JPH02123645A - Shadow mask body for color picture tube - Google Patents

Shadow mask body for color picture tube

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JPH02123645A
JPH02123645A JP27681488A JP27681488A JPH02123645A JP H02123645 A JPH02123645 A JP H02123645A JP 27681488 A JP27681488 A JP 27681488A JP 27681488 A JP27681488 A JP 27681488A JP H02123645 A JPH02123645 A JP H02123645A
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shadow mask
mask structure
plates
electron beam
picture tube
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睦 服部
Riichi Iwamoto
岩本 利一
Masaharu Moriyasu
雅治 森安
Masato Hanajima
真人 花島
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Abstract

PURPOSE:To obtain high resolution and improve color purity and lifetime by forming a plurality of laminated shadow mask plates in such a way that the plates are welded at a plurality of porous regions and then pressed for the formation. CONSTITUTION:A shadow mask 22 of large thickness is laminated on the phosphor screen side of a relatively thin-walled shadow mask plate 21 at the side of an electron gun. Slot type through-holes 30 and 31 are provided on the plates 21 and 22 for forming an electron beam passage hole. The through-hole 31 is so formed as to be somewhat larger than the hole 30. After welded at welding portions 32 and 33, the plates 21 and 22 are pressed to have a spherical shape.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、複数枚のシャドウマスク板を溶接接合して
構成されかつ受像管内で電子ビームを蛍光面側に通過さ
せる電子ビーム通過孔を有するカラー受像管用シャドウ
マスク構体に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is constructed by welding and joining a plurality of shadow mask plates, and has an electron beam passage hole that allows the electron beam to pass to the phosphor screen side in the picture tube. This invention relates to a shadow mask structure for a color picture tube.

[従来の技術] 第9図はシャドウマスク式力・ラー受像管の構成を概略
的に示す一部破断斜視図である。同図において、(1)
は漏斗状のファンネルで、このファンネル(1)の開放
端に封着されたパネル(2)の内面に蛍光面(3)が形
成されている。上記パネル(2)の側壁には複数個のビ
ン(0が設けられ、上記蛍光面(3)に対向して配設さ
れたシャドウマスク構体(5)が上記ビン(4)に支持
されている。 (12A)。
[Prior Art] FIG. 9 is a partially cutaway perspective view schematically showing the structure of a shadow mask type force/ray picture tube. In the same figure, (1)
is a funnel-shaped funnel, and a fluorescent screen (3) is formed on the inner surface of a panel (2) sealed to the open end of this funnel (1). A plurality of bins (0) are provided on the side wall of the panel (2), and a shadow mask structure (5) disposed facing the fluorescent screen (3) is supported by the bins (4). (12A).

(12B)、(12G)は上記ファンネル(1)のネッ
ク部(10内に配置された電子銃である。
(12B) and (12G) are electron guns disposed within the neck portion (10) of the funnel (1).

(7)は上記パネル(2)の内面形状とほぼ等しい球面
形状を有するシヤドウマスク構体で、このシヤドウマス
ク構体(7)は上記電子銃(12A) 、 (12B)
 。
(7) is a shadow mask structure having a spherical shape almost equal to the inner surface shape of the panel (2), and this shadow mask structure (7) is connected to the electron guns (12A) and (12B).
.

(12G)から放射される電子ビーム(13A) 、 
(8B) 、 (13c)を選択的に通過させる多数の
電子ビーム通過孔(13)を有する有孔部およびこの有
孔部の外周に形成された非有孔部、つまり無孔部とから
なる。
Electron beam (13A) emitted from (12G),
It consists of a perforated part having a large number of electron beam passing holes (13) through which electron beams (8B) and (13c) selectively pass, and a non-porous part formed around the outer periphery of this perforated part, that is, a non-porous part. .

(8)はフレーム(9)に装着するために折曲げられた
スカート部で、このスカート部(8)はその全周にわた
って上記フレーム(8)に、たとえば工6点で溶接によ
り固定されている。 (10)は上記フレーム(9)に
溶接された熱膨張補正機構で、この熱膨張補正機構(l
O)はカラー受像管の動作中に生じる上記シヤドウマス
ク構体(7)の熱膨張による色ずれを補正するために設
けられている。
(8) is a skirt portion that is bent to be attached to the frame (9), and this skirt portion (8) is fixed to the frame (8) over its entire circumference by, for example, welding at six points. . (10) is a thermal expansion correction mechanism welded to the frame (9), and this thermal expansion correction mechanism (l
O) is provided to correct color shift due to thermal expansion of the shadow mask structure (7) that occurs during operation of the color picture tube.

E記熱膨張補正機構(lO)はバイメタル(15)とこ
のバイメタル(15)に溶接されたスプリング(11)
とから構成され、このスプリング(11)は上記ビン(
4)に係合されてシヤドウマスク構体(7)をパネル(
2)の相対位置に保持する。上記シャドウマスク構体(
5)はシヤドウマスク構体(7)、フレーム(9)およ
び熱膨張補正機構(10)から構成されている。
The thermal expansion correction mechanism (lO) is composed of a bimetal (15) and a spring (11) welded to this bimetal (15).
This spring (11) is composed of the above-mentioned bottle (
4) to move the shadow mask structure (7) to the panel (
2) is held in the relative position. The above shadow mask structure (
5) is composed of a shadow mask structure (7), a frame (9) and a thermal expansion correction mechanism (10).

と記のような構造を有するシャドウマスク弐カラー受像
管において、上記電子銃(12A) 、(12B) 。
In the shadow mask second color picture tube having the structure as shown, the electron guns (12A) and (12B) are used.

(12G)から放射された電子ビーム(8A) 、 (
[18) 、 (8G)はシヤドウマスク構体(7)の
有孔部に設けられた電子ビーム通過孔(13)を通って
蛍光面(3)に射突し、赤、緑、青の各色に発光する蛍
光体を発光させる。
Electron beam (8A) emitted from (12G), (
[18), (8G) passes through the electron beam passing hole (13) provided in the perforated part of the shadow mask structure (7) and hits the fluorescent screen (3), emitting light in red, green, and blue colors. make the phosphor emit light.

