JPH04291684A - 太線描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＤＴＰ，ＣＧ等におい
てコンピュータディスプレイ表示に用いられる太線描画
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ディスプレイ上に太線を描画する
方法としては、１点１画素の大きさからなる太線を書く
際の中心線（以下、ガイドラインと呼ぶ。）となる線分
とそれに平行な複数の線分を用いて、これらをフレーム
メモリ等の外部メモリで構成される描画平面に描画する
ことで太線を描画する、例えば特開昭６２−１６９２８
２号公報に記載される様な方法や、ガイドラインの各点
を、筆先パターンを保持している筆先平面内の基準点と
対応させてマスク演算を行ない、これを繰り返すことに
より描画平面に太線を描画するという方法があった。

【０００３】図１７は後者の方法で太線を描画する場合
の概略を示した図で、筆先パターン３４の形状で、描画
平面３５に対して基準点３６に対応させてマスク演算を
施した例である（同図（ａ））。マスク演算は、斜線部
３８〜４２の順に施される（同図（ｂ））。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら前者の場
合には、線分を基準としているので、描画処理の高速性
があるが、自由曲線を太線とする場合に、滑らかさが得
られないと言う問題点があった。また、滑らかさを得る
ために線分を短くして行うことは可能であるが、この場
合は滑らかさに限界があり、また描画の高速性が損なわ
れる。

【０００５】後者の場合は、ガイドラインに沿ってマス
ク演算を繰り返すため、滑らかさの点では優れているが
、図１７（ｂ）に示す様に、注目点３７は２回重複して
マスク演算が施されている。図１７（ａ）では、筆先パ
ターン３４として２画素×２画素のパターンを用いたた
め、重複回数が２回と少なかったが、数画素×数画素の
パターンを用いると同一点を画素単位で何回もマスク演
算することとなり、フレームメモリ等の外部メモリをア
クセスする回数が多くなるため、高速な描画処理をしに
くいと言う問題点があった。

【０００６】本発明は上記問題点を除去し、自由曲線を
太線描画する場合でも滑らかさを維持し、かつ高速描画
の可能な太線描画装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、太線を描画す
る場合に、太線を描画する１点１画素の大きさからなる
ガイドラインの各点を、筆先パターンを保持している筆
先平面内の基準点と対応させてマスク演算を行ない、こ
れを繰り返すことにより太線を描画する際に、筆先平面
と描画平面を直接マスク演算する替わりに、Ｍワード×
（Ｎワード＋２画素）の大きさを有するマスク平面と筆
先平面の間でマスク演算を行ない、演算結果をワード単
位で出力し、ワード単位で描画平面内の対応するアドレ
スのデータとのマスク演算を施し、その結果を描画平面
に描画する様にしたものである。

【０００８】

【作用】本発明によれば、上記のように筆先平面とマス
ク平面のマスク演算をガイドラインに沿って実施するの
で、得られる太線は滑らかである。また、マスク平面か
ら出力される演算結果はマスク平面内で重複演算が施さ
れた結果であり、外部メモリで構成される描画平面に描
画する回数が減少する上に、描画平面に対するワード単
位のアクセスが可能であるので、太線の高速描画が可能
となり、マスク演算処理を高速に実施することができる
。

【０００９】

【実施例】図１に本発明の一実施例の太線描画装置の構
成図を示す。次に、本発明の一実施例の太線描画装置を
図面を用いて詳細に説明する。

【００１０】太線描画装置１は、マスク演算を実施する
ための論理回路と演算結果を保持するレジスタ等で構成
されたマスク平面２と、マスク平面２でのマスク演算処
理を制御するマスク演算制御回路３と、筆先の形を保持
するＲＡＭあるいはレジスタ等で構成された筆先平面４
と、１ワード単位でマスク演算結果を出力する出力制御
部５と、ガイドラインの各点の座標値を保持するメモリ
、ディジタル微分解析回路（ＤＤＡ）等により構成され
、マスク演算制御回路３に太線を描く際の基準点を与え
る補助制御装置６で構成される。

【００１１】ＣＰＵ７は、制御信号バス８、アドレスバ
ス９、データバス１０を通じて筆先平面４に筆先のパタ
ーンを書き込む処理を施したり、補助制御装置６に対し
て太線を描く場合の始点と終点を指示したり、太線描画
処理の開始を指示する。また、太線描画装置１から出力
されたデータは、外部のメモリ（ビデオＲＡＭ、フィー
ルドメモリ等）により構成される描画平面１１に書き込
まれ、ディスプレイ１２に表示される。

