JPH02129189A - カルバペネム化合物 - Google Patents
カルバペネム化合物Info
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- JPH02129189A JPH02129189A JP63281799A JP28179988A JPH02129189A JP H02129189 A JPH02129189 A JP H02129189A JP 63281799 A JP63281799 A JP 63281799A JP 28179988 A JP28179988 A JP 28179988A JP H02129189 A JPH02129189 A JP H02129189A
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- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、2位に二環性複素環チオ基をもつカルバペネ
ム誘導体 (I)及びその塩に関するものである。
ム誘導体 (I)及びその塩に関するものである。
〈従来の技術〉
従来から広く利用されている有力な抗生物質として抗菌
スペクトルの広いペニシリン、セファロスポリン系抗生
物質が知られており、各種感染症に対して優れた効果を
発揮してきた。しかしながら、有効な抗菌剤が次々に使
用されるため病原菌の耐性株を生じ、このため更に新し
い抗菌剤の必要が絶えず生じる。即ち、上記ペニシリン
、セファロスポリン系抗生物質においても、耐性菌の出
現のため抗菌スペクトル、抗菌活性、体内動態あるいは
安全性などの面で、必ずしも満足度の高いものとはいえ
なくなっている。
スペクトルの広いペニシリン、セファロスポリン系抗生
物質が知られており、各種感染症に対して優れた効果を
発揮してきた。しかしながら、有効な抗菌剤が次々に使
用されるため病原菌の耐性株を生じ、このため更に新し
い抗菌剤の必要が絶えず生じる。即ち、上記ペニシリン
、セファロスポリン系抗生物質においても、耐性菌の出
現のため抗菌スペクトル、抗菌活性、体内動態あるいは
安全性などの面で、必ずしも満足度の高いものとはいえ
なくなっている。
チェナマイシンは既知のカルバペネムの一極であり(特
開昭51−73191号)、ペニシリン、セファロスポ
リン系抗生物質の耐性菌に対しても感受性を示し、広い
抗菌スペクトルを有する。以来カルバペネム誘導体の合
成研究および類似の骨格を持つ化合物の合成研究が盛ん
に行われている。しかし従来公知のカルバペネム系、ペ
ネム系抗生物質は物理化学的に不安定であり、腎臓のデ
ヒドロペプチダーゼなどにより分解を受は易く、医薬品
として評価の高い化合物は得られていない。
開昭51−73191号)、ペニシリン、セファロスポ
リン系抗生物質の耐性菌に対しても感受性を示し、広い
抗菌スペクトルを有する。以来カルバペネム誘導体の合
成研究および類似の骨格を持つ化合物の合成研究が盛ん
に行われている。しかし従来公知のカルバペネム系、ペ
ネム系抗生物質は物理化学的に不安定であり、腎臓のデ
ヒドロペプチダーゼなどにより分解を受は易く、医薬品
として評価の高い化合物は得られていない。
〈発明が解決しようとする問題点〉
以上のように、感染症の治療には抗生物質が有効である
が、一方で耐性菌の出現という問題をかかえ、従来から
広い抗菌スペクトルを有するものとして多用されてきた
ペニシリン、セファロスポリン系抗生物質についても例
外ではなく、耐性菌の出現に伴い抗菌スペクトルなどの
点で問題となっている。
が、一方で耐性菌の出現という問題をかかえ、従来から
広い抗菌スペクトルを有するものとして多用されてきた
ペニシリン、セファロスポリン系抗生物質についても例
外ではなく、耐性菌の出現に伴い抗菌スペクトルなどの
点で問題となっている。
本発明の目的は広い抗菌スペクトルを有し、ペニシリン
、セファロスポリン系抗生物質の耐性菌に対しても感受
性を示し、しかも物理化学的性質においても有利な新し
い抗生物質を提供することにある。
、セファロスポリン系抗生物質の耐性菌に対しても感受
性を示し、しかも物理化学的性質においても有利な新し
い抗生物質を提供することにある。
く問題点を解決するための手段〉
本研究者らは鋭意研究を重ねた結果、以下の一般式(I
)を有する新規カルバペネム銹導体は、グラム陽性菌、
陰性菌に対して強力な抗菌活性を示し、また偏性嫌気性
菌に対しても高活性を示し、更に、ペニシリン、セファ
ロスポリン耐性菌にも高い感受性を示す等、極めて広い
抗菌スペクトルを有することを見いだした。更に、本発
明のカルバペネム誘導体は物理化学的安定性にも優れ、
β−ラクタメース等による酵素分解も受けにくい等、抗
菌薬として有用性が高いことを見いだし本発明を完成し
た。
)を有する新規カルバペネム銹導体は、グラム陽性菌、
陰性菌に対して強力な抗菌活性を示し、また偏性嫌気性
菌に対しても高活性を示し、更に、ペニシリン、セファ
ロスポリン耐性菌にも高い感受性を示す等、極めて広い
抗菌スペクトルを有することを見いだした。更に、本発
明のカルバペネム誘導体は物理化学的安定性にも優れ、
β−ラクタメース等による酵素分解も受けにくい等、抗
菌薬として有用性が高いことを見いだし本発明を完成し
た。
即ち、本発明は一般式 (I)
[上記式中、
(() R1は水素原子、低級アルキル基、ヒドロキシ
低級アルキル基または保護されたヒドロキシ低級アルキ
ル基、 (ロ) CO2R2はカッL/ボキシル基、カルボキシ
レートアニオンまたは葆謹されたカルボキシル基、(A
) R:lは以下の一般式で示される置換または無置換
の二環性複素環基、 pt。
低級アルキル基または保護されたヒドロキシ低級アルキ
ル基、 (ロ) CO2R2はカッL/ボキシル基、カルボキシ
レートアニオンまたは葆謹されたカルボキシル基、(A
) R:lは以下の一般式で示される置換または無置換
の二環性複素環基、 pt。
(式中、詰碁の部分構造である
は五員環または六員環の窒素含有複素環を意味し、該窒
素含有複素環としては酸素、硫黄及び窒素から選ばれた
1〜4個の複素原子を含有する飽和または不飽和複素環
。
素含有複素環としては酸素、硫黄及び窒素から選ばれた
1〜4個の複素原子を含有する飽和または不飽和複素環
。
ここにおいて84は:
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルバメー
ト基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニ
ル基、スルホンアミド基、カルバモイル基、シアノ基、
ニトロ基、アミジノ基、グアニジノ基、ヒドロキシカル
バモイル基、チオカルバモイル基、トリフルオロメチル
基、イミノ基、 ・場合により置換されたCl−C8アルキル・場合によ
り置換されたc2−caアルケニル・場合により置換さ
れたC2−C,アルキニル・場合により置換されたC3
−C6シクロアルキル・場合により置換されたC3−C
Bシクロアルケニル、・場合により置換されたヘテロシ
クリル・場合により置換されたヘテロシクリルC,−C
6アルキル ・場合により置換されたヘテロシクリルC,−C,アル
ケニル ・場合により置換されたヘテロシクリル02 C8ア
ルキニル ・場合により置換されたC、−C6シクロアルキリデ・
場合により置換されたC3 CMへテロシフリリデン ・場合により置換されたアリール から選ばれる一種の基を表す) また、基R4上の置換基は、独立に以下の群:・ハロゲ
ン原子、 ・ヒドロキシル基、 ・アルコキシ基、 ・カルバモイルオキシ基、 ・場合により1個または2個のC,−C,アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたカルバモイルオキシ基 ・アミノ基、 ・場合により1個または2個の[:+−[:aアルキル
基、アリール基またはへテロアリール基によって窒素に
おいて置換されたカルバモイルオキシ基、 ・場合により3個のC,−C,アルキル基により置換さ
れたアルキルアンモニオ基、 ・アシルアミノ基、 ・場合により1個のC,−C6アルキル基、アリール基
またはへテロアリール基によって窒素においてfiHA
されたアシルアミノ基、 ・ホルミルアミノ基 ・ウレイド基、 ・場合により1個−4個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたウレイド基、 ・アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニル基、 ・スルファモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−Caアルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたスルファモイル基、・スルフィナモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたスルフィナモイル基、・カルバモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−C6アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたカルバモイル基、 ・シアノ基、 ニトロ基、 ・アミジノ基、 ・場合により1個−2個のC,−C6アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたアミジノ基、 ・グアニジノ基、 ・場合により1個−2個のCI−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたグアニジノ基、 ・ヒドロキシカルバモイル基、 ・場合により1個のC,−Caアルキル基、アリール基
またはへテロアリール基によって窒素において置換され
たヒドロキシカルバモイル基、・チオカルバモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたチオカルバモイル基、・トリフルオロメチル基
、 ・アルコキシイミノ基、 ・場合により置換されたC、−C6アルコキシカルボニ
ル基、 ・場合により置換されたC、−Caアルキルカルボニル
オキシ基、 からなる群から選ばれる一種である。