ところで1通常、シャドラマ伐り本体(7)の電子ビー
ム通過孔(13)の総面積は上記シヤドウマスク構体(
7)の表面積の約15%〜25%程度であり、電子ビー
ム(8A) 、(8B) 、(8G)の多くは有孔部の
非開口部に衝突し、シヤドウマスク構体(7)を加熱す
る。たとえば、21インチのカラー受像管におけるシャ
ドウマスク構体(5)の温度を測定した結果、第1O図
の曲線(A) 、 (B)で示すような温度上昇がみち
れた。
By the way, 1. Normally, the total area of the electron beam passage hole (13) of the shadow mask body (7) is the same as that of the shadow mask structure (1).
7), and most of the electron beams (8A), (8B), and (8G) collide with the non-opening part of the perforated part and heat the shadow mask structure (7). . For example, as a result of measuring the temperature of the shadow mask structure (5) in a 21-inch color picture tube, there was a rise in temperature as shown by curves (A) and (B) in FIG. 1O.

すなわち、高電圧28kv、ビーム電流1mAの条件の
もとでシヤドウマスク構体(7)の温度を測定したとこ
ろ、第10図の特性曲線(A)で示すように、最初の5
分間において温度上昇が著しく、30分で飽和して約4
0℃の温度上昇が認められた。
That is, when the temperature of the shadow mask structure (7) was measured under the conditions of a high voltage of 28 kV and a beam current of 1 mA, as shown in the characteristic curve (A) in FIG.
The temperature rises significantly within 30 minutes, reaching saturation in 30 minutes and reaching approx.
A temperature increase of 0°C was observed.

これに対して、同様な条件のもとでフレーム(9)の温
度を測定したところ、フレーム(8)ノ熱容量がシヤド
ウマスク構体(7)のそれと比較して大きいために、w
410図の特性曲線CB)で示すように、温度は徐々に
上昇し、約1時間で飽和状態となった。
On the other hand, when the temperature of the frame (9) was measured under similar conditions, it was found that the heat capacity of the frame (8) was larger than that of the shadow mask structure (7).
As shown by characteristic curve CB) in Figure 410, the temperature gradually rose and reached a saturated state in about 1 hour.

このような温度上昇があると、まず、シヤドウマスク構
体(7)はドーム状に熱膨張(以下、ドーミングと称す
)して蛍光面(3)側へ突出し、そのため色ずれをおこ
す(以下、ミスランディングと称す)。
When such a temperature rise occurs, the shadow mask structure (7) first thermally expands into a dome shape (hereinafter referred to as doming) and protrudes toward the phosphor screen (3), causing color shift (hereinafter referred to as mislanding). ).

すなわち、第11図で示すように、動作開始前に同図実
線Sで示す状態にあったシヤドウマスク構体(7)は温
度上昇にともない、フレーム(9)との接合部Wを固定
点として、全体的に蛍光面(3)側へ点線Slで示すよ
うにドーム状に熱膨張する。このドーミングによって、
同図の点Hで示す正規の位置にあった電子ビーム通過孔
(13)は点H1に移動し、本来、蛍光面(3)上の点
Pに到達しなければならない、たとえば電子銃(12A
)からの電子ビーム(6A)が点Piに到達して、ミス
ランディングとなる。
That is, as shown in FIG. 11, the shadow mask structure (7), which was in the state shown by the solid line S in the figure before the start of operation, is fixed as a whole with the joint W with the frame (9) as the temperature rises. It then thermally expands toward the phosphor screen (3) in a dome shape as shown by the dotted line Sl. Through this doming,
The electron beam passing hole (13), which was in the normal position indicated by point H in the same figure, moves to point H1, and originally has to reach point P on the phosphor screen (3), for example, the electron gun (12A
The electron beam (6A) from ) reaches point Pi, resulting in a mislanding.

この種のミスランディングは、蛍光面(3)の中央部Z
の方向(矢印a側)へずれるのが特徴であり、隣接した
他の色の蛍光体を発光させ、正常な色彩画像を現出する
ことかで8をくなる。このような現象は画面全域にわた
って現われる。
This type of mislanding occurs when the center Z of the fluorescent screen (3)
It is characterized by a shift in the direction of arrow a (arrow a side), and 8 is achieved by causing adjacent phosphors of other colors to emit light and producing a normal color image. Such a phenomenon appears over the entire screen.

このような現象をパネル(2)の対角軸内面半径が1.
350mmの21インチのカラー受像管で測定したとこ
ろ、パネル(2)のフェース面の中心軸Zより150m
mの長袖上で最も顕著に現われ、高電圧28kv、ビー
ム電流1mAの条件下で、電子ビームは0.05〜0.
08mm移動し、これにより色ずれ現象を起こしていた
This phenomenon occurs when the inner radius of the diagonal axis of panel (2) is 1.
When measured with a 350mm 21-inch color picture tube, the distance was 150m from the central axis Z of the face of panel (2).
The electron beam appears most prominently on long sleeves of 0.05~0.m under the conditions of high voltage 28kV and beam current 1mA.
08 mm, which caused a color shift phenomenon.

また一方、フレーム(9)の温度が徐々に上昇して飽和
状態に近くなると、フレーム(8)自体の熱膨張により
、動作開始前に第12図実線Fで示す状態にあったフレ
ーム(9)は、全体的に径方向へ点線F1で示すように
熱膨張する。その結果、動作開始前に同図実線Sで示す
状態にあったシヤドウマスク構体(7)は、フレーム(
9)との接合部Wが点Wlに移動するため、全体的に径
方向へ点線S2で示すように変位する。この変位によっ
て、同図の点Hで示す正規の位置にあった電子ビーム通
過孔(13)は点H2に移動し、本来、蛍光面(3)上
の点Pに到達しなければならない、たとえば電子銃(1
2A)からの電子ビーム(6A)が点P2に到達して、
ミスランディングとなる。
On the other hand, when the temperature of the frame (9) gradually increases and approaches the saturated state, due to thermal expansion of the frame (8) itself, the frame (9), which was in the state shown by the solid line F in FIG. 12 before the start of operation, thermally expands in the radial direction as a whole as shown by the dotted line F1. As a result, the shadow mask structure (7), which was in the state shown by the solid line S in the figure before the start of the operation, changed to the frame (
9) moves to point Wl, the whole is displaced in the radial direction as shown by dotted line S2. Due to this displacement, the electron beam passage hole (13), which was in the normal position shown as point H in the figure, moves to point H2, and originally should reach point P on the phosphor screen (3), for example. Electron gun (1
The electron beam (6A) from 2A) reaches point P2,
This results in a false landing.

