JPH02134384A - Cephalosporin compound and production thereof - Google Patents
Cephalosporin compound and production thereofInfo
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- JPH02134384A JPH02134384A JP63287585A JP28758588A JPH02134384A JP H02134384 A JPH02134384 A JP H02134384A JP 63287585 A JP63287585 A JP 63287585A JP 28758588 A JP28758588 A JP 28758588A JP H02134384 A JPH02134384 A JP H02134384A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
a、産業上の利用分野
本発明は、新規なセファロスポリン化合物およびその製
造方法に関する。更に詳しくは、7位に2−スルホアル
コキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド基または2−スルホアルコキシイミノ−
2−(2−アミノ−1,3−チアジアゾール−4−イル
)アセトアミド基を有し、3位に6,7−シヒドロキシ
イソキノリニウムメチル基(またはそのヒドロキシル基
のアシル化体)を有する新規なセファロスポリン化合物
およびその薬学的に許容しうる塩、およびその製造方法
に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION a. Field of Industrial Application The present invention relates to a novel cephalosporin compound and a method for producing the same. More specifically, 2-sulfoalkoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide group or 2-sulfoalkoxyimino-
It has a 2-(2-amino-1,3-thiadiazol-4-yl)acetamide group and a 6,7-hydroxyisoquinolinium methyl group (or an acylated form of its hydroxyl group) at the 3-position. The present invention relates to a novel cephalosporin compound, a pharmaceutically acceptable salt thereof, and a method for producing the same.
本発明のセファ0スポリン化合物およびその薬学的に許
容しうる塩は、極めて強い抗菌活性を有し巾広いダラム
陽性菌、ダラム陰性菌に対してその生育を強力に阻止し
得る活性を有し、殊にダラム陰性菌、就中緑膿菌に対し
て特に優れた抗菌力を有しでいる。The Cefa-Osporin compound and its pharmaceutically acceptable salts of the present invention have extremely strong antibacterial activity and have activity that can strongly inhibit the growth of a wide range of Durum-positive and Durham-negative bacteria. It has particularly excellent antibacterial activity against Durham-negative bacteria, especially Pseudomonas aeruginosa.
b、従来技術
セファ0スポリン骨格の7位に、例えば2−置換イミノ
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド基を有するセファロスポリン化合物は、抗菌性を有す
る化合物として知られておリ、例えば下記に示すような
種々の化合物が既に提案されている。b. Prior Art Cephalosporin compounds having, for example, a 2-substituted imino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide group at position 7 of the sporin skeleton are known as compounds with antibacterial properties. For example, various compounds as shown below have already been proposed.
(i) 特開昭58−57386号公報この公報には
、2−置換イミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド基に代表される基を7位に有し、且
つ3位に特定の置換基で置換されていてもよいイソキリ
ノニウムメチル基を有するセファロスポリン化合物が提
案されている。(i) JP-A-58-57386 This publication describes 2-substituted imino-2-(2-aminothiazole-4-
Cephalosporin compounds have been proposed that have a group represented by an acetamide group at the 7-position and an isoquilinonium methyl group that may be substituted with a specific substituent at the 3-position.
(ii) 特開昭59−130294号公報この公報
には、2−置換イミノ−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド基を7位に有し、且つ特定の置
換基で置換されていてもよいキノリニウムメチル基また
はイソキリノニウムメチル基を3位に有するセファロス
ポリン化合物が開示されている。(ii) JP-A-59-130294 This publication describes 2-substituted imino-2-(2-aminothiazole-
Disclosed is a cephalosporin compound having a 4-yl)acetamido group at the 7-position and a quinolinium methyl group or an isoquilinonium methyl group optionally substituted with a specific substituent at the 3-position. .
(町 特開昭63−10793号公報
この公報には7位にカルボキシ基で置換されていてもよ
いアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基で2位
が置換された2−L2−アミノチアゾール−4−イルシ
ンアセトアミド基を有し、3位にジヒドロキシイソキノ
リニウムメチル基を有するセファ0スポリン化合物が開
示されている。(Machi JP-A-63-10793) This publication describes 2-L2-aminothiazole-4- substituted at the 2-position with an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group which may be substituted with a carboxy group at the 7-position. Sefa-Osporin compounds having an ircineacetamide group and a dihydroxyisoquinolinium methyl group at the 3-position are disclosed.
