JPH02118023A - 電気用途鋼の磁区を細分化する方法 - Google Patents
電気用途鋼の磁区を細分化する方法Info
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- JPH02118023A JPH02118023A JP14926989A JP14926989A JPH02118023A JP H02118023 A JPH02118023 A JP H02118023A JP 14926989 A JP14926989 A JP 14926989A JP 14926989 A JP14926989 A JP 14926989A JP H02118023 A JPH02118023 A JP H02118023A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）産業上の利用分野
本発明は、電気用鋼、特に電気用鋼のシート又はストリ
ップの磁壁間隔を細分化することによってコアロスを改
善する方法に関するものであるや（２）従来の技術 従来結晶粒配向珪素別は、電カドランス、配電トランス
、全電気などのような電気機器に用いられている６与え
られる磁界の周期的反転に対してわずかのエネルギー…
失しかもたらさないことが、この銅材に要求される最も
重要な特性である。したがって「コアロス」と呼ばれる
この）ｎ失を減少することが望まれる。
ップの磁壁間隔を細分化することによってコアロスを改
善する方法に関するものであるや（２）従来の技術 従来結晶粒配向珪素別は、電カドランス、配電トランス
、全電気などのような電気機器に用いられている６与え
られる磁界の周期的反転に対してわずかのエネルギー…
失しかもたらさないことが、この銅材に要求される最も
重要な特性である。したがって「コアロス」と呼ばれる
この）ｎ失を減少することが望まれる。
結晶粒配向珪素鋼の製造において、ミラー指数（１１０
） ［００１１のゴスニ次再結晶組織は磁気特性、特に
透磁率及びコアロスを非配向珪素鋼より向上することが
知られている。ゴス組織とは、結晶粒又は結晶がキュー
ブオンエツジ位置に配された体心立方格子をいう。この
形のＭｉ襟又は結晶粒の方位は、立方格子の１陵が圧延
方向と平行でかつ圧延面内にあり、（１１０）面がシー
ト面内にある。よく知られたように、この配位を有する
鋼は圧延方向には比較的高い透磁率を持ち、圧延と直角
方向には比較的低い透磁率を持つ特性がある。
） ［００１１のゴスニ次再結晶組織は磁気特性、特に
透磁率及びコアロスを非配向珪素鋼より向上することが
知られている。ゴス組織とは、結晶粒又は結晶がキュー
ブオンエツジ位置に配された体心立方格子をいう。この
形のＭｉ襟又は結晶粒の方位は、立方格子の１陵が圧延
方向と平行でかつ圧延面内にあり、（１１０）面がシー
ト面内にある。よく知られたように、この配位を有する
鋼は圧延方向には比較的高い透磁率を持ち、圧延と直角
方向には比較的低い透磁率を持つ特性がある。
結晶粒配向珪素鋼の製造は通常次のような工程で行われ
る＝２〜４，５χＳｉの組成の溶鋼を用意し、これを鋳
造し、熱間圧延し、２段以上の冷間圧延を行うときは中
間焼鈍を行って最終寸法たとえば７〜１４ミル（０，１
７８〜０．３５６ｍｍ）、典型的には７又は９ミル（０
，１７８又は０．２２９ｍ、）まで冷間圧延し、その鋼
を脱炭し、酸化マグネシウム皮膜のような耐火性酸化物
のベース皮膜を付し、そして望ましい二次再結晶を行わ
せかつ窒素や硫黄のような不純物を除去するため高温で
最終Ｍｉ織焼鈍を行う。キューブオンエツジ配向の発達
は二次再結晶の機構に依存し、再結晶過程において二次
キューブオンエツジ配向結晶粒は異なったかつ望ましく
ない方位を持った一次結晶粒から選択的に成長する。
る＝２〜４，５χＳｉの組成の溶鋼を用意し、これを鋳
造し、熱間圧延し、２段以上の冷間圧延を行うときは中
間焼鈍を行って最終寸法たとえば７〜１４ミル（０，１
７８〜０．３５６ｍｍ）、典型的には７又は９ミル（０
，１７８又は０．２２９ｍ、）まで冷間圧延し、その鋼
を脱炭し、酸化マグネシウム皮膜のような耐火性酸化物
のベース皮膜を付し、そして望ましい二次再結晶を行わ
せかつ窒素や硫黄のような不純物を除去するため高温で
最終Ｍｉ織焼鈍を行う。キューブオンエツジ配向の発達
は二次再結晶の機構に依存し、再結晶過程において二次
キューブオンエツジ配向結晶粒は異なったかつ望ましく
ない方位を持った一次結晶粒から選択的に成長する。
ここで用いる「シートＪ又は「ストラング」の語は、特
に断わりのない限り互換的かつ同義に用いる。
に断わりのない限り互換的かつ同義に用いる。
過去の多くの研究者の努力によって、キューブオンエツ
ジ結晶粒配向珪素鋼は通常二つの基本的なカテゴリーに
分類されることが知られている。
ジ結晶粒配向珪素鋼は通常二つの基本的なカテゴリーに
分類されることが知られている。
一つは普通形結晶粒配向珪素鋼で、もう一つは高透磁車
形結晶粒配向珪素鋼である。普通形結晶粒配向珪素鋼は
、公称９ミル（０，２２９ｍｍ）材料で、ｆｆｌ界強度
１０エルステッド（Ｏｅ） （７９６Ａ／−において透
磁率１８５０未満、磁束密度１．５テスラ（Ｔ）、周波
数６０ヘルツ（Ｈｚ）においてコアロス０．４００ワツ
ト／ポンド（ＷＰＰ） （０，８８Ｗ／ｋｇ）を越える
のが一般的特性である。高透磁率形結晶粒配向珪素畑は
より高い透磁率を持つもので、この特性は組成の変化の
みによって又は製造工程の変化と組み合わせて得ること
ができる。たとえば、高透磁串形珪素鋼は、窒化物、硫
化物、及び／又はほう化物を含有することがあり、これ
らは最Ｐ、鋼製品の特性を左右するインヒビターである
析出物及び介在物として寄与する。更に、このような高
透磁串形珪素鋼は通常最終寸法までの冷間加工を受け、
結晶粒配向を好適に行うために８０％を越えるような高
い減面率の冷間加工が行われる。このような高透磁率材
料は望ましいものであるが、この種の材料は通常の材料
よりも大きい磁区を形成しかうである。一般に大きい磁
区はコアロスに対して有害である。
形結晶粒配向珪素鋼である。普通形結晶粒配向珪素鋼は
、公称９ミル（０，２２９ｍｍ）材料で、ｆｆｌ界強度
１０エルステッド（Ｏｅ） （７９６Ａ／−において透
磁率１８５０未満、磁束密度１．５テスラ（Ｔ）、周波
数６０ヘルツ（Ｈｚ）においてコアロス０．４００ワツ
ト／ポンド（ＷＰＰ） （０，８８Ｗ／ｋｇ）を越える
のが一般的特性である。高透磁率形結晶粒配向珪素畑は
より高い透磁率を持つもので、この特性は組成の変化の
みによって又は製造工程の変化と組み合わせて得ること
ができる。たとえば、高透磁串形珪素鋼は、窒化物、硫
化物、及び／又はほう化物を含有することがあり、これ
らは最Ｐ、鋼製品の特性を左右するインヒビターである
析出物及び介在物として寄与する。更に、このような高
透磁串形珪素鋼は通常最終寸法までの冷間加工を受け、
結晶粒配向を好適に行うために８０％を越えるような高
い減面率の冷間加工が行われる。このような高透磁率材
料は望ましいものであるが、この種の材料は通常の材料
よりも大きい磁区を形成しかうである。一般に大きい磁
区はコアロスに対して有害である。
電気用鋼の磁区サイズすなわちコアロス値を減少させる
一つの方法は、鋼表面に局部歪を誘起するような何らか
の処理を行うことであることが知られている。この処理
は一般にｒケガキ（ｓｃｒｉｂｉｎｇ）による磁区細分
化」と呼ばれており、最終の高温焼鈍の後に行われる。
一つの方法は、鋼表面に局部歪を誘起するような何らか
の処理を行うことであることが知られている。この処理
は一般にｒケガキ（ｓｃｒｉｂｉｎｇ）による磁区細分
化」と呼ばれており、最終の高温焼鈍の後に行われる。
鋼が最ｓｕＭｉ織焼鈍の後にケガキを付されると、Ｍｉ
織焼鈍されたシートに磁壁間隔が減少するような局部応
力状態が誘起される。
織焼鈍されたシートに磁壁間隔が減少するような局部応
力状態が誘起される。
この乱れは典型的には比較的狭い直線状、すなわちケガ
キ線状を呈し、通常一定間隔に形成される。
キ線状を呈し、通常一定間隔に形成される。
このケガキ線は、圧延方向を実質的に横切る方向であり
典型的には鋼の１表面にだけ形成される。
典型的には鋼の１表面にだけ形成される。
これらの電気用鋼を用いてトランスを製造する場合、そ
の工程中で切断、曲げ、及びコアの形成が行われるが、
これらはいずれも材料中に望ましくない応力を与えるた
め、鋼のコアロス品質が幾分劣化することが避けられな
い。コア積層式トランスの製造工程においては、特に米
国の電カドランスでは、製造に起因するコアロス品質の
劣化はそれほどひどくはないので、使用特性を回復する
ための応力除去焼鈍（ＳＩ？Ａ）は必須ではない。、こ
のような最終用途に対しては、ＳＲＡを受ける必要のな
