JPH02128338A - 光学的情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光学的情報記録媒体（以下、光記録媒体と記
す）の製造方法に関し、特に高分子基板表面の紫外線処
理により有機色素記録層自体にプリフォーマットパター
ンを形成する光学的情報記録媒体の製造方法に関する。

［従来の技術］ 従来、光記録媒体用基板はその情報記録面に案内溝、情
報用ビットなどの凹凸が形成されている。このような基
板に凹凸を形成する方法としては、基板が熱可塑性樹脂
からなる場合にはインジェクション法や熱プレス法によ
り原盤の案内溝を転写する方法、又は熱硬化性樹脂や熱
可塑性樹脂からなる透明樹脂板上に光硬化性樹脂組成物
を塗布した後、原盤を密着させて透明樹脂板側から輻射
線（紫外線、Ｘ線等）を−様に照射して該樹脂組成物を
硬化させて原盤の型のパターンを透明樹脂板に転写する
、いわゆる２２法が知られている。

しかし、インジェクション法や熱プレス法によって得ら
れる熱可塑性樹脂基板は、成形の際の熱履歴による残留
応力や分子の配向により、成形後の基板のそりや光学的
異方性が生じたりするため光記録媒体用基板として問題
がある。

また、２２法によって得られる基板は、光硬化後の樹脂
内に未反応の重合開始剤や単量体が残留しやすく、それ
らが記録媒体の光記録層に悪影響を及ぼすことがよくあ
る。

これらの問題が生じない光記録媒体用基板の製進方法と
して注型成形法が知られている。従来の注型成形におけ
る光記録媒体用基板の製造方法は、ガラス板又は金属板
などの基板の上にあらかじめ決められた案内溝やビット
のプリフォーマットパターンを凹凸状に形成して注型成
形用型とし、スペーサを介して鏡面型として平滑なガラ
ス板を相対して位置し注型成形用の装置を作成する。こ
の装置に樹脂の千ツマ−又は溶剤を含んだプレポリマー
等を流し込み硬化させて光記録媒体用基板を得る。この
ようにして得られる光記録媒体用基板はインジェクショ
ン法や熱プレス法。

２２法に比較して成形時に圧力がほとんど加わらない為
光学的異方性やそりが発生せず、また２Ｐ材のように記
録層に悪影響を及ぼさないという特徴を有する。

［発明が解決しようとする課題］ 一方、光記録媒体は凹凸形状より成る透明樹脂基板上に
光記録層を形成した構成となっている為に、先ず透明樹
脂基板上に前述のインジェクション法、熱プレス法、２
Ｐ法又は注型成形法等により凹凸形状を形成しなければ
ならない、その場合、スタンバ−型の転写の歩留り、転
写時間、スタンバ−型の耐久性、コスト等が光記録媒体
の量産性と価格に依存し問題となっている。

また、光記録層の記録感度か膜厚に９存するので均一成
膜が必要となるが、凹凸形状の上に光記録層を形成する
事になるので膜厚の均〜・性を得ることが困難である。

また、凹凸形状の光記録層を形成するために、形状の再
現性が難しい等の問題があついた。

本発明は、上述の従来技術の問題を解決するためになさ
れたものであり、基板表面に凹凸形状を形成することな
く光記録層自体にプリフォーマットパターンを形成する
ことにより、光記録層の膜厚制御が容易で、安定したプ
リフォーマット信号を得ることができる光記録媒体を製
造時間の短縮を計り、コストを軽減して製造する方法を
提供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］および［作用］即ち、本
発明は、高分子基板の表面を選択的に紫外線処理した後
、その上に有機色素記録層を形成することにより、前記
有機色素記録層自体に反射率差を生せしめてプリフォー
マットパターンを形成することを特徴とする光記録媒体
の製造方法である。

以下１本発明の詳細な説明する。

従来、高分子フィルム表面を紫外線処理すると、高分子
フィルム表面は分子切断や極性基の生成がおこり、印刷
性や接着性の改良がなされることか知られている。（「
高分子Ｊ　２６　（１１）　　７６３頁、　１９７７年
、および「高分子表面の基礎と応用（下）」■化学同人
発行、１９８６年）。