ト基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニ
ル基、スルホンアミド基、カルバモイル基、シアノ基、
ニトロ基、アミジノ基、グアニジノ基、ヒドロキシカル
バモイル基、チオカルバモイル基、トリフルオロメチル
基、イミノ基、 ・場合により置換されたCl−C8アルキル・場合によ
り置換されたc2−caアルケニル・場合により置換さ
れたC2−C,アルキニル・場合により置換されたC3
−C6シクロアルキル・場合により置換されたC3−C
Bシクロアルケニル、・場合により置換されたヘテロシ
クリル・場合により置換されたヘテロシクリルC,−C
6アルキル ・場合により置換されたヘテロシクリルC,−C,アル
ケニル ・場合により置換されたヘテロシクリル02 C8ア
ルキニル ・場合により置換されたC、−C6シクロアルキリデ・
場合により置換されたC3 CMへテロシフリリデン ・場合により置換されたアリール から選ばれる一種の基を表す) また、基R4上の置換基は、独立に以下の群:・ハロゲ
ン原子、 ・ヒドロキシル基、 ・アルコキシ基、 ・カルバモイルオキシ基、 ・場合により1個または2個のC,−C,アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたカルバモイルオキシ基 ・アミノ基、 ・場合により1個または2個の[:+−[:aアルキル
基、アリール基またはへテロアリール基によって窒素に
おいて置換されたカルバモイルオキシ基、 ・場合により3個のC,−C,アルキル基により置換さ
れたアルキルアンモニオ基、 ・アシルアミノ基、 ・場合により1個のC,−C6アルキル基、アリール基
またはへテロアリール基によって窒素においてfiHA
されたアシルアミノ基、 ・ホルミルアミノ基 ・ウレイド基、 ・場合により1個−4個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたウレイド基、 ・アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニル基、 ・スルファモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−Caアルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたスルファモイル基、・スルフィナモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたスルフィナモイル基、・カルバモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−C6アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたカルバモイル基、 ・シアノ基、 ニトロ基、 ・アミジノ基、 ・場合により1個−2個のC,−C6アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたアミジノ基、 ・グアニジノ基、 ・場合により1個−2個のCI−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたグアニジノ基、 ・ヒドロキシカルバモイル基、 ・場合により1個のC,−Caアルキル基、アリール基
またはへテロアリール基によって窒素において置換され
たヒドロキシカルバモイル基、・チオカルバモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたチオカルバモイル基、・トリフルオロメチル基
、 ・アルコキシイミノ基、 ・場合により置換されたC、−C6アルコキシカルボニ
ル基、 ・場合により置換されたC、−Caアルキルカルボニル
オキシ基、 からなる群から選ばれる一種である。
またR6は下記から独立的に選ばれる。
R4に関し上記で定義されている基(R4及びR5は同
一でも異っていてもよい)、] を有するカルバペネム
話導体及びその薬理上許容される塩に関するものである
。
一でも異っていてもよい)、] を有するカルバペネム
話導体及びその薬理上許容される塩に関するものである
。
前記−最大 (I)において、好適なカルバペネム話導
体は以下のような置換基 R1、R2及びR5を有する
ものである。
体は以下のような置換基 R1、R2及びR5を有する
ものである。
まずR3としては水素原子またはヒドロキシル基を有す
ることもあるメチル基、エチル基、ロープロピル基、イ
ソプロピル基、n−ブチル基等のCI−C6アルキル基
が挙げられる。
ることもあるメチル基、エチル基、ロープロピル基、イ
ソプロピル基、n−ブチル基等のCI−C6アルキル基
が挙げられる。
R2としては水素原子またはメチル、エチル、イソブチ
ル、第三級ブチル等の炭素数1−4個を有する百娘状若
しくは分岐鏡状低級アルキル基、メトキシメチル、メト
キシエチル等のC,−C,アルコキシC,−C,アルキ
ル基、ピバロイルオキシメチル基等のC,−C,脂肪族
アシルオキシメチル基、フタリジル基または本発明の化
合物の製造に際して、カルボキシル基の保護基を兼ね、
温和な条件下で容易に除去し得るエステル残基として、
例えば0−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、ベン
ズヒドリル若しくは2−ナフチルメチル基等のアラルキ
ル基、アリル基、またはトリメチルシリル等のC1−C
6アルキルシリル基等が挙げられる。
ル、第三級ブチル等の炭素数1−4個を有する百娘状若
しくは分岐鏡状低級アルキル基、メトキシメチル、メト
キシエチル等のC,−C,アルコキシC,−C,アルキ
ル基、ピバロイルオキシメチル基等のC,−C,脂肪族
アシルオキシメチル基、フタリジル基または本発明の化
合物の製造に際して、カルボキシル基の保護基を兼ね、
温和な条件下で容易に除去し得るエステル残基として、
例えば0−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、ベン
ズヒドリル若しくは2−ナフチルメチル基等のアラルキ
ル基、アリル基、またはトリメチルシリル等のC1−C
6アルキルシリル基等が挙げられる。
また、COOIhとして、R2がナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属類との塩である場合もあり、更に一級
、二級、三級の有機アミン類との塩である場合もある。
等のアルカリ金属類との塩である場合もあり、更に一級
、二級、三級の有機アミン類との塩である場合もある。
また、本発明の置換基R3の状態に依存して、例えばR
5が塩基性基である場合、酸との塩を形成し、R2は水
素原子の状態で存在することもあり、このような−最大
(1)の酸付加塩は以下の如く記載することもできる。
5が塩基性基である場合、酸との塩を形成し、R2は水
素原子の状態で存在することもあり、このような−最大
(1)の酸付加塩は以下の如く記載することもできる。
:
(式中、X′″は酸のアニオンを意味する。)更にR5
が塩基性基である場合、本発明の化合物がおかれている
環境(pH)により、C0OR,はカルボキシル基の場
合とカルボキシレートアニオンの場合のいずれかの状態
にあり、これはいわゆるアミノ酸のような双性イオン(
ZwHter 1on)構造で存在する場合を意味し、
−最大 (1)の化合物はこのような双性イオン構造の
化合物をも包含するものである。
が塩基性基である場合、本発明の化合物がおかれている
環境(pH)により、C0OR,はカルボキシル基の場
合とカルボキシレートアニオンの場合のいずれかの状態
にあり、これはいわゆるアミノ酸のような双性イオン(
ZwHter 1on)構造で存在する場合を意味し、
−最大 (1)の化合物はこのような双性イオン構造の
化合物をも包含するものである。
本発明のカルバペネム誘導体において、好適な置換基R
1の例としては以下のものが包含される。
1の例としては以下のものが包含される。
置換基R3が以下の式:
(ただし、X、Y、2は窒素または炭素であり% R4
及びR6は上記定義通りである) で示されるものから選ばれるような誘導体であり、この
場合、R4、R2としては以下の群から選ばれる一種で
あることが好ましい。
及びR6は上記定義通りである) で示されるものから選ばれるような誘導体であり、この
場合、R4、R2としては以下の群から選ばれる一種で
あることが好ましい。
−H,−OH,−CN5. −C2H5,−N)+2.
−CON+(2゜−CO2H,−CN、 −F、
−Ci、 −5C’d3. −0CONH2゜f−
) −GON O,−CON N−GHz、 −NH
COC)Is。
−CON+(2゜−CO2H,−CN、 −F、
−Ci、 −5C’d3. −0CONH2゜f−
) −GON O,−CON N−GHz、 −NH
COC)Is。
(−) U
−CHzCONHz、 −CHtCミCH,−CH
2CN、 −CH2CONHCHi−Cth(:H
iOH,−CH2CH2F、 −CH2F。
2CN、 −CH2CONHCHi−Cth(:H
iOH,−CH2CH2F、 −CH2F。
本発明において好ましいカルバペネム誘導体は、以下に
示すような二環性複素環基(R3)を宥するものである
。
示すような二環性複素環基(R3)を宥するものである
。
−NHCOC)I2N)It、 −NHCOCONH
2,−5OCHs。
2,−5OCHs。
なお、本発明においてR3が不斉炭素原子を有する場合
、立体異性体が存在する0例えば、不斉炭素原子が1個
の場合、2f!の立体異性体が生ずるので、以下の記載
においては一方を「異性体A」他方を「異性体B」と便
宜上記述した。
、立体異性体が存在する0例えば、不斉炭素原子が1個
の場合、2f!の立体異性体が生ずるので、以下の記載
においては一方を「異性体A」他方を「異性体B」と便
宜上記述した。
一般式(1)において、5位の炭素原子の立体配置は天
然のチェナマイシンに対応するR配置が好適であり、ま
た好適なR1としては水素原子及びl−ヒドロキシエチ
ル基が挙げられる。特に好適な例としては1−ヒドロキ
シエチル基の結合する6位炭素原子の立体配置がS配置
であり、ヒドロキシル基の置換する8位炭素原子の立体
配置がR配置のものが挙げられる。