い平坦な磁区細分化珪素鋼が用いられる。いいかえれば
、この目的に用いるケガキを付された鋼には耐熱性のあ
る磁区細分化を必要としない。
の工程中で切断、曲げ、及びコアの形成が行われるが、
これらはいずれも材料中に望ましくない応力を与えるた
め、鋼のコアロス品質が幾分劣化することが避けられな
い。コア積層式トランスの製造工程においては、特に米
国の電カドランスでは、製造に起因するコアロス品質の
劣化はそれほどひどくはないので、使用特性を回復する
ための応力除去焼鈍（ＳＩ？Ａ）は必須ではない。、こ
のような最終用途に対しては、ＳＲＡを受ける必要のな
い平坦な磁区細分化珪素鋼が用いられる。いいかえれば
、この目的に用いるケガキを付された鋼には耐熱性のあ
る磁区細分化を必要としない。
しかし、米国における大部分の配電トランスの製造にお
いては、鋼ストリップは切断され各種の曲げや成形加工
が行われ、電カドランスにおけるよりずっと多い加工応
力が生じる。このような場合には、応力を除去するため
にＳＲＡを行うことが必要であり、また−船釣である。
いては、鋼ストリップは切断され各種の曲げや成形加工
が行われ、電カドランスにおけるよりずっと多い加工応
力が生じる。このような場合には、応力を除去するため
にＳＲＡを行うことが必要であり、また−船釣である。
ＳＲＡの過程で、機械的又は熱的ケガキのようなケガキ
法によって得られたコアロスに対する利点が失われるこ
とが見いだされている。このような最終用途に対しては
、ケガキによって得られたコアロス値の改善を維持する
ために、耐熱性の磁区細分化（ＨＩＩＤＲ）が要求され
要望される。
法によって得られたコアロスに対する利点が失われるこ
とが見いだされている。このような最終用途に対しては
、ケガキによって得られたコアロス値の改善を維持する
ために、耐熱性の磁区細分化（ＨＩＩＤＲ）が要求され
要望される。
先行特許において、不純物（汚染物； ｃｏｎｔａｍｉ
−ｎａｎ Ｌｓ）又は侵入成分が結晶粒配向珪素鋼の磁
壁間隔を細分化するのに有効となり得ることが示されて
いる。 Ｔａｋａｓｈｉｎａらによる米国特許３，９９
０，９２３（１９７６年１１月９日）は、−人世結晶し
た珪素鋼における二次再結晶粒の成長を制御又は阻止す
るのに化学的処理が用い得ることを開示している。英国
特許出願２．１６７、３２４Ａは、結晶粒配向珪素鋼の
磁区をＳＲ八に耐えるように分割する方法を開示してい
る。この方法は、シートに歪を与え、該結晶粒配向シー
ト上に侵入成分を形成し、この侵入成分は電気用鋼と異
なった組成又は組織を持ちその形成は加歪の前又は後に
行い、その後たとえば水素還元雰囲気下で焼鈍して侵入
成分を鋼内に付与するものである。侵入材料として、数
多い金属及び非金属が特定されている。
−ｎａｎ Ｌｓ）又は侵入成分が結晶粒配向珪素鋼の磁
壁間隔を細分化するのに有効となり得ることが示されて
いる。 Ｔａｋａｓｈｉｎａらによる米国特許３，９９
０，９２３（１９７６年１１月９日）は、−人世結晶し
た珪素鋼における二次再結晶粒の成長を制御又は阻止す
るのに化学的処理が用い得ることを開示している。英国
特許出願２．１６７、３２４Ａは、結晶粒配向珪素鋼の
磁区をＳＲ八に耐えるように分割する方法を開示してい
る。この方法は、シートに歪を与え、該結晶粒配向シー
ト上に侵入成分を形成し、この侵入成分は電気用鋼と異
なった組成又は組織を持ちその形成は加歪の前又は後に
行い、その後たとえば水素還元雰囲気下で焼鈍して侵入
成分を鋼内に付与するものである。侵入材料として、数
多い金属及び非金属が特定されている。
特開昭６１〜１３３３２１号公報は、最終組織焼鈍した
磁性鋼シートから表面皮膜を取り除き、該シートに透磁
性材料の皮膜を形成し、そして熱処理を行って、鋼マト
リクス２異なる組成又は組織の物質を間欠的に形成させ
て耐熱性の磁区細分化を得ることを開示している。
磁性鋼シートから表面皮膜を取り除き、該シートに透磁
性材料の皮膜を形成し、そして熱処理を行って、鋼マト
リクス２異なる組成又は組織の物質を間欠的に形成させ
て耐熱性の磁区細分化を得ることを開示している。
特開昭６１〜１３９−６７９号公報は、最終組織焼鈍し
た配向磁性鋼に、りん酸、りん酸塩、はう酸、はう酸塩
、硫酸塩、硝酸塩、及び珪酸塩の群から選ばれた少なく
とも一つの化合物によって、線状又は点状の間欠的皮膜
を付し、その後３００〜１２００℃で焼成し、そして鋼
と異なる侵入体を形成して磁区を細分化する工程を開示
している。
た配向磁性鋼に、りん酸、りん酸塩、はう酸、はう酸塩
、硫酸塩、硝酸塩、及び珪酸塩の群から選ばれた少なく
とも一つの化合物によって、線状又は点状の間欠的皮膜
を付し、その後３００〜１２００℃で焼成し、そして鋼
と異なる侵入体を形成して磁区を細分化する工程を開示
している。
特開昭６１〜２８４５２９号公報は、最終組織焼鈍した
磁性鋼シートから間欠的に表面皮膜を取り除き、亜鉛、
亜鉛合金、及び亜鉛添加合金の内１種以上を特定重量だ
け被覆し、亜鉛より蒸気圧の低い１種以上の金属を被覆
し、熱処理又は絶縁フィルム被覆処理によって鋼と組成
又は組織の異なる浸透体を形成して磁区を細分化する方
法を開示している。
磁性鋼シートから間欠的に表面皮膜を取り除き、亜鉛、
亜鉛合金、及び亜鉛添加合金の内１種以上を特定重量だ
け被覆し、亜鉛より蒸気圧の低い１種以上の金属を被覆
し、熱処理又は絶縁フィルム被覆処理によって鋼と組成
又は組織の異なる浸透体を形成して磁区を細分化する方
法を開示している。
特公昭第６２−５１２０２号公報は、最終焼鈍後に形成
されるフォルステライト皮膜を除去し、銅、ニッケル、
アンチモンのような異種金属を加熱によって付着させて
、珪素鋼のコアロスを改善する工程を開示している。
されるフォルステライト皮膜を除去し、銅、ニッケル、
アンチモンのような異種金属を加熱によって付着させて
、珪素鋼のコアロスを改善する工程を開示している。
（３）発明が解決しようとする課題
ここで必要としているのは、たとえばフォルステライト
の耐熱性あるベース皮膜を有する結晶粒配向珪素鋼の磁
壁間隔を細分化する方法である。
の耐熱性あるベース皮膜を有する結晶粒配向珪素鋼の磁
壁間隔を細分化する方法である。
その方法は、普通形及び高透磁率形珪素日の従来の処理
と両立できるものであるべきであり、かつ磁区細分化を
容易にするためシート上にたとえばフォルステライトベ
ース皮膜の熱絶縁皮膜を用いるべきである。更にその方
法は、ベース皮膜を所定のパターンに除去するための従
来方法を含む数多い技術を用いて行えるものでなければ
ならない。
と両立できるものであるべきであり、かつ磁区細分化を
容易にするためシート上にたとえばフォルステライトベ
ース皮膜の熱絶縁皮膜を用いるべきである。更にその方
法は、ベース皮膜を所定のパターンに除去するための従
来方法を含む数多い技術を用いて行えるものでなければ
ならない。
（４） ！１題を解決するための手段ａ、総論
本発明は、特許請求の範囲に記した方法及び鋼シート又
はストリップ半製品を提供するものである。
はストリップ半製品を提供するものである。
本発明において、広義には、！！！！緑ベース皮膜を有
する結晶粒配向珪素鋼シート又はストリップのｉｆｆ壁
間隔を細分化する、次の手順を含む方法を提供するもの
である：下部珪素鋼を線状パターンに露出させるために
ベース皮膜の一部を除去し、そして該珪素鋼に金属付加
物を与える。該金属付加物は、銅、すず、ニッケル、亜
鉛又はアンチモン、又はそれらのｋｍ合せ若しくは化合
物であってよい。
する結晶粒配向珪素鋼シート又はストリップのｉｆｆ壁
間隔を細分化する、次の手順を含む方法を提供するもの
である：下部珪素鋼を線状パターンに露出させるために
ベース皮膜の一部を除去し、そして該珪素鋼に金属付加
物を与える。該金属付加物は、銅、すず、ニッケル、亜
鉛又はアンチモン、又はそれらのｋｍ合せ若しくは化合
物であってよい。
露出された綱は熱及び塑性応力の無いもので、かつ有効
に磁区細分化されるのにそれら応力に依存しないもので
ある。該鋼及びその上の付加物は、次いで付加物を十分
に、そして所定の陵だけ露出鋼内へ拡散させるために、
保護雰囲気中１４００″Ｆ（７６０℃）以上で焼鈍され
、それによって実質的に無応力の鋼内に耐熱性磁区細分
化及びコアロス減少を惹起させるような永久空孔の線を
形成する。
に磁区細分化されるのにそれら応力に依存しないもので
ある。該鋼及びその上の付加物は、次いで付加物を十分
に、そして所定の陵だけ露出鋼内へ拡散させるために、
保護雰囲気中１４００″Ｆ（７６０℃）以上で焼鈍され
、それによって実質的に無応力の鋼内に耐熱性磁区細分
化及びコアロス減少を惹起させるような永久空孔の線を
形成する。
本発明の一態様において、りん又は珪酸塩、又はそれら
の組合せ若しくは化合物の遮薇皮膜が、上記金属付加物
付与に先だってベース皮膜を保護するために鋼シートに
