JPH02122540A - ウェハ容器搬送用治具 - Google Patents
ウェハ容器搬送用治具Info
- Publication number
- JPH02122540A JPH02122540A JP63275338A JP27533888A JPH02122540A JP H02122540 A JPH02122540 A JP H02122540A JP 63275338 A JP63275338 A JP 63275338A JP 27533888 A JP27533888 A JP 27533888A JP H02122540 A JPH02122540 A JP H02122540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- jig
- furnace
- main body
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[概要]
拡散炉、CVD炉中にウェハを収容した容器を搬入ある
いは搬出するための治具に関し、簡単なW4造で大気の
巻込みによる障害を防止することを目的とし、 ウェハ容器を覆うと同時に吊下支持可能とする本体に柄
を設け、その柄には本体内に不活性ガスを送るガス噴出
孔を備えた構成とする。
いは搬出するための治具に関し、簡単なW4造で大気の
巻込みによる障害を防止することを目的とし、 ウェハ容器を覆うと同時に吊下支持可能とする本体に柄
を設け、その柄には本体内に不活性ガスを送るガス噴出
孔を備えた構成とする。
[産業上の利用分野]
この発明は拡散炉、CVD炉中にウェハを収容した容器
を搬入あるいは搬出するための治具に間するものである
。
を搬入あるいは搬出するための治具に間するものである
。
拡散炉やCVD炉ではその炉にウェハを搬入する際ある
いは炉からウェハを搬出する際には、炉内の高熱のガス
が炉外へ流出すると同時に炉外の大気が炉内へ吸い込ま
れて、いわゆる大気の巻込みが発生する。そして、ウェ
ハがこのような大気及び高熱ガスの流れの中に晒される
と、そのウェハに不要な酸化膜が形成され、この酸化膜
はそのウェハから製造されるチップの歩留りを低下させ
る原因となっている。
いは炉からウェハを搬出する際には、炉内の高熱のガス
が炉外へ流出すると同時に炉外の大気が炉内へ吸い込ま
れて、いわゆる大気の巻込みが発生する。そして、ウェ
ハがこのような大気及び高熱ガスの流れの中に晒される
と、そのウェハに不要な酸化膜が形成され、この酸化膜
はそのウェハから製造されるチップの歩留りを低下させ
る原因となっている。
拡散炉やCVD炉ではウェハの搬入あるいは搬出時に取
り入れ孔付近に大気の巻込みが発生し、その巻込みに起
因してウェハに不要な酸化膜が生成される。そこで、こ
のような酸化膜の生成を防止するために、炉の取り入れ
孔に連なる独立した部屋に不活性ガスを満たすことによ
り大気の巻込みを防止するロードロック機構や、ウェハ
の容器を搬送するフォーク自身を不活性ガスで満たした
チャンバーとし、ウェハを収容した容器をそのチャンバ
ーで覆うことにより同ウェハが大気に晒されないように
したアトモスキャン等が提案されている。
り入れ孔付近に大気の巻込みが発生し、その巻込みに起
因してウェハに不要な酸化膜が生成される。そこで、こ
のような酸化膜の生成を防止するために、炉の取り入れ
孔に連なる独立した部屋に不活性ガスを満たすことによ
り大気の巻込みを防止するロードロック機構や、ウェハ
の容器を搬送するフォーク自身を不活性ガスで満たした
チャンバーとし、ウェハを収容した容器をそのチャンバ
ーで覆うことにより同ウェハが大気に晒されないように
したアトモスキャン等が提案されている。
[発明が解決しようとする課題]
ところが、上記のようなロードロック機構又はアトモス
キャンを拡散炉あるいはCVD炉に備えると、各装置が
複雑かつ大型化するという問題点があった。この発明の
目的は、装置を大型化かつ複雑化させることなく簡単な
411遣で大気の巻込みによる障害を防止することを可
能としたウェハ搬送装置を提供するにある。
キャンを拡散炉あるいはCVD炉に備えると、各装置が
複雑かつ大型化するという問題点があった。この発明の
目的は、装置を大型化かつ複雑化させることなく簡単な
411遣で大気の巻込みによる障害を防止することを可
能としたウェハ搬送装置を提供するにある。
[課題を解決するための手段]
第1図は本発明の治具を示す原理説明図である。
すなわち、本体5はウェハ容器1を覆うと同時に吊下支
持可能であり、その本体5には柄6が設けられている。
持可能であり、その本体5には柄6が設けられている。
そして、その柄6には本体5内に不活性ガスを送るガス
噴出孔8が設けられている。
噴出孔8が設けられている。
[作用コ
容器1を炉に対し搬入及び搬出する際にはつエバ2が不
活性ガス雰囲気中で容器1に支持され、大気の巻込みか
らは隔離される。
活性ガス雰囲気中で容器1に支持され、大気の巻込みか
らは隔離される。
[実施例]
以下、この発明を具体化した一実施例を第2図〜第5図
に従って説明すると、第2図に示すようにウェハ2を収