C0発明の目的
本発明は3位に6,7−シヒドロキイソキノリニウムメ
チル基(或いはそのヒドロキシル基に対するアシル化体
)を有し、且つ7位にスルホアルキルオキシイミノ基を
有する新規なセフ10スポリン化合物を提供することに
ある。C0 Object of the Invention The present invention provides a novel cephalic acid compound having a 6,7-cycloisoquinolinium methyl group (or its acylated form with respect to a hydroxyl group) at the 3-position and a sulfoalkyloxyimino group at the 7-position. An object of the present invention is to provide a 10sporin compound.
本発明の他の目的は、広範囲な抗菌スペクトルを有し且
つ強力な抗菌活性を有する新規なセファ0スポリン化合
物を提供することにある。Another object of the present invention is to provide novel Cephasporin compounds with a broad antibacterial spectrum and strong antibacterial activity.
本発明の更に他の目的は、グラム陰性菌およびグラム陰
性菌に対して極めて強い抗菌活性を有するセファロスポ
リン化合物を提供することにある。Still another object of the present invention is to provide a cephalosporin compound having extremely strong antibacterial activity against Gram-negative bacteria and Gram-negative bacteria.
本発明の更に他の目的は、特に緑膿菌、チフス菌、エン
テロバクタ−等のグラム陰性菌に対して極めて強力な抗
菌活性を有するセファロスポリン化合物を提供すること
にある。Still another object of the present invention is to provide a cephalosporin compound having extremely strong antibacterial activity, particularly against Gram-negative bacteria such as Pseudomonas aeruginosa, Salmonella typhi, and Enterobacter.
本発明の更に他の目的は、水溶解性が優れ且つ低毒性の
新規なセファ0スポリン化合物を提供することにある。Still another object of the present invention is to provide a novel Cephasporin compound with excellent water solubility and low toxicity.
本発明の更に他の目的は、新規なセファ0スポリン化合
物の製造法およびその薬学的用途を提供することにある
。Still another object of the present invention is to provide a novel method for producing Cephasporin compounds and their pharmaceutical uses.
本発明の他の目的および利点は以下の記述から明らかと
なろう。Other objects and advantages of the invention will become apparent from the description below.
d6発明の構成
本発明の研究によれば、これらの目的および利点は次の
セファ0スポリン化合物によって達成されることがわか
った。d6 Components of the Invention Research in the present invention has shown that these objects and advantages are achieved by the following Cephalosporin compounds.
すなわち、本発明によれば下記一般式■・・・工
で表わされるセファ0スポリン化合物およびそのj薬学
的に許容しうる塩が提供される。That is, according to the present invention, a Cephasporin compound represented by the following general formula (1) and a pharmaceutically acceptable salt thereof are provided.
かかる本発明のセファ0スポリン化合物は、その3位に
下記構造のイソキノリン骨格を有している点に一つの特
徴がある。One of the features of the Cefa-Osporin compound of the present invention is that it has an isoquinoline skeleton having the following structure at the 3-position.
このイソキノリン骨格は、その6,7−位には一0RB
、 −0R3で示されるヒドロキシル基またはアシロキ
シ基を少くとも有している。This isoquinoline skeleton has 10RB at the 6,7-position.
, -0R3 has at least a hydroxyl group or an acyloxy group.
また本発明のセファロスポリン化合物の特徴は、その7
位に下記構造の7セトアミド基を有していることにある
。In addition, the characteristics of the cephalosporin compound of the present invention are as follows.
The reason is that it has a 7cetamido group with the following structure at the position.
い程の強い活性を呈することである。It shows extremely strong activity.
以下本発明のセファロスポリン化合物(I>について更
に詳細に説明する。The cephalosporin compound (I>) of the present invention will be explained in more detail below.
本発明の前記式1で表わされるセファ0スポリン化合物
は、式
このアセトアミド基は、R1が置換されていてもよいス
ルホアルキル基であるイミノ基を有し、さらに2−アミ
ノ(もしくは保護アミノ)チアゾール−4−イル基また
は2−アミノ(もしくは保護アミノ)チアジアゾール−
4−イル基を有している点に特徴がある。The Sephaosporin compound of the present invention represented by the above formula 1 has the acetamido group having an imino group in which R1 is an optionally substituted sulfoalkyl group, and further has a 2-amino (or protected amino) thiazole -4-yl group or 2-amino (or protected amino) thiadiazole-
It is characterized by having a 4-yl group.