付される。
の組合せ若しくは化合物の遮薇皮膜が、上記金属付加物
付与に先だってベース皮膜を保護するために鋼シートに
付される。
ｂ、詳論
広義には、本発明の方法は、表面の制御された化学的付
加（化学的汚染； ｃｈｅｍｉｃａｌ ｃｏｎＬａｎ＋
１ｎａｔ−４ｏｎ）によって、比較的大きい結晶粒を有
する結晶粒配向珪素鋼の磁区構造を細分化する方法に関
するものである０本方法は、電気的及び熱的′ＭＡ縁皮
膜を適宜に有する、最終組織焼鈍された珪素鋼を出発シ
ート材料とし、数多くある方法のいずれかによって皮膜
を部分的に除去して裸の金属を露出させるものである。
加（化学的汚染； ｃｈｅｍｉｃａｌ ｃｏｎＬａｎ＋
１ｎａｔ−４ｏｎ）によって、比較的大きい結晶粒を有
する結晶粒配向珪素鋼の磁区構造を細分化する方法に関
するものである０本方法は、電気的及び熱的′ＭＡ縁皮
膜を適宜に有する、最終組織焼鈍された珪素鋼を出発シ
ート材料とし、数多くある方法のいずれかによって皮膜
を部分的に除去して裸の金属を露出させるものである。
金属上にいかなる種類の塑性歪又は応力も誘起する必要
がなく、上記処理の後、露出した裸金属はその露出パタ
ーンの領域に他の物質が付加される。この綱は引き続い
て焼鈍され、付加物質を鉄−珪素鋼シート製品内に拡散
又は合金させる。この結果生しだ磁区細分化は、ＳＲＡ
に耐えるような耐熱性を持つ。
がなく、上記処理の後、露出した裸金属はその露出パタ
ーンの領域に他の物質が付加される。この綱は引き続い
て焼鈍され、付加物質を鉄−珪素鋼シート製品内に拡散
又は合金させる。この結果生しだ磁区細分化は、ＳＲＡ
に耐えるような耐熱性を持つ。
本発明の出発材料は、絶縁皮ｌｌりを適宜に有する最終
組織焼鈍された結晶粒配向珪素鋼である。該絶縁皮膜は
、通常のベース皮膜であってよく、この皮膜はまたフォ
ルステライト又はミルガラス皮膜と呼ばれている。好ま
しくは、ケガキを付されたままの最終組織焼鈍結晶粒配
向珪素鋼が用いられる。該鋼は、普通形若しくは通常の
結晶粒配向珪素鋼又は高透磁串形結晶粒配向珪素鋼であ
ってよい。これらの鋼の特定組成は本発明にとって重要
ではなく、通常の組成であってよい、ここで用いられた
鋼は次の初期公称成分を侍つ：旦 ｆｌ 傾 Ｓ
Ｓｉ 並 旦 ヒ鋼１．０３０ ＜５０ｐ
ｐａ＋ 、０３８ ．０１７ ３．１５ ．３０ １
０ｐｐＨ残り鋼２．０３０ ５０ｐｐｍ＋ 、０７
．０２２ ３．１５ ．２２ − 残り１２．
０３８ ４５ｐｐＩ１１．０７８ ．０２６ ３．２５
．２５５５−６ｐｐ残り鋼１は高透磁串形結晶粒配向
珪素鋼、鋼２は普通形の結晶粒配向珪素鋼、鋼３は変更
した普通形結晶粒配向珪素鋼である。ここでは、特に断
わらない限りすべての組成は重量％である。
組織焼鈍された結晶粒配向珪素鋼である。該絶縁皮膜は
、通常のベース皮膜であってよく、この皮膜はまたフォ
ルステライト又はミルガラス皮膜と呼ばれている。好ま
しくは、ケガキを付されたままの最終組織焼鈍結晶粒配
向珪素鋼が用いられる。該鋼は、普通形若しくは通常の
結晶粒配向珪素鋼又は高透磁串形結晶粒配向珪素鋼であ
ってよい。これらの鋼の特定組成は本発明にとって重要
ではなく、通常の組成であってよい、ここで用いられた
鋼は次の初期公称成分を侍つ：旦 ｆｌ 傾 Ｓ
Ｓｉ 並 旦 ヒ鋼１．０３０ ＜５０ｐ
ｐａ＋ 、０３８ ．０１７ ３．１５ ．３０ １
０ｐｐＨ残り鋼２．０３０ ５０ｐｐｍ＋ 、０７
．０２２ ３．１５ ．２２ − 残り１２．
０３８ ４５ｐｐＩ１１．０７８ ．０２６ ３．２５
．２５５５−６ｐｐ残り鋼１は高透磁串形結晶粒配向
珪素鋼、鋼２は普通形の結晶粒配向珪素鋼、鋼３は変更
した普通形結晶粒配向珪素鋼である。ここでは、特に断
わらない限りすべての組成は重量％である。
綱１．２及び３は、次のようにして製作した：鋳造し、
熱間圧延し、焼ならしを行い、２段以上の冷間圧延を行
うときは中間焼鈍を行って最終寸法まで冷間圧延し、脱
戻し、ｎｇｏ皮膜を付し、そしてキューブオンエツジ配
向の望まれる二次再結晶を得るために最終組織焼鈍を行
った。脱炭の後に、高温の最終組織焼鈍に先だって初期
は酸化マグネシウムを含む耐火性酸化物皮膜を付したが
、これは焼鈍によって鋼表面で反応してフォルステライ
トベース皮膜を形成する。鋼１．２及び３は、初期は上
記の公称成分を持つが、最終組織焼鈍の後は、Ｃ，Ｎ及
びＳは約０．００１％以下の微量レベルまで減少する。
熱間圧延し、焼ならしを行い、２段以上の冷間圧延を行
うときは中間焼鈍を行って最終寸法まで冷間圧延し、脱
戻し、ｎｇｏ皮膜を付し、そしてキューブオンエツジ配
向の望まれる二次再結晶を得るために最終組織焼鈍を行
った。脱炭の後に、高温の最終組織焼鈍に先だって初期
は酸化マグネシウムを含む耐火性酸化物皮膜を付したが
、これは焼鈍によって鋼表面で反応してフォルステライ
トベース皮膜を形成する。鋼１．２及び３は、初期は上
記の公称成分を持つが、最終組織焼鈍の後は、Ｃ，Ｎ及
びＳは約０．００１％以下の微量レベルまで減少する。
本発明によれば、下部の珪素付が線状又は縞状に露出さ
れるように皮膜の一部分を除去することが重要である。
れるように皮膜の一部分を除去することが重要である。
皮膜除去操作によって下部の５：４が８ｇ機械的熱的、
又は他の応力及び歪を受ける必要がないことを除いては
、皮膜除去の方法は本発明にとって重要ではない。いい
かえれば、露出された鋼は金属付加を行うどの工程の前
にも、いかなる熱的及び塑性的応力もあってはならない
。本発明の一つの利点は、ベース皮膜の特定部分を除去
するのに各種のどんな方法を用いてもよいことである。
又は他の応力及び歪を受ける必要がないことを除いては
、皮膜除去の方法は本発明にとって重要ではない。いい
かえれば、露出された鋼は金属付加を行うどの工程の前
にも、いかなる熱的及び塑性的応力もあってはならない
。本発明の一つの利点は、ベース皮膜の特定部分を除去
するのに各種のどんな方法を用いてもよいことである。
たとえば、従来の機械的ケガキ又はレーザ法がストリッ
プ表面に特定のパターンを形成するのに用いられる。ベ
ース皮膜除去の線状又は縞状パターンは、従来技術のケ
ガキ法で用いられる通常パターンでよい。好ましくは、
皮膜除去パターンは一般的に平行でかつ箕１の圧延方向
を実質的に横切る方向を持ち、線の幅及び間隔は従来ど
うりでよい。結晶粒配向珪素鋼がキューブオンエツジ、
キューブオンフェース、又は他の配向を持つかによって
、他のパターンも有用となり得る。
プ表面に特定のパターンを形成するのに用いられる。ベ
ース皮膜除去の線状又は縞状パターンは、従来技術のケ
ガキ法で用いられる通常パターンでよい。好ましくは、
皮膜除去パターンは一般的に平行でかつ箕１の圧延方向
を実質的に横切る方向を持ち、線の幅及び間隔は従来ど
うりでよい。結晶粒配向珪素鋼がキューブオンエツジ、
キューブオンフェース、又は他の配向を持つかによって
、他のパターンも有用となり得る。
本発明によれば、露出された泪は選ばれた金属又は金属
合金によってメツキ又は被覆される。金属は珪素鋼中の
鉄よりも拡散速度の遅いものを選ぶのが好ましい。本発
明で適切な金属及び金属合金は、付加物又は拡散物質と
呼ばれる。こごでは、「ｌη染物」 （又は「付加物Ｊ
； （ｏｎｔａｍｉｎａｎｔ）とは本発明によって鋼
の露出領域に選択的に付加されるある種の適切な金属及
び金属合金をいう。銅、すず、ニッケル、亜鉛又はアン
チモン、又はそれらの組合せ若しくは化合物から選ばれ
た各種金属付加物を用いられることが見いだされている
。これら金属付加物は、非電気的沈着又は電気メツキの
ような各種の従来方法を用いて、珪素鋼に皮膜として付
加されてよい。ベース皮膜の絶縁性のために、金属付加
物はベース皮膜除去のパターンどうりの線状又は縞状に
のみ付加される。この点で重要なことは、珪素鋼上のベ
ースガラス絶縁が金属付加物をあらかしめ定めたパター
ンに選択的に付加させることである。
合金によってメツキ又は被覆される。金属は珪素鋼中の
鉄よりも拡散速度の遅いものを選ぶのが好ましい。本発
明で適切な金属及び金属合金は、付加物又は拡散物質と
呼ばれる。こごでは、「ｌη染物」 （又は「付加物Ｊ
； （ｏｎｔａｍｉｎａｎｔ）とは本発明によって鋼
の露出領域に選択的に付加されるある種の適切な金属及
び金属合金をいう。銅、すず、ニッケル、亜鉛又はアン
チモン、又はそれらの組合せ若しくは化合物から選ばれ
た各種金属付加物を用いられることが見いだされている
。これら金属付加物は、非電気的沈着又は電気メツキの
ような各種の従来方法を用いて、珪素鋼に皮膜として付
加されてよい。ベース皮膜の絶縁性のために、金属付加
物はベース皮膜除去のパターンどうりの線状又は縞状に
のみ付加される。この点で重要なことは、珪素鋼上のベ
ースガラス絶縁が金属付加物をあらかしめ定めたパター
