JPH02126376A - ベジェール曲線描画装置 - Google Patents
ベジェール曲線描画装置Info
- Publication number
- JPH02126376A JPH02126376A JP27976288A JP27976288A JPH02126376A JP H02126376 A JPH02126376 A JP H02126376A JP 27976288 A JP27976288 A JP 27976288A JP 27976288 A JP27976288 A JP 27976288A JP H02126376 A JPH02126376 A JP H02126376A
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- JP
- Japan
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- curve
- bezier curve
- bézire
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- points
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- Pending
Links
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 244000171726 Scotch broom Species 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Image Generation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はベジェール曲線描画装置に関し、特にハードウ
ェア化による高速化及び画像の高品質化を可能とするベ
ジェール曲線描画装置に関する。
ェア化による高速化及び画像の高品質化を可能とするベ
ジェール曲線描画装置に関する。
従来、この種のベジェール曲線の描画は、ソフトウェア
によって行われていた。また、ベジェール曲線を高速に
描画するために直線に近似して行うのが一般的であるが
、その際の直線に分割するサンプリング数は極めて雑な
大きさによって決められている。
によって行われていた。また、ベジェール曲線を高速に
描画するために直線に近似して行うのが一般的であるが
、その際の直線に分割するサンプリング数は極めて雑な
大きさによって決められている。
上述した従来のベジェール曲線の描画は、ソフトウェア
によって行なわれているので、計算にかなりの時間を必
要とするという欠点と、ベジェール曲線を大枠での数で
直線として近似しているので、長いベジェール曲線にお
いては、描画の品質が低くなり、逆に短いベジェール曲
線では、必要以上にきめ細く近似することになり、高速
化ができないという欠点がある。
によって行なわれているので、計算にかなりの時間を必
要とするという欠点と、ベジェール曲線を大枠での数で
直線として近似しているので、長いベジェール曲線にお
いては、描画の品質が低くなり、逆に短いベジェール曲
線では、必要以上にきめ細く近似することになり、高速
化ができないという欠点がある。
本発明のベジェール曲線描画装置の構成は、べジェール
曲線を画像データとして格納するフレームバッファと、
そのベジェール曲線を決定する座標点の座標値を格納す
るレジスタと、そのベジェール曲線を直線近似する際の
近似直線の数であるサンプリング数を決定するサンプリ
ング数計算部と、このサンプリング数計算部の結果を用
いて各サンプル点の座標及び前記フレームバッファ上の
アドレスを算出する座標計算部と、前記フレームバッフ
ァ上のデータを修正するアキュームレータとを含んで構
成されることを特徴とする。
曲線を画像データとして格納するフレームバッファと、
そのベジェール曲線を決定する座標点の座標値を格納す
るレジスタと、そのベジェール曲線を直線近似する際の
近似直線の数であるサンプリング数を決定するサンプリ
ング数計算部と、このサンプリング数計算部の結果を用
いて各サンプル点の座標及び前記フレームバッファ上の
アドレスを算出する座標計算部と、前記フレームバッフ
ァ上のデータを修正するアキュームレータとを含んで構
成されることを特徴とする。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の主要部を示すブロック図、
第２図は処理の流れを示したフローチャート、第３図は
ベジェール曲線を示した図である。
第２図は処理の流れを示したフローチャート、第３図は
ベジェール曲線を示した図である。
第１図で示されるように、本実施例は座標レジスタ群１
と、サンプリング数計算部２と、座標計算部３と、アキ
ュームレータ４と、フレームバッファ５から構成される
。
と、サンプリング数計算部２と、座標計算部３と、アキ
ュームレータ４と、フレームバッファ５から構成される
。
第１図を中心に、第３図及び第２図の処理の流れに従っ
て、本実施例の装置の動作を説明する。
て、本実施例の装置の動作を説明する。
座標レジスタ群１に、ベジェール曲線（第３図Ｌ）を決
定する４点ＰＯ，ＰＩ 、Ｐ２．Ｐ３ （第３図）の
座標値（ｘｏ ＋ ｙｏ ）、 （Ｘｔ 、 ｙｒ
）。
定する４点ＰＯ，ＰＩ 、Ｐ２．Ｐ３ （第３図）の
座標値（ｘｏ ＋ ｙｏ ）、 （Ｘｔ 、 ｙｒ
）。
（Ｘ２ ＋ ｙｚ ）、 （Ｘ３ 、 ｙ３ ）が入
力され格納される（第２図ステップ２１）。
力され格納される（第２図ステップ２１）。
サンプリング数計算部２は、４点ｐｏ 、 ＰＩｐ２．
ｐ３によって決定されたベジェール曲線Ｌ（第３図）を
何本の直線で近似するかを決定する（第２図ステップ２
２）。この近似直線の数をサンプリング数と呼び以下の
様に決定する。
ｐ３によって決定されたベジェール曲線Ｌ（第３図）を
何本の直線で近似するかを決定する（第２図ステップ２
２）。この近似直線の数をサンプリング数と呼び以下の
様に決定する。
４点Ｐ。、ｐ、、ｐ２．ｐ３によって決定される曲線の
長さは、線分子ｆｌ＋３すなわち、ＰｏＰＩＰ、Ｐ２．
Ｐ２Ｐ３の長さの和！ｌ−ｌ Ｐ ｏ Ｐ ｌ＋ Ｉ
ＰＩ Ｐ２ ｌ ＋ ｌ Ｐ２ Ｐ３ ！にほぼ比