このような特徴を有する本発明のセファ0スポリン化合
物は、広範囲の抗菌スペクトルを有しており、その抗菌
力も極めて強いという優れた生理活性を有している。殊
にダラム陰性菌に対して強力であり、驚く程少量で菌の
生育を阻止することができる。特に注目すべきは、緑膿
菌に対して従来市販のセファロスポリン化合物には認め
られなで表わされる2−アミノチアゾール−4−イル骨
格または2−7ミノチアジアゾールー4−イル骨格を部
分的に有している。この骨格は式で表わされる2−アミ
ノチアゾリン−4−イル骨格または4−アミノチアジア
ゾリン−4−イル骨格に容易に異性化される。本発明に
おいてはこれらいずれの互変異性体のものであってもよ
く、また両者の混合体であってもよくいずれの態様も包
含されるものである。The Cefa-Osporin compound of the present invention having such characteristics has a broad antibacterial spectrum and has excellent physiological activity with extremely strong antibacterial activity. It is particularly strong against Durham-negative bacteria, and can inhibit the growth of bacteria with a surprisingly small amount. Of particular note is that the 2-aminothiazol-4-yl skeleton or the 2-7-minothiadiazol-4-yl skeleton, which has not been found in conventional commercially available cephalosporin compounds against Pseudomonas aeruginosa, is partially removed. has. This skeleton is easily isomerized to a 2-aminothiazolin-4-yl skeleton or a 4-aminothiadiazolin-4-yl skeleton represented by the formula. In the present invention, any of these tautomers or a mixture of the two may be used, and any embodiment is included.
また式■のセファロスポリン化合物は、式で表わされイ
ミノ基を部分的に有している。このR1−0−基が結合
しているイミノ基部分はシン型とアンチ型のいずれであ
ってもよく、ざらに両型の混合体であってもよい。しか
しながらどちらかといえばシン型が抗菌活性がより強い
ので好ましい場合が多い。The cephalosporin compound of formula (1) is represented by the formula and partially has imino groups. The imino group moiety to which this R1-0- group is bonded may be either a syn-type or an anti-type, or it may be a mixture of both types. However, the thin type is often preferable because it has stronger antibacterial activity.
前記式1のYは、保護されていてもよいアミノ基であり
、従ってそれはアミン基自体であるか或いは保護基によ
って保護されたアミン基を意味する。保護されたアミノ
基である場合一般的にアミノ基として用いられるものが
好ましく、その保護基としては、アシル基、置換されて
いてもよいアルキル基等が挙げられる。かかるアシル基
としては、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル。Y in the above formula 1 is an optionally protected amino group, and therefore means an amine group itself or an amine group protected by a protecting group. In the case of a protected amino group, those commonly used as amino groups are preferred, and examples of the protecting group include an acyl group and an optionally substituted alkyl group. Examples of such acyl groups include formyl, acetyl, and propionyl.
ブチリル、 1so−ブチリル、バレリル、1so−バ
レリル、オキザリル、スクシニル、ピバロイル等の低級
アルカノイル基:メトキシ力ルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、is。Lower alkanoyl groups such as butyryl, 1so-butyryl, valeryl, 1so-valeryl, oxalyl, succinyl, pivaloyl: methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, is.
−プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル。-Propoxycarbonyl, butoxycarbonyl.
ペンチルオキシカルボニルなどの低級アルコキシカルボ
ニル基:メシル、エタンスルホニル、プロパンスルホニ
ル、 1so−プロパンスルホニル、ブタンスルホニル
等の低級アルカンスルホニル基:ベンゾイル、トルオイ
ル、ナフトイル、フタロイル等のアロイル基:フェニル
アセチル、フェニルプロピオニル等のアラルカッイル基
:ベンゾイルオキシカルボニル等の7ラルコキシカルボ
ニル基等が挙げられる。かかるアシル基は、適当な置換
基を1個以上有していてもよい。置換基としては例えば
、塩素、臭素、ヨウ素、弗素等のハロゲン原子ニジアノ
基;メチル、エチル、プロピル、ブチル等の低級アルキ
ル基等が挙げられる。前記置換基を有していてもよいア
ラルキル基としては例えば、ベンジル、4−メトキシベ
ンジル、フェネチル、トリチル、3.4−ジメトキシベ
ンジル等が挙げられる。Lower alkoxycarbonyl groups such as pentyloxycarbonyl: Lower alkanesulfonyl groups such as mesyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, 1so-propanesulfonyl, butanesulfonyl; Aroyl groups such as benzoyl, toluoyl, naphthoyl, phthaloyl; phenylacetyl, phenylpropionyl, etc. Aralkayl group: Examples include 7-aralkoxycarbonyl groups such as benzoyloxycarbonyl. Such an acyl group may have one or more suitable substituents. Examples of the substituent include halogen atom diano groups such as chlorine, bromine, iodine, and fluorine; lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, and butyl, and the like. Examples of the aralkyl group which may have a substituent include benzyl, 4-methoxybenzyl, phenethyl, trityl, 3,4-dimethoxybenzyl, and the like.