ンに選択的に付加させることである。
ベース皮膜の特定部分を除去し、金属付加物を付加した
珪素鋼は、その後ある時間及び温度で保護雰囲気中で焼
鈍され、耐熱性磁区細分化及び減少コアロスを得るだめ
の永久空孔形成に十分な、かつ制御された量の付加物を
露出鋼中に拡散させる。この焼鈍は拡散焼鈍の効果を持
ち、それによって金属付加物が鉄−珪素鋼シートと少量
の合金を作り、耐熱性の磁区細分化を行う。焼鈍温度は
約１４００°Ｆ（７６０℃）以上の範囲で、２１００°
Ｆ （１１５０℃）までにわたってよい。好ましくは、
温度範囲は１８００°Ｆ（９８２℃）以下で、より好ま
しくは約１４００〜１７００″Ｆ （７６０〜９２７℃
）の範囲である。
珪素鋼は、その後ある時間及び温度で保護雰囲気中で焼
鈍され、耐熱性磁区細分化及び減少コアロスを得るだめ
の永久空孔形成に十分な、かつ制御された量の付加物を
露出鋼中に拡散させる。この焼鈍は拡散焼鈍の効果を持
ち、それによって金属付加物が鉄−珪素鋼シートと少量
の合金を作り、耐熱性の磁区細分化を行う。焼鈍温度は
約１４００°Ｆ（７６０℃）以上の範囲で、２１００°
Ｆ （１１５０℃）までにわたってよい。好ましくは、
温度範囲は１８００°Ｆ（９８２℃）以下で、より好ま
しくは約１４００〜１７００″Ｆ （７６０〜９２７℃
）の範囲である。
焼鈍温度は、後に行われるＳＲＡのようなより低温の処
理によって、発生した特性効果が失われないように、少
なくとも普通行われるＳＲＡ温度と等しいか又はそれよ
り高い温度が望ましい。いいかえれば、コアロスの改善
は耐熱性の磁区細分化の結果によるものである。焼鈍時
間は、２０時間までの範囲がよく、好ましくは磁区細分
化を行うに十分な温度で３０分〜５時間の範囲がよい。
理によって、発生した特性効果が失われないように、少
なくとも普通行われるＳＲＡ温度と等しいか又はそれよ
り高い温度が望ましい。いいかえれば、コアロスの改善
は耐熱性の磁区細分化の結果によるものである。焼鈍時
間は、２０時間までの範囲がよく、好ましくは磁区細分
化を行うに十分な温度で３０分〜５時間の範囲がよい。
実用面からいえば、拡散焼鈍はトランスの製造で用いら
れる通常のＳＲへの約１４２５°Ｆ（７７４℃）より高
い温度で行うべきである。 １６５０″Ｆ （８９９℃
）の近辺が、焼鈍中に隣合うコイルランプが溶接される
のを防ぐための分離皮膜追加を行わないで、耐熱性るｎ
区側分化を得るのに十分である。より低い温度の焼鈍も
有効である。
れる通常のＳＲへの約１４２５°Ｆ（７７４℃）より高
い温度で行うべきである。 １６５０″Ｆ （８９９℃
）の近辺が、焼鈍中に隣合うコイルランプが溶接される
のを防ぐための分離皮膜追加を行わないで、耐熱性るｎ
区側分化を得るのに十分である。より低い温度の焼鈍も
有効である。
知られているように、軟質磁性材料にとっては実質的に
完全な均質性が強く望まれる条件である。
完全な均質性が強く望まれる条件である。
適当な時間と温度は永久空孔を発達させると共に安定化
させ、鋼中に付加物を更に拡散させて、鋼の板厚全体に
わたって実質的に均一な鋼シートを作る。一般に、高温
で焼鈍するほど均一性が増す。
させ、鋼中に付加物を更に拡散させて、鋼の板厚全体に
わたって実質的に均一な鋼シートを作る。一般に、高温
で焼鈍するほど均一性が増す。
本発明におりる焼鈍に関しては、ストリップは金属付加
物付加に続いてコイルの形で焼鈍しても、また連続送給
して焼鈍してもよい。
物付加に続いてコイルの形で焼鈍しても、また連続送給
して焼鈍してもよい。
本発明をよりよく理解するために、次に例を提示する。
特に注記しなければ、以下の例で用いた金属付加物は第
１表に記したメツキ液から選ばれ、電気メツキによって
付加した。
１表に記したメツキ液から選ばれ、電気メツキによって
付加した。
第 １ 表
４仁にヒ金Ａ Ｉ■ＬＧ１１ｄ生すず
硫酸第一すず ８０ｇｍ／ｆｆｉ硫酸 ５２
ｄ／ｆ 室温 ステンレス又はすず陽極 −０，＋２５八／ ｉｎ” （１，９４Ａ／ｄｍ”）；
１ 分ニッケル 硫酸二ンケル ３２８ｇＩ＋
＋／Ｆ！塩化ニソゲル ６０ｇｌ１／乏 はう酸 ２１１ｇｍ／ｆｆｉ 温度 １３０°Ｆ（５４℃） ニッケル陽極 ＊ ０．２５Ａ／ｉｎ”（３，８８Ａ／ｄｎ＋”）；１
５−３０秒銅 シアン化銅 ２４ｇｍ
／Ｎシアン化ナトリウム ３９ｇｍ／１ 水酸化ナトリウム ３９ｇｍ／ｆ 室温 銅陽極 傘０．２５Ａ／ｉｎ”（３，８８Ａ／ｄｍ”）；３０−
６０秒亜鉛 硫酸亜鉛 ３７５ｇｍ／ｎ
塩化アンモニウム １６ｇｍ／／！ 温度 １００°Ｆ （３８℃）ステンレス
陽極 京 ０．２５＾／ｉｎ”（３，８８Ａ／ｄｍ”）：
３０秒Ｎｉ −５ｎ 塩化第一すず ５３
ｇｍ／７！塩化ニッケル ３２８ｇｍ７１ 重弗酸アンモニウム ６２ｇｍ／ｌ 水酸化７シ仁ウム（ｐｔ１２．５となるように）温度
１５０下 ステンレス又はニッケル陽極 本０．２Ａ／ｉｎ”（３，ＩＡ／ｄｍ２）；１．５分ア
ンチモン 酸化アンチモン ６０ｇｍ／ｆｆ弗酸（４
８χ） １２０ｍ１／ｆヘータナフトール ｌ
ｉ’１ｍ＃２ 室温 ステンレス陽極 ＊ ０．０７Ａ／ｉｎ ２１．０９Ａ ｄｍ”
・ ２＊電流密度は全ストンリプ面積に対するものであ
る。
硫酸第一すず ８０ｇｍ／ｆｆｉ硫酸 ５２
ｄ／ｆ 室温 ステンレス又はすず陽極 −０，＋２５八／ ｉｎ” （１，９４Ａ／ｄｍ”）；
１ 分ニッケル 硫酸二ンケル ３２８ｇＩ＋
＋／Ｆ！塩化ニソゲル ６０ｇｌ１／乏 はう酸 ２１１ｇｍ／ｆｆｉ 温度 １３０°Ｆ（５４℃） ニッケル陽極 ＊ ０．２５Ａ／ｉｎ”（３，８８Ａ／ｄｎ＋”）；１
５−３０秒銅 シアン化銅 ２４ｇｍ
／Ｎシアン化ナトリウム ３９ｇｍ／１ 水酸化ナトリウム ３９ｇｍ／ｆ 室温 銅陽極 傘０．２５Ａ／ｉｎ”（３，８８Ａ／ｄｍ”）；３０−
６０秒亜鉛 硫酸亜鉛 ３７５ｇｍ／ｎ
塩化アンモニウム １６ｇｍ／／！ 温度 １００°Ｆ （３８℃）ステンレス
陽極 京 ０．２５＾／ｉｎ”（３，８８Ａ／ｄｍ”）：
３０秒Ｎｉ −５ｎ 塩化第一すず ５３
ｇｍ／７！塩化ニッケル ３２８ｇｍ７１ 重弗酸アンモニウム ６２ｇｍ／ｌ 水酸化７シ仁ウム（ｐｔ１２．５となるように）温度
１５０下 ステンレス又はニッケル陽極 本０．２Ａ／ｉｎ”（３，ＩＡ／ｄｍ２）；１．５分ア
ンチモン 酸化アンチモン ６０ｇｍ／ｆｆ弗酸（４
８χ） １２０ｍ１／ｆヘータナフトール ｌ
ｉ’１ｍ＃２ 室温 ステンレス陽極 ＊ ０．０７Ａ／ｉｎ ２１．０９Ａ ｄｍ”
・ ２＊電流密度は全ストンリプ面積に対するものであ
る。
例 Ｉ
ｔＩＡｌの組成を持つ公称８ミル（０，２ｍｍ）の高透
磁串形結晶粒配向珪素鋼のエプスタインバック２個を、
清浄化のままの条件で機械的にケガキを行った。このケ
ガキによって、実質的に平行線でかつ鋼ストリップの圧
延方向を実質的に横切る方向のパターンで、ベース皮膜
の一部を有効に除去した。
磁串形結晶粒配向珪素鋼のエプスタインバック２個を、
清浄化のままの条件で機械的にケガキを行った。このケ
ガキによって、実質的に平行線でかつ鋼ストリップの圧
延方向を実質的に横切る方向のパターンで、ベース皮膜
の一部を有効に除去した。
各エプスタインパンクは１２のストリップを有し、各ス
トリップは３ｃｍ幅で約５侑間隔にケガキ線が画かれて
いる。Ｉａ械的ケガキの直後に、１５００°Ｆ（８１６
℃）２時間のＳＩ？Ａを行った。続いて試料を第１表に
記した銅溶液を用いて銅の電気メンキを行い、次いで金
属付加物を鋼シート体内に拡散するために保護雰囲気中
で１６５０″Ｆ （８９９℃）５時間のｊ尭鈍を行った
。括弧内のパーセントは初期特性に対する変化を示す、
ＶＡ磁気的特性エプスタインバンクに対して通常の方法
で測定した。
トリップは３ｃｍ幅で約５侑間隔にケガキ線が画かれて
いる。Ｉａ械的ケガキの直後に、１５００°Ｆ（８１６
℃）２時間のＳＩ？Ａを行った。続いて試料を第１表に
記した銅溶液を用いて銅の電気メンキを行い、次いで金
属付加物を鋼シート体内に拡散するために保護雰囲気中
で１６５０″Ｆ （８９９℃）５時間のｊ尭鈍を行った
。括弧内のパーセントは初期特性に対する変化を示す、
ＶＡ磁気的特性エプスタインバンクに対して通常の方法
で測定した。
第■表のデータで示されたように、機械的ケガキが下部
の珪素鋼にいくらかの塑性変形を与えた結果、期待され
たようにコアロスにいくらかの改善をもたらしている。
の珪素鋼にいくらかの塑性変形を与えた結果、期待され
たようにコアロスにいくらかの改善をもたらしている。
この改善は熱に対して不安定で、１５００°Ｆ（８１６
℃）のＳＲＡの後は、塑性変形は回復してベース皮膜最
終ｍ織焼鈍珪素鋼のケガキ前の初期特性に実質的に戻っ
ている。この状態の鋼は露出した下部金属のパターンを
示すのみであった。本発明による鋼の化学的縞付は及び
続く１６５０°Ｆ（８９９℃）の拡散焼鈍で、平均約６
