサ4,5の間には、第2の可飽和リアクトル7が直列
に接続されている。第3のコンデンサ5には、第3の可
飽和リアクトル8が直列に接続され、これを介して、レ
ーザ放電部9が並列に接続されている。以上のような構
成により、第1のコンデンサ3から第1の可飽和リアク
トル6を介して第2のコンデンサ4に至る第1段のルー
プと、第2のコンデンサ4から第2の可飽和リアクトル
7を介して第3のコンデンサ5に至る第2段のループと
、第3のコンデンサ5から第3の可飽和リアクトル8を
介してレーザ放電部9に至る第3段のループとがそれぞ
れ形成されている。また、第1のコンデンサ3と第1の
可飽和リアクトル6との間には、スイッチ10により開
閉自在とされている。この様な構成を有する第6図の回
路の動作は以下のようである。
1のコンデンサ3と接続され、第1のコンデンサ3には
第2.第3のコンデンサ4.5が並列に接続されている
。第1.第2のコンデンサ3゜4の間には、第1の可飽
和リアクトル6が直列に接続され、第2.第3のコンデ
ンサ4,5の間には、第2の可飽和リアクトル7が直列
に接続されている。第3のコンデンサ5には、第3の可
飽和リアクトル8が直列に接続され、これを介して、レ
ーザ放電部9が並列に接続されている。以上のような構
成により、第1のコンデンサ3から第1の可飽和リアク
トル6を介して第2のコンデンサ4に至る第1段のルー
プと、第2のコンデンサ4から第2の可飽和リアクトル
7を介して第3のコンデンサ5に至る第2段のループと
、第3のコンデンサ5から第3の可飽和リアクトル8を
介してレーザ放電部9に至る第3段のループとがそれぞ
れ形成されている。また、第1のコンデンサ3と第1の
可飽和リアクトル6との間には、スイッチ10により開
閉自在とされている。この様な構成を有する第6図の回
路の動作は以下のようである。
先ず、充電電源1から充電抵抗2を介して第1のコンデ
ンサ3を充電する。ここでスイッチ10を投入すると第
1のコンデンサ3の極間電圧は、第1の可飽和リアクト
ル6と第2のコンデンサ4の直列回路に加わる。このと
き、第2のコンデンサ4には電荷が蓄えられておちず、
第2のコンデンサ4の極間電圧はほぼ零であるため、第
1の可飽和リアクトル6の極間に第1のコンデンサ3の
極間電圧がほぼ全部加わり、この結果、第1の可飽和リ
アクトル6の極間に僅かな電流12が流れる。
ンサ3を充電する。ここでスイッチ10を投入すると第
1のコンデンサ3の極間電圧は、第1の可飽和リアクト
ル6と第2のコンデンサ4の直列回路に加わる。このと
き、第2のコンデンサ4には電荷が蓄えられておちず、
第2のコンデンサ4の極間電圧はほぼ零であるため、第
1の可飽和リアクトル6の極間に第1のコンデンサ3の
極間電圧がほぼ全部加わり、この結果、第1の可飽和リ
アクトル6の極間に僅かな電流12が流れる。
この電流12は、第1の可飽和リアクトル6を励磁し、
ある値以上で第1の可飽和リアクトル6の鉄心内磁束密
度が飽和磁束密度以上になり、第1の可飽和リアクトル
6は飽和状態になる。すると、第1の可飽和リアクトル
6のインダクタンスが急激に低下するため、第1のコン
デンサ3から飽和状態の第1の可飽和リアクトル6を介
して電流12が流れ、第2のコンデンサ4を充電する。
ある値以上で第1の可飽和リアクトル6の鉄心内磁束密
度が飽和磁束密度以上になり、第1の可飽和リアクトル
6は飽和状態になる。すると、第1の可飽和リアクトル
6のインダクタンスが急激に低下するため、第1のコン
デンサ3から飽和状態の第1の可飽和リアクトル6を介
して電流12が流れ、第2のコンデンサ4を充電する。
ここで、第1段のループを流れる電流12の周波数は、
第1のコンデンサ3の容量値、飽和時の第1の可飽和リ
アクトル6のインダクタンス値、及び第2のコンデンサ
4の容量値でほぼ決まる。続いて、第2のコンデンサ4
の極間電圧゛が上昇すると共に、第2の可飽和リアクト
ル7の極間に電圧が加わって、第2の可飽和リアクトル