然のチェナマイシンに対応するR配置が好適であり、ま
た好適なR1としては水素原子及びl−ヒドロキシエチ
ル基が挙げられる。特に好適な例としては1−ヒドロキ
シエチル基の結合する6位炭素原子の立体配置がS配置
であり、ヒドロキシル基の置換する8位炭素原子の立体
配置がR配置のものが挙げられる。
更に詳しく態様を示せば、特に好適なR2としては、水
素原子またはアニオン荷電であり、代謝されうるエステ
ル残基の好ましい例としてはピパロイルオキシメチル基
、フタリジル基、アセトキシカルボニルオキシメチル基
が挙げられる。また、一般式(I)の化合物の合成に際
し、カルボキシル基の保護基として好適なエステル残基
はp−ニトロベンジル基、アリル基等が挙げられる。
素原子またはアニオン荷電であり、代謝されうるエステ
ル残基の好ましい例としてはピパロイルオキシメチル基
、フタリジル基、アセトキシカルボニルオキシメチル基
が挙げられる。また、一般式(I)の化合物の合成に際
し、カルボキシル基の保護基として好適なエステル残基
はp−ニトロベンジル基、アリル基等が挙げられる。
なお、本発明の化合物及び中間体のあるものは互変異性
体の構造をとることも考えられる0本明細書ではこれら
を一種類の構造式で表すが、これは限定を意味するもの
ではない。
体の構造をとることも考えられる0本明細書ではこれら
を一種類の構造式で表すが、これは限定を意味するもの
ではない。
好適なR5としては以下に例示するような二環性複素環
基を挙げることが出来る。
基を挙げることが出来る。
で示される各誘導体である。
前記した一般式(1)の化合物の薬理学的に許容される
塩は、カルボン酸無毒性塩、例えば、ナトリウム、カリ
ウム、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩、アンモ
ニウム塩及びトリエチルアミン、ブロカイン、ベンジル
アミンとの塩及びペニシリン類、セファロスポリン頚の
塩形成に用いられる他のアミン類のような無毒性のアミ
ン類との塩を包含する。特に好適な塩としてはナトリウ
ム塩、カリウム塩を挙げることができる。
塩は、カルボン酸無毒性塩、例えば、ナトリウム、カリ
ウム、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩、アンモ
ニウム塩及びトリエチルアミン、ブロカイン、ベンジル
アミンとの塩及びペニシリン類、セファロスポリン頚の
塩形成に用いられる他のアミン類のような無毒性のアミ
ン類との塩を包含する。特に好適な塩としてはナトリウ
ム塩、カリウム塩を挙げることができる。
本発明のカルバペネム誘導体には塩基性基が存在す委の
で、医薬として許容される酸付加塩、例えば塩酸、臭化
水素酸、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン酸
、コハク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等有機
酸との塩類とすることもできる。
で、医薬として許容される酸付加塩、例えば塩酸、臭化
水素酸、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン酸
、コハク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等有機
酸との塩類とすることもできる。
特に好適な塩としては、塩酸塩、硫酸塩を挙げることが
できる。また、式 (1)の化合物は種々の溶媒和した
ものでも良く、例えば水和物も本発明の範囲に含まれる
。
できる。また、式 (1)の化合物は種々の溶媒和した
ものでも良く、例えば水和物も本発明の範囲に含まれる
。
本発明の化合物は慣用される製剤用担体、安定化剤、溶
解補助剤、賦形剤を用いて通常の方法で製剤とすること
ができる。
解補助剤、賦形剤を用いて通常の方法で製剤とすること
ができる。
投与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤等の経口投与あ
るいは静注、筋注剤、坐剤等の非経口投与のいずれであ
っても良い、#9を存置は通常成人1日250a+g〜
30QOmgであり、これを数回に分割投与するが、年
令、性別、症状により適宜増減することができる。
るいは静注、筋注剤、坐剤等の非経口投与のいずれであ
っても良い、#9を存置は通常成人1日250a+g〜
30QOmgであり、これを数回に分割投与するが、年
令、性別、症状により適宜増減することができる。
本発明の化合物(1)は、下記の反応式で例示する方法
によって製造することができる。
によって製造することができる。
工
■
工
第1工程:
公知の方法(特開昭58−26887)及びそれに準す
る方法で合成できる一般式(11) (式中、R1は
前記と同じ、R2は前記エステル残基、R6は有機基、
例えばアルキル基、好ましくはメチル、エチル、ロープ
ロピル、イソプロピル基等のアルキル基;)工二ル、ナ
フチル基等のアリール基;2−アシルアミノエチル基、
2−アシルアミノビニル基;ベンジル、メチルベンジル
、フェネチル基等のアルキル基)で示されるカルバペネ
ム誘導体を、適当な溶媒中で酸化剤、例えば過安息香酸
、m−クロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素、二酸化
セレン、オゾン又はメタ過ヨード酸ナトリウム等、好適
には、m−クロロ過安息香酸で酸化するとスルホキシド
体 (■旧が高収率で得られる。ここに得られるスルホ
キシド体は立体異性体の混合物であるが、分離すること
なく好適に次の第2工程の反応に使用することができる
。本反応に用いられる反応溶媒としては、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン(以下、THFと略記する)等
のエーテル類、酢酸、ピリジン、N、N−ジメチルホル
ムアミド(以下、DMFと略記する)、水及びリン酸緩
衝液等の反応原料、生成物に支障をきたさない溶媒(混
合溶媒も含む)が好適に用いられる。反応温度は一50
℃〜50℃、好適には一り0℃〜室温の緩和な温度条件
が有利である。反応時間は5分〜4時間、通常は30分
〜1時間で十分である。
る方法で合成できる一般式(11) (式中、R1は
前記と同じ、R2は前記エステル残基、R6は有機基、
例えばアルキル基、好ましくはメチル、エチル、ロープ
ロピル、イソプロピル基等のアルキル基;)工二ル、ナ
フチル基等のアリール基;2−アシルアミノエチル基、
2−アシルアミノビニル基;ベンジル、メチルベンジル
、フェネチル基等のアルキル基)で示されるカルバペネ
ム誘導体を、適当な溶媒中で酸化剤、例えば過安息香酸
、m−クロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素、二酸化
セレン、オゾン又はメタ過ヨード酸ナトリウム等、好適
には、m−クロロ過安息香酸で酸化するとスルホキシド
体 (■旧が高収率で得られる。ここに得られるスルホ
キシド体は立体異性体の混合物であるが、分離すること
なく好適に次の第2工程の反応に使用することができる
。本反応に用いられる反応溶媒としては、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素
類、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン(以下、THFと略記する)等
のエーテル類、酢酸、ピリジン、N、N−ジメチルホル
ムアミド(以下、DMFと略記する)、水及びリン酸緩
衝液等の反応原料、生成物に支障をきたさない溶媒(混
合溶媒も含む)が好適に用いられる。反応温度は一50
℃〜50℃、好適には一り0℃〜室温の緩和な温度条件
が有利である。反応時間は5分〜4時間、通常は30分
〜1時間で十分である。
第2工程:
本工程は、上述の如く得られたスルホキシド体(■旧
とチオール体 (■)(式中、R3は前記定義通りであ
る)、又その酸付加塩若しくはその反応性誘導体との置
換反応である。本反応に用いられる反応溶媒としては、
メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類、 DMF、アセトア
ミド、DMSOlTHF。
とチオール体 (■)(式中、R3は前記定義通りであ
る)、又その酸付加塩若しくはその反応性誘導体との置
換反応である。本反応に用いられる反応溶媒としては、
メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類、 DMF、アセトア
ミド、DMSOlTHF。
アセトニトリル、ヘキサメチルホスホトリアミド、水等
の反応原料、生成物に支障をきたさない溶媒(混合溶媒
も含む)が好適に用いられる。反応温度は一り0℃〜室
温、特に−30℃〜0℃が好適である。反応時間は通常
15分〜2時間、特に30分〜2時間が好適である。
の反応原料、生成物に支障をきたさない溶媒(混合溶媒
も含む)が好適に用いられる。反応温度は一り0℃〜室
温、特に−30℃〜0℃が好適である。反応時間は通常
15分〜2時間、特に30分〜2時間が好適である。
一般式(rV)のチオール体は塩基と共存させると反応
性に冨み、良好に反応が進行するが、塩基なしでも勿論
進行する。使用可能な塩基としてはトリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン等のアルキルアミン類、1
.11−ジアザビシクロ[5゜4.0l−7−ランチセ
ン(以下、DBUと略記する)、N−メチルモルホリン
等の脂環状アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、カリ
ウム し−ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド等の
金属アルコラード類、ナトリウムアミド、水酸化ナトリ
ウム等が挙げられ、ジイソプロピルエチルアミン、De
llが好適に使用される。
性に冨み、良好に反応が進行するが、塩基なしでも勿論
進行する。使用可能な塩基としてはトリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン等のアルキルアミン類、1
.11−ジアザビシクロ[5゜4.0l−7−ランチセ