本発明者は、上記の様な紫外線処理を高分子基板に施し
、該高分子基板上に有機色素記録層を溶液塗布方法によ
って形成した場合に、該有機色素記録層の紫外線処理を
施した部分の反射率が非紫外線処理部に対して２０％〜
８０％低下することを発見した。この様な有機色素記録
層の反射率の低下は、高分子基板の紫外線処理によって
生成した高分子基板表面の極性基又は低分子反応性物と
有機色素記録層が溶媒溶液の塗布過程において化学反応
するために生じるものと考えられる。したかって、高分
子基板の表面を選択的に紫外線処理した後、該高分子基
板の表面に有機色素記録層を塗布工程により形成するこ
とによって紫外線処理部と非処理部に形成された有機色
素記録層に選択的な反射率差が生じる。この様な前記有
機色素記録層の反射率差を利用することによフて、光記
Ｑ媒体のプリフォーマットパターンを形成することが可
使となる。したがって１本発明の光記録媒体の製造方法
におけるプリフォーマットパターンを形成方法は、従来
知られている基板に凹凸形状を設けることによってプリ
フォーマットを形成する方法とは全く異なった方法であ
り、高分子基板表面に生成した極性基又は低分子反応性
物と有機色素記録層との化学反応によってプリフォーマ
ットを形成するものである。

第１図（ａ）〜（Ｃ）は本発明の光記録媒体の製造方法
の一例を示す工程図である。同図において。

本発明は、先ず微細加工によって空隙部２１とバターニ
ング部２２かうなるプリフォーマットのパターンが形成
された紫外線透過板２を、プリフォーマットを形成する
高分子基板ｌ上に密着させる０次に、紫外線３を前記紫
外線透過板２の上面側（高分子基板ｌの反対側）より照
射する。（第１図（ａ）参照） 紫外線を照射した後、紫外線透過板２を取り除くと高分
子基板ｌ上に紫外線処理部４と非紫外線処理部が形成さ
れる。（第１図（ｂ）参照）次に、有機色素として染料
を使用し、染料濃度１〜１０ｗｔ％の溶媒溶液を前記紫
外線処理部４と非紫外線処理部が形成された高分子基板
ｌの表面に塗布し溶媒を蒸発させ、高分子基板上に有機
染料記録層５を設ける。紫外線処理部４に形成された有
機染料記録層の反射率は、非紫外線処理部の有機染料記
録層の反射率の８０％〜１０％（０，８〜０．１倍）に
減少し反射率低下部６が形成される。その結果、高分子
基板１の表面に凹凸の形状なしに有機染料記録層の反射
率の差によってプリフォーマットパターンが形成される
。（！ｓ１図（ｃ）参照） 本発明において用いられる紫外線透過板２としては、特
に限定する必要はないが、通常石英ガラスが用いられる
。紫外線透過板２上に形成されるプリフォーマットパタ
ーンは、通常石英ガラス上にクロム金属を蒸着し、さら
にフォトレジストをコーティングし、次にフォトレジス
ト上にフォトリソグラフィーによってプリフォーマット
パターンを現像し、フォトレジストを除去した部分のク
ロム金属をエツチングして除去し、さらに非エツチング
部のフォトレジストを除去することによって得られる。

上記のフォトリソグラフィーの技術は、すでに公知の技
術を用いて行うことがてきる。

また、高分子基板に用いられる基板材料には、光学的に
透明な高分子材料が用いられ、例えばポリカーボネート
、ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリレート、ポリメ
チルペンテン、ポリスルフォン、ポリスチレン、アリル
ジグリコールカーボネート（商品名ＲＡＶ−７、三井石
油化学製）等の高分子化合物を用いることができる。特
に、耐紫外線によって分解生成物が発生しやすいポリメ
チルメタクリレートが有効である。

本発明において、有機色素記録層の形成に用いられる有
機色素は、特にカチオン性染料である塩基性染料が高分
子基板の紫外線処理部と反応しやすく、高分子基板の紫
外線処理部の有機染料層の反射率の低下が大きいので好
ましい、塩基性染料としては、トリフェニルメタン系、
シアニン系。

キサンチン系、アジン系、チアジン系、アクリジン系、
オキサジン系、ポリメチン系、アゾ系、アゾメチン系、
アントラキノン系などの染料が挙げられる。

また、有機色素を溶解する溶剤としては、ジアセトンア
ルコール、ジクロルエタンおよび両者の混合溶液等を用
いることができる。

上記の有機色素の少なくとも１つを溶解した溶液を塗布
する方法は、例えばスピンコード法。

ロールコート法、グラビアコート法、スプレーコート法
、カーテンコート法等、従来知られている塗布法を用い
ることが可能である。有機色素記録層の膜厚は、通常４
００〜１６００人、好ましくは７００〜１１００人の範
囲が望ましい。

