JPH0212694A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH0212694A
JPH0212694A JP63162942A JP16294288A JPH0212694A JP H0212694 A JPH0212694 A JP H0212694A JP 63162942 A JP63162942 A JP 63162942A JP 16294288 A JP16294288 A JP 16294288A JP H0212694 A JPH0212694 A JP H0212694A
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precharge
bit line
line
precharging
power supply
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Kenichi Yamakura
賢一 山倉
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Fujitsu Ltd
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Abstract

PURPOSE:To reduce precharge power consumption and to decrease the transient current by applying less precharge to each bit line and applying precharge from a precharge power supply to a selected bit line via an output line and a selection MOS transistor (TR) in addition to the less precharge. CONSTITUTION:A reduction means 21 reducing the precharge is formed to a precharge device applying a precharge voltage simultaneously to bit lines B1-B4 and the reduction means applies less precharge to each bit line. On the other hand, a precharge power supply Vcc is connected to an output line 8 for the data transfer used in common by each bit line selected alternatively by a selection MOS TR 7 via a 2nd precharge MOS TR 22. Only the bit line selected via one selection MOS TR 7 selected alternatively by the power supply is precharged. Thus, the precharge power consumption is reduced and the transient current at precharge and discharge is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 [概要] MOSトランジスタ構成のダイナミック動作形式の半導
体記憶装置に係り、詳しくは同半導体記憶装置のビット
線プリチャージ機構に関し、プリチャージ用消費電力の
低減、プリチャージ及びディスチャージの際の過渡電流
の低減を可能にすることを目的とし、 各ビット線に対して接続された各プリチャージ用MO3
l〜ランジスタを一斉に導通させてその各ピッ1−線を
プリヂせ−ジするプリチャージ機構が設けられ、前記プ
リチャージ用MO3Iヘランジスタとビット線を挟んで
各ビット線に対して接続された各選択用MOS 1〜ラ
ンジスタを択一的に導通させて、各ビット線のうら1つ
を選択してデータを各ビット線共用の出力線に出力する
半導体記憶装置において、前記プリチャージ機構に前記
ビット線へのプリチャージ量を低下させる低減手段を形
成するとともに、前記出力線に対してプリチャ−ジ電源
を第2のプリチャージ用MOSトランジスタを介して接
続するように構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] This invention relates to a semiconductor memory device of a dynamic operation type having a MOS transistor configuration, and more specifically relates to a bit line precharge mechanism of the semiconductor memory device, and relates to reduction of power consumption for precharge, precharge and discharge. For the purpose of reducing transient current during
A precharging mechanism is provided that precharges each of the P1- transistors by making all of the P1 transistors conductive all at once, and each P1 transistor connected to each bit line across the precharging MO3I transistor and the bit line is provided. In a semiconductor memory device that selectively turns on transistors MOS 1 for selection to select one of the bit lines and outputs data to an output line shared by each bit line, the precharge mechanism A reducing means for reducing the amount of precharge to the line is formed, and a precharge power source is connected to the output line via a second precharge MOS transistor.

[産業上の利用分野] 本発明はMOSトランジスタ構成のダイナミック動作形
式の半導体記t’3装置に係り、詳しくはその半導体記
憶装置のビット線プリチャージ機構に関するものである
[Industrial Application Field] The present invention relates to a dynamic operation type semiconductor memory t'3 device having a MOS transistor configuration, and more particularly to a bit line precharge mechanism of the semiconductor memory device.

ダイナミック動作形式の半導体記憶装置では各メモリセ
ルのデータを読み出す場合、ビット線をプリチャージさ
せた後にメモリセルデータに応じてディスチャージさせ
、その時の読み出ツメモリセルに対応するビット線の状
態をそのメモリセルのデータとして読み出すようになっ
ている。従って、ダイナミック動作形式の半導体記憶装
置にはそのためのビット線ブリチレージ機構が設けられ
ている。
In a dynamic operation type semiconductor memory device, when reading data from each memory cell, the bit line is precharged and then discharged according to the memory cell data, and the state of the bit line corresponding to the memory cell to be read at that time is changed to that memory cell. It is read out as data. Therefore, a dynamic operation type semiconductor memory device is provided with a bit line brittleage mechanism for this purpose.

