JPH02122079A - 無電解銅めっき液 - Google Patents

無電解銅めっき液

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Publication number
JPH02122079A
JPH02122079A JP27245188A JP27245188A JPH02122079A JP H02122079 A JPH02122079 A JP H02122079A JP 27245188 A JP27245188 A JP 27245188A JP 27245188 A JP27245188 A JP 27245188A JP H02122079 A JPH02122079 A JP H02122079A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electroless copper
copper plating
plating solution
aluminum
dipyridyl
Prior art date
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Pending
Application number
JP27245188A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Nagasawa
長沢 憲治
Kenjiro Kaku
賀来 健二郎
Kaneo Yachi
兼雄 矢地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Iwatsu Electric Co Ltd
Original Assignee
Iwatsu Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Iwatsu Electric Co Ltd filed Critical Iwatsu Electric Co Ltd
Priority to JP27245188A priority Critical patent/JPH02122079A/ja
Publication of JPH02122079A publication Critical patent/JPH02122079A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/38Coating with copper
    • C23C18/40Coating with copper using reducing agents

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、第二銅塩、錯化剤、還元剤、水酸化アルカリ
及びα・α′−ジピリジルを含んで成るα・α′−ジピ
リジル系の無電解鋼めっき液に関するものである。
[従来の技術] 一般に、プリント配線基板の銅箔パターンの膜厚は、3
0〜35μ瓦必要である。そして、この銅箔パターンを
無電解銅めっきによって形成する場合、無電解銅めっき
皮膜の機械的性質は、一般に、米国プリント回路板協会
(1,P、C)提案の、伸び率3%以上、抗張力21に
び/rrvn”以上が要求される。これを満足する無電
解銅めっき液は、−船釣にpH12〜13(20℃)の
強アルカ1ハロ5〜80’Cの高温浴でないと得られな
い。
従来、第二銅塩、錯化剤、還元剤、水酸化アルカリ及び
α・α′−ジピリジルを含んで成るα・α′−ジピリジ
ルの無電解銅めっき液より析出させた無電解銅めっき皮
膜の機械的性質は、伸び率3〜4%、抗張力30〜33
 K’J/ M2程度であった。これらの値は、I、P
、C提案の要求を満足するが、まだ充分満足する性能で
はなかった。
以下に、従来のα・α′−ジピリジルの無電解銅めっき
液の例を具体的に示す。
なお、無電解銅めっきを実施した装置は、容量13夕の
めつき槽(材質ニステンレス、内面テフロンコーティン
グ)を恒温水槽に浸漬して、所定のめつき温度とした。
めっき液は、小型ろ過機で1μmの細孔度を有するフィ
ルターを通して常時循環し、さらにめっき液攪拌装置(
材質:ポリプロピレン)を用い、常時空気攪拌を行った
。めっき液の主成分濃度は自動管理、補給装置を用いて
、常時一定となるようにした。また、被めっき体は常時
揺動を行いめっき面積は、0,66m2/夕の一定とし
た。
表面を滑らかに研磨したステンレススチール板の表面を
脱脂し、めっき反応の開始剤であるパラジウムを該表面
に付着させ、活性化した。次に表1に示す無電解銅めっ
き液の組成・めっき条件にてステンレススチール板上へ
無電解銅めっきを行い、約30umの厚さの無電解銅め
っき皮膜を得た。このめっき皮膜をステンレススチール
板より剥離し、幅10M、標線間隔60mの試料を作製
し、東洋ボールドウィン(社)製の引張り試験機により
、無電解銅めっき皮膜の抗張力と伸び率を測定した結果
、抗張力32に’j/mm2、伸び率3゜9%であった
。この結果を合せて、表1に示す。
このように、無電解銅めっき液の添加剤として、α・α
′−ジピリジルだけを含んで成る無電解銅めっき液より
得ためつき皮膜の伸び率は、不充分であった。
表 [発明が解決しようとする問題点] プリント配線基板においては、実使用に当って、種々の
熱衝撃を受けることにより、プリント配線基板が膨脹、
収縮する。このため無電解銅めっき皮膜の伸び率が3〜
4%では、銅箔パターン、スルーホールのコーナ二部に
クラックを発生し、導通不良を起すという致命的欠点が
あった。
し問題点を解決するための手段] 本発明は、第二銅塩、錯化剤、還元剤、水酸化アルカリ
及びα◆α′−ジピリジルを含んで成る無電解銅めっき
液におけるこれらの欠点を除去するため、前記無電解銅
めっき液に、りん酸(83POa )を0.03 m!
