JPH0212972A - デユアルゲートガリウム砒素電力用金属半導体電界効果トランジスタ - Google Patents
デユアルゲートガリウム砒素電力用金属半導体電界効果トランジスタInfo
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- JPH0212972A JPH0212972A JP1094289A JP9428989A JPH0212972A JP H0212972 A JPH0212972 A JP H0212972A JP 1094289 A JP1094289 A JP 1094289A JP 9428989 A JP9428989 A JP 9428989A JP H0212972 A JPH0212972 A JP H0212972A
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- JP
- Japan
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- gates
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- drain
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/80—FETs having rectifying junction gate electrodes
- H10D30/87—FETs having Schottky gate electrodes, e.g. metal-semiconductor FETs [MESFET]
- H10D30/873—FETs having Schottky gate electrodes, e.g. metal-semiconductor FETs [MESFET] having multiple gate electrodes
Landscapes
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
〔産業上の利用分野〕
本発明は、無線周波(RF)電力用モジュールに関し、
特に、電力用金属半導体効果トランジスタ(MESFE
Ts)に関する。
特に、電力用金属半導体効果トランジスタ(MESFE
Ts)に関する。
電力用MESFETは、しばしば、携帯用セルラー無線
送信機において用いられている。しかし残念ながら、こ
れらのMESFETsの適用可能領域は逆方向降伏電圧
の起こるポイントまでのわずかの範囲内に(すなわち、
ドレイン電流のリニア領域内)存在している。ドレイン
電圧が逆方向の降伏電圧点を過ぎて増大する時には、ド
レイン電流、そして、結果的には電力量(パワー)は送
信機内において急速に増大する。従って、MESFET
における逆方向降伏電圧を高くすればするほど、送信機
に必要なバッテリーやヒートシンクの大きさが減少でき
るので、送信機の効率はそれだけ向上するであろう。必
要とされるバッテリーの大きさ(サイズ)は、ドレイン
電流の減少によって、減少することができ、かつヒート
シンクも消費電力の減少によって大きさが減少できるで
あろう。
送信機において用いられている。しかし残念ながら、こ
れらのMESFETsの適用可能領域は逆方向降伏電圧
の起こるポイントまでのわずかの範囲内に(すなわち、
ドレイン電流のリニア領域内)存在している。ドレイン
電圧が逆方向の降伏電圧点を過ぎて増大する時には、ド
レイン電流、そして、結果的には電力量(パワー)は送
信機内において急速に増大する。従って、MESFET
における逆方向降伏電圧を高くすればするほど、送信機
に必要なバッテリーやヒートシンクの大きさが減少でき
るので、送信機の効率はそれだけ向上するであろう。必
要とされるバッテリーの大きさ(サイズ)は、ドレイン
電流の減少によって、減少することができ、かつヒート
シンクも消費電力の減少によって大きさが減少できるで
あろう。
先行技術としての単一のゲートを用いる電力用MESF
ETは、多くの応用面に対して、逆方向降伏電圧の点で
不適当、不充分な値を与えている。
ETは、多くの応用面に対して、逆方向降伏電圧の点で
不適当、不充分な値を与えている。
例えば、ゲート電圧が0■でドレイン電流が12mAの
時、全ゲート幅(totaffi gatewidt
h)が12mmの4つのセル構造を有する先行技術とし
てのデバイスは、逆方向降伏電圧健凶はわずかに約24
Vである。もつと高い逆方向降伏電圧を与える新しい電
力用MESFETがより小型でより高効率の無線送信機
を製作するためには必要とされるわけである。
時、全ゲート幅(totaffi gatewidt
h)が12mmの4つのセル構造を有する先行技術とし
てのデバイスは、逆方向降伏電圧健凶はわずかに約24
Vである。もつと高い逆方向降伏電圧を与える新しい電
力用MESFETがより小型でより高効率の無線送信機