容する容器1は石英で前後両端を閉じた半円筒状に形成
され、その中に多数枚のウェハ2を収容可能となってい
る。そして、容器1の両側縁には側方に突出する係止片
3が形成されている。
に従って説明すると、第2図に示すようにウェハ2を収
容する容器1は石英で前後両端を閉じた半円筒状に形成
され、その中に多数枚のウェハ2を収容可能となってい
る。そして、容器1の両側縁には側方に突出する係止片
3が形成されている。
この容器1を拡散炉やCVD炉に搬送するための治具4
は本体5の後端に柄6が形成されている。
は本体5の後端に柄6が形成されている。
その本体5は後端を閉じた半円筒状に形成され、その両
側縁には内側に突出する吊下片7が形成されている。そ
して、第4図に示すように本体5にはその先端部から前
記容器1の係止片3を挿入可能であり、その状態で治具
4を引上げれば第5図に示すように容器1上部が本体5
に覆われた状態で治具4に吊下支持されるようになって
いる。
側縁には内側に突出する吊下片7が形成されている。そ
して、第4図に示すように本体5にはその先端部から前
記容器1の係止片3を挿入可能であり、その状態で治具
4を引上げれば第5図に示すように容器1上部が本体5
に覆われた状態で治具4に吊下支持されるようになって
いる。
第3図に示すように、柄6の内部にはその先端から本体
5に連通ずるガス噴出孔8が形成され、柄6先端には屈
曲自在な送気管9が連結されている。そして、ガス供給
装置(図示しない)から送気管9及び噴出孔8を介して
N2、Ar等の不活性ガスが本体5と容器1とで覆われ
る空間Sに噴出されるとともに、この治具4はその柄6
が搬送アーム(図示しない)に把持されて往復動作する
ようになっている。
5に連通ずるガス噴出孔8が形成され、柄6先端には屈
曲自在な送気管9が連結されている。そして、ガス供給
装置(図示しない)から送気管9及び噴出孔8を介して
N2、Ar等の不活性ガスが本体5と容器1とで覆われ
る空間Sに噴出されるとともに、この治具4はその柄6
が搬送アーム(図示しない)に把持されて往復動作する
ようになっている。
さて、上記のような治具4を使用して容器1を拡散炉あ
るいはCVD炉に対し搬入する場合には、搬送アームを
駆動することにより、ウェハ2を収容した容器1に対し
治具4を前進させて、第4図に示すように同容器1両側
の係止片3を治具4内に位置させた状態で治具4を持上
げると、第3図及び第5図に示すように係止片3が吊下
片7に係合して容器1が治具4に吊下支持され、容器1
上部はその先端側を除いて治具4の本体5で覆われる。
るいはCVD炉に対し搬入する場合には、搬送アームを
駆動することにより、ウェハ2を収容した容器1に対し
治具4を前進させて、第4図に示すように同容器1両側
の係止片3を治具4内に位置させた状態で治具4を持上
げると、第3図及び第5図に示すように係止片3が吊下
片7に係合して容器1が治具4に吊下支持され、容器1
上部はその先端側を除いて治具4の本体5で覆われる。
そして、ガス噴出孔8から不活性ガスを噴出して容器1
と本体5とで覆われる空間Sをその不活性ガスで充満さ
せるとともにその不活性ガスが本体5先端部から本体5
外へ流れる状態とし、この状態で容器1を炉内に搬入し
て所定位置で降ろし、治具4を炉内から引抜く。
と本体5とで覆われる空間Sをその不活性ガスで充満さ
せるとともにその不活性ガスが本体5先端部から本体5
外へ流れる状態とし、この状態で容器1を炉内に搬入し
て所定位置で降ろし、治具4を炉内から引抜く。
また、容器1を炉内から搬出する場合には治具4を炉内
に前進させ、治具4の吊下片7を容器1の係止片3に係
合させて容器1を吊下支持し、ガス噴出孔8から不活性
ガスを流しながら炉外へ搬出する。
に前進させ、治具4の吊下片7を容器1の係止片3に係
合させて容器1を吊下支持し、ガス噴出孔8から不活性
ガスを流しながら炉外へ搬出する。
上記のようftMIk人及び搬出動作の際には炉の取入
れ孔付近に大気の巻込みが発生するが、容器1及び治具
4で覆われた空間Sは不活性ガスで充満されていてその
空間Sには高熱ガス及び大気の流入が阻止される。従っ
て、ウェハ1は炉への搬入あるいは炉からの搬出時には
常に不活性ガス雰囲気中で容器1に支持されるので、同
ウェハ1への不要な酸化膜の付着が未然に防止される。
れ孔付近に大気の巻込みが発生するが、容器1及び治具
4で覆われた空間Sは不活性ガスで充満されていてその
空間Sには高熱ガス及び大気の流入が阻止される。従っ
て、ウェハ1は炉への搬入あるいは炉からの搬出時には
常に不活性ガス雰囲気中で容器1に支持されるので、同
ウェハ1への不要な酸化膜の付着が未然に防止される。
[発明の効果]
以上詳述したように、この発明は炉に対するウェハの搬
入及び搬出に際して発生する大気の巻込みからウェハを
隔離してその歩留りを向上させ得るウェハ容器搬送用治
具を簡単な構成で実現することができる優れた効果を発
揮する。
入及び搬出に際して発生する大気の巻込みからウェハを
隔離してその歩留りを向上させ得るウェハ容器搬送用治
具を簡単な構成で実現することができる優れた効果を発
揮する。