[従来の技術] 従来、MOSトランジスタ構成のダイナミック動作形式
の半導体記憶装置、例えば第3図に示すようなダイナミ
ックROM回路においては、プリチャージ用のエンハン
スメント型MoSトランジスタ(以下、MOS lヘラ
ンジスタを単にMO8Trという)1はその各ソースが
対応するビット線81、B2,83.84に接続され、
ドレインがプリチャージ電源CCに接続されている。プ
リチャージ用の各MO3Tr1のゲートにはプリチャー
ジ信号入力線2が接続されて、その入力線2には第4図
に示すプリチャージ信号Φ1が入力される。又、各ビッ
ト線81〜B4にはディスチャージ用のエンハンスメン
トWMO8Tr3と、エンハンスメント型又はデイプレ
ッション型の予め定めた組合せよりなる5個のMO8T
r4が直列に接続されてなるメモリセルが繋がれている
。そして、ディスチャージ用のMO8Tr3を除く各M
O3Tr4のゲートはそれぞれワードラインデコーダか
らのびるワード線WO−W、1に接続されている。又、
ディスチャージ用の各MO8Tr3のゲートはディスチ
ャージ信号入力線5に接続され、その入力線5はインバ
ータ回路6を介して前記プリチャージ信号入力線2に接
続されている。
[Prior Art] Conventionally, in a semiconductor memory device of a dynamic operation type having a MOS transistor configuration, for example, a dynamic ROM circuit as shown in FIG. ) 1 has its respective source connected to the corresponding bit line 81, B2, 83.84,
A drain is connected to a precharge power supply CC. A precharge signal input line 2 is connected to the gate of each MO3Tr1 for precharging, and a precharge signal Φ1 shown in FIG. 4 is input to the input line 2. In addition, each bit line 81 to B4 has an enhancement WMO8Tr3 for discharge and five MO8Ts of a predetermined combination of enhancement type or depletion type.
Memory cells formed by connecting r4 in series are connected. And each M except for MO8Tr3 for discharge.
The gates of O3Tr4 are connected to word lines WO-W and 1 extending from the word line decoder, respectively. or,
The gate of each MO8Tr 3 for discharge is connected to a discharge signal input line 5, and the input line 5 is connected to the precharge signal input line 2 via an inverter circuit 6.

前記プリチャージ用MO8Tr1と対向する側の各ビッ
ト線81〜B4には選択用のエンハンスメント型MO3
Tr7がそれぞれ接続され、その各MO3Tr7は各ビ
ット線81〜B4が共用する1本の出力線8に接続され
ている。各選択用MO8Tr7のゲートは対応するワー
ド線W5〜W8にそれぞれ接続されている。
Each bit line 81 to B4 on the side opposite to the precharge MO8Tr1 has an enhancement type MO3 for selection.
Tr7 are connected to each other, and each MO3Tr7 is connected to one output line 8 shared by each bit line 81 to B4. The gates of each selection MO8Tr7 are connected to corresponding word lines W5 to W8, respectively.

前記出力線8はインバータ回路9を介してデコーダ10
に接続され、そのデコーダ10は他の複数のメモリセル
からなる回路構成が同様な各ブロックからのデータも入
力されるようになっている尚、11は高レベルデータを
ラッチし、出力線8の高レベルを補償するためのエンハ
ンスメント型PチャンネルM、08Trである。
The output line 8 is connected to a decoder 10 via an inverter circuit 9.
The decoder 10 is connected to the decoder 10 so that data from each block having the same circuit configuration consisting of a plurality of other memory cells is also input. This is an enhancement type P-channel M, 08Tr for compensating for high levels.

