JPH02132665A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、レーザー光を用いて記録，再生，消去のでき
る光磁気記録媒体に関する。より詳しくは、高温，高温
条件下において基板の変形が少なく、記録層の酸化劣化
の少ない耐久性に優れた、かつ基板にひっかき傷が付か
ない光磁気記録媒体に関するものである。

（従来の技術） 従来、消去書替可能な高密度メモリーに使用される光照
射による加熱で記録され、磁気カー効果，ファラデー効
果等の磁気効果を利用して読み出しのできる光磁気記録
媒体がある。

光磁気記録媒体の記録膜には特にＧｄ，Ｔｂ，Ｆｅ，ｃ
ｏからなる非品質薄膜が優れており、大面積の薄膜を室
温近傍の温度で製作する際の製膜性、信号と小さな光エ
ネルギーで書き込むための書込効率、及び書き込まれた
信号をＳ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率、大き
なカー回転角、１５０００前後のキュリー点を持つので
光磁気記録媒体として最適である。

しかしながら、一般にＧｄ，　Ｔｂ，　Ｆｅ，　Ｃｏ等
の光磁気記録層は耐食性が悪いという欠点を持っている
。すなわち大気，水蒸気に触れると酸化されて磁気特性
が低下し、最終的に完全に酸化されて透明化する。この
現象は高温になると更に加速される。

従来、記録膜の酸化を防止するため、ＳｉＯ　，Ｓｉ０
２　，　Ｓｉ３Ｎ４　，　Ａ１２０３等の無機物の保護
層で記録膜を密封する方法が提案され、実施されてきた
が、高温，高湿条件下では十分な酸化防止効果が得られ
ず、更にその上に反射膜を兼ねて、Ｃｒ，Ｔｉ，　Ａｕ
，　Ｈｆ，　ＡＩ等の金属を蒸着又はスパッタにより真
空系で保護膜を被覆する等、２重に酸化防止膜で密封す
る方法が提案されている。

それでも十分な酸化防止効果が得られないので、更にそ
の上に防湿性を有するハロゲン化有機樹脂，紫外線硬化
型アクリレート樹脂，熱硬化型エボキシ系樹脂，ホット
メルト系樹脂で記録層或いは媒体全体を被覆する方法が
提案されている。

例えば、プラスチック基板の吸湿或いは酸素透過を防止
するための記録層とは反対側の基板表面にポリ塩化ビニ
リデンをコーティングする方法（特開昭６１−３９９４
９　，特開昭６１−８５６４６）が挙げられる。

（発明が解決しようとする課題） ところで、酸素や水蒸気に対するガスバリャ性が最も優
れているのは、ポリ塩化ビニリデンであることはよく知
られているところであり、通常はテトラヒド口フランに
溶かすか、水に分散させてエマルジョンにして塗布され
る。しかしながら、ポリカーボネートのようなプラスチ
ック基板に塗布すると、テトラヒド口フランがポリカー
ボネートを溶かすので、基板表面の平滑性が失われ、甚
だしい時は、基板表面にソルベントクラックを生ずるの
で好ましくない。また、エマルジョンタイプではスピン
コートするとハジキが生じて基板面に均一に塗布するこ
とが出来ない。

事前の策として、紫外線硬化樹脂で媒体全体を被覆する
方法ではより過酷な環境条件（８５°Ｃ，８５％相対湿
度）で長時間（１０００時間）耐えることが出来ず、５
００時間以後に基板の吸湿による変形（ソリ）を生じ、
記録層が基板から浮き上がってシミが発生するため好ま
しくなかった。

本発明の目的は、より過酷な高温，高湿条件下において
も基板の変形が少なく、記録層の酸化劣化の少ない耐久
性に優れた、かつ基板にひっかき傷が付かない光磁気記
録媒体を提供しようとするものである。

（課題を解決するための手段） 本発明の光磁気記録媒体は、透明なプラスチックの基板
と、この基板上に設けた光磁気記録層とからなる光磁気
記録媒体において、前記記録層のない側の基板表面にポ
リ塩化ビニリデン系フィルムを貼り合わせ、ポリ塩化ビ
ニリデンフィルム面上に表面硬度の高い硬化膜を被覆し
てなることを特徴とするものである。