本発明のセファロスポリン化合物において、前記式1の
R1は置換されていてもよいスルホアルキル基である。In the cephalosporin compound of the present invention, R1 in Formula 1 is an optionally substituted sulfoalkyl group.
この場合、非置換のスルホアルキル基としてはスルホメ
チル、1−スルホエチル、2−スルホエチル、1−スル
ホプロピル、2−スルホプロピル、3−スルホプロピル
、4−スルホ−n−ブチル、スルホ−tert−ブチル
、スルホペンチル、スルホヘキシル、スルホヘプチル、
スルホオクチル等の直鎖もしくは分岐状の01〜Coo
スルホアルキル基または1−シクロプロピル、1−シク
ロブチル、1−シクロペンチル、1−シクロヘキシル等
のC3〜Coo環状スルホアルキル塞が挙げられる。In this case, the unsubstituted sulfoalkyl group includes sulfomethyl, 1-sulfoethyl, 2-sulfoethyl, 1-sulfopropyl, 2-sulfopropyl, 3-sulfopropyl, 4-sulfo-n-butyl, sulfo-tert-butyl, sulfopentyl, sulfohexyl, sulfoheptyl,
Straight chain or branched 01-Coo such as sulfooctyl
Sulfoalkyl groups or C3-Coo cyclic sulfoalkyl groups such as 1-cyclopropyl, 1-cyclobutyl, 1-cyclopentyl, and 1-cyclohexyl are mentioned.
かかるスルホアルキル基に置換基を有する場合、その置
換基としては例えば、クロル、ブロム等のハロゲン原子
、アミン基、ヒドロキシ基、フェニル基等の芳香族基、
カルバモイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル
、エトキシカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基
、イミダゾリル。When such a sulfoalkyl group has a substituent, examples of the substituent include halogen atoms such as chloro and bromine, aromatic groups such as amine group, hydroxy group, and phenyl group,
Carbamoyl group, carboxyl group, lower alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, imidazolyl.
2−アミノチアゾリル、1−メチル−1日−テトラゾリ
ル等の複素環基等が挙げられる。Examples include heterocyclic groups such as 2-aminothiazolyl and 1-methyl-1-day-tetrazolyl.
R1の好ましい例としては、スルホメチル基、1−スル
ホ−エチル基、1−スルホ−1−メチル−エチル基、1
−スルホ−1−シクロペンチル基等が挙げられる。Preferred examples of R1 include sulfomethyl group, 1-sulfo-ethyl group, 1-sulfo-1-methyl-ethyl group, 1
-sulfo-1-cyclopentyl group and the like.
本発明のセファ0スポリン化合物において、前記式1の
Xは−C1−1=または−N=であり、それぞれチアゾ
ール環またはチアジアゾール環を形成することになる。In the CefaOsporin compound of the present invention, X in Formula 1 is -C1-1= or -N=, forming a thiazole ring or a thiadiazole ring, respectively.
いずれであっても差支えない。There is no problem with either.
また前記式■の7は、水素原子、メトキシ基またはホル
ミルアミド基であるが、このうち水素原子またはメトキ
シ基が好ましく、特に水素原子が好ましい。Further, 7 in the formula (1) is a hydrogen atom, a methoxy group or a formylamide group, and among these, a hydrogen atom or a methoxy group is preferable, and a hydrogen atom is particularly preferable.
前述した通り、本発明のセフ10スポリン化合物は、式
■で示されるように6位および7位に一0R2および一
0R3の基を少くとも有するイソキノリン骨格を3位に
有している。ここでR2およびR3はそれぞれ独立して
水素原子またはアシル基であり、アシル基としては脂肪
族アシル基が好ましい。R2およびR3としては、水素
原子または炭素数2〜4のアシル基が有利であり、特に
水素原子またはアセチル基が好ましい。As described above, the cef-10 sporine compound of the present invention has an isoquinoline skeleton at the 3rd position, which has at least 10R2 and 10R3 groups at the 6th and 7th positions, as shown by the formula (3). Here, R2 and R3 are each independently a hydrogen atom or an acyl group, and the acyl group is preferably an aliphatic acyl group. As R2 and R3, a hydrogen atom or an acyl group having 2 to 4 carbon atoms is advantageous, and a hydrogen atom or an acetyl group is particularly preferred.