そして、このように構成されたダイナミックROM回路
において、各メモリセルのデータを読み出す場合にはH
レベルのプリチャージ信号の1が出力されると、プリチ
ャージ用の各MO3Tr1は導通し、ディスチャージ用
の各MO3Tr3は非導通となり、全ビット線81〜B
4はプリチャージされる。続いて、プリチャージ信号の
1がLレベルに反転すると、プリチャージ用の各MO3
Tr1は非導通となり、ディスチャージ用の各MO3T
r3は導通しディスチャージが行なわれる。
In the dynamic ROM circuit configured in this way, when reading data from each memory cell, H
When a level precharge signal of 1 is output, each MO3Tr1 for precharging becomes conductive, each MO3Tr3 for discharging becomes nonconductive, and all bit lines 81 to B
4 is precharged. Subsequently, when the precharge signal 1 is inverted to L level, each MO3 for precharging
Tr1 becomes non-conductive, and each MO3T for discharge
r3 is rendered conductive and discharged.

このプリチャージとディスチャージが行なわれる間の各
ワード線WO−W8に入力されるアドレス信号よってビ
ット線が択一的に選択されてそのビット線の状態、即ち
所定のメモリセルのデータが出力線8に出力される。
During this precharging and discharging, a bit line is selectively selected by the address signal input to each word line WO-W8, and the state of the bit line, that is, the data of a predetermined memory cell is transferred to the output line 8. is output to.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、このダイナミックROM回路においては
、プリチャージ信号Φ1がHレベルになる毎に全ビット
線81〜B/l 、即ち選択された1つのビット線以外
の不必要なビット線までが同時にプリチャージ電圧が印
加される。即ら、プリチャージ用のMO3Tr1のしき
い値電圧がvth、グー1〜に入力されるプリチャージ
信号Φ1の論理値Hレベル(プラス電位)の値がCCの
とき、プリチャージ電圧V prbは■prb =VC
C−Vthとる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in this dynamic ROM circuit, every time the precharge signal Φ1 goes to H level, all bit lines 81 to B/l, that is, unnecessary bit lines other than the selected one The precharge voltage is simultaneously applied to all the bit lines. That is, when the threshold voltage of MO3Tr1 for precharging is vth, and the logic value H level (plus potential) value of the precharge signal Φ1 inputted to G1~ is CC, the precharge voltage V prb is prb=VC
Take C-Vth.

この電圧Vprbが各ビット線81〜B4に剛力0され
プリチャージされることから、プリチャージのための消
費電力が大きかった。又、不必要にプリチャージされる
各ビット線はプリチャージの際及びディスチャージの際
に不要な過渡電流が発生する問題があった。
Since this voltage Vprb is precharged with zero rigidity on each bit line 81 to B4, power consumption for precharging is large. Furthermore, each bit line that is unnecessarily precharged has the problem of generating unnecessary transient currents during precharging and discharging.

本発明の目的は上記問題を解消するためになされたもの
であって、プリチャージ用消費電力の低減、プリチャー
ジ及びディスチャージの際の過渡電流の低減を可能にす
る半導体記憶装置を提供することにおる。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device that can reduce power consumption for precharging and reduce transient current during precharging and discharging. is.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、本発明の半導体記憶装置は
各ビット線に対して一斉にプリチャージ電圧を印加する
プリチャージ機構にはそのプリチャージ量を低下させる
低減手段が形成されている。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the semiconductor memory device of the present invention has a precharge mechanism that applies a precharge voltage to each bit line all at once by reducing the amount of precharge. A reduction means is formed.

その低減手段にて各ビット線は少ないプリチャージが行
なわれる。
Each bit line is precharged to a small extent by the reduction means.