％の明確なコアロス改善が見られ、本発明の化学的縞付
けが鋼の塑性的又は熱的な応力又は変形によらず有効な
ことを明示している。更に、続＜ １４５０″Ｆ （７
８８℃）２時間のＳｌ？Ａによって、各試料は永久的コ
アロス改善が行われたことが明らかで、耐熱性の磁区細
分化を示している。これらの試料で、露出した珪素鋼の
熱又は塑性変形は耐熱性磁区細分化に何の寄与もしてい
ないことが確かめられる。
℃）のＳＲＡの後は、塑性変形は回復してベース皮膜最
終ｍ織焼鈍珪素鋼のケガキ前の初期特性に実質的に戻っ
ている。この状態の鋼は露出した下部金属のパターンを
示すのみであった。本発明による鋼の化学的縞付は及び
続く１６５０°Ｆ（８９９℃）の拡散焼鈍で、平均約６
％の明確なコアロス改善が見られ、本発明の化学的縞付
けが鋼の塑性的又は熱的な応力又は変形によらず有効な
ことを明示している。更に、続＜ １４５０″Ｆ （７
８８℃）２時間のＳｌ？Ａによって、各試料は永久的コ
アロス改善が行われたことが明らかで、耐熱性の磁区細
分化を示している。これらの試料で、露出した珪素鋼の
熱又は塑性変形は耐熱性磁区細分化に何の寄与もしてい
ないことが確かめられる。
第１図は、溝部の走査形電子顕微鏡写真で、ベース皮膜
を通して露出され、銅メツキによって銅で満たされた状
態を示している。第２図は、Ｘ線図の１５０倍拡大写真
で、珪素鋼試料の銅の線状パターンを示している。
を通して露出され、銅メツキによって銅で満たされた状
態を示している。第２図は、Ｘ線図の１５０倍拡大写真
で、珪素鋼試料の銅の線状パターンを示している。
例■
例Ｉの塑性を持つ８ミル（０，２＋ｎｍ） Ｈ１３ｃｍ
幅（７）鋼の単一ストリップエプスタイン試料を、＋１
ＣＩ −１χ１１Ｆの酸に化学？３ ？Ｎし、Ｍｉ礒
焼鈍したストリップからすべての絶縁ベース皮膜を除去
した。スリットを有するプラスチック型を、スリットの
パターンが例１のように実質的に平行で鋼ストリップの
圧延方向を実質的に横切る方向になるように、鋼表面に
当てた。型を当てた各試料を、例Ｉのように銅で電気メ
ンキし、続いて１６５０°Ｆ （８９９℃）２時間の焼
鈍Ｃ型を外して）を行い、金属付加物を珪素鋼体内に拡
散させた。括弧内のパーセントは初期特性に対する変化
を示している。磁気的特性は、単一ストリップ試験に対
して通常の方法で測定した。
幅（７）鋼の単一ストリップエプスタイン試料を、＋１
ＣＩ −１χ１１Ｆの酸に化学？３ ？Ｎし、Ｍｉ礒
焼鈍したストリップからすべての絶縁ベース皮膜を除去
した。スリットを有するプラスチック型を、スリットの
パターンが例１のように実質的に平行で鋼ストリップの
圧延方向を実質的に横切る方向になるように、鋼表面に
当てた。型を当てた各試料を、例Ｉのように銅で電気メ
ンキし、続いて１６５０°Ｆ （８９９℃）２時間の焼
鈍Ｃ型を外して）を行い、金属付加物を珪素鋼体内に拡
散させた。括弧内のパーセントは初期特性に対する変化
を示している。磁気的特性は、単一ストリップ試験に対
して通常の方法で測定した。
第■表
（−６χ）（−２χ）
１６０／１６３／１１ １９２１ ．４９５ ．６３４
１９３９ ．４４２ ．５８７（−１１χ）（−８
χ） 第■表に示した結果は、試料はどの段ドηでも塑性変形
又は応力を受けていないのにかかわらず、拡散焼鈍の後
にコアロスがかなり改善されていることを示している。
１９３９ ．４４２ ．５８７（−１１χ）（−８
χ） 第■表に示した結果は、試料はどの段ドηでも塑性変形
又は応力を受けていないのにかかわらず、拡散焼鈍の後
にコアロスがかなり改善されていることを示している。
この特性改善は、本発明における化学的縞付けによる磁
区細分化に対して塑性変形は何も寄与していないことを
明白に示すものである。
区細分化に対して塑性変形は何も寄与していないことを
明白に示すものである。
各種試料の拡散焼鈍領域の金属組織学的試験によれば、
メツキ析出物はａｎｙに対して著しい侵食はしておらず
、析出付加物が少量であること及び拡散温度が比較的低
いこととよく一致している。
メツキ析出物はａｎｙに対して著しい侵食はしておらず
、析出付加物が少量であること及び拡散温度が比較的低
いこととよく一致している。
高倍率で観察した組繊は、変化に冨みかつ複雑となる傾
向があるが、これは拡散接合のＭｉ織ではよく見られる
ことである。上記データによれば、本発明の磁区細分化
は、化学的縞付は又は処理領域内でわずかな濃度勾配が
発達し及び／又は維持することには依存しないことが示
されている。それよりも、この効果は拡散接合分野でよ
く知られているカーケンブール空孔（に１ｒｋｅｎｄａ
ｌｌ ｐｏｒｏｓｉｔｙ）現象であると思われる。理論
にとられれる意図はないが、機構がこのカーケンダール
に関連しているということは、化学的性質の異なる付加
物が化学的縞付は付加物として有効に用い得ること、ま
た鉄基材料に関しては細かい化学的性質よりも拡散速度
の方が重要であることを示すものと思われる。更に、カ
ーケンダール拡散理論から考察すれば、低い拡散温度は
カーケンブール空孔を拡張する傾向となると考えられ、
後の焼鈍は１４００〜１７００″Ｆ （７６０〜９２７
℃）の低い範囲内で行うのが好ましいと推察される。
向があるが、これは拡散接合のＭｉ織ではよく見られる
ことである。上記データによれば、本発明の磁区細分化
は、化学的縞付は又は処理領域内でわずかな濃度勾配が
発達し及び／又は維持することには依存しないことが示
されている。それよりも、この効果は拡散接合分野でよ
く知られているカーケンブール空孔（に１ｒｋｅｎｄａ
ｌｌ ｐｏｒｏｓｉｔｙ）現象であると思われる。理論
にとられれる意図はないが、機構がこのカーケンダール
に関連しているということは、化学的性質の異なる付加
物が化学的縞付は付加物として有効に用い得ること、ま
た鉄基材料に関しては細かい化学的性質よりも拡散速度
の方が重要であることを示すものと思われる。更に、カ
ーケンダール拡散理論から考察すれば、低い拡散温度は
カーケンブール空孔を拡張する傾向となると考えられ、
後の焼鈍は１４００〜１７００″Ｆ （７６０〜９２７
℃）の低い範囲内で行うのが好ましいと推察される。
例■
例１及びＨに記した高透磁串形結晶粒配向珪素鋼の単一
ストリップに、清浄化のままの条件で機械的ケガキ又は
ある場合には放電によるケガキを行った。二〇ケガキで
、実質的に平行線でかつ鋼ストリップの圧延方向を実質
的に横切る方向のバクーンにベース皮膜の一部を有効に
除去した。８ミル（０，２ｍ＋ｗ）の単一ストリップ上
で線の幅は約３閣、間隔は約５０である１次いで試料に
、第１表に示したメツキ溶液から各種の金属付加物を電
気メツキした。ベース皮膜の溝内のメンキ量は、顕微鏡
下で判定して半分溝たされる量とした。メツキ後、実質
的に水素雰囲気中で表に示されたように拡散焼鈍を行っ
た。
ストリップに、清浄化のままの条件で機械的ケガキ又は
ある場合には放電によるケガキを行った。二〇ケガキで
、実質的に平行線でかつ鋼ストリップの圧延方向を実質
的に横切る方向のバクーンにベース皮膜の一部を有効に
除去した。８ミル（０，２ｍ＋ｗ）の単一ストリップ上
で線の幅は約３閣、間隔は約５０である１次いで試料に
、第１表に示したメツキ溶液から各種の金属付加物を電
気メツキした。ベース皮膜の溝内のメンキ量は、顕微鏡
下で判定して半分溝たされる量とした。メツキ後、実質
的に水素雰囲気中で表に示されたように拡散焼鈍を行っ
た。
第■表のデータが示すように、第１表のメツキ溶液及び
条件で付加したすず、ニッケル、及びアンチモン付加物
に対して、ｗ４試料は１．５及び１．７Ｔ共にコアロス
の改善を示し、透磁率の低下は僅か又は皆無であった。
条件で付加したすず、ニッケル、及びアンチモン付加物
に対して、ｗ４試料は１．５及び１．７Ｔ共にコアロス
の改善を示し、透磁率の低下は僅か又は皆無であった。
試料は典型的なＳＲＡ温度の１４２５°Ｆ （７７４℃
）以上で加熱されたので、コアロス改善はその温度で加
熱されることに対しては永久的である。いいかえれば、
この改善は耐熱性である。
）以上で加熱されたので、コアロス改善はその温度で加
熱されることに対しては永久的である。いいかえれば、
この改善は耐熱性である。
例■
追加試料について、本発明による処理を行った試料の磁
気的特性の熱安定性を測定する試験を行った。もし磁気
的特性の改善がカーケンダール空孔の結果であれば、こ
の改善は著しい安定性を示すはずである。全ての試料は
８又は１２ストリップのエプスタインバンクである０例
Ｉの組成の公称８ミル（０，２ａｎ）のエプスタインバ
ンクンプを、ベースガラス上を軽く機械的ケガキして裸
鋼を露出させ、第７表に示す金属で約０．２５闘幅、約
５１１１＋Ｉ間隔の線を電気メツキした。これらのスト
リップを積み重ね、次いで１６５０°Ｆ（８９９℃）で
５時間の拡散のための焼鈍を行った。コアロス特性のか