【００１２】以下本実施例の装置の動作を説明する。ま
ず、ＣＰＵ７により、筆先平面４に筆先のパターンを書
き込む処理、補助制御装置６に対して太線描画処理を施
す際の基準点の集合であるガイドラインの始点と終点を
指示する処理が施される。ついで、ＣＰＵ７より処理開
始の信号が補助制御装置６に与えられ、太線描画装置１
において処理が開始される。

【００１３】太線描画装置１では、ＣＰＵ７より処理開
始の信号が補助制御装置６に与えられると、マスク平面
２内のデータは初期化され、筆先平面４の筆先パターン
とマスク演算が施され、その結果が保持される。

【００１４】次に、補助制御装置６よりマスク演算の際
の次の基準点を与える変位量信号が、マスク演算制御回
路３に与えられる。この変位量信号としては、ガイドラ
インが与えられた場合の始点とその次の点との変位量信
号、または太線の始点と終点及び曲線の種類が与えられ
た場合の、ディジタル微分回路から与えられる変位量信
号が用いられる。この変位量信号を受けてマスク演算制
御回路３から出力されるアドレス信号にしたがって、出
力制御部５に描画平面１１内のデータが読み込まれる。 また、マスク演算制御回路３から与えられる制御信号に
従い、マスク平面２においてマスク平面２内に保持され
たデータと筆先平面４の筆先パターンとのマスク演算を
施し、マスク演算された結果と、出力制御部５に読み込
まれた描画平面１１のデータとをマスク演算し、その結
果を描画平面１１内の前記アドレス信号の示す位置に書
き込む。

【００１５】上記の処理を始点から終点まで施し、マス
ク平面２において終点を基準点としたマスク演算を施し
た後、マスク平面２内の全てのデータとそれらに対応す
る描画平面１１内のデータとを出力制御部５においてマ
スク演算を施し、演算結果を描画平面１１に書き込むこ
とで太線描画処理が完了する。

【００１６】次に、マスク平面２でのマスク演算の様子
を詳しく説明する。図２は、本発明の太線描画装置のマ
スク平面２を示した図で、図中縦軸をＹ座標、横軸をＸ
座標とする。マスク平面２は１ワード×１ワードの大き
さの左マスク平面１３と、中央マスク平面１４と、右マ
スク平面１５と、それぞれ３ワード×１画素の大きさの
上部スクロール平面１６と、下部スクロール平面１７と
１ワード×（１ワード＋２画素）の補助平面１８の６つ
の平面から構成されている。１９は、中央マスク平面１
４の基準点Ｍ（［ｎ／２］，［ｎ／２］）（［］はガウ
ス記号を表す）である。

【００１７】図３は、筆先パターン２０を保持する１ワ
ード×１ワードの筆先平面４を示した図で、２１は筆先
平面の基準点Ｐ（［ｎ／２］，［ｎ／２］）である。

【００１８】つぎに図２と図３、本実施例の装置の動作
の様子を示した図４〜図１６を用いて太線を描画する動
作について説明する。

【００１９】まず、ＣＰＵ７から補助制御装置６に対し
て、ガイドラインの始点と終点が与えられる。次にＣＰ
Ｕ７から与えられる太線描画処理の開始を指示する信号
により、マスク平面２はすべて空白状態にリセットされ
る。

【００２０】次にＷワード×Ｈ行の大きさの描画平面１
１を図４に示すような１ワード×１行の大きさの短冊状
の部分に分割し、これらＷ×Ｈ×ｎ個の短冊状部分をＴ
（ｓ，ｔ）｛０≦ｓ≦（Ｗ−１），０≦ｔ≦（Ｈ−１）
｝で表した場合の、前記始点Ｓ０（Ｘ０　，Ｙ０）２２
の含まれる短冊状部分Ｔ（ｓ０，ｔ０）２３の代表点２
４（ｎ・ｓ０＋［ｎ／２］，ｔ０）に対して、図５に示
すようにマスク平面２内の基準点１９を対応させる。こ
れにより描画平面１１上の始点Ｓ０２２はマスク平面２
内の点Ｓ’０（Ｘ’０，Ｙ’０）２５に対応付けされる
。ついでマスク平面２内の点Ｓ’０２５と筆先パターン
２０を保持する筆先平面４内の基準点Ｐ２１を一致させ
てマスク平面２と筆先平面４のマスク演算を行なう。こ
れにより図６に示すような図形がマスク平面２に描かれ
る。

