JPH02236836A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光ビームにより記録、再生、消去を行うこと
が可能な光磁気記録媒体に関する。更に詳しくは、光磁
気記録媒体の保護膜に関する。

（従来の技術） 従来、消去書替可能な高密度メモリーに使用される光照
射による加熱で記録され、磁気カー効果、ファラデー効
果などの磁気効果を利用して読み出しのできる光磁気記
録媒体がある。

光磁気記録媒体の記録膜には特にＧｄ　，　Ｔｂ　，　
Ｆｅ　，Ｃｏからなる非晶質薄膜がすぐれており、大面
積の薄膜を室温近傍の温度で製作する際の製膜性、信号
と小さなエネルギーで書き込むための書込効率、及び書
き込まれた信号をＳ／Ｎ比よく読み出すための効率、大
きなカー回転角、１５０６Ｃ前後のキュリー点を持つの
で光磁気記録媒体として最適である。

しかしながら、一般にＧｄ　，　Ｔｂ　，　Ｆｅ　，　
Ｇｏ等の光磁気記録層は耐腐食性が悪いという欠点を持
っている。すなわち大気、水蒸気に触れると酸化されて
磁気特性が低下し最終的には完全に酸化されて透明かす
る。この現象は高温、高湿環境条件下ではさらに加速さ
れる。

従来、記録膜の酸化を防止するため、ＳｉＯ　，Ｓｉ０
２　，　Ｓｉ３Ｎ４　，　ＡＩ２０３等の無機物の保護
Ｊｔｔ’記録膜を密封する方法が提案され実施されてき
たが充分な酸化防止効果が得られず、さらにその上にＣ
ｒ，Ｔｉ　，　Ａｕ　，　Ｈｆ　，　ＡＩ等の金属を蒸
着又はスパツタにより真空系で保護膜を被覆するなど二
重に酸化防止膜で密封する方法が提案されている。それ
でも十分な酸化防止効果が得られないので、さらにその
上に防湿性を有するハロゲン化有機樹脂、紫外線硬化型
アクリレート樹脂、熱硬化型エボキク系樹脂、ホットメ
ルト系樹脂で記録層を保護する方法が特開昭６１−６８
７５０　．　６１　−　１３９９６１　．　６２　−　
１６７６３５で提案されている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、光磁気記録層の上に紫外線硬化樹脂から
なる保護層を設けてなる光磁気記録媒体においては高温
、高湿（８５°Ｃ，８５％相対湿度）の過酷な環境条件
下において、記録層にクラツク、ビンホールの発生がな
く、保護層の自然剥離や基板の変形のない紫外線硬化樹
脂が要求され、例えば粘度が３００〜７００ｃｐｓ　／
　２５°Ｃのウレタンアクリレートが該保護層（オーバ
ーコート層）しとて最適であることを本発明者らは先に
提案した（特願昭６３−２３０８８２）。

このオーバーコート層は表面硬度に乏しくスチールウー
ルでこすると容易に傷が付くため、そのまま単板で使用
することができず、接着層を介してダミー板を貼り合わ
せて使用していた。

本発明の目的は、高温、高湿条件下においても信頼性が
損なわれず且つそのまま単板で使用することが出来る光
磁気記録媒体を提供しようとするものである。

（課題を解決するための手段） 本発明の光磁気記録媒体は片面に記録層をもつ光磁気記
録媒体の記録膜ないしは反射膜上に紫外線硬化樹脂の保
護層を設けたものにおいて、該保護層が性質の異なる紫
外線硬化樹脂の３層構造からなり、記録膜ないしは反射
膜の上にオーバーコート層、接着層、ハードコート層を
順次積層してなることを特徴とするものである。

（作用および実施例） 第１図及び第２図を参照しながら本発明の実施例を以下
に説明する。第１図は従来技術による片面使用のダミー
板を貼り合わせた光磁気記録媒体の模式断面図であり、
第２図は本発明の片面単板のままで使用できる光磁気記
録媒体の模式断面図である。