ン(以下、DBUと略記する)、N−メチルモルホリン
等の脂環状アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、カリ
ウム し−ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド等の
金属アルコラード類、ナトリウムアミド、水酸化ナトリ
ウム等が挙げられ、ジイソプロピルエチルアミン、De
llが好適に使用される。
一般式 (rV)のチオール化合物の反応性誘導体の例
としては、−最大:MS−R3(式中、Mはアルカリ金
属であり、R1は前記定義通りである)で表されるチオ
レート化合物が挙げられる。この置換反応において、−
最大 (rV)のチオール化合物は、通常スルホキシド
体(III)の1〜3当量、特に1〜2当量で使用する
ことが好適であり、また塩基はチオール化合物 (TV
) と当量で使用することが好ましい。ただし、チオ
ール化合物 (IV)が酸付加塩である場合は、更に、
付加されている酸を中和するに必要な量の塩基を加える
ことにより良好な結果を得る事ができる。
としては、−最大:MS−R3(式中、Mはアルカリ金
属であり、R1は前記定義通りである)で表されるチオ
レート化合物が挙げられる。この置換反応において、−
最大 (rV)のチオール化合物は、通常スルホキシド
体(III)の1〜3当量、特に1〜2当量で使用する
ことが好適であり、また塩基はチオール化合物 (TV
) と当量で使用することが好ましい。ただし、チオ
ール化合物 (IV)が酸付加塩である場合は、更に、
付加されている酸を中和するに必要な量の塩基を加える
ことにより良好な結果を得る事ができる。
上述の反応において生成する置換成績体は通常の後処理
により!#離される。
により!#離される。
第3工程:
上述の置換反応成績体に保護基がある場合には、更に所
望により保護基を脱離することができる。保護基の脱離
法としては、水素添加による還元的分解、化学的還元、
酸、塩基又は酵素を用いた加水分解による方法等が挙げ
られる。
望により保護基を脱離することができる。保護基の脱離
法としては、水素添加による還元的分解、化学的還元、
酸、塩基又は酵素を用いた加水分解による方法等が挙げ
られる。
−最大(I)において、置換基R2はエステル残基であ
り、p−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基若しくは
2−ナフチルメチル基等である場合には、パラジウム担
持炭素、酸化白金、その他の公知の金属触媒を用いて接
触還元することにより脱保護し、−最大 (1) C(
lORzがカルボキシル基又はカルボキシレートアニオ
ンであるカルバペネム誘導体とすることができる。反応
溶媒としてジオキサン、T)IF、水、緩衝液(混合溶
媒をも含む)を用い、好適には含水T)IF、含水ジオ
キサン、リン酸緩衝液とT)IFとの混合溶媒等を用い
、1−4気圧の水素圧下にて、0℃〜50℃、好適には
10℃〜30℃で、30分〜16時間、好適にはlO分
〜1時間反応することによって、−最大 (r) CO
OR2がカルボキシル基又はカルボキシレートアニオン
である目的のカルバペネム誘導体を得ることができる。
り、p−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基若しくは
2−ナフチルメチル基等である場合には、パラジウム担
持炭素、酸化白金、その他の公知の金属触媒を用いて接
触還元することにより脱保護し、−最大 (1) C(
lORzがカルボキシル基又はカルボキシレートアニオ
ンであるカルバペネム誘導体とすることができる。反応
溶媒としてジオキサン、T)IF、水、緩衝液(混合溶
媒をも含む)を用い、好適には含水T)IF、含水ジオ
キサン、リン酸緩衝液とT)IFとの混合溶媒等を用い
、1−4気圧の水素圧下にて、0℃〜50℃、好適には
10℃〜30℃で、30分〜16時間、好適にはlO分
〜1時間反応することによって、−最大 (r) CO
OR2がカルボキシル基又はカルボキシレートアニオン
である目的のカルバペネム誘導体を得ることができる。
また、−最大 CI)のR2がp−ニトロベンジル基で
ある場合には、THF、ジオキサン等の水溶性有機溶媒
中で塩化アンモニウム水溶液と鉄粉とを反応させること
により、更に、R2がアリル基である場合にはTHE、
メチレンクロリド等の非プロトン性溶媒中で、テトラキ
ストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、トリフェ
ニルホスフィンおよび2−エチルヘキサン酸と反応させ
ることにより、更に、R2が2.2.2−トリクロロエ
チル基である場合には亜鉛未還元により脱保護すること
によフても、それぞれ−最大 (1)のCOOR2がカ
ルボキシル基若しくはカルボキシレートアニオンである
目的化金物を得ることができる。
ある場合には、THF、ジオキサン等の水溶性有機溶媒
中で塩化アンモニウム水溶液と鉄粉とを反応させること
により、更に、R2がアリル基である場合にはTHE、
メチレンクロリド等の非プロトン性溶媒中で、テトラキ
ストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、トリフェ
ニルホスフィンおよび2−エチルヘキサン酸と反応させ
ることにより、更に、R2が2.2.2−トリクロロエ
チル基である場合には亜鉛未還元により脱保護すること
によフても、それぞれ−最大 (1)のCOOR2がカ
ルボキシル基若しくはカルボキシレートアニオンである
目的化金物を得ることができる。
上述の第2工程における置換成績体はその物性によって
はju fl Pi %しにくいものがあり、−最大(
1)のC00fhがカルボキシル基若しくはカルボキシ
レートアニオンである化合物の製造を目的とする場合に
は、中間の置換成績体を!#離することなく、同一反応
容器中で、若しくは簡単な通常の後処理を施した後、保
護基を脱離することにより良好な結果が得られる場合が
ある。これは、特に大量の目的物を製造する際には、繁
雑な作業もなく、収率、品質の点でも優れた簡便な方法
である。
はju fl Pi %しにくいものがあり、−最大(
1)のC00fhがカルボキシル基若しくはカルボキシ
レートアニオンである化合物の製造を目的とする場合に
は、中間の置換成績体を!#離することなく、同一反応
容器中で、若しくは簡単な通常の後処理を施した後、保
護基を脱離することにより良好な結果が得られる場合が
ある。これは、特に大量の目的物を製造する際には、繁
雑な作業もなく、収率、品質の点でも優れた簡便な方法
である。
一般式CI)の目的化合物は通常の単離手段、即ち抽出
後、濃縮し、更に必要により再結晶、再沈澱、クロマト
グラフィー等によって精製することができる。また、−
最大 (I)の化合物は結晶化することによって高純度
のものが得られ、この目的のために塩とすることにより
好ましい結果が得られる。その際、塩としては必ずしも
無毒性酸付加塩である必要はなく、毒性のある塩として
結晶化し、精製の後酸を除去するか、若しくは薬理上許
容される塩に変換して目的化合物を純度良く得ることが
できる。
後、濃縮し、更に必要により再結晶、再沈澱、クロマト
グラフィー等によって精製することができる。また、−
最大 (I)の化合物は結晶化することによって高純度
のものが得られ、この目的のために塩とすることにより
好ましい結果が得られる。その際、塩としては必ずしも
無毒性酸付加塩である必要はなく、毒性のある塩として
結晶化し、精製の後酸を除去するか、若しくは薬理上許
容される塩に変換して目的化合物を純度良く得ることが
できる。
体内で代謝されるエステル類を製造するには、ペニシリ
ン類やセファロスポリン類における方法に準じて、−最
大 (1)のC0OR,のR2としてあらかじめ入れて
おくか、またはカルボキシル基あるいはカルボキシレー
トアニオンの化合物をエステル化すればよい。
ン類やセファロスポリン類における方法に準じて、−最
大 (1)のC0OR,のR2としてあらかじめ入れて
おくか、またはカルボキシル基あるいはカルボキシレー
トアニオンの化合物をエステル化すればよい。
実施例
以下、実施例及び参考例に従って本発明の化合物の製造
方法をより具体的に説明する。しかしながら、本発明の
範囲は以下の実施例により何等制限されない。なお、以
下の実施例及び参考例の構造式において以下の略号を使
用する6 :PNB : C1h・NO□ PNZ : C(hclhGN(h 実施例1 (SR,6S、8R)−2−[(6,7−シヒドロー5
H−ピロロ−[1,2−c]イミダゾール−7−イル)
チオ] −6−(1−ヒドロキシエチル)−1−カルバ
ベン−2−エム−3−カルボン酸の製造: (1)p−ニトロベンジル・(SR,65,8R) −
2−[(a、7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2−c
]イミダゾール−7−イル)チオ]−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレートの合成:p−ニトロベンジル(SR,6S、
8R)−6−(1−ヒドロキシエチル)−2−フェニル
スルフィニル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレート 4561I1gをT)IF 501アセト
ニトリル5ml、 DMSOO,5G!1の(毘?Mに
τ容解し、−50℃に冷却攪拌下6.7−シヒドロー7
−メルカブトー5H−ピロロ[1,2−cl イミダゾ
ール280mgを加え、同温にて50分攪拌する。反応
液にイソプロピルエーテルを加え、上澄液を傾瀉して除
去し、更にイソプロピルエーテルにて洗浄し、標記化合
物を定量的に得る。
方法をより具体的に説明する。しかしながら、本発明の
範囲は以下の実施例により何等制限されない。なお、以
下の実施例及び参考例の構造式において以下の略号を使
用する6 :PNB : C1h・NO□ PNZ : C(hclhGN(h 実施例1 (SR,6S、8R)−2−[(6,7−シヒドロー5
H−ピロロ−[1,2−c]イミダゾール−7−イル)
チオ] −6−(1−ヒドロキシエチル)−1−カルバ
ベン−2−エム−3−カルボン酸の製造: (1)p−ニトロベンジル・(SR,65,8R) −