【００２１】次に、補助制御装置６から与えられる基準
点を指示する変位量信号（ｄＸ０，ｄＹ０）（始点Ｓ０
と次の基準点Ｓ１との変位量）の組み合わせに応じて、
マスク演算制御回路３より与えられる制御信号により、
マスク平面２内の基準点Ｓ’０２５と筆先平面４内の基
準点Ｐ２１の対応関係を変化させて、マスク平面２と筆
先平面４のマスク演算を施す。

【００２２】以下、それぞれの場合に分けて動作を説明
する。また、初期状態（始点に対してマスク演算を施し
た状態）を図７に示す。

【００２３】ｉ）変位量信号（ｄＸ０，ｄＹ０）＝（±
１，０）の場合 点Ｓ’０２５のＸ座標値を±１した点（この場合はｄＸ
＝−１とする。）Ｓ’１（Ｘ’０−１，Ｙ’０）２６と
筆先平面４内の基準点Ｐ２１とを対応させ、マスク平面
２においてマスク演算を行なう。その結果は図８となる
。図８で、斜線部分２７が新たに描かれた部分である。 （以下の図でも斜線部分が新たに描かれた部分を示す。 ）ｉｉ）変位量信号（ｄＸ０，ｄＹ０）＝（０，±１）
の場合マスク平面１全体をＹ軸方向に１画素上方あるい
は下方スクロールする。つまりｄＹ１＝１ならば、下部
スクロール平面１７に左マスク平面１３、中央マスク平
面１４、右マスク平面１５の最下部の１ワード×１画素
の範囲のデータが送られ、上部スクロール平面１６にあ
ったデータが左マスク平面１３、中央マスク平面１４、
右マスク平面１５の最上部の１ワード×１画素の範囲に
送られる。また、上部スクロール平面１６には空白が与
えられる。

【００２４】Ｙ軸に添ったスクロールの後、ｄＹ１＝−
１ならば上部スクロール平面１６内の３ワードのデータ
が、ｄＹ１＝１ならば下部スクロール平面１７内の３ワ
ードのデータが、出力制御部５において描画平面１１と
のマスク演算に用いられることになる。ただし、描画平
面１１とのマスク演算の際に、各ワードのデータが全て
空白である場合は、そのワードのマスク演算はスキップ
される。

【００２５】また、描画平面１１とのマスク演算の間に
点Ｓ’０２５のＹ座標値を±１した点Ｓ’１（Ｘ’０，
Ｙ’０±１）２６と筆先平面４内の基準点Ｐ２１とを対
応させ、マスク平面２においてマスク演算を実施する。 この動作は、先に行なったスクロール動作により、見か
け上は点Ｓ’０２５と点Ｓ’１２６は一致する。ｄＹ１
＝１の場合の演算結果を図９に示す。

【００２６】ｉｉｉ）変位量信号（ｄＸ１，ｄＹ１）＝
（±１，±１）の場合（正負は任意） まず、ｉ）の場合と同様に点Ｓ’０２５のＸ座標値を±
１した点Ｓ’１（Ｘ’０±１，Ｙ’０）２６と筆先平面
４内の基準点Ｐ２１とを対応させる。次いで、ｉｉ）の
場合と同様にＹ軸に添ってマスク平面２をスクロールさ
せ、出力制御部５において上部、下部いずれかのスクロ
ール平面に送られたデータと描画平面１１の間でマスク
演算を施すと同時に、マスク平面２においてマスク平面
２と筆先平面４間のマスク演算を実行する。この場合の
演算結果を図１０（ｄＸ１＝−１，ｄＹ１＝１の場合）
に示す。

【００２７】以下、時系列信号として与えられる基準点
Ｓｉと次の基準点Ｓｉ＋１との変位量を与える（ｄＸｉ
，ｄＹｉ）信号に対して以上のような動作を繰り返し実
行する内に、図１１に示す様に、筆先平面４とマスク平
面２とのマスク演算を施す場合の基準点Ｓ’ｉ２８が、
中央マスク平面１４から左マスク平面１３あるいは右マ
スク平面１５に移動する場合が発生する。

【００２８】この場合について、筆先平面４とマスク平
面２とのマスク演算を施す場合の基準点Ｓ’ｉ２８が中
央マスク平面１４から左マスク平面１３に移動する場合
を例にとり説明する。

【００２９】まず、右マスク平面１５の全データを補助
平面１８に、中央マスク平面１４の全データを右マスク
平面１５に、左マスク平面１３の全データを中央マスク
平面１４に転送する（図１２参照）。

【００３０】次いで左マスク平面１３の全データを初期
化する。この操作を実行することにより、マスク平面２
内のデータは１ワード分右シフトすることとなる。その
ため、図１２に示す様に操作前の点Ｓ’ｉ（０，［ｎ／
２］）２８は点Ｓ”ｉ＋１（ｎ−１，［ｎ／２］）２９
に移動する。