一方、選択用MoSトランジスタにて択一的に選択され
る各ビット線が共用するデータ転送のための出力線にプ
リチャージ電源を第2のプリチャージ用MOSトランジ
スタを介して接続する。この第2のプリチャージ用MO
Sトランジスタを介してプリチャージ電源にて択一的に
選択された1つの選択用MO3l〜ランジスタを介して
選択されたビット線のみがプリチャージされる。
On the other hand, a precharge power supply is connected via a second precharge MOS transistor to an output line for data transfer shared by each bit line selectively selected by the selection MoS transistor. This second precharge MO
Only one selection MO3l selectively selected by the precharge power supply through the S transistor to the bit line selected through the transistor is precharged.

[作用] 択一的・に選択された1つの選択用MOSトランジスタ
に対応するビット線にはプリチャージ機構と第2のプリ
チャージMOSトランジスタを介してプリチャージ電源
にてブリチV−ジが行なわれ、他の選択されないビット
線には、プリチャージ機構からの少ないプリチャージ行
なわれることから、仝休として消費電力は少なくて済む
とともに、不必要なビット線ではプリチャージ及びディ
スチャージの際に生ずる過渡電流を小さくすることがで
きる。
[Operation] A precharge power supply performs a precharge voltage on the bit line corresponding to one selectively selected MOS transistor through a precharge mechanism and a second precharge MOS transistor. Since the other unselected bit lines are precharged less from the precharge mechanism, the power consumption is reduced as a rest, and the transient current generated during precharging and discharging is reduced in unnecessary bit lines. can be made smaller.

[実施例コ 以下、本発明をダイナミックROMに具体化した一実施
例を第1図に従って説明する。
[Embodiment 1] An embodiment in which the present invention is embodied in a dynamic ROM will be described below with reference to FIG.

尚、本実施例はダイナミックROM回路のプリチャージ
機構に特徴を有するので、そのプリチャージ機構につい
て詳細に説明し、第2図に示す従来のダイナミックRO
M回路と同一のものは同一の記号を付して詳細な説明は
便宜上省略する。
Since this embodiment is characterized by the precharge mechanism of the dynamic ROM circuit, the precharge mechanism will be explained in detail and compared to the conventional dynamic ROM circuit shown in FIG.
Components that are the same as the M circuit are given the same symbols and detailed explanations are omitted for the sake of convenience.

第1図において、前記各プリチャージ用のMO3Tr1
のゲートに接続されたプリチャージ信号入力線2は低減
手段としてのエンハンスメント型MO8Tr21のソー
スに接続されている。このMO8Tr21のドレインに
はプリチャージ電源Vccが印加され、ゲートには第4
図にプリチャージ信号の1が入力される。そして、この
ブリチレージΦ1のHレベルはプリチャージ電源Vcc
と同じレベルとなるように設定されている。このとき、
MO3Tr21のしきい値電圧をvthとすると、同M
O8Tr21のソースの電圧、即ら前記プリチャージ用
のMO3Tr1のデーI−に印加されるゲート電圧Vg
H;tVc11=Vcc−Vthとなる。
In FIG. 1, MO3Tr1 for each precharging
The precharge signal input line 2 connected to the gate of is connected to the source of an enhancement type MO8Tr 21 serving as a reduction means. The precharge power supply Vcc is applied to the drain of this MO8Tr21, and the fourth
In the figure, a precharge signal of 1 is input. The H level of this bridle charge Φ1 is the precharge power supply Vcc.
is set to be at the same level. At this time,
If the threshold voltage of MO3Tr21 is vth, the same M
The source voltage of O8Tr21, that is, the gate voltage Vg applied to the data I- of MO3Tr1 for precharging.
H; tVc11=Vcc-Vth.

従って、プリチャージ用のMO3Tr1のしきいlie
!電圧を同じ<Vthとしたとき、同MO3Tr1のソ
ースの電圧、即ちこのプリチャージ機構から各ビット線
B1〜B4に印加される電圧V praはVl)ra 
=Va1−Vth=VCC−2Vthとなる。従って、
従来のプリチャージ機構から各ビット線81〜B4に印
加されるプリチャージ電圧V prb(=Vcc−Vt
h)に比べて低くなる。
Therefore, the threshold of MO3Tr1 for precharging
! When the voltage is the same <Vth, the voltage at the source of MO3Tr1, that is, the voltage Vpra applied to each bit line B1 to B4 from this precharge mechanism is Vl)ra
=Va1-Vth=VCC-2Vth. Therefore,
Precharge voltage Vprb (=Vcc-Vt) applied to each bit line 81 to B4 from a conventional precharge mechanism
h).