7に電流13が流れ飽和に至る。このとき、第2のコン
デンサ4の電荷は第3のコンデンサ5に転移する。第3
の可飽和リアクトル8の動作も同様である。
第1のコンデンサ3の容量値、飽和時の第1の可飽和リ
アクトル6のインダクタンス値、及び第2のコンデンサ
4の容量値でほぼ決まる。続いて、第2のコンデンサ4
の極間電圧゛が上昇すると共に、第2の可飽和リアクト
ル7の極間に電圧が加わって、第2の可飽和リアクトル
7に電流13が流れ飽和に至る。このとき、第2のコン
デンサ4の電荷は第3のコンデンサ5に転移する。第3
の可飽和リアクトル8の動作も同様である。
ここで、各可飽和リアクトル6−7を流れる各段の電流
12−14の周波数を順に高めるために第1゜第2.第
3の可飽和リアクトル6−8の非飽和時及び飽和時のイ
ンダクタンスを順次小さくする方法が取られている。ま
た、各コンデンサに蓄えられたエネルギを効率よく後段
のコンデンサに伝達するために、各段のコンデンサ容量
を等しくし、可飽和リアクトル12−14の値を順次小
さくしていく方法がなされる。この方法では、各段のル
ープの電圧は一定であり、第7図(A)ないしくC)に
示すように各段のループを流れる電流12−14の波高
値が順次増幅され、周波数が高められてゆく。そして、
磁気パルス圧縮された最終段のループの電流14は、負
荷であるレーザ放電部9に流れ、レーザ発振を起こさせ
る。以上述べた可飽和リアク1−ルの飽和、非飽和の動
作過程を、第8図を用いて次に説明する。なお、第8図
は、可飽和リアクトルを構成する鉄心の磁化曲線を示す
グラフである。
12−14の周波数を順に高めるために第1゜第2.第
3の可飽和リアクトル6−8の非飽和時及び飽和時のイ
ンダクタンスを順次小さくする方法が取られている。ま
た、各コンデンサに蓄えられたエネルギを効率よく後段
のコンデンサに伝達するために、各段のコンデンサ容量
を等しくし、可飽和リアクトル12−14の値を順次小
さくしていく方法がなされる。この方法では、各段のル
ープの電圧は一定であり、第7図(A)ないしくC)に
示すように各段のループを流れる電流12−14の波高
値が順次増幅され、周波数が高められてゆく。そして、
磁気パルス圧縮された最終段のループの電流14は、負
荷であるレーザ放電部9に流れ、レーザ発振を起こさせ
る。以上述べた可飽和リアク1−ルの飽和、非飽和の動
作過程を、第8図を用いて次に説明する。なお、第8図
は、可飽和リアクトルを構成する鉄心の磁化曲線を示す
グラフである。
まず、可飽和リアクトルの前段のコンデンサから励磁電
流が流れると、可飽和リアクトルの鉄心の動作点は、第
8図の中心0点から0点に向かって移動する。励磁電流
により動作点が0点に達すると可飽和リアクトルの鉄心
内の磁束密度が飽和磁束密度以上になり、可飽和リアク
トルは飽和状態となる。このとき、可飽和リアクトルの
インダクタンスが急激に低下するため、前段のコンデン
サから飽和状態にある可飽和リアクト−ルを介して、電
流が後段のコンデンサに流れ込み、これを充電する。こ
のように可飽和リアクトルが飽和している時の鉄心の動
作点は0点よりもはるかに磁化力Hの大きいところにあ
るが、電流の減少と共に磁化力Hの小さい方に移動して
■点に至り、鉄心は飽和状態から非飽和状態になる。こ
のとき、可飽和リアクトルのインダクタンスが急激に増
加するので、可飽和リアクトルを流れる電流は急激に減
少する。半周期後電流が零になったときの動作点は■点
になり、ここで停止して残留磁気が残ることになる。
流が流れると、可飽和リアクトルの鉄心の動作点は、第
8図の中心0点から0点に向かって移動する。励磁電流
により動作点が0点に達すると可飽和リアクトルの鉄心
内の磁束密度が飽和磁束密度以上になり、可飽和リアク
トルは飽和状態となる。このとき、可飽和リアクトルの
インダクタンスが急激に低下するため、前段のコンデン
サから飽和状態にある可飽和リアクト−ルを介して、電
流が後段のコンデンサに流れ込み、これを充電する。こ