例するので、サンプリング数計算部２は１、Ｑに比例し
たサンプリング数を決定する。
長さは、線分子ｆｌ＋３すなわち、ＰｏＰＩＰ、Ｐ２．
Ｐ２Ｐ３の長さの和！ｌ−ｌ Ｐ ｏ Ｐ ｌ＋ Ｉ
ＰＩ Ｐ２ ｌ ＋ ｌ Ｐ２ Ｐ３ ！にほぼ比
例するので、サンプリング数計算部２は１、Ｑに比例し
たサンプリング数を決定する。
座標計算部３は、ベジェール曲線りを近似する直線をそ
れぞれの端点となるサンプル点の座標を計算（第２図ス
テップ２３）し、その近似直線をフレームバッファ５に
展開するために修正する必要があるフレームバッファ５
上のメモリを指すアドレスを算出（第２図ステップ２４
）する。
れぞれの端点となるサンプル点の座標を計算（第２図ス
テップ２３）し、その近似直線をフレームバッファ５に
展開するために修正する必要があるフレームバッファ５
上のメモリを指すアドレスを算出（第２図ステップ２４
）する。
アキュームレータ４は、座標計算部３によって算出され
たアドレスで指されたメモリからデータを読み込み、修
正した後、再びメモリに修正データを書き込むことによ
ってフレームバッファ５に近似直線を展開する（第２図
ステップ２５）。
たアドレスで指されたメモリからデータを読み込み、修
正した後、再びメモリに修正データを書き込むことによ
ってフレームバッファ５に近似直線を展開する（第２図
ステップ２５）。
この様にして、ベジェール曲線りを近似する全ての近似
直線を、フレームバッファ５に展開することで、ベジェ
ール曲線りをフレームバッファ５に展開する。
直線を、フレームバッファ５に展開することで、ベジェ
ール曲線りをフレームバッファ５に展開する。
以上説明したように本発明は、ベジェール曲線の描画を
ハードウェアで行うことにより、高速にベジェール曲線
を描画できるという効果と、ベジェール曲線の近似直線
の数（サンプリング数）をベジェール曲線の長さにほぼ
比例した数に決定することにより、長いベジェール曲線
においては、高品質の描画が得られ、短いベジェール曲
線においては、計算量が減るために高速化が図れるとい
う効果がある。
ハードウェアで行うことにより、高速にベジェール曲線
を描画できるという効果と、ベジェール曲線の近似直線
の数（サンプリング数）をベジェール曲線の長さにほぼ
比例した数に決定することにより、長いベジェール曲線
においては、高品質の描画が得られ、短いベジェール曲
線においては、計算量が減るために高速化が図れるとい
う効果がある。
第１図は本発明の一実施例の主要部を示すブロック図、
第２図は第１図の処理の流れを示すフローチャート、第
３図はベジェール曲線を説明するための図である。 １・・・座標レジスタ群、２・・・サンプリング数計算
部、３・・・座標計算部、４・・・アキュームレータ、
５・・・フレームバッファ。 箒 囚 第 圀
第２図は第１図の処理の流れを示すフローチャート、第
３図はベジェール曲線を説明するための図である。 １・・・座標レジスタ群、２・・・サンプリング数計算
部、３・・・座標計算部、４・・・アキュームレータ、
５・・・フレームバッファ。 箒 囚 第 圀
Claims (1)
- ベジェール曲線を画像データとして格納するフレームバ
ッファと、そのベジェール曲線を決定する座標点の座標
値を格納するレジスタと、そのベジェール曲線を直線近
似する際の近似直線の数であるサンプリング数を決定す
るサンプリング数計算部と、このサンプリング数計算部
の結果を用いて各サンプル点の座標及び前記フレームバ
ッファ上のアドレスを算出する座標計算部と、前記フレ
ームバッファ上のデータを修正するアキュームレータと
を含んで構成されることを特徴とするベジェール曲線描
画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27976288A JPH02126376A (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | ベジェール曲線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27976288A JPH02126376A (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | ベジェール曲線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02126376A true JPH02126376A (ja) | 1990-05-15 |
Family
ID=17615549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27976288A Pending JPH02126376A (ja) | 1988-11-04 | 1988-11-04 | ベジェール曲線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02126376A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010272120A (ja) * | 2009-05-25 | 2010-12-02 | Fujitsu Ltd | 曲線近似方法及びシステム、並びにグラフィック表示制御方法及び装置 |
-
1988
- 1988-11-04 JP JP27976288A patent/JPH02126376A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010272120A (ja) * | 2009-05-25 | 2010-12-02 | Fujitsu Ltd | 曲線近似方法及びシステム、並びにグラフィック表示制御方法及び装置 |
| US8976183B2 (en) | 2009-05-25 | 2015-03-10 | Fujitsu Limited | Method and system for approximating curve, and graphic display control method and apparatus |
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