を製作するためには必要とされるわけである。
発明の要約
本発明の目的の1つは1つの新しい、改良されたガリウ
ム砒素電力用MESFETを提供することであって、先
行技術としてデバイスに対して逆方向降伏電圧の点で大
きな増加をもたらすデュアルゲート構造を利用すること
にある。
ム砒素電力用MESFETを提供することであって、先
行技術としてデバイスに対して逆方向降伏電圧の点で大
きな増加をもたらすデュアルゲート構造を利用すること
にある。
より小型で、より高効率の携帯用セルラー無線送信機を
製作することを可能とする新しい、かつ改善されたガリ
ウム砒素電力用MESPIF、Tを提供することが本発
明の別の目的である。
製作することを可能とする新しい、かつ改善されたガリ
ウム砒素電力用MESPIF、Tを提供することが本発
明の別の目的である。
本発明のこれらの、そして他の目的及び利点は、第1の
ゲートによって部分的に囲まれたソースと、第1のゲー
トを部分的に囲む第2のゲートと、第2のゲートに並列
配置されたドレイン領域と、及び第1のゲートのまわり
でそのものを包むことによって第2のゲートをソース領
域へ結合する短絡ブロック(shorting bl
ock)とによって構成された電力用MESFETチッ
プによって達成されている。本発明の変更、改良はマル
チセル、マルチフィンガーMESFETsを用いること
である。
ゲートによって部分的に囲まれたソースと、第1のゲー
トを部分的に囲む第2のゲートと、第2のゲートに並列
配置されたドレイン領域と、及び第1のゲートのまわり
でそのものを包むことによって第2のゲートをソース領
域へ結合する短絡ブロック(shorting bl
ock)とによって構成された電力用MESFETチッ
プによって達成されている。本発明の変更、改良はマル
チセル、マルチフィンガーMESFETsを用いること
である。
上記の目的及び利点は添付した明細書及び図面を考慮す
ることで5業技術者にとって明瞭なものとなるであろう
。
ることで5業技術者にとって明瞭なものとなるであろう
。
発明の概要
本発明は、第1のゲートによって囲まれたソース領域と
、第1のゲートを取り囲む第2のゲートと、前記第2の
ゲートへ並列配置されたドレイン領域と、及び第2のゲ
ートをソース領域へ結合する短絡用バー(s h N
i n g b a r )とから構成されるデュア
ルゲートガリウム砒素電力用MESFETチップに関す
る。この組み合わせ構成は、マルチフィンガーに応用さ
れて用いられており、先行技術としてのデバイスよりも
実質的に高い逆方向降伏電圧を与えている。
、第1のゲートを取り囲む第2のゲートと、前記第2の
ゲートへ並列配置されたドレイン領域と、及び第2のゲ
ートをソース領域へ結合する短絡用バー(s h N
i n g b a r )とから構成されるデュア
ルゲートガリウム砒素電力用MESFETチップに関す
る。この組み合わせ構成は、マルチフィンガーに応用さ
れて用いられており、先行技術としてのデバイスよりも
実質的に高い逆方向降伏電圧を与えている。
望ましい実施例の説明
第1図を詳細に参照すると、半導体チップ10上におい
て、セル12.14.16及び18が図示されている。
て、セル12.14.16及び18が図示されている。
半導体チップ10は、例えば、無線送信機のようなより
高い周波数応用に対して適用される場合には、ガリウム
砒素を用いて構成されることが非常に多い。(もつとも
普通のことである。)各々のセル12.14.16及び
18はマルチフィンガー電力用MESFETである。点
線部分22,24.及び26はセル間の分離帯(5ep
arator)を図示している。
高い周波数応用に対して適用される場合には、ガリウム
砒素を用いて構成されることが非常に多い。(もつとも
普通のことである。)各々のセル12.14.16及び
18はマルチフィンガー電力用MESFETである。点
線部分22,24.及び26はセル間の分離帯(5ep
arator)を図示している。
第2図を詳細に参照すると、セル12の分解組み立て図
が、もつとより容易に区別可能な部分(部品)(com
ponents)でもって図示されている。セル12は
、ソースプローブパッド(probe pad)32
、ドレインプローブパッド34及びゲートプローブパッ
ド36を保有している。
が、もつとより容易に区別可能な部分(部品)(com
ponents)でもって図示されている。セル12は
、ソースプローブパッド(probe pad)32
、ドレインプローブパッド34及びゲートプローブパッ
ド36を保有している。
ドレイン列(c o l umn) 38はドレイン
42.44,46.4B、及び50へ接続されている。
42.44,46.4B、及び50へ接続されている。
ドレイン42.44.46.48及び50はドレインフ
ィンガーとしてしばしば呼ばれている。
ィンガーとしてしばしば呼ばれている。
ソースプローブパッド32はソース51,52゜54.