この種のミスランディングは、蛍光面(3)の周辺部の
方向(矢印す側)へずれるのが特徴であり、上述したカ
ラー受像管の動作初期に現われる現象とは逆の方向の他
の色の蛍光体を発光させ、カラー受像管の動作初期と同
様に正常な色彩画像を現出することができなくなる。
This type of mislanding is characterized by a shift toward the periphery of the phosphor screen (3) (to the side indicated by the arrow), and other colors in the opposite direction to the phenomenon that appears at the beginning of the operation of the color picture tube described above. This makes it impossible to make the phosphors emit light and produce a normal color image as in the early stages of operation of the color picture tube.

以上のような現象はカラー受像管が連続して動作してい
る間、引き続いて現われる現象であり。
The above phenomena occur continuously while the color picture tube is in continuous operation.

そのため、これを補正する必要がある。Therefore, it is necessary to correct this.

従来、その補正のために、熱膨張補正機構(io)をシ
ヤドウマスク構体(7)とフレーム(9)との間に介在
させたものが諸種知られている。
Conventionally, in order to correct this, various types of thermal expansion correction mechanisms (io) are known that are interposed between the shadow mask structure (7) and the frame (9).

すなわち、ドーミングは第11図について説明したよう
に、シヤドウマスク構体(7)とフレーム(8)との接
合部Wが固定点となって発生するものであるから、熱膨
張補正機構(10)によって動作開始前の上記接合部W
を仮想線で示す点W3に移動させれば、動作開始前に同
図実線Sで示す状態にあったシヤドウマスク構体(7)
は、仮想線S3で示すように、同図点線Slで示す場合
よりも電子銃(12A)側に移動する。この移動によっ
て、同図の点Hで示す正規の位置にあった電子ビーム通
過孔(13)は点H3に移動し、この点H3に移動した
電子ビーム通過孔(13)は電子銃(12A)からの電
子ビーム(8A)が本来到達しなければならない蛍光面
(3)上の点Pに向う位置となり、ミスランディングが
軽減される。
That is, as explained with reference to FIG. 11, doming occurs when the joint W between the shadow mask structure (7) and the frame (8) serves as a fixed point, so it is operated by the thermal expansion correction mechanism (10). The above joint W before starting
If the shadow mask structure (7) is moved to the point W3 shown by the imaginary line, the shadow mask structure (7) that was in the state shown by the solid line S in the same figure before the start of the operation is moved.
moves closer to the electron gun (12A) than in the case shown by the dotted line Sl in the figure, as shown by the virtual line S3. As a result of this movement, the electron beam passing hole (13) that was in the normal position shown as point H in the figure moves to point H3, and the electron beam passing hole (13) that has moved to this point H3 is connected to the electron gun (12A). The electron beam (8A) is directed to the point P on the phosphor screen (3) that it should originally reach, reducing mislanding.

他方、フレーム(9)の温度上昇によって、動作開始前
に第12図の実線Fで示す状態にあったフレーム(8)
は1点線F1で示すように熱膨張し、点Hで示す正規の
位置にあった電子ビーム通過孔(13)は点H2に移動
する。
On the other hand, due to an increase in the temperature of the frame (9), the frame (8) was in the state shown by the solid line F in FIG. 12 before the start of operation.
thermally expands as shown by the one-dot line F1, and the electron beam passage hole (13), which was in the normal position shown by point H, moves to point H2.

ところが、熱膨張補正機構(10)によって、シヤドウ
マスク構体(7)を仮想9&S3で示すように、蛍光面
(3)側に近づければ、同図の点Hで示す正規の位置に
あった電子ビーム通過孔(13)は点H3に移動し、こ
の点H3に移動した電子ビーム通過孔(13)は電子銃
(12A)からの電子ビーム(BA)が本来到達しなけ
ればならない蛍光面(3)上の点Pに向う位置となり、
ミスランディングが軽減される。
However, due to the thermal expansion correction mechanism (10), if the shadow mask structure (7) is brought closer to the phosphor screen (3) as shown in virtual 9&S3, the electron beam that was in the normal position shown as point H in the figure is The passage hole (13) moves to point H3, and the electron beam passage hole (13) moved to this point H3 connects to the phosphor screen (3) where the electron beam (BA) from the electron gun (12A) should originally reach. It will be in a position facing the point P above,
Mislandings are reduced.

このような熱膨張補正機構(lO)で、ve来、たとえ
ばバイメタル(15)を使用したものとして、特公昭4
3−26152号、特公昭44−3547号、特公昭4
7−3506号、特公昭47−40505号などが知ら
れている。
Since then, such a thermal expansion correction mechanism (lO) has been developed using, for example, bimetal (15).
No. 3-26152, Special Publication No. 44-3547, Special Publication No. 4
Known examples include No. 7-3506 and Special Publication No. 47-40505.

しかしながら、第13図で示すように、たとえば暗視野
部(A)と円形高輝度部(B)とからなる画面(1B)
を受像した場合、高輝度部(B)に対応するシヤドウマ
スク構体(7)の局部(7a)が熱変形し1局部的なド
ーミングにより色ずれが生じる。このような局部的なド
ーミングによる色ずれは、従来の熱膨張補正機構(10
)により補正することが不可能であった。
However, as shown in FIG. 13, for example, a screen (1B) consisting of a dark field area (A) and a circular high brightness area (B)
When an image is received, a local part (7a) of the shadow mask structure (7) corresponding to the high brightness part (B) is thermally deformed, and color shift occurs due to local doming. The color shift caused by such local doming can be solved by the conventional thermal expansion correction mechanism (10
), it was impossible to correct it.