ポリ塩化ビニリデン系フィルムとは、ポリ塩化ビニリデ
ンフイルム，ポリ塩化ビニルーポリ塩化ビニリデン共重
合体フィルム，ポリ塩化ビニリデン．ポリ酢酸ビニル共
重合体フィルム，ポリ塩化ビニリデンーポリアクリ口ニ
トリル共重合体フィルム，ポリ塩化ビニリデンーポリ塩
化ビニルーポリ酢酸ビニル共重合体フィルム，ポリ塩化
ビニリデンーポリ塩化ビニルーポリアクリロニトリル共
重合体フィルム等が挙げられる。

（作用） 本発明の光磁気記録媒体については、第１図に基づいて
以下に説明する。基板１がポリカーボネー｝　（ＰＣ）
等の透明プラスチックディスク基板１の案内溝面側にマ
グネトロンスパッタリング法により、無アルカリガラス
層，　ＺｎＳエンハンス層，Ｇｄ，　Ｔｂ，　Ｆｅ，　
Ｃｏ，記録層，無アルカリガラス酸化防止層，　Ａ１反
射層を順に積層して光磁気記録層２を設けた。更にその
上に保護層として紫外線硬化樹脂保護層３を設けた光磁
気記録媒体を本発明の保護層形成用のサンプルとした。

本発明の記録層のない側の基板表面にポリ塩化ビニリデ
ン系からなるフイルム、例えばポリ塩化ビニリデン又は
ポリ塩化ビニリデン共重合体のフィルムを貼り合わせ、
更にその上に表面硬度の高い硬化膜を被覆した光磁気記
録媒体は、まずプラスチックディスク基板表面にポリ塩
化ビニリデンフィルムを貼り合わせるための接着層４と
して、紫外線硬化樹脂保護層３に用いたのと同じ紫外線
硬化樹脂をスピンコートし、その上にポリ塩化ビニリデ
ンフイルムを気泡が入らないように真空系でロールを用
いて貼り合わせた後、紫外線を照射して接着層４を硬化
させるとよい。

接着層４の厚みは１０ｐ程度とし、ポリ塩化ビニリデン
フイルム５の厚みは５｝１以上であれば、十分なガスバ
リャ性効果が得られる。また、ポリ塩化ビニリデンフィ
ルム５の片面に接着剤或いは粘着剤を塗布しておき、そ
れを貼り合わせてもよい。これらの作業は、プラスチッ
クディスク基板にゴミが付着するのを避けるためにクリ
ーンルーム内で行うことが好ましい。接着層４を硬化さ
せた後、プラスチックディスク基板がらはみ出している
フィルムは切り取ればよい。ポリ塩化ビニリデンフィル
ム層５は、容易にひっかき傷が付き、そのためにガスバ
リャ性を損なうのみならず、ひっかき傷力所は、記録，
再生の信号エラーとして表されることがあるので、フィ
ルム層の上に表面硬化層６を設ける。表面硬化剤として
は、紫外線硬化樹脂，電子線硬化樹脂或いはシリコン系
ハードコート剤を用いてもよい。表面硬化層６の厚みは
３ｐ以上あれば十分な表面硬度を示す。表面硬度として
は＃ＯＯＯＯ番スチールウールで表面硬化層を１０回こ
すって傷が付がない程度であれば十分である。（基板の
ポリカーボネート樹脂では容易に傷が付く。） かくして製造された本発明の光磁気記録媒体の評価は、
８５°Ｃ，８５％相対湿度の恒温恒湿槽内に１０００時
間放置し、取り出してから外観変化（媒体の変形は基板
の反り角として表示、記録層の酸化による劣化は記録層
に発生した目視で確認できる大きさのビンホール数で表
示、基板の吸湿による記録層の浮き上がりのために見ら
れる水ぶくれ模様の有無）を調べて実施した。

本発明の光磁気記録媒体は記録層を内側にして２枚を接
着剤で貼り合わせ両面使用することも出来る。貼り合わ
せなしの単板でももちろん使用可能である。

（実施例） 実施例ｌ 直径１３０ｍｍ，内径１５ｍｍ，厚さ１．２ｍｍのポリ
カーボネート（ｐｃ）製案内溝付きのドーナッツ状ディ
スク基板１の案内溝側面にマグネトロンスパッタリング
法により、Ｓｉ０２層１０００人，　Ｓｉ３Ｎ４層８０
０人，　Ｇｄ，　Ｔｂ，　Ｆｅ，　Ｃｏ磁気記録層１０
００人，Ｓｉ３Ｎ４層８００人，Ａ１反射層５００人を
順に積層して光磁気記録層２を設けた。次にスピンコー
ターを用いて記録層２の上、全面に紫外線硬化樹脂保護
層３としては、粘度が５００　ｃｐｓ　／　２５°Ｃで
あり、かつ揮発性溶剤を含まないウレタンアクリレート
系紫外線硬化樹脂を膜厚が２０Ｐになるように塗布し、
紫外線を照射して完全に硬化させた。これを本発明の記
録層のない側の基板表面処理用のサンプルとした。