2−[(a、7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2−c
]イミダゾール−7−イル)チオ]−6−(1−ヒドロ
キシエチル)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレートの合成:p−ニトロベンジル(SR,6S、
8R)−6−(1−ヒドロキシエチル)−2−フェニル
スルフィニル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレート 4561I1gをT)IF 501アセト
ニトリル5ml、 DMSOO,5G!1の(毘?Mに
τ容解し、−50℃に冷却攪拌下6.7−シヒドロー7
−メルカブトー5H−ピロロ[1,2−cl イミダゾ
ール280mgを加え、同温にて50分攪拌する。反応
液にイソプロピルエーテルを加え、上澄液を傾瀉して除
去し、更にイソプロピルエーテルにて洗浄し、標記化合
物を定量的に得る。
NMRδ(CDC13) :
1.38 (3H,d、 J−6H1,CH3)2.6
0−2.90 (IH,m) 2.90−3.80 (4H,m) 3.90−4.50 (4H,m) 4.80−4.80 (IH,m) 5.23 and 5.52(each IH,eac
h d、 J−15)1z)6.88 (IH,br
s) 7.50 (IH,S) 7.64 and 8.22 (each 2H,ea
ch d、 J=9Hz)(2) (SR,85,8
R)−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ−[1
,2−c]イミダゾール−7−イル)チオ] −6−(
1−ヒドロキシエチル)−1−カルバベン−2−エム−
3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物220mgをTHE 15m1及び
pH6のPhosphate Buffer 15a+
1の混液に溶かし、酸化白金200mgを加え4 at
omで40分間、還元反応に付す、触媒を濾去し、濾液
及び洗液を減圧?l4M6し、濃縮ン夜をタイヤイオン
HP−20(20x 300mm)のカラムクロマトグ
ラフィーで精製する。水で溶出される最初の画分5oi
lを除去し、次いで水及び5X THF−水で溶出部分
を合わせ、減圧濃縮し、高速液体クロマトグラフィー(
HPLC) [担体:ヌクレオシル(Nucleosi
l) 7C+a (20X 300m111)、溶媒=
6零アセトニトリルー水、流速: 9ml/分コにて精
製し、目的物を含む保持時間8.4分の画分をそれぞれ
分取し、凍結乾燥すると黄淡色粉末の異性体A。
0−2.90 (IH,m) 2.90−3.80 (4H,m) 3.90−4.50 (4H,m) 4.80−4.80 (IH,m) 5.23 and 5.52(each IH,eac
h d、 J−15)1z)6.88 (IH,br
s) 7.50 (IH,S) 7.64 and 8.22 (each 2H,ea
ch d、 J=9Hz)(2) (SR,85,8
R)−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ−[1
,2−c]イミダゾール−7−イル)チオ] −6−(
1−ヒドロキシエチル)−1−カルバベン−2−エム−
3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物220mgをTHE 15m1及び
pH6のPhosphate Buffer 15a+
1の混液に溶かし、酸化白金200mgを加え4 at
omで40分間、還元反応に付す、触媒を濾去し、濾液
及び洗液を減圧?l4M6し、濃縮ン夜をタイヤイオン
HP−20(20x 300mm)のカラムクロマトグ
ラフィーで精製する。水で溶出される最初の画分5oi
lを除去し、次いで水及び5X THF−水で溶出部分
を合わせ、減圧濃縮し、高速液体クロマトグラフィー(
HPLC) [担体:ヌクレオシル(Nucleosi
l) 7C+a (20X 300m111)、溶媒=
6零アセトニトリルー水、流速: 9ml/分コにて精
製し、目的物を含む保持時間8.4分の画分をそれぞれ
分取し、凍結乾燥すると黄淡色粉末の異性体A。
Bが得られる。(収量 異性体へ9mg、異性体B16
+ng) 異性体A: UVλvaax (l20) nm : 30ONMR
δ(020) : 1.305 (3H,d、 J−6+(Z、 CH3)
2.70−2.74 (IH,m) 3.18−3.38 (3H,l11)3.47
(IH,dd、J−2,6H2)4.23−4.46
(4H,m) 4.80 (HOD) 4.91−4.93 (IH,m) 7.26 (IL br s) 8.42 (IH,5) HPLC侃持時間(分):8.4 [HPLC条件:上記に同じコ 異性体8: UVλwax (l20) rv : 30ONMRδ
(020) : 1.305 (3H,d、 J=6Hz、 CHs)2
.88−2.71 (IH,m) 3.17−3.25 (2H,l11)3.32−3.
38 (1M、 m) 3.47 (IH,dd、 J−2,6Hz14.23
−4.44 (4H,m) 4.80 (HOD) 4.89−4.91 (IH,m) 7.21 (IH,br s) 8.35 (IH,m) HPLC保持時間(分):lO,4 [HPLC条件:上記に同じ] 実施例2 (SR,6S、8R)−2−((8,7−ジヒドロ−5
日−ピロロ−(1,2−clイミダゾール−6−イル)
チオ] −6−(1−ヒドロキシエチル)−1−カルバ
ベン−2−エム−3−カルボン酸の製造: (1) p−ニトロベンジル(5R,65,8R)−2
−((6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2−c]
イミダゾール−6−イル)チオ]−8−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボキ
シレートの合成:p−ニトロベンジル(SR,65,8
R) −6−(1−ヒドロキシエチル)−2−フェニル
スルフィニル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレート 923BをTHF 5mlアセトニトリル
・5ml、 DMSO0,5mlの混液に溶解し、−5
0℃に冷却攪拌下6.7−シヒドロー6−メルカブトー
5H−ピロロ[1,2−c] イミダゾール744mg
を加え、同温にて3時間攪拌する。反応液にイソプロピ
ルエーテルを加え、上澄液を傾瀉して除去し、更にイソ
プロピルエーテルにて洗浄し、残漬をシリカゲルlog
を用いたカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホル
ム−メタノール (Ll)の流分より、標記化合物を定
量的に得る。収量313mgNMRδ(CDC13)
: 1.30 (3)1. d、 J−6Hz、 C)+3
)5.32 and 5.40 (each IH,e
ach d、 J−15Hx)7.17 (IH,br
s) 7.70 and 8.20 (each 2H,ea
ch d、 J=9Hz)a、57 (IH,br 5
) (2) (5R,as、aR)−2−[(e、7−シ
ヒドロー5H−ピロロ−[1,2−Clイミダゾール−
6−イル)チオコー6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−カルバベン−2−エム−3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物313II1gをTHF 15m1
及びpH7のPhosphate Buffer 15
w1の混液に溶かし、酸化白金190mgを加え4 a
tomでlS分間、還元反応に付す、触媒を濾去し、濾
液及び洗液を減圧濃縮し、濃縮を夜をタイヤイオン)I
P−20(20x 3QOmm)のカラムクロマトグラ
フィーで精製する。水で溶出される最初の画分50II
Ilを除去し、次いで水及び銚THF−水で溶出部分を
合わせ、減圧濃縮し、高速液体クロマトグラフィー(H
PLC) [担体:ヌクレオシル(Nucleosil
) 7C+a (20x 300mm)、溶媒= 5零
アセトニトリル−水、流速: 12.5ml/分コに
て精製し、目的物を含む保持時間6.5分、8分の画分
をそれぞれ分取し、凍結乾燥すると淡黄色粉末の異性体
A、Bが得られる。(収量異性体A 8mg、異性体
B 20a+g ) 異性体A: 11Vλwax (H,O) nm : 30ONMR
δ(020) : 1.305 (3H,d、J−6Hz、CH3):1
.08 (1M、dd、J−4,8,16,7Hz)3
.22 (IH,dd、J−8,7,17,5Hz)
3、:10 (IH,dd、J−8,7,17,5H
z)3.455 (IH,dd、J−2,4,8,4
Hz)3.55 (IH,dd、J−7,9,16,
7Hz)4.24−4.29 (2H,m) 4.33 (IH,dd、J−4,8,12,7Hz
)4.59−4.82 (l)I、 111)4.
73 (IH,dd、J−7,9,12,7)IZ)
4.80 (HOD) 7.16 (II(、S) 8.54 (IH,5) HPLC保持時間(分):6.5 HPI、C条件二上記に同じコ 異性体B: UVλmax (H2O) nm : 30ONMRδ
(020) : 1.305 (3H,d、 J=6.4Hz、 CH3
)3.04 (IH,dd、 J−3,2,l[i、7
Hz)3.25 (IH,dd、 J−6,4,1
6,8)1z):1.27 (1)1. dd、 J
−7,2,16,8)12)3.46 (IH,dd
、 J−2,4,6,4H2)3.505 (IH,
dd、 J−7,9、16,7Hz)4.24−4.2
9 (28,01)4.315 (LH,dd、
J−4,5,12,7Hz)4.59−4.62 (
1)1. m)4.73 (IH,m) 4.80 ()IO[l) 7.13 (IH,s) 8.46 (11(、5) HPLC保持時間(分)=8 [HPL(:条件:上記に同じ] 実施例3 (SR,6S 、8R) −2−[(6,7−シヒドロ
ー5H−ピロロ−[1,2−a]イミダゾール−6−イ
ル)チオコートい一ヒドロキシエチル)−1−カルバベ