このような局部的なドーミングによる色ずれの問題を解
決するには、テレビジョン学会誌の論文「シャドウマス
ク管の局部ドーミング現象に関する理論検討」で示され
ているよゝうに、シヤドウマスク構体(7)を厚内にす
る手段が有効的であることが理論的に立証されている。
In order to solve the problem of color shift due to such local doming, as shown in the paper "Theoretical Study on Local Doming Phenomenon of Shadow Mask Tube" published in the Journal of the Television Society, a shadow mask structure (7) is proposed. It has been theoretically proven that it is effective to reduce the amount of water within the thickness.

しかしながら、一般的に、シヤドウマスク構体(7)は
、たとえば特公昭51−9264号公報に示されている
エツチング法といった化学的な方法で製造される。
However, the shadow mask structure (7) is generally manufactured by a chemical method such as the etching method disclosed in Japanese Patent Publication No. 51-9264.

この化学的な製造法においては、シヤドウマスク構体(
7)の板厚(1)と、電子ビームが通過する電子ビーム
通過孔(13)の大きさ(Sv)との間に、S賛)0.
8Xt          ・・・・・・■という条件
があり、この条件を満足させて、厚肉の板に小さな孔を
密に設けることは不可能である。
In this chemical manufacturing method, the shadow mask structure (
7) between the plate thickness (1) and the size (Sv) of the electron beam passage hole (13) through which the electron beam passes, Sv)0.
There is a condition: 8Xt...■, and it is impossible to satisfy this condition and densely form small holes in a thick plate.

すなわち5カラー受像管の解像度を向上させるために、
蛍光面(3)を構成する蛍光体の設定ピッチを小さくす
れば、シヤドウマスク構体(7)はその色選別機能を発
揮するために、これに形成される電子ビーム通過孔(1
3)の大きさも必然的に小さくしなければならないこと
はいうまでもない。
In other words, in order to improve the resolution of the 5-color picture tube,
By reducing the setting pitch of the phosphors constituting the phosphor screen (3), the shadow mask structure (7) can perform its color selection function by reducing the electron beam passing holes (1) formed therein.
It goes without saying that the size of 3) must also be made small.

他方、シヤドウマスク構体(7)の熱変形による色ずれ
を抑えて、良好な色純度を保つためには。
On the other hand, in order to suppress color shift due to thermal deformation of the shadow mask structure (7) and maintain good color purity.

厚肉のシヤドウマスク構体(7)が要求されることは前
述したテレビジョン学会誌の論文の通りである。
The fact that a thick shadow mask structure (7) is required is as stated in the above-mentioned article in the Journal of the Society of Television Engineers.

しかし、この両者は上記0式から明らかに矛盾した関係
にある。したがって2この両者を満足させるために、厚
肉の1枚の板からなるシヤドウマスク構体(7)に小さ
な電子ビーム通過孔(13)を開設することは、前述し
たように製造面において非常に困難である。
However, these two have a clearly contradictory relationship from the above equation 0. Therefore, in order to satisfy both of these requirements, it is extremely difficult to create a small electron beam passage hole (13) in the shadow mask structure (7) made of a single thick plate, as described above. be.

そのため、たとえば特開昭57−138746号公報に
示されているように、複数枚の薄肉のシャドウマスク板
を積層し、これらをその外周部において溶接することに
よって、実質的に厚肉のシヤドウマスク構体(7)を構
成することが提案されている。
Therefore, as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-138746, a substantially thick shadow mask structure can be obtained by stacking a plurality of thin shadow mask plates and welding them at their outer peripheries. It is proposed to configure (7).

第14図および第15図は上記特開昭57−13874
6号公報に提案された厚肉のシヤドウマスク構体の成形
方法を示す説明図であり、まず第14図で示すように、
厚みの異なる2枚のシャドウマスク板(21)、(22
)を、それぞれの電子ビーム通過孔がある有孔線領域(
23A)。(23B)の外周の無孔部領域(24A) 
、(24B)に形成された位置決め孔(25A) 、 
(25B) とこれに係合する位置決めピン(26)と
を介して位置合せ治具(27)上に設置する。これによ
り5上記2枚のシャドウマスク板(21)。(22)を
それぞれの電子ビーム通過孔が合致するように重ね合せ
て位置決めする。この状態で、2枚のシャドウマスク板
(21)。(22) tそれらの無孔部領域(24A)
 、(24B)において、スポット溶接輯8)またはシ
ーム溶接する。
Figures 14 and 15 are from the above-mentioned Japanese Patent Application Publication No. 57-13874.
FIG. 14 is an explanatory diagram showing a method for forming a thick shadow mask structure proposed in Publication No. 6, and first, as shown in FIG. 14,
Two shadow mask plates (21) and (22) with different thicknesses
), and the perforated wire area with each electron beam passage hole (
23A). Non-porous area (24A) on the outer periphery of (23B)
, a positioning hole (25A) formed in (24B),
(25B) and a positioning pin (26) that engages with the positioning jig (27). As a result, 5 the above two shadow mask plates (21). (22) are superimposed and positioned so that their respective electron beam passing holes match. In this state, the two shadow mask plates (21). (22) Their non-porous area (24A)
, (24B), spot welding step 8) or seam welding is performed.

次に、第15図(a)で示すように、互いに合致した各
シャドウマスク板(21) 、(22)の電子ビーム通
過孔(13a)、(13b)を第15図(b)で示すよ
うに、ポリアミド系レジン(29)で埋めたのち、たと
えば熱風乾燥し、かつこのレジン(29)をキュアリソ
ゲして十分な強度をもたせる。そののち、通常のカラー
受像管用シャドウマスクの成形と同様に所望の曲率を有
する雌雄の金型を用いて第15図(C)で示すように、
プレス成形することにより、2枚のシャドウマスク板(
21)、(22)の滑りや伸びのばらつきによる電子ビ
ーム通過孔(13a)。
Next, as shown in FIG. 15(a), the electron beam passing holes (13a) and (13b) of the shadow mask plates (21) and (22) that match each other are aligned as shown in FIG. 15(b). After filling it with polyamide resin (29), it is dried with hot air, for example, and this resin (29) is cured to give it sufficient strength. Thereafter, as shown in FIG. 15(C), male and female molds having desired curvatures are used to form a shadow mask for a normal color picture tube.
By press forming, two shadow mask plates (
21), electron beam passage hole (13a) due to variations in slippage and elongation of (22).