又、各ビット線81〜3nが共用する1本の出力線9に
は第2のプリチャージ用MO3Trとしてのエンハンス
メント型のPチャンネルMO3Tr22のドレインが接
続され、そのMO8T r 22のソースはプリチャー
ジ電源Vccが接続されている。第2のプリチャージ用
のMO3Tr22は第2のプリチャージ信号入力線23
が接続され、その入力線23にはインバータ回路24を
介してプリチャージ信号Φ1が入力される。
Further, the drain of an enhancement type P-channel MO3Tr 22 as a second precharge MO3Tr is connected to one output line 9 shared by each bit line 81 to 3n, and the source of the MO8Tr 22 is connected to the precharge power supply. Vcc is connected. The second precharge MO3Tr 22 is connected to the second precharge signal input line 23
is connected to the input line 23, and a precharge signal Φ1 is inputted to the input line 23 via an inverter circuit 24.

さて、上記のように構成したダイナミックROMでは、
各ワード線WOへ、W8に所定のアドレス信号が出ツノ
されると、所定の選択用のMO3Tr7が導通し所定の
ビット線(仮にビット線B1とする)が選択されるとと
もに、所定のメモリセルが選択される。
Now, in the dynamic ROM configured as above,
When a predetermined address signal is output to W8 to each word line WO, MO3Tr7 for predetermined selection becomes conductive, a predetermined bit line (temporarily assumed to be bit line B1) is selected, and a predetermined memory cell is selected. is selected.

一方、これとともに、Hレベルのプリチャージ信号Φ1
が出力されると、MO8Tr21が導通することによっ
て、各プリチャージ用MO3Tr1が導通し、各ビット
Il!B1〜B4はプリチャージされる。このとき、M
O3Tr21を介してプリチャージ用のMO3Tr1の
ゲートに印加されるゲート電圧Vg1はVcll= V
cc −V thとなり、同MO8Tr1を介して各ビ
ット線81〜B4に印加されるプリチャージ電圧Vl)
ra  (=VCC−2Vth)となって、従来のプリ
チャージ電圧y prb(−Vcc−vth>より低い
電圧が各ビット線81〜B4に印加される。
On the other hand, along with this, the H level precharge signal Φ1
is output, MO8Tr21 becomes conductive, each precharge MO3Tr1 becomes conductive, and each bit Il! B1 to B4 are precharged. At this time, M
The gate voltage Vg1 applied to the gate of MO3Tr1 for precharging via O3Tr21 is Vcll=V
cc -V th, and the precharge voltage Vl applied to each bit line 81 to B4 via the MO8Tr1)
ra (=VCC-2Vth), and a voltage lower than the conventional precharge voltage y prb (-Vcc-vth>) is applied to each bit line 81 to B4.

又、Hレベルのプリチャージ信号Φ1に応答して、第2
のプリチャージ用のMO3Tr22が導通して、プリチ
ャージ電源yccから出力線8及び導通状態にある選択
用MO3Tr7を介して選択されたビット線B1のみに
プリチャージ電圧vprCが印加されプリチャージされ
る。
In addition, in response to the H level precharge signal Φ1, the second
The precharge MO3Tr 22 becomes conductive, and the precharge voltage vprC is applied from the precharge power supply ycc to only the selected bit line B1 via the output line 8 and the selection MO3Tr 7 which is in the conductive state, and is precharged.