ン−2〜エム−3−カルボン酸の製造: (1) p−ニトロベンジル(5R,65,8R)−2
−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2−a]
イミダゾール−6−イル)チオ]−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボキ
シレートの合成:p−ニトロベンジル(SR,6S、8
R) −6−(1−ヒドロキシエチル)−2−(2−p
−二トロペンジルオキシ力ルポニルアミノエチルスルフ
イニル)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボキシ
レート 410a+8をアセトニトリル 10m1 に
懸濁し、氷却攪拌下6,7−シヒドロー6−メルカブト
ー5H−ピロロ[1、2−a] イミダゾール200I
ngを加え、同温にて30分間攪拌する。反応液にイソ
プロピルエーテルを加え、上澄液を傾瀉して除去し、更
にイソプロピルエーテルにて洗浄し、残漬をシリカゲル
6gを用いたカラムクロマトグラフィーに付し、クロロ
ホルム−メタノール(97:3)の流分より、標記化合
物を得る。収量170+ngNMRδ(CDC13)
: 1.38 (3H,d、 J−6Hz、 C)+3)2
.7−3.7 (5)1. m) 3.7−4.6 (S)l、 m) 5.1−5.5 (28,m) 8.87 (IH,S) 7.06 (IH,S) 7.58 and 8.21 (each 2)1.e
ach d、 J−9Hz)(2) (SR,65,
8R)−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ−[
1,2−alイミダゾール−6−イル)チオ] −6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−カルバベン−2−エム
−3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物170mgをTHF 7ml及びp
H6のPhosphate Buffer 7mlの混
液に溶かし、酸化白金100111gを加え4 ato
mで1時間、還元反応に付す。触媒を濾去し、濾液及び
洗液を減圧濃縮し、濃縮液をタイヤイオンHP−20(
20x 2000Im)のカラムクロマトグラフィーで
精製する。水で溶出される最初の画分50m1を除去し
、次いで水及び繋THF−水で溶出部分を合わせ、減圧
濃縮し、高速液体クロマトグラフィー(HPLC) [
担体:ヌクレオシル (Nucleo−sil) 7(
:1a (20x 300mm1、溶媒: 繋アセトニ
トリルー水、流速: 10IIll/分]にて精製し
、目的物を含む保持時間7.5分、8分の画分をそれぞ
れ分取し、凍結乾燥すると淡黄色粉末の異性体A、Bが
得られる。(収量異性体A 7.5mg、異性体86m
g) 異性体^ UVλmax (H2O) r+m : 297NMR
δ(020) : 1.31 (3H,d、 J−6H2,CH3)3.2
1 (1)1. dd、 J−4,8,17,5Hz)
3.25 (2H,d、 、、b8.7Hz)3.46
(IH,dd、 J−3,2,6,4Hz)3.71
(IH,dd、 J−7,9,17,5Hz)4.2
−4.3 (31(、m) 4.6−4.8 (2H,m) 7.35 (l)I、 s) 7.36 (IH,5) HPLC保持時間(分)ニア、5 [HPLC条件二上記に同じ] 異性体B: UVλmax (H,O) na+ : 298NMR
δ(020) : 1.31 (3L d、 J−6H2,CH3)3.2
−3.3 (3)1.1Il) 3.47 (LH,dd、 J−3,2,6,4Hz)
3.73 (IH,dd、 J−7,9,L8.:1)
lz)4.2−4.3 (3H,m) 4.6−4.8 (2H,m) 4.80 (HOD) 7.35 (2H,5) HPLC保持時間(分)二8 [HPLIl:条件:上記に同じ] 実施例4 (SR,8S、8R)−2−((6,7−シヒドロー5
H−ピロロ−[2,1−c]−1,2,4−トリアゾー
ル−6−イル)チオ]−6− (1−ヒドロキシエチル
)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボン酸の製造
: n+−+ (1)p−ニトロベンジル(SR,6S、8R)−2−
[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[2,1−CI−
1,2,4−トリアゾール−6−イル)チオ]−6−(
1−ヒドロキシエチル)−1−カルバベン−2−エム−
3−カルボキシレートの合成:p−ニトロベンジル(S
R,55,8R) −6−(1−ヒドロキシエチル)−
2−(2−p−二トロペンジルオキシカルボニルアミノ
エチルスルフェニル)−1−カルバベン−2−エム−3
−カルボキシレート 422mgをアセトニトリル4m
l、 THF 4ml、 DMSO0,5+nl に溶
解し、−50℃に冷却攪拌下6.7−シヒドロー6−メ
ルカブトづH−ビロロ[2,1−CI−1,2,4−ト
リアゾール198II1g及びジイソプロピルエチルア
ミン0.122a+1を加え、同温にて10分間攪拌す
る0反応液にエーテルを加え、上澄液を傾瀉して除去し
、更にエーテルにて洗浄し、残漬をシリカゲル7gを用
いたカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−
メタノール(31:9)の流分より、標記化合物を定量
的に得る。
+ng) 異性体A: UVλvaax (l20) nm : 30ONMR
δ(020) : 1.305 (3H,d、 J−6+(Z、 CH3)
2.70−2.74 (IH,m) 3.18−3.38 (3H,l11)3.47
(IH,dd、J−2,6H2)4.23−4.46
(4H,m) 4.80 (HOD) 4.91−4.93 (IH,m) 7.26 (IL br s) 8.42 (IH,5) HPLC侃持時間(分):8.4 [HPLC条件:上記に同じコ 異性体8: UVλwax (l20) rv : 30ONMRδ
(020) : 1.305 (3H,d、 J=6Hz、 CHs)2
.88−2.71 (IH,m) 3.17−3.25 (2H,l11)3.32−3.
38 (1M、 m) 3.47 (IH,dd、 J−2,6Hz14.23
−4.44 (4H,m) 4.80 (HOD) 4.89−4.91 (IH,m) 7.21 (IH,br s) 8.35 (IH,m) HPLC保持時間(分):lO,4 [HPLC条件:上記に同じ] 実施例2 (SR,6S、8R)−2−((8,7−ジヒドロ−5
日−ピロロ−(1,2−clイミダゾール−6−イル)
チオ] −6−(1−ヒドロキシエチル)−1−カルバ
ベン−2−エム−3−カルボン酸の製造: (1) p−ニトロベンジル(5R,65,8R)−2
−((6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2−c]
イミダゾール−6−イル)チオ]−8−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボキ
シレートの合成:p−ニトロベンジル(SR,65,8
R) −6−(1−ヒドロキシエチル)−2−フェニル
スルフィニル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレート 923BをTHF 5mlアセトニトリル
・5ml、 DMSO0,5mlの混液に溶解し、−5
0℃に冷却攪拌下6.7−シヒドロー6−メルカブトー
5H−ピロロ[1,2−c] イミダゾール744mg
を加え、同温にて3時間攪拌する。反応液にイソプロピ
ルエーテルを加え、上澄液を傾瀉して除去し、更にイソ
プロピルエーテルにて洗浄し、残漬をシリカゲルlog
を用いたカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホル
ム−メタノール (Ll)の流分より、標記化合物を定
量的に得る。収量313mgNMRδ(CDC13)
: 1.30 (3)1. d、 J−6Hz、 C)+3
)5.32 and 5.40 (each IH,e
ach d、 J−15Hx)7.17 (IH,br
s) 7.70 and 8.20 (each 2H,ea
ch d、 J=9Hz)a、57 (IH,br 5
) (2) (5R,as、aR)−2−[(e、7−シ
ヒドロー5H−ピロロ−[1,2−Clイミダゾール−
6−イル)チオコー6−(1−ヒドロキシエチル)−1
−カルバベン−2−エム−3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物313II1gをTHF 15m1
及びpH7のPhosphate Buffer 15
w1の混液に溶かし、酸化白金190mgを加え4 a
tomでlS分間、還元反応に付す、触媒を濾去し、濾
液及び洗液を減圧濃縮し、濃縮を夜をタイヤイオン)I
P−20(20x 3QOmm)のカラムクロマトグラ
フィーで精製する。水で溶出される最初の画分50II
Ilを除去し、次いで水及び銚THF−水で溶出部分を
合わせ、減圧濃縮し、高速液体クロマトグラフィー(H
PLC) [担体:ヌクレオシル(Nucleosil
) 7C+a (20x 300mm)、溶媒= 5零
アセトニトリル−水、流速: 12.5ml/分コに
て精製し、目的物を含む保持時間6.5分、8分の画分
をそれぞれ分取し、凍結乾燥すると淡黄色粉末の異性体
A、Bが得られる。(収量異性体A 8mg、異性体
B 20a+g ) 異性体A: 11Vλwax (H,O) nm : 30ONMR
δ(020) : 1.305 (3H,d、J−6Hz、CH3):1
.08 (1M、dd、J−4,8,16,7Hz)3
.22 (IH,dd、J−8,7,17,5Hz)
3、:10 (IH,dd、J−8,7,17,5H
z)3.455 (IH,dd、J−2,4,8,4
Hz)3.55 (IH,dd、J−7,9,16,
7Hz)4.24−4.29 (2H,m) 4.33 (IH,dd、J−4,8,12,7Hz
)4.59−4.82 (l)I、 111)4.