Q/夕乃至0.4II11/1添加することまたは塩化
アルミニウム。
硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウムのうちいずれか一
つを10mg/l乃至200mc+zl!添加すること
を特徴とし、その目的はめつき皮膜の機械的性質である
伸び率、抗張力の優れた無電解銅めっき皮膜が得られる
ような無電解銅めっき液を提供するにある。
[実施例] 以下、本発明を実施例に基づいて、具体的に示す。第二
銅塩としては、硫酸銅、硝酸銅、塩化第二銅等を0.0
20mo夕/I乃至0.055m0.Q/夕用いる。第
二銅塩の錯化剤として、EDTA。
EDTA−2Na、EDTA−4NaやN、N、N−、
N”−テトラキス−2−ヒドロキシプロピルエチレンジ
アミン等を0.07m0タ/夕乃至0.12m0タ/タ
用いる。還元剤としては、ホルマリン等を2.5〜10
mタ/タ用いる。水酸化アルカリとしては、水酸化ナト
リウムや水酸化カリウム等を用い、めっき液のpH12
,0〜12.8となるようにする。また、α・α′−ジ
ピリジルは、10mMJ乃至50mg/夕用いる。
そして第1の実施例として、これらの成分から成る液に
、りん’tz (H3PO4)が0.03mu/夕乃至
0.4ml/夕添加される。なお、りん酸は純正化学株
式会社製試薬特級りん酸 (H3POa )[H3POa含有量85.16%。
比重約1.69]を使用した。りん酸の添加量が所定の
範囲を超えると、無電解銅めっき皮膜の伸び率の向上が
認められなかったり、速度が極端に低下したり、めっき
皮膜の外観がくすんだりして不適でめった。
また第2の実施例として前述した成分から成る液に、塩
化アルミニウムまたは硫酸アルミニウムもしくは硝酸ア
ルミニウムが添加される。これらのめつき液への添加量
は、金属アルミニウム分として10m(1/夕乃至20
0mg/lの範囲が好ましく、更には20mq、!!乃
至100[11(1/、Qがより好ましい。
尚、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウムおよび硝酸ア
ルミニウムは各々A夕C夕3・6H20゜A夕2(30
4)3・18H20,およびAu (NO3)3 ・9
H2を使用した。
金属アルミニウム分の添加量が所定の範囲を下まわると
、従来の浴に比較し、無電解銅めっき皮膜の機械的性質
の向上が著しくない。また金属アルミニウム分の添加量
が所定の範囲を上まわると、めっき速度が極端に低下し
たり、めっき皮膜の外観がくすんだり、めっき槽の内壁
へ水酸化アルミニウムが付着し不適であった。この傾向
は特に硫酸アルミニウム添加量で顕著であった。
次に、表面を滑らかに研磨したステンレススチール板の
表面を脱脂し、めっき反応の開始剤であるパラジウムを
該表面に付着させ、活性化した。
次いで表21表35表42表5に示す本発明による代表
的な無電解銅めっき液の組成、めっき条件にて、従来例
の場合と同一の無電解銅めっき装置を使用し、ステンレ
ススチール板上へ無電解銅めっきを行い、約30μmの
厚さの無電解銅めっき皮膜を得た。これらのめつき皮膜
をステンレススチール板より剥離し、幅10m、標線間
隔60酎の試料を作製し、東洋ボールドウィン(社)製
の引張り試験機により無電解銅めっき皮膜の抗張力と伸
び率を測定した。この結果を合せて表21表3、表42
表5に示す。
このように、第1の実施例(実施例a〜e)に示すよう
にα・α′−ジピリジル系の無電解銅めっき液にりん酸
0.03 m曳/夕乃至0.4 ml/lを添加しため
つぎ液より得られた無電解銅めっき皮膜は、従来のりん
酸を添加しない浴より1qられた皮膜に比較し、伸び率
で56%〜179%。
抗張力で8%〜10%の向上が認められた。ただし第1
の実施例のようにりん酸が0.01m1/夕程度の添加
ではその効用が期待された値には達しなかった。
また、第2の実施例(実施例f〜t)に示すように、α
・α′−ジピリジル系の無電解銅めっき液に、塩化アル
ミニウムまたは硫酸アルミニウムもしくは硝酸アルミニ
ウムのうちいずれか一つを金属アルミニウム量で10m
Cl/夕乃至200m(]/夕添加しためっき液より得
られた無電解銅めっき皮膜は、従来のめっき液により得
られた皮膜に比較し、伸び率で50%〜125%、抗張
力で5%〜13%の向上が認められた。
し発明の効果] 以上説明したように、本発明はα・α′−ジピリジル系
の無電解銅めっき液にりん酸を0.03…タ/タ添加す
ることおよび塩化アルミニウムまたは5A酸アルミニウ
ムもしくは硝酸アルミニウムを金属アルミニウム量で1
0ma/I乃100m’1/夕添加することにより、こ
の無電解銅めっき液より析出させた無電解銅めっき皮膜
は伸び率、抗張力が向上し、高信頼性のプリント配線基
板の製造のため等に使用することができる利点がある。
特許出願人 岩崎通信機株式会社

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第二銅塩、錯化剤、還元剤、水酸化アルカリ及び
    α・α′−ジピリジルを含んで成る無電解銅めつき液に
    おいて、りん酸を0.03ml/l乃至0.4ml/l
    添加することを特徴とする無電解銅めつき液。
  2. (2)第二銅塩、錯化剤、還元剤、水酸化アルカリ及び
    α・α′−ジピリジルを含んで成る無電解銅めっき液に
    おいて、塩化アルミニウムまたは硫酸アルミニウムもし
    くは硝酸アルミニウムを金属アルミニウム量で10mg
    /l乃至200mg/l添加したことを特徴とする無電
    解銅めつき液。
JP27245188A 1988-10-28 1988-10-28 無電解銅めっき液 Pending JPH02122079A (ja)

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