(13b)の位置ずれを防止する。モして、最後に充填
したレジン(28)を機械的にまたはレーザー光などを
用いて第15図(d)のように除去する。
(13b) is prevented from shifting. Then, the last filled resin (28) is removed mechanically or using a laser beam as shown in FIG. 15(d).

[発明が解決しようとする課II] しかしながら、上記のような先行技術によって構成され
た従来の厚肉のシヤドウマスク構体においては、プレス
成形後にレジン(29)を除去するにしても、このレジ
ン(29)の充填時に2枚のシャドウマスク板(21)
、(22)間に浸透したレジン液を完全に除去すること
は困難である。そのため、カラー受像管の動作中に徐々
に不純ガスが管内に流出して受像管の寿命を短くしたり
、テレビジョンセットのスピーカ音による振動で2枚の
シャドウマスク板(21)、(22)間に残っていた未
除去レジンが管内に散出し2これが電子銃などに付着し
てスパークを引きおこすなどの問題があった。
[Problem II to be Solved by the Invention] However, in the conventional thick-walled shadow mask structure constructed by the prior art as described above, even if the resin (29) is removed after press molding, the resin (29) ) when filling two shadow mask plates (21)
, (22) It is difficult to completely remove the resin liquid that has penetrated between. As a result, impure gas gradually flows into the tube during operation of the color picture tube, shortening the life of the picture tube, and the two shadow mask plates (21) and (22) are damaged by vibrations caused by the sound of the television set's speakers. There was a problem in that the unremoved resin that remained between the tubes was scattered into the tube, and this adhered to the electron gun and caused sparks.

また、プレス成形後の残留歪のもどり現象により、電子
ビーム通過孔(13a) 、 (t 3b)に位置ずれ
を発生しやすい欠点があった。
In addition, there was a drawback in that the electron beam passing holes (13a) and (t3b) were likely to be misaligned due to the phenomenon of residual strain returning after press molding.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、複数枚のシャドウマスク板を電子ビーム通過
孔の位置ずれのないように接合して高解像度で、かっ色
純度に優れ、しかも寿命の長いカラー受像管を構成する
ことができるカラー受像管用シャドウマスク構体を提供
することを目的とする。
This invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and it is possible to achieve high resolution, excellent brown color purity by joining a plurality of shadow mask plates so that the electron beam passage holes are not misaligned, and Moreover, it is an object of the present invention to provide a shadow mask structure for a color picture tube that can constitute a color picture tube with a long life.

[課題を解決するための手段] この発明によるカラー受像管用シャドウマスク構体は、
複数枚のシャドウマスク板の互いに隣接する2枚のシャ
ドウマスク板どうしを、上記多数の電子ビーム通過孔が
形成された有孔線領域の複数個所で溶接接合したことを
特徴とする。
[Means for Solving the Problems] A shadow mask structure for a color picture tube according to the present invention has the following features:
The present invention is characterized in that two adjacent shadow mask plates of the plurality of shadow mask plates are welded together at a plurality of locations in the perforated wire region in which the large number of electron beam passage holes are formed.

[作用] この発明によれば、互いに隣接する2枚のシャドウマス
ク板どうしを有孔線領域の複数個所で溶接接合して厚肉
のシヤドウマスク構体を構成するので、その溶接後のプ
レス成形時に有孔線領域の多数の電子ビーム通過孔が位
置ずれすることを防止できる。これにより、厚肉で、か
つ小さな電子ビーム通過孔を密に形成することができる
から、シヤドウマスク構体の熱変形による色ずれを抑え
て、良好な色純度を保つことが可能であるとともに、カ
ラー受像管の解像度を向上させることができる。
[Function] According to the present invention, since a thick shadow mask structure is constructed by welding two shadow mask plates adjacent to each other at a plurality of locations in the perforated wire area, there are It is possible to prevent a large number of electron beam passing holes in the hole line region from being misaligned. This makes it possible to densely form thick and small electron beam passing holes, which suppresses color shift due to thermal deformation of the shadow mask structure, maintains good color purity, and improves color image reception. The resolution of the tube can be improved.

[発明の実施例] 以下、この発明の一実施例を図面にもとづいて説明する
[Embodiment of the Invention] Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第1図はこの発明の一実施例によるカラー受像管用シャ
ドウマスク構体を蛍光面側からみた要部の拡大平面図、
第2図は第1図の斜視断面図である。
FIG. 1 is an enlarged plan view of the main parts of a shadow mask structure for a color picture tube according to an embodiment of the present invention, viewed from the phosphor screen side;
FIG. 2 is a perspective sectional view of FIG. 1.

なお、シャドウマスク式カラー受像管の全体構成は第9
図で示すものと同様であるため、以下の説明においては
同図を参照しながら説明する。
The overall configuration of the shadow mask type color picture tube is as follows.
Since it is similar to that shown in the figure, the following description will be made with reference to the same figure.

第1図において、(21)は電子銃(12A) 、(1
2B)。
In Figure 1, (21) is an electron gun (12A), (1
2B).

(12G)側に配設された比較的薄肉な一方のシャドウ
マスク板で、このシャドウマスク板(21)には第2図
および第3図で明瞭に示すように、他方のシャドウマス
ク板(22)が積層されている。このシャドウマスク板
(22)は熱伝導の主体となる蛍光面(3)側に配設さ
れ、かつ上記シャドウマスク板(21)を補強するため
に、このシャドウマスク板(21)の板厚(tl)より
も大きい板厚(t2)に形成されている。
One relatively thin shadow mask plate (12G) is disposed on the side (12G), and as clearly shown in FIGS. ) are laminated. This shadow mask plate (22) is disposed on the side of the phosphor screen (3) which is the main conductor of heat, and in order to reinforce the shadow mask plate (21), the thickness of the shadow mask plate (21) ( The plate thickness (t2) is larger than that of the plate (tl).