なりの改善が明確であった。このエプスタインパンクを
更に２１００″Ｆ （１１５０℃）で、表に示すように
２時間又は１０時間の焼鈍を行った。括弧内のパーセン
トは初期特性に対する変化を表す。
気的特性の熱安定性を測定する試験を行った。もし磁気
的特性の改善がカーケンダール空孔の結果であれば、こ
の改善は著しい安定性を示すはずである。全ての試料は
８又は１２ストリップのエプスタインバンクである０例
Ｉの組成の公称８ミル（０，２ａｎ）のエプスタインバ
ンクンプを、ベースガラス上を軽く機械的ケガキして裸
鋼を露出させ、第７表に示す金属で約０．２５闘幅、約
５１１１＋Ｉ間隔の線を電気メツキした。これらのスト
リップを積み重ね、次いで１６５０°Ｆ（８９９℃）で
５時間の拡散のための焼鈍を行った。コアロス特性のか
なりの改善が明確であった。このエプスタインパンクを
更に２１００″Ｆ （１１５０℃）で、表に示すように
２時間又は１０時間の焼鈍を行った。括弧内のパーセン
トは初期特性に対する変化を表す。
第７表のデータ及び結果は、コアロスの改善は２１００
°Ｆ （１１５０℃）まで持続したことを示しており、
これは本発明の磁区微細化が卓越した安定性を持ってい
ることを明示するものである。更に、走査形電子顕微鏡
（ＳＥＭ）によるＸ線化学分析によれば、初めに化学的
縞付けされた領域は今やマトリクス鋼と同じ組成となっ
ている。いいかえれば、高温はストリップを均一化し、
付加物はもはや偏析しておらず試料全体の不純物の一部
となっている。
°Ｆ （１１５０℃）まで持続したことを示しており、
これは本発明の磁区微細化が卓越した安定性を持ってい
ることを明示するものである。更に、走査形電子顕微鏡
（ＳＥＭ）によるＸ線化学分析によれば、初めに化学的
縞付けされた領域は今やマトリクス鋼と同じ組成となっ
ている。いいかえれば、高温はストリップを均一化し、
付加物はもはや偏析しておらず試料全体の不純物の一部
となっている。
軟′ｎ磁性材料のこの均−性及び低応力は望ましい結果
である。
である。
本発明における発見から見て、選ばれた付加物はその拡
散速度が鉄基合金中で鉄の自己拡散速度よりも遅ければ
、期待どうりの挙動をするものと考えられる。更に、鉄
中での拡散速度が遅いほど、その金属は永久空孔を形成
する付加物として適切なものである。たとえば、銅は鉄
中の拡散速度が鉄より４倍はど遅く、ニッケルは５００
倍はど遅い。
散速度が鉄基合金中で鉄の自己拡散速度よりも遅ければ
、期待どうりの挙動をするものと考えられる。更に、鉄
中での拡散速度が遅いほど、その金属は永久空孔を形成
する付加物として適切なものである。たとえば、銅は鉄
中の拡散速度が鉄より４倍はど遅く、ニッケルは５００
倍はど遅い。
これら鉄中拡散速度の遅い金属元素は、カーケンダール
空孔現象を起こし、本発明の利点を生じるベきものであ
る。
空孔現象を起こし、本発明の利点を生じるベきものであ
る。
金属付加物は、良好なベース皮膜を有する無応力結晶粒
配向珪素鋼の磁区細分化の結果生じる耐熱性磁区細分化
を可能とするものであるが、ベース皮膜が不適当な場合
は再現性に乏しい、最終組織焼鈍によって自然に形成さ
れるフォルステライトベース皮膜には、時にはフォルス
テライト内の空孔や割れを通じて付加物の疑似的メツキ
が付くようである。この現象は、たとえばアンチモンの
小塊が、第４図に示したように露出した珪素鋼から離れ
て実質的に平行な線の中間に存在し、フォルステライト
ベース皮膜内の空孔から直接成長していることから明ら
かである。
配向珪素鋼の磁区細分化の結果生じる耐熱性磁区細分化
を可能とするものであるが、ベース皮膜が不適当な場合
は再現性に乏しい、最終組織焼鈍によって自然に形成さ
れるフォルステライトベース皮膜には、時にはフォルス
テライト内の空孔や割れを通じて付加物の疑似的メツキ
が付くようである。この現象は、たとえばアンチモンの
小塊が、第４図に示したように露出した珪素鋼から離れ
て実質的に平行な線の中間に存在し、フォルステライト
ベース皮膜内の空孔から直接成長していることから明ら
かである。
本発明の一態様において、金属付加物を露出珪素鋼縞に
付加する前に１．フォルステライトに封入皮膜（ｓｅａ
ｌａｎＬ ｃｏａｔｉｎｇ）又は遮蔽皮膜Ｃｂａｒｒｉ
ｅｒｃｏａｔｉｎｇ）を追加することが、耐熱性磁区細
分化の安定性及び再現性を著しく改善することが見いだ
されている。プロセスに遮蔽皮膜を導入する主目的は、
フォルステライト皮膜内の空孔及び割れを封じることで
ある。第■表は、本発明における遮蔽皮膜として有効と
信しられるいくつかの皮膜を特定している。これら皮膜
全ての類似点は、すべて水に可溶性で、比較的低い温度
で乾燥固化することである。更に、これらの遮蔽皮膜は
皮膜の初期成分としてりん又は珪酸塩、又はそれらの組
合せ若しくは化合物を含んでいる。好ましくは、皮膜の
初期成分は金属りん酸塩又は金属珪酸塩で、更に好まし
くは、乾燥固化後に木質的にりん酸マグフシラム層とし
て固定されるものであるべきである。
付加する前に１．フォルステライトに封入皮膜（ｓｅａ
ｌａｎＬ ｃｏａｔｉｎｇ）又は遮蔽皮膜Ｃｂａｒｒｉ
ｅｒｃｏａｔｉｎｇ）を追加することが、耐熱性磁区細
分化の安定性及び再現性を著しく改善することが見いだ
されている。プロセスに遮蔽皮膜を導入する主目的は、
フォルステライト皮膜内の空孔及び割れを封じることで
ある。第■表は、本発明における遮蔽皮膜として有効と
信しられるいくつかの皮膜を特定している。これら皮膜
全ての類似点は、すべて水に可溶性で、比較的低い温度
で乾燥固化することである。更に、これらの遮蔽皮膜は
皮膜の初期成分としてりん又は珪酸塩、又はそれらの組
合せ若しくは化合物を含んでいる。好ましくは、皮膜の
初期成分は金属りん酸塩又は金属珪酸塩で、更に好まし
くは、乾燥固化後に木質的にりん酸マグフシラム層とし
て固定されるものであるべきである。
ＳＣりん酸（８５χ） ２０２ｇｍ
／ Ｅ酸化マグネシウム ２２ｇｍ／Ｑ。
／ Ｅ酸化マグネシウム ２２ｇｍ／Ｑ。
Ｎａｌｃｏａｇ （１０５０） ３１８ｍ
１／ １三ノ酸化クロム ４６ｇｍ／１水
残り乾燥： １
０００″Ｆ （５３８℃）４ｍｉｎ、（空気）ＣＳ
珪酸ソーダ（４０−４２８ｅ） ５００ｍｎ
／ １水 残り乾燥；
８００″Ｆ （４２７℃）−１ｍｉｎ、（空気）ｐｓ
りん酸（８５２） １２０ｇｍ／
１酸化マグネシウム １８ｇ劉／ｎＫａｓ
ｉｌ Ｉｌｌ ２２ｇｍ／ １水
酸化アンモニウム（５８χ） ２（ｍｌ／ｅ三７酸
三ツ酸化クロム 、３４ｇｍ／ＩＤｕｐａｎｏｌ
（２χ） １．０ｍ１７１水
残り乾燥： ８００°Ｆ（
４２７℃）−１ｍｉｎ、 （空気）Ｐ りん酸（８
５χ） 、 １１８ｇｍ／／！酸化マグ
ネシウム ｌｈｍ／ｆ水酸化アンモニウム（
５８χ） ２０ｍＲ／Ｒ三ノ酸化クロム
、３４ｇｌｌ１／ＩＤｕｐａｎｏｌ （２Ｋ）
１．．０１！／ １水
残り乾燥：８００″Ｆ（４２１℃）−１ｍ
ｉｎ、（空気）本実施態様のより良い理解のため、以下
に更に例を提示する。
１／ １三ノ酸化クロム ４６ｇｍ／１水
残り乾燥： １
０００″Ｆ （５３８℃）４ｍｉｎ、（空気）ＣＳ
珪酸ソーダ（４０−４２８ｅ） ５００ｍｎ
／ １水 残り乾燥；
８００″Ｆ （４２７℃）−１ｍｉｎ、（空気）ｐｓ
りん酸（８５２） １２０ｇｍ／
１酸化マグネシウム １８ｇ劉／ｎＫａｓ
ｉｌ Ｉｌｌ ２２ｇｍ／ １水
酸化アンモニウム（５８χ） ２（ｍｌ／ｅ三７酸
三ツ酸化クロム 、３４ｇｍ／ＩＤｕｐａｎｏｌ
（２χ） １．０ｍ１７１水
残り乾燥： ８００°Ｆ（
４２７℃）−１ｍｉｎ、 （空気）Ｐ りん酸（８
５χ） 、 １１８ｇｍ／／！酸化マグ
ネシウム ｌｈｍ／ｆ水酸化アンモニウム（
５８χ） ２０ｍＲ／Ｒ三ノ酸化クロム
、３４ｇｌｌ１／ＩＤｕｐａｎｏｌ （２Ｋ）
１．．０１！／ １水
残り乾燥：８００″Ｆ（４２１℃）−１ｍ
ｉｎ、（空気）本実施態様のより良い理解のため、以下
に更に例を提示する。
五−Ｍ
遮蔽皮膜が耐熱性６ｎ区細分化の助長に及ぼす影響を明
らかにするための試験を行った。全ての試料は、鋼１の
典型的組成を有する公称８ミル（０，２ｍ１）の珪素た
１の各種ヒートから作製した。鋼１の単一ストリップに
機械的ケガキを行い、ケガキのままの状態とした。ケガ
キによって、実質的に平行線状にかつ鋼ストリップの圧
延方向を実質的に横切る方向に、ベース皮膜の一部を有
効に除去した。線の幅は約０．２５ｍｍで、間隔は約５
１１ＴＩ１１である。
らかにするための試験を行った。全ての試料は、鋼１の
典型的組成を有する公称８ミル（０，２ｍ１）の珪素た
１の各種ヒートから作製した。鋼１の単一ストリップに
機械的ケガキを行い、ケガキのままの状態とした。ケガ
キによって、実質的に平行線状にかつ鋼ストリップの圧
延方向を実質的に横切る方向に、ベース皮膜の一部を有