【００３１】次に、前記したｄＹｉの値についての処理
をマスク平面２と補助平面１８に対して施し、ｄＹｉ＝
−１の場合は上部スクロール平面１６と補助平面１８の
最上部１ワード、ｄＹｉ＝１の場合は下部スクロール平
面１７と補助平面１８の最下部１ワードのデータを描画
平面１１に対してマスク演算すると共に、点Ｓ”ｉ＋１
２９から移動した点Ｓ’ｉ＋１３０（見かけ上の位置は
変わらない）と筆先平面４内の基準点Ｐ２１を対応させ
、マスク演算を実施する（図１３はｄＹｉ＝０の場合）
。ただし、この一連の操作の間には補助平面１８の上下
の１ワード×１画素の大きさの２つの部分を除いた部分
と描画平面１１とのマスク演算は実施せず、補助平面１
８にデータが保持される。このデータの処理は、次に本
装置に与えられる時系列信号（ｄＸｉ＋１，ｄＹｉ＋１
）に依存する。

【００３２】以下、それぞれの時系列信号（ｄＸｉ＋１
，ｄＹｉ＋１）についての処理について説明する。

【００３３】 ｉ）ｄＸｉ＋１＝０の場合（ｄＹｉ＋１＝±１）この場
合は、前記したｄＹｉ＋１の値による処理を実施する。 また、補助平面１８に対してスクロール操作を施し、補
助平面１８の最上部あるいは最下部の１画素×１ワード
の部分にデータが存在する場合は、描画平面１１に対し
てマスク演算を施す。ただし、この処理を施した後も、
これ以後の時系列信号のｄＸｉ＋ｋが、０である限り、
補助平面１８のデータを保存したまま処理を施して行く
。図１４はｄＸｉ＋１＝０，ｄＹｉ＋１＝１の場合を示
し、点Ｓ’ｉ＋１３０は点Ｓ’ｉ＋２３２に移動する。

【００３４】 ｉｉ）ｄＸｉ＋１＝−１の場合（ｄＹｉ＋１＝±１，０
）この場合は前記したｄＸｉ＋１＝−１，ｄＹｉ＋１の
値による処理を実施する（図１５はｄＹｉ＋１＝０の場
合であり、点Ｓ’ｉ＋１３０は点Ｓ’ｉ＋２３２に移動
する）。この間に補助平面１８のｎワードのデータを描
画平面１１に対してマスク演算し、補助平面１８はその
データを全てマスク演算した後初期化される。

【００３５】 ｉｉｉ）ｄＸｉ＋１＝１の場合（ｄＹｉ＋１＝±１，０
）この場合は、まず先程の右シフトの逆の操作を行なう
。 つまり、中央マスク平面１４の全データを左マスク平面
１３に、右マスク平面１５の全データを中央マスク平面
１４に、補助平面１８の全データを右マスク平面１５に
転送する。

【００３６】次いで補助平面１８の全データを初期化す
る。この操作の後、前記したｄＹｉ＋１の値による処理
を実施する。以上の操作を実施することにより、ワード
の境界において１ビットの進退があった場合でも効率的
に処理が実施可能となる。この場合の処理結果を図１６
（ｄＹｉ＋１＝０の場合）に示す。

【００３７】以上、筆先平面４とマスク平面２とのマス
ク演算を施す場合の基準点Ｓ’ｉ２８が、中央マスク平
面１４から左マスク平面１３に移動する場合を例にとり
説明したが、筆先平面４とマスク平面２とのマスク演算
を施す場合の基準点Ｓ’ｉ２８が中央マスク平面１４か
ら右マスク平面１５に移動する場合は、右シフトと左シ
フト、ｄＸｉ＋１に関する処理では、−１と１の場合を
置き換えることで施されるので詳細な説明は割愛する。

【００３８】このようにしてガイドラインの終点まで太
線を描画し、終点に達した場合は、マスク平面内の全て
のデータを１画素づつ下方向にスクロールし、下部スク
ロール平面１７にデータを送り、このデータを描画平面
１１に対してマスク演算する。この処理は、縦方向ｎ画
素長のデータが全てマスク演算されるまで実施され、太
線の描画が完了する。