56.58及び60へ接続されている。ソースプローブ
パッド32及び従って、ソース51゜52.54.56
.58及び60はしばしば接地電位へ接続されている。
56.58及び60へ接続されている。ソースプローブ
パッド32及び従って、ソース51゜52.54.56
.58及び60はしばしば接地電位へ接続されている。
ゲート列(cofumn)66はゲートプローブパッド
36へ接続されている。ゲートフィンガー70.71.
72.73.74,75.76゜77.78及び79は
ゲート列66へ接続されている。ゲートフィンガー71
及び72はソース52に対する第1のゲートを形成し、
ゲートフィンガー73及び74はソース54に対する第
1のゲートを形成し、ゲートフィンガー75及び76は
ソース56に対する第1のゲートを形成し、ゲートフィ
ンガー77及び78はソース58に対する第1のゲート
を形成している。ゲートフィンガー70はソース51に
対する第1のゲートを形成しかつゲートフィンガー79
はソース60に対する第1のゲートを形成している。
36へ接続されている。ゲートフィンガー70.71.
72.73.74,75.76゜77.78及び79は
ゲート列66へ接続されている。ゲートフィンガー71
及び72はソース52に対する第1のゲートを形成し、
ゲートフィンガー73及び74はソース54に対する第
1のゲートを形成し、ゲートフィンガー75及び76は
ソース56に対する第1のゲートを形成し、ゲートフィ
ンガー77及び78はソース58に対する第1のゲート
を形成している。ゲートフィンガー70はソース51に
対する第1のゲートを形成しかつゲートフィンガー79
はソース60に対する第1のゲートを形成している。
ゲートフィンガー80はゲートフィンガー70とドレイ
ン42との間に配置され、ゲートフィンガー81はドレ
イン42とゲートフィンガー71との間に配置され、ゲ
ートフィンガー82はゲートフィンガー72とドレイン
44との間に配置され、ゲートフィンガー83はドレイ
ン44とゲートフィンガー73との間に配置され、ゲー
トフィンガー84はゲートフィンガー74とドレイン4
6との間に配置され、ゲートフィンガー85はドレイン
46とゲートフィンガー75との間に配置され、ゲート
フィンガー86はゲートフィンガー76とドレイン48
との間に配置され、ゲートフィンガー87はドレイン4
8とゲートフィンガー77との間に配置され、ゲートフ
ィンガー88はゲートフィンガー78とドレイン50と
の間に配置され、かつゲートフィンガー89はドレイン
50とゲートフィンガー79との間に配置されている。
ン42との間に配置され、ゲートフィンガー81はドレ
イン42とゲートフィンガー71との間に配置され、ゲ
ートフィンガー82はゲートフィンガー72とドレイン
44との間に配置され、ゲートフィンガー83はドレイ
ン44とゲートフィンガー73との間に配置され、ゲー
トフィンガー84はゲートフィンガー74とドレイン4
6との間に配置され、ゲートフィンガー85はドレイン
46とゲートフィンガー75との間に配置され、ゲート
フィンガー86はゲートフィンガー76とドレイン48
との間に配置され、ゲートフィンガー87はドレイン4
8とゲートフィンガー77との間に配置され、ゲートフ
ィンガー88はゲートフィンガー78とドレイン50と
の間に配置され、かつゲートフィンガー89はドレイン
50とゲートフィンガー79との間に配置されている。
ゲートフィンガー81と82はソース52に対する第2
のゲートを形成し、ゲートフィンガー83と84はソー
ス54に対する第2のゲートを形成し、ゲートフィンガ
ー85と86はソース56に対する第2のゲートを形成
し、ゲートフィンガー87と88はソース58に対する
第2のゲートを形成している。ゲートフィンガー80は
ソース51に対する第2のゲートを形成し、かつゲート
フィンガー89はソース60に対する第2のゲートを形
成している。
のゲートを形成し、ゲートフィンガー83と84はソー
ス54に対する第2のゲートを形成し、ゲートフィンガ
ー85と86はソース56に対する第2のゲートを形成
し、ゲートフィンガー87と88はソース58に対する
第2のゲートを形成している。ゲートフィンガー80は
ソース51に対する第2のゲートを形成し、かつゲート
フィンガー89はソース60に対する第2のゲートを形
成している。
ショート用バー(短絡棒)90はゲートフィンガー70
のまわりを包むことよってゲート80をソース51へ接
続し、ショート用バー(短絡棒)91はゲートフィンガ
ー71と72のまわりを包むことによってゲートフィン
ガー81と82をソース52へ接続し、ショート用バー
(短絡棒)92はゲートフィンガー73及び74のまわ
りを包むことによってゲートフィンガー83及び84を
ソース54へ接続し、ショート用バー(短絡棒)93は
ゲートフィンガー75及び76のまわりを包むことによ
ってゲートフィンガー85及び86をソース56へ結合
、ショート用バー(短絡棒)94はゲートフィンガー7
7及び78のまわりを包むことによってゲートフィンガ
ー87及び88ヲソース58へ接続し、かつショート用
バー(短!棒)95はゲートフィンガー79のまわりを
包むことによってゲートフィンガー89をソース60へ
接続している。
のまわりを包むことよってゲート80をソース51へ接
続し、ショート用バー(短絡棒)91はゲートフィンガ
ー71と72のまわりを包むことによってゲートフィン