のように可飽和リアクトルが飽和している時の鉄心の動
作点は0点よりもはるかに磁化力Hの大きいところにあ
るが、電流の減少と共に磁化力Hの小さい方に移動して
■点に至り、鉄心は飽和状態から非飽和状態になる。こ
のとき、可飽和リアクトルのインダクタンスが急激に増
加するので、可飽和リアクトルを流れる電流は急激に減
少する。半周期後電流が零になったときの動作点は■点
になり、ここで停止して残留磁気が残ることになる。
ところで、■点に鉄心の動作点がある状態で再びスイッ
チ10を投入すると、鉄心の動作点は、■から■の方向
に移動するが、この場合の磁束変化量は小さいため非飽
和時の可飽和リアクトルのインダクタンスが充分大きく
なり得す磁気パルス圧縮はほとんど行えなくなる。そこ
で、−旦磁気パルス圧縮を行った後は、鉄心の動作点を
第8図中の0点から■魚を介して再び中心点0点に戻す
、いわゆる磁気リセットを行い、再び同じレベルの磁気
パルス圧縮を行えるようにしている。即ち、従来の回路
では第6図中の16−1.8に示すように上記のような
磁気リセットを行うリセット装置を設けている。磁気リ
セットにはいくつかの方法があるがもっとも簡単なもの
に直流電流を逆方向に鉄心の動作点が0点になるように
、流しておくものがある。この直流を流す方法によれば
磁気パルス圧縮動作を行った後に鉄心の動作点は■にな
るがこの状態でつぎの磁気パルス圧縮動作を行うと、磁
束変化は0点から行うよりも大きく取れるので圧縮率が
高くできるのでこの方法が採用されている。
チ10を投入すると、鉄心の動作点は、■から■の方向
に移動するが、この場合の磁束変化量は小さいため非飽
和時の可飽和リアクトルのインダクタンスが充分大きく
なり得す磁気パルス圧縮はほとんど行えなくなる。そこ
で、−旦磁気パルス圧縮を行った後は、鉄心の動作点を
第8図中の0点から■魚を介して再び中心点0点に戻す
、いわゆる磁気リセットを行い、再び同じレベルの磁気
パルス圧縮を行えるようにしている。即ち、従来の回路
では第6図中の16−1.8に示すように上記のような
磁気リセットを行うリセット装置を設けている。磁気リ
セットにはいくつかの方法があるがもっとも簡単なもの
に直流電流を逆方向に鉄心の動作点が0点になるように
、流しておくものがある。この直流を流す方法によれば
磁気パルス圧縮動作を行った後に鉄心の動作点は■にな
るがこの状態でつぎの磁気パルス圧縮動作を行うと、磁
束変化は0点から行うよりも大きく取れるので圧縮率が
高くできるのでこの方法が採用されている。
(発明が解決しようとする課題)
一般に電気回路を構成する素子には動作中に僅かではあ
るが電力損失を生じる。パルスレーザの磁気パルス圧縮
回路においても例外でなく幾らかの電力損失がありそれ
にともない回路素子そのものの温度上昇がもたらされる
場合がある。温度上昇があるとコンデンサ内に用いられ
ている誘電体にはその誘電率の変化するものがあり、そ
のために次ぎに述べるような不具合を生じる場合がある
。
るが電力損失を生じる。パルスレーザの磁気パルス圧縮
回路においても例外でなく幾らかの電力損失がありそれ
にともない回路素子そのものの温度上昇がもたらされる
場合がある。温度上昇があるとコンデンサ内に用いられ
ている誘電体にはその誘電率の変化するものがあり、そ
のために次ぎに述べるような不具合を生じる場合がある
。
例えばコンデンサの容量が温度の上昇にともない減少す
るようなことがあると、前述したように磁気パルス圧縮
回路中の各ループの電流周波数が高くなり、初期の状態
と回路の状態が異なってしまい各飽和リアクトルの動作
タイミングがずれてしまう危険性があった。またそれぞ
れの段毎に温度上昇の程度が異なったりするとエネルギ
の伝達損失が大きくなりレーザの運転に支障の生じる場
合があった。
るようなことがあると、前述したように磁気パルス圧縮
回路中の各ループの電流周波数が高くなり、初期の状態
と回路の状態が異なってしまい各飽和リアクトルの動作