73 (IH,dd、J−7,9,12,7)IZ)
4.80 (HOD) 7.16 (II(、S) 8.54 (IH,5) HPLC保持時間(分):6.5 HPI、C条件二上記に同じコ 異性体B: UVλmax (H2O) nm : 30ONMRδ
(020) : 1.305 (3H,d、 J=6.4Hz、 CH3
)3.04 (IH,dd、 J−3,2,l[i、7
Hz)3.25 (IH,dd、 J−6,4,1
6,8)1z):1.27 (1)1. dd、 J
−7,2,16,8)12)3.46 (IH,dd
、 J−2,4,6,4H2)3.505 (IH,
dd、 J−7,9、16,7Hz)4.24−4.2
9 (28,01)4.315 (LH,dd、
J−4,5,12,7Hz)4.59−4.62 (
1)1. m)4.73 (IH,m) 4.80 ()IO[l) 7.13 (IH,s) 8.46 (11(、5) HPLC保持時間(分)=8 [HPL(:条件:上記に同じ] 実施例3 (SR,6S 、8R) −2−[(6,7−シヒドロ
ー5H−ピロロ−[1,2−a]イミダゾール−6−イ
ル)チオコートい一ヒドロキシエチル)−1−カルバベ
ン−2〜エム−3−カルボン酸の製造: (1) p−ニトロベンジル(5R,65,8R)−2
−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2−a]
イミダゾール−6−イル)チオ]−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボキ
シレートの合成:p−ニトロベンジル(SR,6S、8
R) −6−(1−ヒドロキシエチル)−2−(2−p
−二トロペンジルオキシ力ルポニルアミノエチルスルフ
イニル)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボキシ
レート 410a+8をアセトニトリル 10m1 に
懸濁し、氷却攪拌下6,7−シヒドロー6−メルカブト
ー5H−ピロロ[1、2−a] イミダゾール200I
ngを加え、同温にて30分間攪拌する。反応液にイソ
プロピルエーテルを加え、上澄液を傾瀉して除去し、更
にイソプロピルエーテルにて洗浄し、残漬をシリカゲル
6gを用いたカラムクロマトグラフィーに付し、クロロ
ホルム−メタノール(97:3)の流分より、標記化合
物を得る。収量170+ngNMRδ(CDC13)
: 1.38 (3H,d、 J−6Hz、 C)+3)2
.7−3.7 (5)1. m) 3.7−4.6 (S)l、 m) 5.1−5.5 (28,m) 8.87 (IH,S) 7.06 (IH,S) 7.58 and 8.21 (each 2)1.e
ach d、 J−9Hz)(2) (SR,65,
8R)−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ−[
1,2−alイミダゾール−6−イル)チオ] −6−
(1−ヒドロキシエチル)−1−カルバベン−2−エム
−3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物170mgをTHF 7ml及びp
H6のPhosphate Buffer 7mlの混
液に溶かし、酸化白金100111gを加え4 ato
mで1時間、還元反応に付す。触媒を濾去し、濾液及び
洗液を減圧濃縮し、濃縮液をタイヤイオンHP−20(
20x 2000Im)のカラムクロマトグラフィーで
精製する。水で溶出される最初の画分50m1を除去し
、次いで水及び繋THF−水で溶出部分を合わせ、減圧
濃縮し、高速液体クロマトグラフィー(HPLC) [
担体:ヌクレオシル (Nucleo−sil) 7(
:1a (20x 300mm1、溶媒: 繋アセトニ
トリルー水、流速: 10IIll/分]にて精製し
、目的物を含む保持時間7.5分、8分の画分をそれぞ
れ分取し、凍結乾燥すると淡黄色粉末の異性体A、Bが
得られる。(収量異性体A 7.5mg、異性体86m
g) 異性体^ UVλmax (H2O) r+m : 297NMR
δ(020) : 1.31 (3H,d、 J−6H2,CH3)3.2
1 (1)1. dd、 J−4,8,17,5Hz)
3.25 (2H,d、 、、b8.7Hz)3.46
(IH,dd、 J−3,2,6,4Hz)3.71
(IH,dd、 J−7,9,17,5Hz)4.2
−4.3 (31(、m) 4.6−4.8 (2H,m) 7.35 (l)I、 s) 7.36 (IH,5) HPLC保持時間(分)ニア、5 [HPLC条件二上記に同じ] 異性体B: UVλmax (H,O) na+ : 298NMR
δ(020) : 1.31 (3L d、 J−6H2,CH3)3.2
−3.3 (3)1.1Il) 3.47 (LH,dd、 J−3,2,6,4Hz)
3.73 (IH,dd、 J−7,9,L8.:1)
lz)4.2−4.3 (3H,m) 4.6−4.8 (2H,m) 4.80 (HOD) 7.35 (2H,5) HPLC保持時間(分)二8 [HPLIl:条件:上記に同じ] 実施例4 (SR,8S、8R)−2−((6,7−シヒドロー5
H−ピロロ−[2,1−c]−1,2,4−トリアゾー
ル−6−イル)チオ]−6− (1−ヒドロキシエチル
)−1−カルバベン−2−エム−3−カルボン酸の製造
: n+−+ (1)p−ニトロベンジル(SR,6S、8R)−2−
[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[2,1−CI−
1,2,4−トリアゾール−6−イル)チオ]−6−(
1−ヒドロキシエチル)−1−カルバベン−2−エム−
3−カルボキシレートの合成:p−ニトロベンジル(S
R,55,8R) −6−(1−ヒドロキシエチル)−
2−(2−p−二トロペンジルオキシカルボニルアミノ
エチルスルフェニル)−1−カルバベン−2−エム−3
−カルボキシレート 422mgをアセトニトリル4m
l、 THF 4ml、 DMSO0,5+nl に溶
解し、−50℃に冷却攪拌下6.7−シヒドロー6−メ
ルカブトづH−ビロロ[2,1−CI−1,2,4−ト
リアゾール198II1g及びジイソプロピルエチルア
ミン0.122a+1を加え、同温にて10分間攪拌す
る0反応液にエーテルを加え、上澄液を傾瀉して除去し
、更にエーテルにて洗浄し、残漬をシリカゲル7gを用
いたカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−
メタノール(31:9)の流分より、標記化合物を定量
的に得る。
収量211a+g
NMRδ(DMSO−d6) :
1.15 (3H,d、 、、b6Hz、 CH
3)2.8−3.1 (IH,m) 3.1−3.7 (3H,m) 3.7−4.3 (2H,1) 4J−4,8(2)1. m) 5.0−5.3 (2)1. m) 518 (2H,d、 J−4)1z)7.69 an
d 8.22 (each 2H,each d、 J
−9)1z)8.3.8.4 (each l/2)1
.5)(2) (SR,6S、8R)−2−((6,
7−シヒドロー5H−ピロロ−[2,1−c]−1,2
,4−トリアゾール−6−イル)チオ]−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−カルバベン−2−エム−3−カ
ルボン酸の合成・ (1)で得た化合物208mgをTHE 7ml及び水
14IIll混液に溶かし、NaHCO337mgを加
え、酸化白金200mgの存在下4 atomで15分
間、還元反応に付す。触媒を濾赤し、濾液及び洗液を減
圧濃縮し、濃縮液をタイヤイオンHP−20(20x
200mm)のカラムクロマトグラフィーで精製する。
3)2.8−3.1 (IH,m) 3.1−3.7 (3H,m) 3.7−4.3 (2H,1) 4J−4,8(2)1. m) 5.0−5.3 (2)1. m) 518 (2H,d、 J−4)1z)7.69 an
d 8.22 (each 2H,each d、 J
−9)1z)8.3.8.4 (each l/2)1
.5)(2) (SR,6S、8R)−2−((6,
7−シヒドロー5H−ピロロ−[2,1−c]−1,2
,4−トリアゾール−6−イル)チオ]−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−カルバベン−2−エム−3−カ
ルボン酸の合成・ (1)で得た化合物208mgをTHE 7ml及び水
14IIll混液に溶かし、NaHCO337mgを加
え、酸化白金200mgの存在下4 atomで15分
間、還元反応に付す。触媒を濾赤し、濾液及び洗液を減
圧濃縮し、濃縮液をタイヤイオンHP−20(20x
200mm)のカラムクロマトグラフィーで精製する。
水で溶出される最初の両分50m1を除去し、次いで水
及び繋THF−水で溶出部分を合わせ、減圧’tlA’
fQし、高速液体クロマトグラフィー()IPLc)
[担体 ヌクレオシル(Nucleosil) 7G、
、(20x300m+n)、溶媒・水、流速・loml
/分]にて精製し、目的物を含む保持時間14分の画分
を分取し、凍結乾燥すると淡黄色粉末の異性体混合物が
得られる。(収量49B)NMRδ(oio) : 1.305 (3)1. d、 J−6,4Hz、 C
H3)3.01 and 3.06 (each 1/
2H,each ddJ−5,6,17,5Hz) 3.1−3.4 (2H,m) J−3,2,[i、4Hz) 3.54 and 3.56 (each 1
/2)1.each dd。
及び繋THF−水で溶出部分を合わせ、減圧’tlA’
fQし、高速液体クロマトグラフィー()IPLc)
[担体 ヌクレオシル(Nucleosil) 7G、
、(20x300m+n)、溶媒・水、流速・loml
/分]にて精製し、目的物を含む保持時間14分の画分
を分取し、凍結乾燥すると淡黄色粉末の異性体混合物が
得られる。(収量49B)NMRδ(oio) : 1.305 (3)1. d、 J−6,4Hz、 C
H3)3.01 and 3.06 (each 1/
2H,each ddJ−5,6,17,5Hz) 3.1−3.4 (2H,m) J−3,2,[i、4Hz) 3.54 and 3.56 (each 1
/2)1.each dd。
J−8,7,17,58Z)
4.1−4.2 (IH,m)
4.2−4.3(2)1. In)
4.6 and 4.62 (each 1/
2)1. each t。
2)1. each t。
J−7,9Hz)
4.65−4.7 (LH,m)
8.4 and 8.41 (each l/2
H,rach 5)HPLC保持時間(分):14 [HPLC条件:上記に同じ] 3.457 and :1.463 (each
1/2H,each dd。
H,rach 5)HPLC保持時間(分):14 [HPLC条件:上記に同じ] 3.457 and :1.463 (each
1/2H,each dd。
〈発明の効果〉
本発明のカルバペネム話導体は、物理化学的安定性に優
れた化合物であるとともにグラム陽性菌、例えば、S、
アウレウス、S、スミス、S、エビデルミゾイス、 5
asoo、 Str、ピオゲネス、 G−36、Str
、ミチス、 IrD685、Str、フェカリス、 A
TC(:19433等及びグラム陰性菌、例えば、E、
コリ、 NIHJ、 S、フレキシネリ、2a 550
3、Sal、エンテリチディス、 lID604、H,
アルベイ、 IID 978、C,フロインデイ。
れた化合物であるとともにグラム陽性菌、例えば、S、
アウレウス、S、スミス、S、エビデルミゾイス、 5
asoo、 Str、ピオゲネス、 G−36、Str
、ミチス、 IrD685、Str、フェカリス、 A
TC(:19433等及びグラム陰性菌、例えば、E、
コリ、 NIHJ、 S、フレキシネリ、2a 550
3、Sal、エンテリチディス、 lID604、H,
アルベイ、 IID 978、C,フロインデイ。
110976、Pr、ブルガリス、 08601、Pr
、ミラビリス。
、ミラビリス。
IFO3849、K 、 ニューモニエ、 Type
1、Ent、クロアカニ、03402、Ent、 xロ
ゲネス、 ATCC8329、Ser。
1、Ent、クロアカニ、03402、Ent、 xロ
ゲネス、 ATCC8329、Ser。
マルセッセンス、 10100、Y、エンテロコリチカ
。
。
Te 591、^、フェカリス、 ATCC19108
、PS、エルギノーザ、 32233等の広範囲の好気
性菌に対して強い抗菌活性を示し、更にB、フラジリス
、PA−2−11、F、ニュークリエイタム、 IPP
143、C,ベルフリンジェンス、22、C,ディフ