【００３９】なお、本発明の太線描画装置から出力され
るワード単位データに対して、カラーレジスタ等を参照
させることで、色付き太線を描画することも可能である
。

【００４０】また、筆先平面内に保持される筆先パター
ンを変化させることで様々な形状の太線を容易に描くこ
とも可能である。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
太線を描画する場合に、筆先平面とマスク平面のマスク
演算をガイドラインに沿って実施するので、滑らかな太
線を描くことが可能となり、また、マスク平面から出力
される演算結果はマスク平面内で重複演算が施された結
果であり、外部メモリで構成される描画平面に描画する
回数が減少する上に、演算結果をワード単位で出力する
ので、描画平面に対するワード単位のアクセスを実行す
ることで、マスク演算処理を高速に実施することが可能
となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の太線描画装置の構成図であ
る。

【図２】同実施例におけるマスク平面の構成図である。

【図３】同実施例における筆先平面の構成図である。

【図４】太線描画を開始する際の描画平面の様子を示し
た図である。

【図５】太線描画を開始する際の描画平面とマスク平面
との対応付けの様子を示した図である。

【図６】マスク平面と筆先平面の対応の様子を示した図
である。

【図７】始点に対してマスク演算を行なった直後のマス
ク平面の様子を示した図である。

【図８】（ｄＸ０，ｄＹ０）＝（−１，０）の場合の処
理を施した後のマスク平面の様子を示した図である。

【図９】（ｄＸ０，ｄＹ０）＝（０，１）の場合の処理
を施した後のマスク平面の様子を示した図である。

【図１０】（ｄＸ０，ｄＹ０）＝（−１，１）の場合の
処理を施した後のマスク平面の様子を示した図である。

【図１１】基準点Ｓ’ｉが中央マスク平面より移動する
直前のマスク平面の様子を示した図である。

【図１２】スクロール動作後のマスク平面の様子を示し
た図である。

【図１３】スクロール動作後、筆先平面とマスク演算を
施した後のマスク平面の様子を示した図である。

【図１４】（ｄＸｉ＋１，ｄＹｉ＋１）＝（０，１）の
場合の処理を施した後のマスク平面の様子を示した図で
ある。

【図１５】（ｄＸｉ＋１，ｄＹｉ＋１）＝（−１，０）
の場合の処理を施した後のマスク平面の様子を示した図
である。

【図１６】（ｄＸｉ＋１，ｄＹｉ＋１）＝（１，０）の
場合の処理を施した後のマスク平面の様子を示した図で
ある。

【図１７】従来例の方法で太線描画処理を施す場合の概
略を示した図である。

【符号の説明】

１　　太線描画装置 ２　　マスク平面 ３　　マスク演算制御回路 ４　　筆先平面 ５　　出力制御部 ６　　補助制御装置 １１　　描画平面 １３　　左マスク平面 １４　　中央マスク平面 １５　　右マスク平面 １６　　上部スクロール平面 １７　　下部スクロール平面 １８　　補助平面

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　ｎ画素を１ワード、１画素を１行とす
   るＷワード×Ｈ行の描画平面に太線を描画する場合に、
   １点１画素の大きさからなる点の集合である太線を書く
   際の中心線の各点を、筆先パターンを保持している筆先
   平面内の基準点と対応させてマスク演算を行ない、これ
   を繰り返すことにより太線を描画する際に、筆先平面と
   描画平面を直接マスク演算する替わりに、Ｍワード×（
   Ｎワード＋２画素）の大きさを有するマスク平面と筆先
   平面の間でマスク演算を行ない、演算結果をワード単位
   で出力し、ワード単位で描画平面内の対応するアドレス
   のデータとのマスク演算を施し、その結果を描画平面に
   描画する太線描画装置。
2. 【請求項２】　　太線を描く場合に、太線を書く際の中
   心線の替わりに、太線の始点と終点、ディジタル微分解
   析回路より与えられる変位量を用いて太線描画を行なう
   請求項１記載の太線描画装置。
3. 【請求項３】　　太線を書く際の中心線を構成する座標
   点の集合が与えられ、その各点を基準として次々とマス
   ク演算を施す場合に、現在の基準点と次に基準となる点
   の間の座標値の変位量を送り、太線を描画する請求項１
   記載の太線描画装置。
4. 【請求項４】　　描画平面とマスク平面のマスク演算を
   ワード単位で行なう場合に、マスク演算を施すそれぞれ
   のワードが空白である場合は、そのワードについての演
   算をスキップし、つぎのワードの処理を行なう請求項１
   記載の太線描画装置。
5. 【請求項５】　　横方向のワードの境界で１ビットの左
   右移動の繰り返しがある場合に、一時的にデータを保持
   する１ワード×（Ｎワード＋２画素）の大きさの補助平
   面を利用し、マスク演算回数を減少させることを特徴と
   する請求項１記載の太線描画装置。