タイミングがずれてしまう危険性があった。またそれぞ
れの段毎に温度上昇の程度が異なったりするとエネルギ
の伝達損失が大きくなりレーザの運転に支障の生じる場
合があった。
本発明では、以上説明したような温度上昇に原因する不
具合を起こさない磁気パルス圧縮回路を備えた安定度の
高い高出力のパルスレーザ発振装置を提供することを目
的とする。
具合を起こさない磁気パルス圧縮回路を備えた安定度の
高い高出力のパルスレーザ発振装置を提供することを目
的とする。
(課題を解決するための手段および作用)以上述べた技
術的課題を分析した結果、これらを解決するためには磁
気パルス圧縮回路中の電力損失に原因する温度上昇によ
る回路素子の値の変化をおさえるか、値の変化を他の素
子の変化で補償するか、あるいは回路の動作条件を変え
るか。
術的課題を分析した結果、これらを解決するためには磁
気パルス圧縮回路中の電力損失に原因する温度上昇によ
る回路素子の値の変化をおさえるか、値の変化を他の素
子の変化で補償するか、あるいは回路の動作条件を変え
るか。
また、あるいは温度上昇そのものを抑えることが必要で
あることが分かった。
あることが分かった。
(実施例)
以下本発明の具体的な実施例について説明する。
第1図(A)は実施例の回路図であり、第1図(B)は
実施例において用いるコンデンサの温度特性を説明する
図表である。本実施例では、第1図(A)において装置
の各部に使用されているコンデンサが複数のコンデンサ
を直列に接続したものになっておりそのコンデンサのう
ち一部3’、 4’、 5’は第1図(B)に示すよう
に温度と共にその容量が増加するもの19’、他の3’
、 4’、 5’は温度と共にその容量が減少するもの
19′を組み合わせたものになっている。回路動作その
ものは基本的には従来技術の説明で述べたものと同一で
あるのでここでは詳細は省略する。
実施例において用いるコンデンサの温度特性を説明する
図表である。本実施例では、第1図(A)において装置
の各部に使用されているコンデンサが複数のコンデンサ
を直列に接続したものになっておりそのコンデンサのう
ち一部3’、 4’、 5’は第1図(B)に示すよう
に温度と共にその容量が増加するもの19’、他の3’
、 4’、 5’は温度と共にその容量が減少するもの
19′を組み合わせたものになっている。回路動作その
ものは基本的には従来技術の説明で述べたものと同一で
あるのでここでは詳細は省略する。
この様に磁気パルス圧縮回路を構成すると周辺の温度上
昇が生じても各ループにおいては等価的にコンデンサ容
量が変化しないので、磁気パルス圧縮回路の動作時にお
ける各ループの周波数は初期に設定した値のまま変化す
ることがなく常に同じ状態で運転することが可能となる
。
昇が生じても各ループにおいては等価的にコンデンサ容
量が変化しないので、磁気パルス圧縮回路の動作時にお
ける各ループの周波数は初期に設定した値のまま変化す
ることがなく常に同じ状態で運転することが可能となる
。
従って、レーザの運転状況が常に一定となり安定したレ
ーザ発振が得られることがわかる。
ーザ発振が得られることがわかる。
第2図(A)は第2の実施例の回路図、第2図(B)は
実施例において用いるインダクタンス素子の温度特性の
説明をする図表、第2図(C)は具体的なインダクタン
スの構成例の一例である6本実施例では、第2図(A)
において装置の各部に使用されている可飽和リアクトル
が可変インダクタンスを付加的に直列接続したものにな
っておりそのインダクタンスの6’、7’、8’は第2
図(B)に示すように温度と共にその値が増加するもの
20となっている。回路動作そのものは従来技術の説明
で述べたものと基本的には同一であるのでここでは詳細
は省略する。第2図(C)に示した具体的なインダクタ
ンス素子の構造は伸縮自在に作られたインダクタンス素
子21の両端を温度による伸び縮みする例えばバイメタ
ル様の材料によりできた部材22による固定されており