ィシル、 GAI−0547等の偏性嫌気性菌に対して
も強い抗菌活性を示し、抗菌剤として有用であり、人及
び家畜の医薬として安全に使用され、また魚類にも用い
ることができる。
、PS、エルギノーザ、 32233等の広範囲の好気
性菌に対して強い抗菌活性を示し、更にB、フラジリス
、PA−2−11、F、ニュークリエイタム、 IPP
143、C,ベルフリンジェンス、22、C,ディフ
ィシル、 GAI−0547等の偏性嫌気性菌に対して
も強い抗菌活性を示し、抗菌剤として有用であり、人及
び家畜の医薬として安全に使用され、また魚類にも用い
ることができる。
本発明の化合物は飼料の防腐、医療用機器等の殺菌剤と
しても使用できる。
しても使用できる。
本発明によって得られる化合物のうちのいくつかのもの
の抗菌活性を次表に示す。比較化合物としてMに−07
87が表に含まれる。
の抗菌活性を次表に示す。比較化合物としてMに−07
87が表に含まれる。
最少阻止濃度(MIC,μg/ml)
被験菌 化合物I
E、 コリ NIHJ O
,10Ent、 クロ7カエ O:1400
0.20Ser、 マル七ツセンス 1010
4 0.10Ps、 エルギノーザ 322
33 G、78S、 アウレウス 2
09P < 0.10化合物2 < 0.IQ O639 0,10 1,56 < 0.10 MK−0787 0,20 1,56 < 0.10 化合物1:実施例2の化合物 化合物2:実施例3の化合物 (異性体B) (異性体B)
,10Ent、 クロ7カエ O:1400
0.20Ser、 マル七ツセンス 1010
4 0.10Ps、 エルギノーザ 322
33 G、78S、 アウレウス 2
09P < 0.10化合物2 < 0.IQ O639 0,10 1,56 < 0.10 MK−0787 0,20 1,56 < 0.10 化合物1:実施例2の化合物 化合物2:実施例3の化合物 (異性体B) (異性体B)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)次式 I の化合物、及びその塩、特に生理学上許容
される塩、並びに異性体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ I [上記式中、 (イ)R_1は水素原子、低級アルキル基、ヒドロキシ
低級アルキル基または保護されたヒドロキシ低級アルキ
ル基、 (ロ)CO_2R_2はカルボキシル基、カルボキシレ
ートアニオンまたは保護されたカルボキシル基、(ハ)
R_3は以下の一般式で示される置換または無置換の二
環性複素環基、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、該基の部分構造である ▲数式、化学式、表等があります▼ は五員環または六員環の窒素含有複素環を意味し、該窒
素含有複素環としては酸素、硫黄及び窒素から選ばれた
1〜4個の複素原子を含有する飽和または不飽和複素環
。 ここにおいてR_4は: 水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルバメー
ト基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニ
ル基、スルホンアミド基、カルバモイル基、シアノ基、
ニトロ基、アミジノ基、グアニジノ基、ヒドロキシカル
バモイル基、チオカルバモイル基、トリフルオロメチル
基、イミノ基、 ・場合により置換されたC_1−C_6アルキル・場合
により置換されたC_2−C_6アルケニル・場合によ
り置換されたC_2−C_6アルキニル・場合により置
換されたC_3−C_6シクロアルキル・場合により置
換されたC_3−C_6シクロアルケニル・場合により
置換されたヘテロシクリル ・場合により置換されたヘテロシクリルC_1−C_6
アルキル ・場合により置換されたヘテロシクリルC_2−C_6
アルケニル ・場合により置換されたヘテロシクリルC_2−C_6
アルキニル ・場合により置換されたC_3−C_6シクロアルキリ
デン ・場合により置換されたC_3−C_6ヘテロシクリリ
デン ・場合により置換されたアリール から選ばれる一種の基を表す) また、基R_4上の置換基は、独立に以下の群:・ハロ
ゲン原子、 ・ヒドロキシル基、 ・アルコキシ基、 ・カルバモイルオキシ基、 ・場合により1個または2個のC_1−C_6アルキル
基、アリール基またはヘテロアリール基によって窒素に
おいて置換されたカルバモイルオキシ基 ・アミノ基、 ・場合により1個または2個のC_1−C_6アルキル
基、アリール基またはヘテロアリール基によって窒素に
おいて置換されたカルバモイルオキシ基、 ・場合により3個のC_1−C_6アルキル基により置
換されたアルキルアンモニオ基、 ・アシルアミノ基、 ・場合により1個のC_1−C_6アルキル基、アリー
ル基またはヘテロアリール基によって窒素において置換
されたアシルアミノ基、 ・ホルミルアミノ基 ・ウレイド基、 ・場合により1個〜4個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたウレイド基、 ・アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニル基、 ・スルファモイル基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたスルファモイル基、 ・スルフィナモイル基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたスルフィナモイル基、 ・カルバモイル基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたカルバモイル基、 ・シアノ基、 ・ニトロ基、 ・アミジノ基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたアミジノ基、 ・グアニジノ基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたグアニジノ基、 ・ヒドロキシカルバモイル基、 ・場合により1個のC_1−C_6アルキル基、アリー
ル基またはヘテロアリール基によって窒素において置換
されたヒドロキシカルバモイル基、 ・チオカルバモイル基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたチオカルバモイル基、 ・トリフルオロメチル基、 ・アルコキシイミノ基、 ・場合により置換されたC_1−C_6アルコキシカル
ボニル基、 ・場合により置換されたC_1−C_6アルキルカルボ
ニルオキシ基、 からなる群から選ばれる一種である。 またR_5は下記から独立的に選ばれる。 R_4に関し上記で定義されている基(R_4及びR_
5は同一でも異っていてもよい)。] 2)前記置換基R_1が1−ヒドロキシエチル基である
ことを特徴とする請求項1)記載の化合物。 3)(5S,6S,8S)−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)カルバペネム誘導体である請求項2)記載の化合物
。 4)上記R_3が ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、R_4、R_5は前記の定義の通りである)
からなる群から選ばれる1種であることを特徴とする請
求項3)記載の化合物。 5)一般式( I a): ▲数式、化学式、表等があります▼ I a (ただし、R_2は水素原子または COOR_2とし
てカルボキシレートアニオンを表し、R_4、R_5は
水素原子、−CH_3−CH_2OH、−CONH_2
、−CONHMeまたは−CONMe_2を表す) で示される請求項1)記載の化合物。 6)一般式( I b): ▲数式、化学式、表等があります▼ I b (ただし、R_2、R_4、R_5は前記の定義の通り
である)で示される請求項1)記載の化合物。 7)一般式( I c): ▲数式、化学式、表等があります▼ I c (ただし、R_3、R_4、R_5は前記の定義の通り
である)で示される請求項1)記載の化合物。 8)一般式( I d): ▲数式、化学式、表等があります▼ I d (ただし、R_2、R_4、R_5は前記の定義の通り
である)で示される請求項1)記載の化合物。 9)一般式( I e): ▲数式、化学式、表等があります▼ I e (ただし、R_2、R_4、R_5は前記の定義の通り
である)で示される請求項1)記載の化合物。 10)一般式( I f): ▲数式、化学式、表等があります▼ I f (ただし、R_2、R_4、R_5は前記の定義の通り
である)で示される請求項1)記載の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63281799A JP2758413B2 (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | カルバペネム化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63281799A JP2758413B2 (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | カルバペネム化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02129189A true JPH02129189A (ja) | 1990-05-17 |
| JP2758413B2 JP2758413B2 (ja) | 1998-05-28 |
Family
ID=17644145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63281799A Expired - Fee Related JP2758413B2 (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | カルバペネム化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2758413B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100476672B1 (ko) * | 2001-08-16 | 2005-03-17 | 한국과학기술연구원 | 티올 유도체 및 이를 치환기로 갖는 1-베타-메틸-카바페넴유도체 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6183184A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-04-26 | メルク エンド カムパニ− インコ−ポレ−テツド | 2−第四級ヘテロアリ−ルアルキルチオ置換基を有するカルバペネム類 |
| JPS6261958A (ja) * | 1985-09-11 | 1987-03-18 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 高純度n−アセチル−dl−アミノ酸の製造方法 |
-
1988
- 1988-11-08 JP JP63281799A patent/JP2758413B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6183184A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-04-26 | メルク エンド カムパニ− インコ−ポレ−テツド | 2−第四級ヘテロアリ−ルアルキルチオ置換基を有するカルバペネム類 |
| JPS6261958A (ja) * | 1985-09-11 | 1987-03-18 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 高純度n−アセチル−dl−アミノ酸の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100476672B1 (ko) * | 2001-08-16 | 2005-03-17 | 한국과학기술연구원 | 티올 유도체 및 이를 치환기로 갖는 1-베타-메틸-카바페넴유도체 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2758413B2 (ja) | 1998-05-28 |
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