ガー81と82をソース52へ接続し、ショート用バー
(短絡棒)92はゲートフィンガー73及び74のまわ
りを包むことによってゲートフィンガー83及び84を
ソース54へ接続し、ショート用バー(短絡棒)93は
ゲートフィンガー75及び76のまわりを包むことによ
ってゲートフィンガー85及び86をソース56へ結合
、ショート用バー(短絡棒)94はゲートフィンガー7
7及び78のまわりを包むことによってゲートフィンガ
ー87及び88ヲソース58へ接続し、かつショート用
バー(短!棒)95はゲートフィンガー79のまわりを
包むことによってゲートフィンガー89をソース60へ
接続している。
第1図のセル14.16及び1日の詳細は第2図におけ
るセル12の記載内容と同様である。しかしながら様々
な数のゲート、ドレイン及びソースがマルチフィンガー
セルにおいて用いられうるセルチップが図示されている
が、異なった数のセルを用いても差し支えない。
るセル12の記載内容と同様である。しかしながら様々
な数のゲート、ドレイン及びソースがマルチフィンガー
セルにおいて用いられうるセルチップが図示されている
が、異なった数のセルを用いても差し支えない。
デュアルゲート電力用MESFETと第1図のショート
用バー(shorting bars)を用いること
によって、逆方向降伏電圧における大きな増加が達成さ
れている。例えば、ゲート電圧がOvで、かつドレイン
電流が12mAの時、全ゲート幅(total ga
te width)12mmを有する第1図の4つの
セル構造は約43Vの逆方向降伏電圧を具備している。
用バー(shorting bars)を用いること
によって、逆方向降伏電圧における大きな増加が達成さ
れている。例えば、ゲート電圧がOvで、かつドレイン
電流が12mAの時、全ゲート幅(total ga
te width)12mmを有する第1図の4つの
セル構造は約43Vの逆方向降伏電圧を具備している。
この逆方向降伏電圧の値は、同様のサイズで設計された
従来技術としてのデバイスで達成された逆方向降伏電圧
のほぼ2倍となっている。
従来技術としてのデバイスで達成された逆方向降伏電圧
のほぼ2倍となっている。
本発明の特定の実施例について図示され、記載されてき
たが、さらにこれ以上の変更及び改良も5業技術者にと
って浮かんでくるであろう。我々は、従って、この発明
が開示された特定の形に限定されるものではなく、しか
も本発明の精神と展望の範囲を脱することのないすべて
の変更、改良を網罹するものであると意図しているとい
うことを理解されることを望むものである。
たが、さらにこれ以上の変更及び改良も5業技術者にと
って浮かんでくるであろう。我々は、従って、この発明
が開示された特定の形に限定されるものではなく、しか
も本発明の精神と展望の範囲を脱することのないすべて
の変更、改良を網罹するものであると意図しているとい
うことを理解されることを望むものである。
第1図は、本発明の実施例としての4つのセルの電力用
MESFET半導体チップの断面構造図を図示している
。 第2図は、第1図の第1のセルの分解組み立て図を図示
している。 第1図において、 10は半導体チップ、12.14.16及び18はセル
、22,24.26はセル間分離帯特許出願人 モトロ
ーラ・インコーポレーテツド代理人 弁理士 玉 蟲
久五部 F’IC!。
MESFET半導体チップの断面構造図を図示している
。 第2図は、第1図の第1のセルの分解組み立て図を図示
している。 第1図において、 10は半導体チップ、12.14.16及び18はセル
、22,24.26はセル間分離帯特許出願人 モトロ
ーラ・インコーポレーテツド代理人 弁理士 玉 蟲
久五部 F’IC!。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ソース領域と、前記ソース領域を部分的に囲む第1
のゲートと、前記第1のゲートを部分的に囲む第2のゲ
ートと、前記第2のゲートへ近接して並列するドレイン
領域と、前記第1のゲートのまわりを包むことによつて
前記ソースへ前記第2のゲートを結合するショート用バ
ーとを含むことを特徴とする電力用金属半導体電界効果
トランジスタチップ。 2、前記電力用MESFETチップがガリウム砒素によ
つて構成されていることを特徴とする前記請求項1に記
載の電力用MESFETチップ。 3、1つのソースプローブパッドに共通に接続された複
数のソース領域と、複数の第1のゲートの1つは前記複
数のソース領域の各々を部分的に囲むように配置され1
つのゲートプローブパッドに共通に接続された複数の前
記第1のゲートと、複数の第2のゲートの1つは、前記
複数の第1のゲートの各々を部分的に囲むように配置さ
れ、外付け部品に結合できる前記複数の第2のゲートと
、複数の前記ドレイン領域の1つは前記複数の第2のゲ
ートの各々へ並列配置され1つのドレインプローブパッ
ドに共通に接続された前記複数のドレイン領域と、前記
複数の第1のゲートの各々のまわりを包むことによつて
前記複数の第2のゲートの1つを、 前記複数のソース領域へ接続する複数のショート用バー
、とから構成されたことを特徴とするマルチフィンガー
電力用MESFETチップ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US184,213 | 1988-04-21 | ||