第1図はこの発明の原理説明図、第2図はこの発明を具
体化した治具及び容器の斜視図、第3図は容器を吊下支
持した治具の縦断面図、第4図及び第5図は治具で容器
を吊下げる過程を示す側面図である。図中、1は容器、
2はウェハ、4は治具、6は柄、8はガス噴出孔である
。 代 理 人 弁理士 井桁 貞−第1図 この発明の原理説[lI1図 一 /
体化した治具及び容器の斜視図、第3図は容器を吊下支
持した治具の縦断面図、第4図及び第5図は治具で容器
を吊下げる過程を示す側面図である。図中、1は容器、
2はウェハ、4は治具、6は柄、8はガス噴出孔である
。 代 理 人 弁理士 井桁 貞−第1図 この発明の原理説[lI1図 一 /
Claims (1)
- 1、ウェハ容器(1)を覆うと同時に吊下支持可能とす
る本体(5)に柄(6)を設け、その柄(6)には本体
(5)内に不活性ガスを送るガス噴出孔(8)を備えた
ことを特徴とするウェハ容器搬送用治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63275338A JPH02122540A (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | ウェハ容器搬送用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63275338A JPH02122540A (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | ウェハ容器搬送用治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02122540A true JPH02122540A (ja) | 1990-05-10 |
Family
ID=17554078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63275338A Pending JPH02122540A (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | ウェハ容器搬送用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02122540A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06177225A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-06-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 環境制御装置 |
| US7578647B2 (en) | 2003-01-27 | 2009-08-25 | Applied Materials, Inc. | Load port configurations for small lot size substrate carriers |
| US7594789B2 (en) | 2003-01-27 | 2009-09-29 | Applied Materials, Inc. | Overhead transfer flange and support for suspending a substrate carrier |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP63275338A patent/JPH02122540A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06177225A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-06-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 環境制御装置 |
| US7578647B2 (en) | 2003-01-27 | 2009-08-25 | Applied Materials, Inc. | Load port configurations for small lot size substrate carriers |
| US7594789B2 (en) | 2003-01-27 | 2009-09-29 | Applied Materials, Inc. | Overhead transfer flange and support for suspending a substrate carrier |
| US7611318B2 (en) * | 2003-01-27 | 2009-11-03 | Applied Materials, Inc. | Overhead transfer flange and support for suspending a substrate carrier |
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