(30)はシャドウマスク板(21)に設けられた電子
ビーム通過孔(13a)を形成するスロット形の貫通孔
、(3Oa)は貫通孔(3o)の側壁、(31)はシャ
ドウマスク板(22)に設けられた電子ビーム通過孔(
13b)を形成するスロット形の貫通孔で、この貫通孔
(31)は上記シャドウマスク板(21)側の貫通孔(
3G)よりも多少大きく形成されている。(31a)は
貫通孔(31)の側壁である。
(30) is a slot-shaped through hole forming the electron beam passage hole (13a) provided in the shadow mask plate (21), (3Oa) is the side wall of the through hole (3o), and (31) is the shadow mask plate ( 22) through the electron beam passage hole (
This through hole (31) is a slot-shaped through hole forming a through hole (13b) on the shadow mask plate (21) side.
3G). (31a) is a side wall of the through hole (31).

(32)、(33)はシャドウマスク板(22)の表面
(22a)からシャドウマスク板(21)の深さ(t3
)にまでわたって、両シャドウマスク板(22)、(2
1)を溶融接合した溶接部である。
(32) and (33) are the depth (t3) of the shadow mask plate (21) from the surface (22a) of the shadow mask plate (22).
), both shadow mask plates (22), (2
This is the welded part where 1) was fused and joined.

第4図は29インチのカラー受像管におけるシヤドウマ
スク構体(7)を試作したときの各部の実際値を示す、
同図において、(P)はシヤドウマスク構体(7)の短
軸方向での電子ビーム通過孔のピッチで、0.65mm
である。シャドウマスク板(22)、(21)の板厚(
tl)、(t2)は0.25mmおよび0.20mm、
またシャドウマスク板(21)の貫通孔(30)の幅は
電子銃側の幅(Swl)が150JLmで、他方のシャ
ドウマスク板(22)に接する面側の幅(Sw2)より
も狭く成形されている。
Figure 4 shows the actual values of each part when a prototype shadow mask structure (7) was made for a 29-inch color picture tube.
In the figure, (P) is the pitch of electron beam passing holes in the short axis direction of the shadow mask structure (7), which is 0.65 mm.
It is. The thickness of the shadow mask plates (22) and (21) (
tl), (t2) are 0.25mm and 0.20mm,
Further, the width of the through hole (30) of the shadow mask plate (21) on the electron gun side (Swl) is 150 JLm, which is narrower than the width (Sw2) on the side of the surface in contact with the other shadow mask plate (22). ing.

上記シャドウマスク板(22) 、(21)のスロット
形貫通孔(31)、 (30)の幅のそれぞれの値は、
管軸の中心からの距離により変化する0例えば、長軸上
の管軸の中心から150mm離れた位置では、上記貫通
孔(30)の暢(SwR)の中心を通るようにシャドウ
マスク板(21)にたてた垂直線からの距離で表わすと
、シヤドウマスク構体の組立誤差による電子ビームの通
過面積のばらつきをなくするために、 (Bwl)は1
60pm、(8w2)は120 gm。
The widths of the slot-shaped through holes (31) and (30) of the shadow mask plates (22) and (21) are as follows:
For example, at a position 150 mm away from the center of the tube axis on the long axis, the shadow mask plate (21 ), (Bwl) is 1 in order to eliminate variations in the electron beam passage area due to assembly errors in the shadow mask structure.
60pm, (8w2) is 120 gm.

(Owl)は150gm、(0w2)は120gm、ま
た(0w3)は250 kLm、 (0w4)は170
pmに設定して製作する。
(Owl) is 150gm, (0w2) is 120gm, (0w3) is 250 kLm, (0w4) is 170
Produce it by setting it to pm.

以上のようにして製作されたシャドウマスク板(22)
、(21)を後述する押え治具(34)と位置合せ治具
(27)との間に挟持させて、4Kg/amの圧力を加
えることにより、上記の両シャドウマスク板(22)、
(21)を隙間のないように密着させる。この状態で、
たとえばYAGレーザをo、e〜0.8ジユール/パル
ス、パルス幅10s+sec程度の条件で、0.1〜O
,15mm程度のビーム径になるようにレーザ加工ヘッ
ド(35)で集光して、シャドウマスク板(22) 、
(21)に照射し溶接する。このときのシャドウマスク
板(22)の表面の溶接部(32)の直径(Ll)は約
0.31層、シャドウマスク板(21)の溶接部の直径
(L2)は約0.10mmで5その深さ(t3)は0.
1−膳程度とする。
Shadow mask board (22) manufactured as above
, (21) are held between a holding jig (34) and an alignment jig (27), which will be described later, and a pressure of 4 kg/am is applied to both the shadow mask plates (22),
(21) are tightly attached without any gaps. In this state,
For example, using a YAG laser at o, e~0.8 joules/pulse, pulse width 10s+sec, 0.1~0
, the beam is focused by the laser processing head (35) to a beam diameter of about 15 mm, and the shadow mask plate (22) is
(21) is irradiated and welded. At this time, the diameter (Ll) of the welded part (32) on the surface of the shadow mask plate (22) is about 0.31 layers, and the diameter (L2) of the welded part of the shadow mask plate (21) is about 0.10 mm. Its depth (t3) is 0.
It should be about 1-meal.

また、この29インチのカラー受像管に実施した場合、
有孔部領域(23^) 、 (23B)の外周部の無孔
部領域(24轟)・、 (24B)において、40諺鳳
のピッチで約50点、有孔部領域(23^)、(23B
)において、約30〜100mmのピッチで約100点
の溶接をおこなった。この状態で、プレス成形したとこ
ろ2枚のシャドウマスク板(21)、(22)の滑りや
伸びのばらつきによる電子ビーム通過孔(13a)、(
13b)の位置ずれはまったくなく、良好な結果が得ら
れた。
Also, when applied to this 29-inch color picture tube,
The perforated area (23^), the non-porous area (24 Todoroki) on the outer periphery of (23B), about 50 points at a pitch of 40, the perforated area (23^), (23B
), welding was performed at about 100 points at a pitch of about 30 to 100 mm. In this state, when press molding was performed, the electron beam passing hole (13a), (
13b), there was no displacement at all, and good results were obtained.

つぎに、上記構成のシヤドウマスク構体(7)の製作方
法について概略的に説明する。
Next, a method for manufacturing the shadow mask structure (7) having the above configuration will be schematically explained.