前記イソキノリン骨格には、6,7位に一0R2および
一0R3の2つの置換基を含んでいればよく、他の位置
に更に他の置換基[−(W)n]を含んでいても差支え
ない。この場合置換基の数(n)は0〜5であり、O〜
2が好ましく、殊にO〜1が望ましい。この置換基(−
W)としては、種々のものであっても差支えがないが前
記R1において説明したR1の置換基と同様のものであ
ることができる。The isoquinoline skeleton only needs to contain two substituents, 10R2 and 10R3, at the 6 and 7 positions, and may further contain other substituents [-(W)n] at other positions. do not have. In this case, the number of substituents (n) is 0 to 5, and O to
2 is preferable, and O-1 is particularly preferable. This substituent (−
W) may be any of a variety of substituents, but may be the same as the substituent for R1 described above for R1.
このWの例としては、アミノ基;炭6素敗1〜4のアル
キルアミノ基ニジ(炭素数1〜4のアルキル)アミノ基
;ヒドロキシル基:炭素数1〜4のアルコキシ基:力ル
バモイル基:カルバモイルオキシ基:チオカルバモイル
基;炭素数2〜4のアシルオキシ基ニジアノ基、ハロゲ
ン原子、ハロゲン化炭素数1〜4アルキル基:スルホ基
、アミノスルホニル基;炭素数2〜4のアルカノイル基
;炭素数1〜4のアルキル基:カルボキシル基:炭素数
1〜4のアルコキシカルボニル基;ヒドロキシ炭素数1
〜4アルキル基;ホルミル基などが挙げられる。Examples of W include: amino group; alkylamino group having 1 to 4 carbon atoms; di(alkyl having 1 to 4 carbon atoms) amino group; hydroxyl group; alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; rubamoyl group: Carbamoyloxy group: thiocarbamoyl group; acyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, diano group, halogen atom, halogenated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms: sulfo group, aminosulfonyl group; alkanoyl group having 2 to 4 carbon atoms; number of carbon atoms 1 to 4 alkyl group: carboxyl group: alkoxycarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms; hydroxy carbon number 1
-4 alkyl group; formyl group and the like.
また本発明の式■のセファ、ロスポリン化合物において
、その3位のカチオンのは、種々のアニオンと塩を形成
する。そのアニオンとしては、例えばCf)、−、Br
−、CH3COO−、CCj!:+COO−。Furthermore, in the Cepha and Rosporin compounds of formula (1) of the present invention, the cation at the 3-position forms salts with various anions. Examples of the anions include Cf), -, Br
-, CH3COO-, CCj! :+COO-.
CF3CO0−などの−塩基酸のイオンが挙げられる。Examples include -basic acid ions such as CF3CO0-.
ざらに式1のセファロスポリン化合物の、他の塩として
は、4位のカルボキシル基(−Cooe)における塩が
挙げられる。かかる塩としては、例えばアルカリ金属塩
(ナトリウム塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属
塩(カルシウム塩、マグネシウム塩など)、アンモニウ
ム塩、有機塩基との塩(トリエチルアミン塩、チルメチ
ルアミン塩、ピリジン塩など)等が挙げられる。Other salts of the cephalosporin compound of formula 1 include salts at the carboxyl group (-Cooe) at the 4-position. Examples of such salts include alkali metal salts (sodium salts, potassium salts, etc.), alkaline earth metal salts (calcium salts, magnesium salts, etc.), ammonium salts, salts with organic bases (triethylamine salts, methylmethylamine salts, pyridine salts, etc.). salt, etc.).