効に除去した。線の幅は約０．２５ｍｍで、間隔は約５
１１ＴＩ１１である。
各試料はベース皮膜除去後に、第■表の「ＰＪ遮蔽皮ｎ
りを被覆した。その後全試料に第１表に記したメツキ溶
液から亜鉛又は銅のメンキを行った。
りを被覆した。その後全試料に第１表に記したメツキ溶
液から亜鉛又は銅のメンキを行った。
磁気的特性は、３０χ３ｃｍのストラツプによるエプス
タイン単一ストリップの結果である。メツキの後、全試
料に対して第■表に示した時間及び温度で拡散焼鈍を行
った。括弧内のパーセントは、初期特性に対するコアロ
ス特性の変化を表す。磁気的特性は、弔−ストリップ試
験に対して通常の方法でα１定した。
タイン単一ストリップの結果である。メツキの後、全試
料に対して第■表に示した時間及び温度で拡散焼鈍を行
った。括弧内のパーセントは、初期特性に対するコアロ
ス特性の変化を表す。磁気的特性は、弔−ストリップ試
験に対して通常の方法でα１定した。
処理前に受は入れのままで磁気的試験を行った基準の試
＃４と比較すると、第■表のデータは大部分の試料が平
均ｌＯ〜１２％はどの魅力あるコアロス改善したことを
示している。比較のため、同じパッチの材料からの試料
は通常の機械的ケガキによって１５〜２０％のコアロス
改善ができた。本発明のなお一層の利点は、このコアロ
ス改善が耐熱性磁区細分化の結果によるということであ
る。
＃４と比較すると、第■表のデータは大部分の試料が平
均ｌＯ〜１２％はどの魅力あるコアロス改善したことを
示している。比較のため、同じパッチの材料からの試料
は通常の機械的ケガキによって１５〜２０％のコアロス
改善ができた。本発明のなお一層の利点は、このコアロ
ス改善が耐熱性磁区細分化の結果によるということであ
る。
例■
更に次の例として、泪１．２及び３の組成を持つ異なっ
た珪素鋼のエプスタイン試験パンクにおける磁区微細化
過程を明らかにするだめの試験を行った。各試ｔ４は前
の例■と同様にして作製したが、公称７ミル（０，１８
ｍｍ）又は８ミル（０，２ｍｍ）の異なった結晶粒配向
珪素鋼を作製するために必要な変更は行っている。次い
で、５（ト）間隔の平行な処理域帯をもって、第４表に
記した実験条件で前の例と同様の処理を行った。磁気的
特性は、エプスタインバンクに対して通常の方法で測定
した。
た珪素鋼のエプスタイン試験パンクにおける磁区微細化
過程を明らかにするだめの試験を行った。各試ｔ４は前
の例■と同様にして作製したが、公称７ミル（０，１８
ｍｍ）又は８ミル（０，２ｍｍ）の異なった結晶粒配向
珪素鋼を作製するために必要な変更は行っている。次い
で、５（ト）間隔の平行な処理域帯をもって、第４表に
記した実験条件で前の例と同様の処理を行った。磁気的
特性は、エプスタインバンクに対して通常の方法で測定
した。
四 −−一、。
第４表のデータは、本発明の磁区細分化プロセスによっ
て８ミル（０，２ｍｍ）の鋼１材料のコアロスを、初期
特性に対して１１％まで減少させ得ることを示している
。銅材加物によって最善の結果が得られた。鋼２の７ミ
ル（０９１８ｍｍ）材料のコアロスは、１．５１で約５
％、１，７Ｔで５％減少した。ＭＡ３の７ミル（０，１
８閾）材料では、１．５Ｔで約７％、１．７７で約４％
減少した。
て８ミル（０，２ｍｍ）の鋼１材料のコアロスを、初期
特性に対して１１％まで減少させ得ることを示している
。銅材加物によって最善の結果が得られた。鋼２の７ミ
ル（０９１８ｍｍ）材料のコアロスは、１．５１で約５
％、１，７Ｔで５％減少した。ＭＡ３の７ミル（０，１
８閾）材料では、１．５Ｔで約７％、１．７７で約４％
減少した。
例■
！ｉｌｌの組成を持つ珪素月の単一ストリップエプヌタ
インに対して、遮蔽皮膜の有るものと無いものとの磁区
細分化結果を比較するため、次の試験を行った。各試料
は例Ｖと同様の方法で作製した。
インに対して、遮蔽皮膜の有るものと無いものとの磁区
細分化結果を比較するため、次の試験を行った。各試料
は例Ｖと同様の方法で作製した。
ストリップは機械的ケガキを行って、実質的に平行線で
圧延方向を横切る方向のパターンに薄いペース皮膜を除
去した。ｒｐＪの記号を付した試ネ４は、ペース皮膜を
線状に除去した後「ＰＪ遮蔽皮膜を付けた。全試料はそ
の後、第１表に示した適切なメツキ溶液から第■表に記
したようにニッケル又はニッケルーすず電気メツキを行
い、水素中で１６００〜１６５０″Ｆ （８７１〜８９
９℃）、１〜５時間の拡散焼鈍を行った。磁気的特性は
、公称８ミル（０，２＋ｎｍ）、３０Ｘ３ＣＩのエプス
タイン単一ストリップの結果である。括弧内のパーセン
トは、初期特性に対する変化を表す。
圧延方向を横切る方向のパターンに薄いペース皮膜を除
去した。ｒｐＪの記号を付した試ネ４は、ペース皮膜を
線状に除去した後「ＰＪ遮蔽皮膜を付けた。全試料はそ
の後、第１表に示した適切なメツキ溶液から第■表に記
したようにニッケル又はニッケルーすず電気メツキを行
い、水素中で１６００〜１６５０″Ｆ （８７１〜８９
９℃）、１〜５時間の拡散焼鈍を行った。磁気的特性は
、公称８ミル（０，２＋ｎｍ）、３０Ｘ３ＣＩのエプス
タイン単一ストリップの結果である。括弧内のパーセン
トは、初期特性に対する変化を表す。
（−４χ）（−８χ）
し−７１９１４，４２３，６１３１９１４，３９６，５
４６（−６χ） （−８χ） 一尤］羨皮秘」厚ｎ− 三Ｊ立」ｄビル萌隨付−吠 Ｎ−４１ノ１０ １９１８ ．４３３ ．５９
４ １８４３ ．３７９ ．５２５（−１２
χ）（−１０χ） 士〜すＪゴレλ的鴇冊 第■表のデータは、本発明の利点を明確に示している。
４６（−６χ） （−８χ） 一尤］羨皮秘」厚ｎ− 三Ｊ立」ｄビル萌隨付−吠 Ｎ−４１ノ１０ １９１８ ．４３３ ．５９
４ １８４３ ．３７９ ．５２５（−１２
χ）（−１０χ） 士〜すＪゴレλ的鴇冊 第■表のデータは、本発明の利点を明確に示している。
対応する試料について、遮蔽皮膜を付けた試料は結果の
安定性及び再現性を改善した。全ての遮蔽皮膜試料は、
対応する皮膜無しの試料より良いコアロス値を得た。更
に、どの遮蔽皮膜状トＩも、露出パターン線から離れた
領域に金属付加物の小塊を認めることはなかった。この
事実は、遮蔽皮膜がベースガラス皮膜内の空孔又は割れ
を遮蔽し、それらが裸金属を露出させてそこに付加物を
メツキすることを妨げていることを示している。
安定性及び再現性を改善した。全ての遮蔽皮膜試料は、
対応する皮膜無しの試料より良いコアロス値を得た。更
に、どの遮蔽皮膜状トＩも、露出パターン線から離れた
領域に金属付加物の小塊を認めることはなかった。この
事実は、遮蔽皮膜がベースガラス皮膜内の空孔又は割れ
を遮蔽し、それらが裸金属を露出させてそこに付加物を
メツキすることを妨げていることを示している。
この実験の過程において、遮蔽皮膜は結晶粒配向珪素鋼
のベース皮膜内の空孔及び割れを封じるだけでなく、拡
散焼鈍の過程及びその後に、鋼の縞付は領域で主付加物
と共動的な作用をすることが、予期しない結果として見
いだされた。特に、亜鉛又はニッケルーすずを主付加物
とするとき、鋼内に形成された永久欠陥内にりんが明ら
かに存在した。
のベース皮膜内の空孔及び割れを封じるだけでなく、拡
散焼鈍の過程及びその後に、鋼の縞付は領域で主付加物
と共動的な作用をすることが、予期しない結果として見
いだされた。特に、亜鉛又はニッケルーすずを主付加物
とするとき、鋼内に形成された永久欠陥内にりんが明ら
かに存在した。
各種試料の拡散焼鈍領域の金属組織学的試験によれば、
メツキ析出物は鋼基質に対して著しい侵・食はしておら
ず、析出付加物が少量であること及び拡散温度が比較的
低いこととよく一部している。
メツキ析出物は鋼基質に対して著しい侵・食はしておら
ず、析出付加物が少量であること及び拡散温度が比較的
低いこととよく一部している。
高倍率で観察した組繊は、変化に富みかつ複雑となる傾
向があるが、これは拡散接合の組織ではあまり見られな
い。第５〜１０図で、鋼と付加物との間の相互拡散、並
びに鋼、付力（′ｌ物、及びりんの間の相互拡散が確認
される。第５図では、１６５０°Ｆ（８９９℃）で２時
間の拡散焼鈍を行った後のＮｉ −５ｎ縞の３７５倍断
面に、鋼表面の小塊が見られる。第６図は同し小塊を３
０００倍で観察したものである。
向があるが、これは拡散接合の組織ではあまり見られな
い。第５〜１０図で、鋼と付加物との間の相互拡散、並
びに鋼、付力（′ｌ物、及びりんの間の相互拡散が確認
される。第５図では、１６５０°Ｆ（８９９℃）で２時
間の拡散焼鈍を行った後のＮｉ −５ｎ縞の３７５倍断
面に、鋼表面の小塊が見られる。第６図は同し小塊を３
０００倍で観察したものである。
第７．８．９及び１０図はＳＲ？ＩによるＸ線図であり
、ニッケル、すず、りん、及び鉄の拡散域への侵入を明
確に示している。
、ニッケル、すず、りん、及び鉄の拡散域への侵入を明