第5図は化学的なエツチング法によりそれぞれ所望の板
厚に製作された2枚のシャドウマスク板(21)、(2
2)を示す概略平面図で1、それぞれ電子ビーム通過孔
がある有孔部領域(23A)、(23B)の外周部の無
孔部領域(24^) 、 (24B)には、上記2枚の
シャドウマスク板(21) 、 (22)を正確に位置
合わせするための位置決め孔(25A) 、、(25B
)が形成されている。
Figure 5 shows two shadow mask plates (21) and (2) each manufactured to a desired thickness by a chemical etching method.
2) In the schematic plan view showing 1, the non-porous areas (24^) and (24B) on the outer periphery of the perforated areas (23A) and (23B) where the electron beam passing holes are located, respectively, have the above two sheets. Positioning holes (25A), (25B) for accurately aligning the shadow mask plates (21), (22) of
) is formed.

このように製作された2枚のシャドウマスク板(2m)
、 (22)を、第6図で示すように、上記位置決め孔
(25A) 、 (25B)とこれに係合する位置決め
ビン(28)とを介して上記した位置合せ治具(27)
上に設置する。これにより、上記2枚のシャドウマスク
板(21) 、(22)をそれぞれの電子ビーム通過孔
が合致するように重ね合せて位置決めする。
Two shadow mask boards (2m) made in this way
, (22), as shown in FIG. 6, the above-described positioning jig (27) via the positioning holes (25A), (25B) and the positioning pin (28) that engages therewith.
Place it on top. As a result, the two shadow mask plates (21) and (22) are superimposed and positioned so that their respective electron beam passage holes match.

そののち、第7図で示すように、上記2枚のシャドウマ
スク板(21) 、(22)を押え治具(34)と位置
合せ治具(27)との間に挟持させて圧力を加えること
により、上記の両シャドウマスク板(22)、(21)
を隙間のないように密着させる。この状態で。
Thereafter, as shown in FIG. 7, the two shadow mask plates (21) and (22) are held between the holding jig (34) and the alignment jig (27) and pressure is applied. By this, both of the above shadow mask plates (22) and (21)
Seal the parts tightly together without any gaps. In this condition.

レーザ加工ヘッド(35)を位置決めして、溶接個所に
レーザを照射することにより、両シャドウマスク板(2
1)、(22)は互いに溶接される。溶接後、上記押え
治具(34)を上方に上昇させて挟持圧力を解除するこ
とにより、シヤドウマスク構体(7)が構成される。
By positioning the laser processing head (35) and irradiating the welding area with the laser, both shadow mask plates (2
1) and (22) are welded together. After welding, the shadow mask structure (7) is constructed by lifting the holding jig (34) upward to release the clamping pressure.

第8図は上記のようにして構成されたシヤドウマスク構
体(7)を球面形にプレス成形した状態の斜視図であり
、その周囲にスカート部(8)が一体に折曲げ形成され
ている。
FIG. 8 is a perspective view of the shadow mask structure (7) constructed as described above that has been press-molded into a spherical shape, and a skirt portion (8) is integrally bent and formed around the shadow mask structure (7).

なお、上記実施例においては、シヤドウマスク構体(7
)が2枚のシャドウマスク板(21)、(22)を積層
し溶接したものから構成されている場合について説明し
たけれども、シヤドウマスク構体(7)が3枚以上のシ
ャドウマスク板を溶接して構成されている場合について
も同様の効果を奏することはもちろんである。
In addition, in the above embodiment, the shadow mask structure (7
) is made up of two shadow mask plates (21) and (22) stacked and welded, but the shadow mask structure (7) is made up of three or more shadow mask plates welded together. Of course, the same effect can be obtained even when

また、上記実施例においては52枚のシャドウマスク板
(21) 、(22)の溶接はレーザ光により行なった
場合について説明したけれども、電子ビーム溶接機を用
いて溶接する場合についても同様の効果を奏することは
いうまでもない。
Furthermore, in the above embodiment, the case where the welding of the 52 shadow mask plates (21) and (22) was performed using a laser beam was explained, but the same effect can be obtained when welding is performed using an electron beam welding machine. Needless to say, it is played.

さらに、上記実施例においては、シャドウマスク構体(
5)の熱膨張補正機構(10)として、バイメタルを使
用した場合について説明したけれども、その他の公知の
手段を用いても同様の効果を奏することができる。
Furthermore, in the above embodiment, the shadow mask structure (
Although a case has been described in which a bimetal is used as the thermal expansion correction mechanism (10) in 5), the same effect can be achieved by using other known means.

[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、a層された複数枚の
シャドウマスク板をそれらの有孔部領域の複a(Il所
で溶接してプレス成形するので、厚肉のシヤドウマスク
構体を構成することができるとともに、得られた厚肉の
シヤドウマスク構体に溶接歪によるしわや、各積層シャ
ドウマスク板間の遊離、位置すれといった変形を防止す
ることができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a plurality of shadow mask plates formed in a layer are welded and press-formed in the perforated areas of the plurality of shadow mask plates. In addition, it is possible to construct a thick shadow mask structure, and to prevent deformation such as wrinkles due to welding distortion and separation and misalignment between the laminated shadow mask plates in the obtained thick shadow mask structure.

したがって、カラー受像管の解像度を向上させるために
、蛍光面を構成する赤、緑、青の各色に発光する蛍光体
の設定ピッチが小さくなるのにともなって、シヤドウマ
スク構体に形成される電子ビーム通過孔の大きさを小さ
くすることが可能である。
Therefore, in order to improve the resolution of color picture tubes, as the setting pitch of the phosphors that emit red, green, and blue light that make up the phosphor screen becomes smaller, the electron beam passing through the shadow mask structure becomes smaller. It is possible to reduce the size of the holes.

また、シヤドウマスク構体の熱変形による色ずれを抑え
て、良好な色純度を保つために、厚肉のシヤドウマスク
構体が容易に得られるものである。
Further, in order to suppress color shift due to thermal deformation of the shadow mask structure and maintain good color purity, a thick shadow mask structure can be easily obtained.

すなわち、この発明によるカラー受像管用シャドウマス
ク構体によれば、解索度の向上と色純度の増進9番をと
もに達成することができる。
That is, according to the shadow mask structure for a color picture tube according to the present invention, it is possible to achieve both improvement in resolution and improvement in color purity.