さらに、有機色素記録層の上部には、第２図に示す様に
、接着剤層７を介して保護基板８を張り合せて光記録媒
体を得ることができる。

接着剤層７および保護基板８には、通常使用されている
接着剤および保護材料を用いることができる。

［実施例］ 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。

実施例１ 厚み２１−の石英ガラスの表面にＣ「蒸着部の線幅３＃
Ｌｍ、Ｃｒエツチング部の線幅７ＩＬｓ、ピッチＩＯ鉢
−のストライブ状のプリフォーマットパターンを形成し
た紫外線透過板のＣ「蒸着面を、厚み０．４ｍｍのポリ
メチルメタアクリレート基板上に密着させた０次に、石
英ガラス板の上部から紫外線を照射した。照射条件は、
ランプパワー１６０Ｗ／ｃｍ　、うンブ／試料間距離１
２ｃｍ、照射時間３０ｓｅｃで行った。紫外線照射後、
紫外線処理か施されたポリメチルメタアクリレート基板
表面に、下記の構造式（Ｉ）で示されるポリメチン系有
機色素（日本化薬製、ＩＲ−８２０）を （Ｃ２Ｈ５）２Ｎ？　　　　　＋　’（Ｃ２）１５）２
ＣＩ！０４゜ （Ｉ） ジアセトンアルコール溶媒に３．０重量％となる様に溶
解し、グラビアコータによって塗布し厚さ１０　ｆｌ　
０人の有機色素記録層を形成した。次に、厚さ５し履の
エチレン−酢醜ビニル系ホットメルトタイプの接着剤（
０本マタイ製、エルファン０Ｈ−５０１）を介して厚さ
０，３■のＰＭＭＡ　（ポリメチルメタアクリレート）
の保護基板を上記有機色素記録層の上部に設け、第２図
に示すカード状の光記録媒体を製造した。

Ｉｎ造された光記録媒体の有機色素記録層の反射率は、
紫外線処理部で３％、非処理部で１５％であった。この
反射率差を利用してプリフォーマットパターンを基板表
面に形成することかできた。

実施例２ 実施例１の有機色素をシアニン系色素ＮＫ１４１４（日
本感光色素）に変えて、実施例１と同様のブｊ法でカー
・ド状の光記録媒体を製造した。接着剤は日本マタイ製
、エルファン０１１−５０６を用いた。

製造されたｔ記録媒体の有機色素記録層の反射率は、紫
外線処理部で５１％、非処理部で２０％であった。紫外
線処理部と非処理部の有機色素記録層の反射率差を利用
してプリフォーマットパターンを形成することができた
。

［発明の効果］ 以上説明した様に２本発明の光記録媒体の製造方法によ
れば下記の様な効果を得ることができる。

■従来の凹凸形状をした基板表面に有機色素を塗布する
場合と比較して、本発明では平滑な高分子基板表面に有
機色素を塗布し・有機色素記録層自体に反射率差を生じ
せしめてプリフォーマットパターンを形成するために、
記録媒体面内の有機色素記録層の膜厚制御か容易であり
、安定したプリフォーマット信号が得られる光記録媒体
を提供できる。

■本発明におけるプリフォーマットの形成方法は、従来
の凹凸形状のプリフォーマットを作成する方法と比較し
てプリフォーマットの形成時間（製造タクト）か短い。

■従来のスタンバ−金型と比較しで、本発明では石英ガ
ラスの表面にＣｒ蒸着のプリフォーマットパターンを形
成した紫外線透過板を用いるので、スタンバ−金型を使
用する場合に付加される熱、圧力等が付加されないため
に耐久性にすぐれている。したがって、コストの軽減を
はかることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（Ｃ）は本発明の光記録媒体の製造方法
の一例を示す工程図および第２図は本発明の製造方法を
用いて作製されたカート状光記録媒体の一例を示す断面
図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高分子基板の表面を選択的に紫外線処理した後、その上
   に有機色素記録層を形成することにより、前記有機色素
   記録層自体に反射率差を生ぜしめてプリフォーマットパ
   ターンを形成することを特徴とする光学的情報記録媒体
   の製造方法。