確に示している。
本発明の目的に示したように、コアロス値を改善するた
めに結晶粒配向珪素鋼に耐熱性のある磁区細分化を与え
る方法が開発された。本発明のその上の利点は、実質的
に圧延方向を横切る方向の線状パターンに下部珪素鋼を
露出するためにへ一ス皮膜の一部を除去するのに、ベー
ス皮膜を通じて露出された綱に熱的又は塑性的応力を生
じないという条件であれば、いかなる通常の又は通常で
ない方法も適用可能ということである。遮蔽皮膜はコア
ロスの改善及びその改善の再現性を助長する０本発明の
一つの利点は、需要家でトランスコア製作の前又は後に
焼鈍を行うように、遮蔽皮膜及び金属付加物を有する中
間シート製品が製作できることである。
めに結晶粒配向珪素鋼に耐熱性のある磁区細分化を与え
る方法が開発された。本発明のその上の利点は、実質的
に圧延方向を横切る方向の線状パターンに下部珪素鋼を
露出するためにへ一ス皮膜の一部を除去するのに、ベー
ス皮膜を通じて露出された綱に熱的又は塑性的応力を生
じないという条件であれば、いかなる通常の又は通常で
ない方法も適用可能ということである。遮蔽皮膜はコア
ロスの改善及びその改善の再現性を助長する０本発明の
一つの利点は、需要家でトランスコア製作の前又は後に
焼鈍を行うように、遮蔽皮膜及び金属付加物を有する中
間シート製品が製作できることである。
第１図は、本発明による、珪素鋼ベース皮膜内における
銅で満たされた溝を示す顕微鏡写真である。 第２図は、第１図の銅のＸ線図の１５０倍拡大写真であ
る。 第３図は、本発明による、拡散焼鈍後の珪素鋼における
空孔を示す３０００倍の顕微鏡写真である。 第４図は、鋼表面におけるアンチモンの小塊を示す３０
倍の顕微鏡写真である。 第５図及び第６図は、Ｎｉ −５ｎ縞の断面顕微鏡写真
である。 第７〜１０図は、鋼のＮｉ−３ｎ縞におけるニッケル、
すず、りん、及び鉄のＸｖＡ図の３０００倍拡大写真で
ある。
銅で満たされた溝を示す顕微鏡写真である。 第２図は、第１図の銅のＸ線図の１５０倍拡大写真であ
る。 第３図は、本発明による、拡散焼鈍後の珪素鋼における
空孔を示す３０００倍の顕微鏡写真である。 第４図は、鋼表面におけるアンチモンの小塊を示す３０
倍の顕微鏡写真である。 第５図及び第６図は、Ｎｉ −５ｎ縞の断面顕微鏡写真
である。 第７〜１０図は、鋼のＮｉ−３ｎ縞におけるニッケル、
すず、りん、及び鉄のＸｖＡ図の３０００倍拡大写真で
ある。
Claims (19)
- １．絶縁ベース被膜をその上に有する結晶粒配向性珪素
鋼シート又はストリップの磁区壁間隔を細分化する方法
であって、 下部の珪素鋼の線状パターンを露出させるためベース被
膜の部分を除去し、 露出した珪素鋼に金属質汚染物を付し、ここにこの金属
質汚染物は鉄よりも低い珪素鋼中への拡散速度を有し、
露出鋼は熱的及び塑性的応力を有しないものとする、 しかる後、永久空孔の線が形成され、そして実質的に応
力のない鋼の耐熱性磁区細分化と低減コアロスが得られ
るように、露出した鋼の中に十分かつ制御された量の汚
染物を拡散させ得る時間と１４００°Ｆ（７６０℃）以
上の温度で保護雰囲気中で鋼とその上の汚染物を焼鈍し
て、上記細分化を行う方法。 - ２．鋼とその上の汚染物を焼鈍する手順が、２１００°
Ｆ（１１４９℃）迄で安定な永久空孔の線を形成させ得
る時間と１８００°Ｆ（９８２℃）迄の温度を含む請求
項１に記載の方法。 - ３．鋼とその上の汚染物を焼鈍する手順が、永久空孔を
発達させ、かつ安定化させるのに必要な時間と１４００
〜１７００°Ｆ（７６０〜９２７℃）の温度を含む請求
項１又は２に記載の方法。 - ４．鋼とその上の汚染物を焼鈍する手順が、鋼の厚さ方
向に実質的に均一な鋼シートを得るようにさらに汚染物
を鋼中に拡散させ得る時間と２１００°Ｆ（１１４９℃
）迄の温度を含む請求項１に記載の方法。 - ５．ベース被膜の部分を除去する手順が、金属質汚染体
を付する前に行われる、請求項１〜４のうちのいずれか
一項に記載の方法。 - ６．金属質汚染物が少なくとも露出した鋼の部分に付さ
れる請求項５に記載の方法。 - ７．金属質汚染物が銅、すず、ニッケル、亜鉛又はアン
チモン、又はこれらの組合わせそして化合物である、請
求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の方法。 - ８．焼鈍工程が水素又は窒素又はそれらの混合物の保護
雰囲気を用いるものである請求項１〜７のうちのいずれ
か一項に記載の方法。 - ９．請求項１〜８項のうちのいずれか一項に記載の方法
であって、ベース被覆をシールするために、前記金属質
汚染物を付する前に、ベース被膜を付した鋼に、リン又
は珪酸塩、又はそれらの組み合わせそして化合物の初期
組成を有する遮蔽被膜を付することをさらに含む方法。 - １０．遮蔽被膜を付する手順が、遮蔽被膜とベース被膜
の両方の部分を除く手順の前に行われ、そしてその後金
属質汚染物を付する請求項９に記載の方法。 - １１．ベース被膜の部分を除く手順が、ベース被膜に遮
蔽被膜を付する前に行われ、そしてその後露出した鋼に
金属質汚染物を付する請求項９に記載の方法。 - １２．遮蔽被膜が、その乾燥被膜中に少なくとも２５重
量パーセントのリンを含む金属−リン酸塩をベースとす
る被膜である請求項９又は１０又は１１に記載の方法。 - １３．遮蔽被膜がマグネシアをベースとした被膜である
請求項１２に記載の方法。 - １４．鋼を焼鈍する手順が、実質的に水素である還元雰
囲気を用いるものである請求項９〜１３のうちのいずれ
か一項に記載の方法。 - １５．パターンが実質的に鋼の圧延方向を横切ってのび
ている、露出した鋼の概して平行な線より成る請求項１
〜１４のうちのいずれか一項に記載の方法。 - １６．ベース被膜がフォルステライトである請求項１〜
１５のうちのいずれか一項に記載の方法。 - １７．焼鈍手順の前にそして金属質汚染物を付した後に
、珪素鋼が製品中に組込まれる請求項１〜１６のうちの
いずれか一項に記載の方法。 - １８．最終繊維組織焼鈍を付した結晶粒配向性珪素鋼の
半仕上シート又はストリップ製品であって、下部の珪素
鋼の上にて線状パターンに除かれた部分を有するフォル
ステライト被膜、 少なくとも露出した鋼の部分の上にある、銅、すず、ニ
ッケル、亜鉛又はアンチモン、又はそれらの組合せ又は
化合物より成る、鋼上の金属質汚染体、 実質的に応力のない鋼シートの耐熱性磁区細分化と低減
したコアロスが得られるように永久空孔の線が鋼中にパ
ターンに沿って形成されるよう、半仕上シート製品が還
元雰囲気中で焼鈍されるときに、耐熱性磁区細分化と低
減したコアロスを得るのに適した、除去されたベース被
膜のパターン、より成る上記製品。 - １９．少なくともベース被膜部分の上に、リン又は珪酸
塩、又はそれらの組合わせ又は化合物の初期組成を有す
る遮蔽被膜を構成している請求項１８に記載の半仕上シ
ート製品。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/205,711 US4904313A (en) | 1988-06-10 | 1988-06-10 | Method of producing stable magnetic domain refinement of electrical steels by metallic contaminants |
| US206051 | 1988-06-10 | ||
| US07/206,051 US4904314A (en) | 1988-06-10 | 1988-06-10 | Method of refining magnetic domains of barrier-coated electrical steels using metallic contaminants |
| US205711 | 1994-03-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02118023A true JPH02118023A (ja) | 1990-05-02 |
Family
ID=26900692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14926989A Pending JPH02118023A (ja) | 1988-06-10 | 1989-06-12 | 電気用途鋼の磁区を細分化する方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
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Patent Citations (1)
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