インダクタンスの長さしが温度により自由に変化するも
のである。インダクタンスの長さしが変化するとインダ
クタンス構成コイルの差交磁束が変化しインダクタンス
の値が変化する。
実施例において用いるインダクタンス素子の温度特性の
説明をする図表、第2図(C)は具体的なインダクタン
スの構成例の一例である6本実施例では、第2図(A)
において装置の各部に使用されている可飽和リアクトル
が可変インダクタンスを付加的に直列接続したものにな
っておりそのインダクタンスの6’、7’、8’は第2
図(B)に示すように温度と共にその値が増加するもの
20となっている。回路動作そのものは従来技術の説明
で述べたものと基本的には同一であるのでここでは詳細
は省略する。第2図(C)に示した具体的なインダクタ
ンス素子の構造は伸縮自在に作られたインダクタンス素
子21の両端を温度による伸び縮みする例えばバイメタ
ル様の材料によりできた部材22による固定されており
インダクタンスの長さしが温度により自由に変化するも
のである。インダクタンスの長さしが変化するとインダ
クタンス構成コイルの差交磁束が変化しインダクタンス
の値が変化する。
この様に磁気パルス圧縮回路を構成すると周辺の温度上
昇が生じても各ループにおいてはコンデンサ容量が変化
した部分だけ付加しであるインダクタンスの値が変化し
、その結果、磁気パルス圧縮回路の動作時における各ル
ープの周波数は初期に設定した値のまま変化することが
なく常に同じ状態で運転することが可能となる。
昇が生じても各ループにおいてはコンデンサ容量が変化
した部分だけ付加しであるインダクタンスの値が変化し
、その結果、磁気パルス圧縮回路の動作時における各ル
ープの周波数は初期に設定した値のまま変化することが
なく常に同じ状態で運転することが可能となる。
従って、レーザの運転状況が常に一定となり安定したレ
ーザ発振が得られることがわかる。
ーザ発振が得られることがわかる。
第3図(A)は第3の実施例の回路図、第3図(B)は
実施例において用いる可飽和リアクトルを構成する鉄心
の磁化特性曲線を示すグラフである。本実施例では、第
3図(A)において装置の各部に使用されている可飽和
リアクトルのリセット用の回路16.17.18が出力
電流を可変でき周囲温度の上昇に合わせて電流値を増加
するように構成しである。回路動作そのものは従来技術
の説明で述べたものと基本的には同一であるのでここで
は詳細は省略する。
実施例において用いる可飽和リアクトルを構成する鉄心
の磁化特性曲線を示すグラフである。本実施例では、第
3図(A)において装置の各部に使用されている可飽和
リアクトルのリセット用の回路16.17.18が出力
電流を可変でき周囲温度の上昇に合わせて電流値を増加
するように構成しである。回路動作そのものは従来技術
の説明で述べたものと基本的には同一であるのでここで
は詳細は省略する。
第3図(B)においてリセット電流12が増加してリセ
ット電流12′になると可飽和リアクトルの動作点は■
から■′に移る。磁気パルス圧縮回路の動作時には■か
ら■に至り■を通り過ぎて可飽和リアクトルが飽和し動
作を行うが、スタートの■が■′ に変わることにより
動作時間を遅くすることができる。この様に磁気パルス
圧縮回路を構成すると周辺の温度上昇が生じて各ループ
においてコンデンサ容量が減少するように変化すると格
段のループの動作時間が早い方向に変化するがリセット
電流を調整することにより動作時間を調整できることが
分かる。その結果、磁気パルス圧縮回路の動作時におけ
る各ループの動作時間は初期に設定した値のまま変化す
ることがなく常に同じ状態で運転することが可能となる
。
ット電流12′になると可飽和リアクトルの動作点は■
から■′に移る。磁気パルス圧縮回路の動作時には■か
ら■に至り■を通り過ぎて可飽和リアクトルが飽和し動
作を行うが、スタートの■が■′ に変わることにより
動作時間を遅くすることができる。この様に磁気パルス