とくに、この発明によるシャドウマスク構体によれば、
シヤドウマスク構体が厚肉であるから、テレビジョン学
会誌の論文で理論的に立証されているように、電子ビー
ムの局部的なシャドウマスク板への射突により発生する
シャドウマスク板自体の熱変形、つまり局部ドーミング
を紡出して。
In particular, according to the shadow mask structure according to the present invention,
Because the shadow mask structure is thick, thermal deformation of the shadow mask plate itself occurs due to the local impact of electron beams on the shadow mask plate, as theoretically proven in an article published in the Journal of the Society of Television Engineers. In other words, by creating local doming.

色純度の良いカラー受像管を提供することができる。A color picture tube with good color purity can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例によるカラー受像管用シャ
ドウマスク構体の要部の拡大平面図、第2図は第1図の
斜視断面図、第3図は第1図のm−■線に沿う断面図、
第4図は21インチカラー受像管に実施した場合の各部
の寸法を説明するための要部の拡大断面図、第5図は接
合されたシヤドウマスク構体の概略平面図、第6図はシ
ヤドウマスク構体の製作方法を説明するための斜視図、
第7図はシヤドウマスク構体の製作方法で、溶接時の状
態を示す要部の拡大断面図、1ilB図はプレス成形さ
れたシヤドウマスク構体の斜視図、第9図はシャドウマ
スク式カラー受像管の一部破断斜視図、第1θ図はシャ
ドウマスク式カラー受像管におけるフレームとシャドウ
マスク板の動作経過時間に対する温度上昇経過を示す特
性図、第11図はカラー受像管におけるシャドウマスク
構体のドーミングとその補正動作の一例を説明するため
の線図、第12図は上記シャドウマスク構体におけるフ
レームの熱膨張にともなうミスランディングとその補正
動作の一例を説明するための線図、第13図はカラー受
像管におけるシャドウマスク構体の局部的なドーミング
の一例を説明するための線図で、同図(a)はカラー受
像管における画面の正面図、同図(b)はカラー受像管
の平面図、第14図は従来のカラー受像管用シヤドウマ
スク構体の製作方法を説明するための斜視図、第15図
(&)〜(d)は従来のシヤドウマスク構体の成形工程
を示す要部の拡大断面図である。 (2)・・・パネル、(3)・・・蛍光面、(7)・・
・シャドウ−vスフ本体、 (9)・・・フレーム、 
(13)・・・電子ビーム通過孔、(21)、(22)
・・・シャドウマスク板、(23A) 。 (23B)・・・有孔部領域、(24A) 、 (24
B)・・・無孔部領域(32) 、 (33)・・・溶
接部。 なお、図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
1 is an enlarged plan view of a main part of a shadow mask structure for a color picture tube according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective sectional view of FIG. 1, and FIG. 3 is taken along the line m-■ in FIG. A cross-sectional view along
Fig. 4 is an enlarged sectional view of the main parts to explain the dimensions of each part when implemented in a 21-inch color picture tube, Fig. 5 is a schematic plan view of the joined shadow mask structure, and Fig. 6 is the shadow mask structure. A perspective view to explain the manufacturing method,
Figure 7 is an enlarged cross-sectional view of the main parts showing the state during welding, showing a method for manufacturing a shadow mask structure, Figure 1ILB is a perspective view of a press-molded shadow mask structure, and Figure 9 is a part of a shadow mask type color picture tube. A cutaway perspective view, Fig. 1θ is a characteristic diagram showing the temperature rise course with respect to the elapsed operation time of the frame and shadow mask plate in a shadow mask type color picture tube, and Fig. 11 shows doming of the shadow mask structure in a color picture tube and its correction operation. A diagram for explaining an example, FIG. 12 is a diagram for explaining an example of mislanding due to thermal expansion of the frame in the shadow mask structure and its correction operation, and FIG. 13 is a diagram for explaining a shadow in a color picture tube. FIG. 14 is a diagram for explaining an example of local doming of the mask structure. FIG. 14(a) is a front view of the screen in a color picture tube, FIG. 14(b) is a plan view of the color picture tube, and FIG. FIGS. 15(a) to 15(d) are perspective views for explaining a method of manufacturing a conventional shadow mask structure for a color picture tube, and FIGS. (2)... Panel, (3)... Fluorescent screen, (7)...
・Shadow-v Sufu body, (9)...Frame,
(13)...Electron beam passage hole, (21), (22)
...Shadow mask board, (23A). (23B) ... Perforated region, (24A), (24
B)... Non-porous area (32), (33)... Welded part. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)パネルの内面の蛍光面に対向して配設されかつ多
数の電子ビーム通過孔が形成されたシヤドウマスク本体
と、このシヤドウマスク本体の外周部を固定し保持する
フレームと、受像動作時の上記シヤドウマスク本体の熱
膨張による色ずれを補正する熱膨張補正機構とを備え、
かつ上記シヤドウマスク構体が重ね合わされた複数枚の
シヤドウマスク板を溶接接合してなるカラー受像管用シ
ヤドウマスク構体において、上記複数枚のシヤドウマス
ク板の互いに隣接する2枚のシヤドウマスク板どうしを
、少なくとも上記多数の電子ビーム通過孔が形成された
有孔部領域の複数個所で溶接接合したことを特徴とする
カラー受像管用シヤドウマスク構体。
(1) A shadow mask body disposed facing the phosphor screen on the inner surface of the panel and in which a large number of electron beam passing holes are formed, a frame that fixes and holds the outer periphery of this shadow mask body, and Equipped with a thermal expansion correction mechanism that corrects color shift due to thermal expansion of the shadow mask body,
In the color picture tube shadow mask structure formed by welding and joining a plurality of overlapping shadow mask plates, at least two adjacent shadow mask plates of the plurality of shadow mask plates are exposed to at least the plurality of electron beams. A shadow mask structure for a color picture tube, characterized in that a perforated region in which a passage hole is formed is welded and joined at a plurality of locations.
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JPH0541179A (en) * 1991-08-07 1993-02-19 Mitsubishi Electric Corp Shadow mask for color picture tube and manufacture thereof
WO2003102998A1 (en) * 2002-05-30 2003-12-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Color cathode ray tube

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