光磁気記録媒体が、光磁気ディスクの場合、基板１はガ
ラス又はポリメチルメタアクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンなどのプラスチックが使われ、例え
ば外径１３０ｍ／ｍΦ，厚味１．２０ｍ／ｍの案内溝（
グループ）付きドーナツ状円盤からなり、基板グループ
面に記録層２としてマグネトロンスパッタリング法によ
り、酸化防止Ｓｉ０２層１０００人，エンハンスＳｉ３
Ｎ４層８００人，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｆｅ　，　Ｃｏ磁気記録
層１０００人，　Ｓｉ３Ｎ４層８００人を順に積層され
る。このディスク基板を本発明の保護コート用サンプル
とした。

本発明の保護コートは光磁気記録層２又は反射層３の上
に性質を異にする紫外線硬化樹脂がらなる保護層を３層
構造とするものであり、オーバーコート層４，接着層５
，ハードコート層６からなることを特徴とする。すなわ
ちオーバーコート層４は光磁気ディスクが高温、高湿（
８５°Ｃ，８５％相対湿度）環境条件下に長時間（１０
００時間）放置されても、記録層にクラック、ビンホー
ルを発生させず基板にソリ、面振れなどの変形を起こさ
ない保護層であって、例えば粘度３００〜７００ｃｐｓ
　／　２５°Ｃで溶剤を含まないウレタンアクリレート
系の紫外線硬化樹脂の使用が好ましい。オーバーコート
層４を設けずに直接ハードコート層６を設けると高温、
高温環境条件下に長時間放置すると、記録膜にクラック
やビンホールが発生したり、ハードコート膜６が記録層
２から自然剥離したりして好ましくない。

多くの場合、記録膜２の上にハードコート膜６をスビン
コートするとハードコート剤のハジキにより塗布するこ
とが出来ない。ＵＶ（紫外線）オーバーコート層４の上
に直接ＵＶハードコート剤をスピンコートした場合も同
様にハジキにより塗布することが出来ない。また、塗布
できたとしても密着性に乏しく、高温、高湿環境条件下
ではハードコート膜６が自然剥離することがある。ＵＶ
オーバーコート層４の上にエポキシアクリレート系のＵ
Ｖ接着剤をスピンコートし、接着層５を形成してＵＶ照
射し、接着層５を硬化させた後に多官能アクリレート系
のＵＶハードコート剤をスビンコートすると、ハジキも
なく密着性のよいＵｖハードコート層６が得られる。各
層の膜厚はオーバーコート層４１０〜２０１１，接着層
５２０〜４０ｌ１，ハードコート層６５〜１０μが好ま
しい。

（発明の効果） 光磁気記録膜又は反射膜の上にＵＶオーバーコート層、
ＵＶ接着層、ＵＶハードコート層を順次塗設してなる本
発明の光磁気記録媒体は、単板でそのまま使用しても記
録層側に傷が付かず、高温、高湿（８５°Ｃ，８５％相
対湿度）環境条件下に長時間（１０００時間）放置して
も、プラスチック基板の変形がなく、記録層にクラック
やピンホールを発生しない。また、ダミー板を貼り合わ
せないので製造コストを低減することができるという効
呆を有するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の片面使用ダミー板貼り合わせタイプの光
磁気記録媒体の模式断面図である。第２図は本発明の片
面使用（単板）タイプの光磁気記録媒体の模式断面図で
ある。 （符号の説明） １．・・・・・・・・　　基板 ２．・・・・・・・・　　光磁気記録層３．　・・・・
・・・・　　反射層 ４．　・・・・・・・・　　オーバーコー｝保護層５．
　・・・・・・・・　　接着層 ６．　・・・・・・・・　　ハードコート（表面硬化）
層７．・・・・・・・・　　ダミー板

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）片面に記録層をもつ光磁気記録媒体の記録膜ない
   しは反射膜上に紫外線硬化樹脂の保護層を設けたものに
   おいて、該保護層が性質の異なる紫外線硬化樹脂の３層
   構造からなることを特徴とする光磁気記録媒体。
2. （２）前記保護層の紫外線硬化樹脂の３層構造が記録膜
   ないしは反射膜の上にオーバーコート層、接着層、ハー
   ドコート層を順次積層してなることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項に記載の光磁気記録媒体。