従って、ビット線B1には、両プリチャージ電圧ypr
a 、 yprcの合計が印加され、データ読み出しに
充分なプリチャージが行なわれる。
Therefore, bit line B1 has both precharge voltages ypr
The sum of a and yprc is applied to provide sufficient precharging for data reading.

そして、プリチャージ信号Φ1がHレベルからLレベル
となると、プリチャージ用の両MO8Tr1.MO3T
r22が非導通となり、ディスチャージ用MO3Tr3
が導通する。このとき、ビット線B1に繋がれセレク1
〜信号にて選択されたメモリセルの状態によって、同ビ
ット線B1はディスチャージ用MO3Tr3を介してデ
ィスチャージされLレベルに、又は、ディスチャージさ
れずにHレベルに保持され、そのレベル状態がデータと
して出力線8に出力される。
Then, when the precharge signal Φ1 changes from the H level to the L level, both MO8Tr1. MO3T
r22 becomes non-conductive, MO3Tr3 for discharge
conducts. At this time, select 1 is connected to bit line B1.
~ Depending on the state of the memory cell selected by the signal, the bit line B1 is discharged via the discharge MO3Tr3 and held at the L level, or is not discharged and held at the H level, and the level state is output as data to the output line. 8 is output.

このように本実施例においては各ビット線81〜B4に
は降圧された低いプリチャージ電圧vpraが印加され
てプリチャージ量が少なく、選択されたピッ1−線B1
には出ツノ線8から択一的に選択されて導通状態にある
選択用MO3Tr7を介して別途プリチャージしたので
、全体として消費電力は少なくて済み消費電力の低減を
図ることができる。又、選択されない他のビット線82
〜B4でのプリチャージ及びディスチャージの際に生じ
る過渡電流は小ざいので、全体として過S電流の低減を
図ることができる。
As described above, in this embodiment, a lower precharge voltage vpra is applied to each bit line 81 to B4, so that the precharge amount is small and the selected bit line B1 is
Since precharging is performed separately via the selection MO3Tr 7 which is selectively selected from the output horn line 8 and is in a conductive state, the overall power consumption is small and the power consumption can be reduced. Also, other unselected bit lines 82
Since the transient current generated during precharging and discharging at ~B4 is small, it is possible to reduce the excessive S current as a whole.

尚、本実施例ではビット線に印加する両プリチャージ電
圧ypra 、 Vprcの大きざについて、特に限定
していないが、プリチャージ電圧Vpraが小さくなる
ほどプリチャージ用消費電力の低減及び過渡電流の低減
を図ることができるが、その分プリャージ電圧V pr
cを上げる必要があり、データ読み出しに支障をきたさ
ない範囲で両値を適宜変更してもよい。この場合、低減
手段としてMO3Tr21を1つ用いたが、それを複数
個多段に接続することによってプリチャージ電圧ypr
aの値を適宜変更して実施してもよい。又、低減手段は
MO3Tr21に限定されるものではなく、要は不必要
なビット線へのプリチャージmが少なくなればよく、例
えばプリチャージ用MO3T r 1のデイメンジョン
を小ざくしたり、プリチャージ用MO3Tr1に抵抗体
を接続したりする等適宜変更して実施してもよい。
Note that in this embodiment, there is no particular limitation on the size of the precharge voltages ypra and Vprc applied to the bit line, but the smaller the precharge voltage Vpra, the more the power consumption for precharging and the transient current are reduced. However, the precharge voltage V pr
It is necessary to increase c, and both values may be changed as appropriate within a range that does not interfere with data reading. In this case, one MO3Tr21 was used as a reducing means, but by connecting a plurality of MO3Tr21 in multiple stages, the precharge voltage ypr
The value of a may be changed as appropriate. Further, the reducing means is not limited to MO3Tr21, and the point is that it is sufficient to reduce unnecessary precharge m to the bit line, for example, by reducing the dimension of MO3Tr 1 for precharging, It may be implemented with appropriate changes such as connecting a resistor to the charging MO3Tr1.