圧縮回路を構成すると周辺の温度上昇が生じて各ループ
においてコンデンサ容量が減少するように変化すると格
段のループの動作時間が早い方向に変化するがリセット
電流を調整することにより動作時間を調整できることが
分かる。その結果、磁気パルス圧縮回路の動作時におけ
る各ループの動作時間は初期に設定した値のまま変化す
ることがなく常に同じ状態で運転することが可能となる
。
従って、レーザの運転状況が常に一定となり安定したレ
ーザ発振が得られることがわかる。
ーザ発振が得られることがわかる。
第4の実施例を第4図に示す。本実施例においては磁気
パルス圧縮回路全体を冷却可能な絶縁油23を満たした
タンク24に収納しである。絶縁油23は油循環ポンプ
25により強制循環され磁気パルス圧縮回路で生じた熱
は熱交換器26にて処理され絶縁油は冷却される。回路
動作そのものは従来技術の説明で述べたものと基本的に
は同一であるのでここでは詳細は省略する。
パルス圧縮回路全体を冷却可能な絶縁油23を満たした
タンク24に収納しである。絶縁油23は油循環ポンプ
25により強制循環され磁気パルス圧縮回路で生じた熱
は熱交換器26にて処理され絶縁油は冷却される。回路
動作そのものは従来技術の説明で述べたものと基本的に
は同一であるのでここでは詳細は省略する。
また、本発明の第5の具体的な実施例は第5図のように
タンク24からの導出端子をブッシング27により取り
出すことにより本発明の効果がより確実なものとなる。
タンク24からの導出端子をブッシング27により取り
出すことにより本発明の効果がより確実なものとなる。
この様に磁気パルス圧縮回路を油中に納め冷却すると電
力損失による温度上昇が生じても直ちに冷却されるので
各ループにおいてコンデンサ容量などの変化が生じるこ
とないので磁気パルス圧縮回路の動作時における各ルー
プの周波数は初期に設定した値のまま変化することがな
く常に同じ状態で運転することが可能となる。
力損失による温度上昇が生じても直ちに冷却されるので
各ループにおいてコンデンサ容量などの変化が生じるこ
とないので磁気パルス圧縮回路の動作時における各ルー
プの周波数は初期に設定した値のまま変化することがな
く常に同じ状態で運転することが可能となる。
従って、レーザの運転状況が常に一定となり安定したレ
ーザ発振が得られることがわかる。
ーザ発振が得られることがわかる。
以上説明したように本発明によれば、パルスレーザ発振
装置において、その磁気パルス圧縮回路の動作を安定化
しレーザ出力の安定化を図ることができる。
装置において、その磁気パルス圧縮回路の動作を安定化
しレーザ出力の安定化を図ることができる。
第1図(A)は第1の実施例の回路図、第1図(B)は
第1の実施例において用いるコンデンサの温度特性の説
明をする図表、第2図(A)は第2の実施例の回路図、
第2図(B)は第2の実施例において用いるインダクタ
ンス素子の温度特性の説明をする図表、第2図(C)は
具体的なインダクタンスの構成例の一例を示す斜視図、
第3図(A)は第3の実施例の回路図、第3図(B)は
第3の実施例において用いる可飽和リアクトルを構成す
る鉄心の磁化特性曲線を示すグラフ、第4図は第4の実
施例を示す正面図、第5図は第5の実施例を示す正面図
、第6図→は従来の磁気パルス圧縮回路の回7
(^)、 (9ン、 こC)路図、第→図←h→→
〒−斗は磁気パルス圧縮回を 路の動作を示す特性図、第争図は、可飽和リアクトルを
構成する鉄心の磁化曲線を示すグラフである。 1・・・充電電源 2・・・充電抵抗 3・・・第1のコンデンサ 4・・・第2のコンデンサ 5・・・第3のコンデンサ 6・・・第1の可飽和リアク 7・・・第2の可飽和リアク 8・・・第3の可飽和リアク 9・・・レーザ放電部 10・・・スイッチ 12、13.14・・・電流
第1の実施例において用いるコンデンサの温度特性の説
明をする図表、第2図(A)は第2の実施例の回路図、
第2図(B)は第2の実施例において用いるインダクタ