また式■のセファロスポリン化合物は、その4位のカル
ボキシル基がエステル化されたエステル体であってもよ
い。かかるエステルとしては生理学的に容易に加水分解
されるのが好ましい。このようなエステルとしては、例
えば、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチ
ル、エトキシエチルエステルなどのフルコキシアルキル
エステル;アセトキシメチル、プロピオキシメチル、ブ
チリルオキシメチル、バレリルオキシメチル、ピバロイ
ルオキシメチルエステルなどのフルカッイルオキシアル
キルエステル:インダニル、フタリジル、グリシルオキ
シメチル、フェニルグリシルオキシメチルエステル等が
挙げられる。The cephalosporin compound of formula (1) may also be an ester in which the carboxyl group at the 4-position is esterified. Such esters are preferably physiologically easily hydrolyzed. Such esters include, for example, flukoxyalkyl esters such as methoxymethyl, ethoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl ester; acetoxymethyl, propioxymethyl, butyryloxymethyl, valeryloxymethyl, pivaloyloxymethyl Furucyloxyalkyl esters such as esters: indanyl, phthalidyl, glycyloxymethyl, phenylglycyloxymethyl esters, and the like.
本発明のセファ0スポリン化合物、その塩またはそのエ
ステルは、結晶の形態にあるものが化学的に安定である
。それ故、結晶性のセフ10スポリン化合物、その塩ま
たはそのエステルが、医薬組成物の活性成分として使用
される時に好ましい。The Cephasporin compound, its salt, or its ester of the present invention is chemically stable if it is in the form of a crystal. Therefore, crystalline cef-10 sporin compounds, salts thereof or esters thereof are preferred when used as active ingredients in pharmaceutical compositions.
かかる結晶は、無水物あるいは3/4−水和物、1−水
和物、1,5−水和物、3−水和物、5−水和物などの
水和物であってもよい。Such crystals may be anhydrous or hydrates such as 3/4-hydrate, 1-hydrate, 1,5-hydrate, 3-hydrate, and 5-hydrate. .
本発明のセファロスポリン化合物の好ましい具体例を挙
げれば次のとおりでおる。これらは単に例示であって、
本発明はこれらに限定を受けるものではない。Preferred specific examples of the cephalosporin compound of the present invention are as follows. These are merely examples;
The present invention is not limited to these.
(1)(6R,7R)−7−[(Z)−2−(2アミノ
チアゾール−4−イル)−2−スルホナトメトキシイミ
ノ−アセトアミド]−3−(6゜7−シヒドロキシー2
−イソキノリニウム)メチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレートナトリウム
(2)(6R,7R)−7−[Z−2−(2〜アミノ−
1,3−チアジアゾール−4−イル)−2−スルホナト
メトキシイミノ−アセトアミド]3−(6,7−シヒド
ロキシー2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートナトリウム
(3) (6R,7R) −7−[(Z) −2
−(2アミノチアゾール−4−イル)−2−(2−スル
ホナトエトキシイミノーアセトアミドコー3−(6,7
−シヒドロキシー2−インキノリニウム)メチル−3−
セフェム−4−カルボキシレートナトリウム
(4) (6R,7R) −7−i: (Z) −2
−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(1−ス
ルホナトー1−メチル−エトキシイミノ−アセトアミド
]−3−(6,7−ジヒドロキシ−2−イソキノリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレートナト
リウム
<5)(6R,7R)−7−[(Z)−2−(2−アミ
ノ−1,3−チアジアゾール−4−イル)−2−(2−
スルホナトエトキシイミノ−アセト7ミド]−3−(6
,7−シヒドロキシー2−イソキノリニウム)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレートナトリウム
(6)(6R,7R)−7−[(Z)−2−アミノ−1
,3−チアジアゾール−4−イル)−2−(1−スルホ
ナトー1−メチル−エトキシイミノ−アセトアミド]−
3−(6,7−シヒドロキシー2−イソキノリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレートナトリウ
ム(7)(6R,7R)−7−[(Z) −2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−(1−スルホナト
エトキシイミノ−アセトアミド]−3−(6,7−シヒ
ドロキシー2−イソキノリニウム)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレートナトリウム
(8)(6R,7R)−7−[(Z)−2−(2−アミ
ノ−1,3−チアジアゾール−4−イル)2−(1−ス
ルホナトエトキシイミノ−アセトアミド]−3−(6,
7−シヒドロキシー2−イソキノリニウム)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレートナトリウム
本発明のセファロスポリン化合物■、その塩そのエステ