さらに、前記実施例のメモリセル構造以外のメモリセル
構造よりなるダイナミック動作形式の半導体記9.装置
に具体化することも勿論可能である。
Furthermore, 9. is a dynamic operation type semiconductor device having a memory cell structure other than the memory cell structure of the above embodiment. Of course, it is also possible to implement it in a device.

[発明の効果] 以上詳)21Sシたように、本発明によれば各ビット線
には少ないプリチャージするとともに、選択されたビッ
ト線にはこれにh口えて出力線及び選択用MO8l〜ラ
ンジスタを介して別途プリチャージ電源にてプリチャー
ジするようにしたので、プリチャージ用消費電力の低減
及び過渡電流の低減を図ることができる。
[Effects of the Invention] As described above (details) 21S, according to the present invention, each bit line is precharged to a small extent, and a selected bit line is additionally provided with an output line and a transistor from MO8l for selection. Since precharging is performed using a separate precharge power supply via the precharge power supply, it is possible to reduce power consumption for precharging and reduce transient current.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明を具体化した一実施例を示すダイナミッ
クROM回路図、第2図はプリチャージ機構の要部回路
図、第3図は従来のダイナミックROM回路図、第4図
はプリチャージ信号の波形図でおる。 図中、1はプリチャージ用のMOSトランジスタ、7は
選択用のMOS l−ランシタ、8は出力線、21は低
減手段としてのMOSトランジスタ、22は第2のプリ
チャージ用のMOSトランジスタ、B1 〜B4 はビット線、 yccはプリチャージ電源、 第 図 従来のダイナミ−νりROM回路回 路 図 図 ブリチセージ官号の波形図 ■=
Fig. 1 is a dynamic ROM circuit diagram showing an embodiment embodying the present invention, Fig. 2 is a main part circuit diagram of a precharge mechanism, Fig. 3 is a conventional dynamic ROM circuit diagram, and Fig. 4 is a precharge circuit diagram. This is a signal waveform diagram. In the figure, 1 is a MOS transistor for precharging, 7 is a MOS l-ranshitor for selection, 8 is an output line, 21 is a MOS transistor as a reduction means, 22 is a second MOS transistor for precharging, B1 - B4 is a bit line, ycc is a precharge power supply, Fig. Conventional dynamic ROM circuit circuit diagram Waveform diagram of Britisage official name ■=

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、各ビット線(B1〜B4)に対して接続された各プ
リチャージ用MOSトランジスタ(1)を一斉に導通さ
せてその各ビット線(B1〜B4)をプリチャージする
プリチャージ機構が設けられ、前記プリチャージ用MO
Sトランジスタ(1)とビット線(B1〜B4)を挟ん
で各ビット線(B1〜B4)に対して接続された各選択
用MOSトランジスタ(7)を択一的に導通させて、各
ビット線(B1〜B4)のうち1つを選択してデータを
各ビット線(B1〜B4)共用の出力線(8)に出力す
る半導体記憶装置において、 前記プリチャージ機構に前記ビット線(B1〜B4)へ
のプリチャージ1を低下させる低減手段(21)を形成
するとともに、前記出力線(8)に対してプリチャージ
電源(Vcc)を第2のプリチャージ用MOSトランジ
スタ(22)を介して接続したことを特徴とする半導体
記憶装置。
[Claims] 1. Precharge each bit line (B1 to B4) by simultaneously turning on the precharging MOS transistors (1) connected to each bit line (B1 to B4). A precharge mechanism is provided, and the precharge MO
Each selection MOS transistor (7) connected to each bit line (B1 to B4) across the S transistor (1) and the bit line (B1 to B4) is selectively made conductive, and each bit line In the semiconductor memory device that selects one of the bit lines (B1 to B4) and outputs data to an output line (8) shared by each bit line (B1 to B4), the precharge mechanism includes the bit line (B1 to B4). ) is formed, and a precharge power supply (Vcc) is connected to the output line (8) via a second precharge MOS transistor (22). A semiconductor memory device characterized by:
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