ンス素子の温度特性の説明をする図表、第2図(C)は
具体的なインダクタンスの構成例の一例を示す斜視図、
第3図(A)は第3の実施例の回路図、第3図(B)は
第3の実施例において用いる可飽和リアクトルを構成す
る鉄心の磁化特性曲線を示すグラフ、第4図は第4の実
施例を示す正面図、第5図は第5の実施例を示す正面図
、第6図→は従来の磁気パルス圧縮回路の回7
(^)、 (9ン、 こC)路図、第→図←h→→
〒−斗は磁気パルス圧縮回を 路の動作を示す特性図、第争図は、可飽和リアクトルを
構成する鉄心の磁化曲線を示すグラフである。 1・・・充電電源 2・・・充電抵抗 3・・・第1のコンデンサ 4・・・第2のコンデンサ 5・・・第3のコンデンサ 6・・・第1の可飽和リアク 7・・・第2の可飽和リアク 8・・・第3の可飽和リアク 9・・・レーザ放電部 10・・・スイッチ 12、13.14・・・電流
Claims (1)
- コンデンサと、このコンデンサから入力された電流を、
その時間幅を圧縮して出力する可飽和リアクトルとから
なる磁気パルス圧縮回路を有するパルスレーザ発振装置
において磁気圧縮回路の回路要素の大きさを周辺の温度
に合わせて変化させたことを特徴とするパルスレーザ発
振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26806288A JPH02116183A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | パルスレーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26806288A JPH02116183A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | パルスレーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02116183A true JPH02116183A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17453361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26806288A Pending JPH02116183A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | パルスレーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02116183A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023285028A1 (de) * | 2021-07-12 | 2023-01-19 | Trumpf Laser Gmbh | Pulsmodifikationsvorrichtung mit einer passiven umsetzungseinrichtung zur kompensation von umgebungseinflüssen |
-
1988
- 1988-10-26 JP JP26806288A patent/JPH02116183A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023285028A1 (de) * | 2021-07-12 | 2023-01-19 | Trumpf Laser Gmbh | Pulsmodifikationsvorrichtung mit einer passiven umsetzungseinrichtung zur kompensation von umgebungseinflüssen |
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