| US07/184,213 US4870478A (en) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | Dual-gate gallium arsenide power metal semiconductor field effect transistor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0212972A true JPH0212972A (ja) | 1990-01-17 |
Family
ID=22676007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1094289A Pending JPH0212972A (ja) | 1988-04-21 | 1989-04-13 | デユアルゲートガリウム砒素電力用金属半導体電界効果トランジスタ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4870478A (ja) |
| JP (1) | JPH0212972A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5206531A (en) * | 1990-03-19 | 1993-04-27 | Lockheed Sanders, Inc. | Semiconductor device having a control gate with reduced semiconductor contact |
| KR0144821B1 (ko) * | 1994-05-16 | 1998-07-01 | 양승택 | 저전원전압으로 작동가능한 갈륨비소 반도체 전력소자의 제조 방법 |
| JP2757848B2 (ja) * | 1996-01-23 | 1998-05-25 | 日本電気株式会社 | 電界効果型半導体装置 |
| US6160280A (en) * | 1996-03-04 | 2000-12-12 | Motorola, Inc. | Field effect transistor |
| US5734189A (en) * | 1996-12-09 | 1998-03-31 | Itt Industries, Inc. | Low parasitic source inductance field-effect transistor device having via connections disposed along an outer periphery thereof |
| US6528405B1 (en) | 2000-02-18 | 2003-03-04 | Motorola, Inc. | Enhancement mode RF device and fabrication method |
| US7504677B2 (en) * | 2005-03-28 | 2009-03-17 | Freescale Semiconductor, Inc. | Multi-gate enhancement mode RF switch and bias arrangement |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54162478A (en) * | 1978-06-13 | 1979-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Power field effect transistor |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54101285A (en) * | 1978-01-26 | 1979-08-09 | Nec Corp | Dual gate field effect transistor |
| JPS55108775A (en) * | 1979-02-09 | 1980-08-21 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
| JPS6155971A (ja) * | 1984-08-27 | 1986-03-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | シヨツトキ−ゲ−ト電界効果トランジスタ |
-
1988
- 1988-04-21 US US07/184,213 patent/US4870478A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-04-13 JP JP1094289A patent/JPH0212972A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54162478A (en) * | 1978-06-13 | 1979-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Power field effect transistor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4870478A (en) | 1989-09-26 |
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