ルは種々の合成法で得ることができる。(1) (6R,7R)-7-[(Z)-2-(2aminothiazol-4-yl)-2-sulfonatomethoxyimino-acetamide]-3-(6°7-hydroxy-2
-isoquinolinium) methyl-3-cephem-4-carboxylate sodium (2) (6R,7R)-7-[Z-2-(2~amino-
Sodium 1,3-thiadiazol-4-yl)-2-sulfonatomethoxyimino-acetamide]3-(6,7-cyhydroxy-2-isoquinolinium)methyl-3-cephem-4-carboxylate (3) (6R,7R ) −7−[(Z) −2
-(2aminothiazol-4-yl)-2-(2-sulfonatoethoxyiminoacetamidoco-3-(6,7
-cyhydroxy-2-inquinolinium)methyl-3-
Cephem-4-carboxylate sodium (4) (6R,7R) -7-i: (Z) -2
-(2-7minothiazol-4-yl)-2-(1-sulfonato-1-methyl-ethoxyimino-acetamide]-3-(6,7-dihydroxy-2-isoquinolinium)methyl-3-cephem-4-carboxylate Sodium<5)(6R,7R)-7-[(Z)-2-(2-amino-1,3-thiadiazol-4-yl)-2-(2-
sulfonatoethoxyimino-acetamide]-3-(6
,7-hydroxy-2-isoquinolinium)methyl-
Sodium 3-cephem-4-carboxylate (6) (6R,7R)-7-[(Z)-2-amino-1
,3-thiadiazol-4-yl)-2-(1-sulfonato-1-methyl-ethoxyimino-acetamide]-
3-(6,7-cyhydroxy-2-isoquinolinium)
Sodium methyl-3-cephem-4-carboxylate (7) (6R,7R)-7-[(Z) -2-(2-
aminothiazol-4-yl)-2-(1-sulfonatoethoxyimino-acetamido]-3-(6,7-cyhydroxy-2-isoquinolinium)methyl-3-cephem-4-carboxylate sodium (8) (6R, 7R)-7-[(Z)-2-(2-amino-1,3-thiadiazol-4-yl)2-(1-sulfonatoethoxyimino-acetamide]-3-(6,
7-hydroxy-2-isoquinolinium)methyl-3
- Sodium cephem-4-carboxylate The cephalosporin compound (1) of the present invention, its salts and its esters can be obtained by various synthetic methods.
以下にそのいくつかについて説明するが、本発明のセフ
ァロスポリン化合物は、これら合成法に回答限定を受け
るものではない。Some of them will be explained below, but the cephalosporin compound of the present invention is not limited to these synthesis methods.
叉嵐戎A
l
この反応式Aでは、式(2)のセファ0スポリン化合物
と式(3)のイソキノリン化合物とを反応せしめる方法
である。反応生成物(1)は必要に応じて脱保護、塩生
成、エステル化および/または還元反応に付することか
できる。叉辉戎Al This reaction formula A is a method in which a Cephasporin compound of formula (2) is reacted with an isoquinoline compound of formula (3). The reaction product (1) can be subjected to deprotection, salt formation, esterification and/or reduction reactions as required.
式(2)において、X、Y、ZおよびR1は前記式(1
)の定義と同様であり、R5はアシルオキシ基。In formula (2), X, Y, Z and R1 are represented by the above formula (1
), and R5 is an acyloxy group.
カルバモイルオキシ基またはハロゲン原子を表わし、p
はOまたは1を表わし、R4は水素原子または保護基を
表わす。represents a carbamoyloxy group or a halogen atom, p
represents O or 1, and R4 represents a hydrogen atom or a protective group.
Rにおけるアシルオキシ基の好ましい例としては、例え
ば、アセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシ、ト
リクロロアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、3−オ
キソブチルオキシ、3−力ルボキシプロピオニルオキシ
、2−カルボキシベンゾイルオキシ
マンゾリルオキシ、2−(カルボエトキシカルバモイル
)ベンゾイルオキシ、2−(カルボエトキシスルフ7モ
イル)ベンゾイルオキシ、3−エトキシカルバモイルプ
ロピオニルオキシなどが挙げられる。Preferred examples of the acyloxy group in R include acetyloxy, trifluoroacetyloxy, trichloroacetyloxy, propionyloxy, 3-oxobutyloxy, 3-carboxypropionyloxy, and 2-carboxybenzoyloxymanzolyloxy. , 2-(carboethoxycarbamoyl)benzoyloxy, 2-(carboethoxysulf7moyl)benzoyloxy, 3-ethoxycarbamoylpropionyloxy, and the like.
ハロゲン原子としては、例えば、ヨウ素,臭素。Examples of halogen atoms include iodine and bromine.
塩素などが挙げられる。Examples include chlorine.