記録層のない側の基板表面にスピンコーターを用いて、
前記の保護層３に用いたのと同じ紫外線硬化樹脂を、膜
厚が１０μになるように塗布し、接着層４とし、その上
に真空系内でロールを用いてポリ塩化ビニリデンフィル
ム５（厚み１２ｐ　，商品名サランラップ，旭ダウ■）
を気泡が入らないように貼り合わせた。次に貼り合わせ
フィルムの上から、溶剤を含む紫外線硬化型ハードコー
ト剤（ＤＨ−７００，犬八化学工業所）を膜厚が５１１
になるように塗布し、６０°Ｃで５分間溶剤を蒸発させ
てから、紫外線照射して硬化させた。表面硬化膜６は、
＋ｏｏｏｏスチールウールで１０回こすって傷が付かな
かった。

このディスクを８５°Ｃ，８５％相対湿度の高温，高湿
槽に１０００時間入れ、取り出して外観変化（媒体の変
形は基板の反り角として表示、記録層の酸化による劣化
は、記録層に発生した、目視で確認できるピンホール数
で表示、及び基板の吸湿による記録層の浮き上がりのた
めに見られる水ぶくれ模様（ブリスター）の有無を調べ
た。その結果を表１に示した。本実施例では外観変化は
殆どなかった。

実施例２ 実施例１と同様にして作製された貼り合わせたフィルム
の上に表面硬化剤としてシリコン系ハードコート剤（Ｓ
ｉ−１０２コート、大八化学工業所）を５ｌｌの厚みに
スピンコートし、１００’Ｃ，５分間熱硬化させた以外
は、実施例ｌと同様に処理した。表面硬化膜６は、＃０
０００スチールウールで１ｏ回こすって傷が付かなかっ
た。高温，高湿耐久テストの結果を表１に示した。本実
施例も実施例１と同様、媒体の外観変化は非常に少なか
った。

比較例１ 記録層のない側の基板表面処理を全く行わなかった以外
は、実施例１と同様に処理した。基板表面を＃ＯＯＯＯ
スチールウールでこすると、容易に傷が付いた。高温，
高湿耐久テストの結果を表１に示した。媒体の外観変化
は非常に大きかった。

比較例２ 記録層のない側の基板表面にポリ塩化ビニリデンフイル
ムを貼るだけにとどめ、表面硬化膜６は設けなかった。

貼り付けフイルムの表面を＃ＯＯ００スチールウールで
こすると、容易に傷が付いた。

耐久テストの結果を表１に示した。媒体の外観変化は実
施例と同様、非常に少なかった。

比較例３ 記録層のない側の表面にポリ塩化ビニリデンフィルムを
貼らずに表面硬化膜６だけを設けた以外は、実施例１と
同様に処理した。耐久テストの結果を表１に示した。ス
チールウールテストでは傷が付かなかったが、 外観変化が認められた。

（発明の効果） 透明プラスチック基板の記録層のない側の基板表面にポ
リ塩化ビニリデンからなるフィルムを貼り、その上に表
面硬化膜を被覆した本発明の光磁気記録媒体は、より過
酷な高温，高湿（８５°Ｃ，８５％相対湿度）条件下に
長時間（１０００時間）保存しても、基板の吸湿による
変形（ソリ）がなく、基板の吸湿による記録層の水ぶく
れ（ブリスター）の発生がなく、記録層の酸化劣化によ
るピンホールの発生が少なく、かつ基板にひっかき傷が
付かない光磁気記録媒体が得られ、そのために光磁気記
録媒体の長期信頼性が向上し、品質が向上するという効
果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光磁気記録媒体の模式断面図である
。 （符号の説明） １．・・・・・・・・　　プラスチックディスク基板２
．・・・・・・・・　　光磁気記録層紫外線硬化樹脂保
護層 接着層 ポリ塩化ビニリデンフィ 表面硬化膜 ルム 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 透明プラスチックの基板と、この基板上に設けた光磁気
   記録層とからなる光磁気記録媒体において、前記記録層
   のない側の基板表面にポリ塩化ビニリデン系フィルムを
   貼り合わせ、ポリ塩化ビニリデン系フィルム面上に表面
   硬度の高い硬化膜を被覆してなることを特徴とする光磁
   気記録媒体。