R4の保護基としては例えば、メチル、エチル。Examples of protecting groups for R4 include methyl and ethyl.
プロピル、iso−プロピル、ブチル、ペンチル。Propyl, iso-propyl, butyl, pentyl.
ヘキシルなどの低級アルキル基;アセトキシメチル、プ
ロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、バレ
リルオキシメチル、ピバロイルオキシメチルなどのアル
カノイルオキシアルキルメトキシメチル、エトキシメチ
ル、メトキシエチル、エトキシエチルなどのフルコキシ
アルキル基:ベンジル,4−メトキシベンジル、4−ニ
トロベンジル、フェネチル、トリチル、ジフェニルメチ
ル、ビス(メトキシフェニル)メチル、3.4−ジメト
キシベンジルなどの置換されていてもよいアラルキル基
;2−ヨードエチル、 2,2.2 −トリクロロエチ
ルなどのハロゲン化フルキル基:ビニル。Lower alkyl groups such as hexyl; alkanoyloxyalkylmethoxymethyl such as acetoxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl, valeryloxymethyl, pivaloyloxymethyl; flukoxyalkyl such as ethoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl Group: optionally substituted aralkyl group such as benzyl, 4-methoxybenzyl, 4-nitrobenzyl, phenethyl, trityl, diphenylmethyl, bis(methoxyphenyl)methyl, 3,4-dimethoxybenzyl; 2-iodoethyl, 2 , 2. 2-trichloroethyl and other halogenated furkyl groups: vinyl.
アリルなどのアルケニル基:フェニル,4−クロロフェ
ニル、トリル、キシリル、メシチルなどの置換されてい
てもよいアリル基;トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、 tert−ブチルジメチルシリル、トリブチルシ
リルなどのトリアルキルシリル基等が挙げられる。なか
でも、R4はトリアルキルシリル基が好ましい。R4が
トリアルキルシリル基である場合、反応スキームAの反
応において式(1)のセファロスポリン誘導体のΔ2−
異性体の生成が抑制されるため、目的とする式(1)の
セファロスポリン化合物が高収率で得られる。Alkenyl groups such as allyl: optionally substituted allyl groups such as phenyl, 4-chlorophenyl, tolyl, xylyl, mesityl; trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, tributylsilyl, etc. It will be done. Among these, R4 is preferably a trialkylsilyl group. When R4 is a trialkylsilyl group, in the reaction of reaction scheme A, Δ2- of the cephalosporin derivative of formula (1)
Since the production of isomers is suppressed, the desired cephalosporin compound of formula (1) can be obtained in high yield.
式(2)のセファロスポリン化合物は、その塩であって
もよい。好ましい塩としては、式(1)のセファロスポ
リン化合物において、例示した塩と同様の塩が挙げられ
る。The cephalosporin compound of formula (2) may be a salt thereof. Preferred salts include the same salts as those exemplified in the cephalosporin compound of formula (1).
前記反応式Aにおけるイソキノリン化合物(3)におい
て、R2およびR3は同一もしくは異なり水素原子また
はアシル基を示すがこれらは通常、フェノール性水酸基
またはカテコールに使用される保護基であってもよい。In the isoquinoline compound (3) in the reaction formula A, R2 and R3 are the same or different and represent a hydrogen atom or an acyl group, but these may be a phenolic hydroxyl group or a protective group normally used for catechol.
用いられるアシル基としてはアセチル基,トリフルオロ
アセチル、トリクロロアセチル、プロピオニル、3−オ
キシブチル。Acyl groups used include acetyl, trifluoroacetyl, trichloroacetyl, propionyl, and 3-oxybutyl.
3−カルボキシプロピオニル、2−カルボキシアセチル
、2−カルボキシベンゾイル、4−カルボキシブチリル
ル)ベンゾイル、2−(カルボエトキシスルフ7モイル
)ベンゾイル、3−エトキシカルバモイルプロピオニル
などが挙げられる。また保護基としては通常フェノール
あるいはカテコール類に用いられ、かつ温和な脱離反応
によって目的物(1)を与えるものが選ばれる。かかる
保護基としては、メチル、メトキシメチル、2−メトキ
シエトキシメチル、メトキシチオメチル、テトラヒドロ
ピラニル、フェナシル、アリール、シクロヘキシル。Examples include 3-carboxypropionyl, 2-carboxyacetyl, 2-carboxybenzoyl, 4-carboxybutyryl)benzoyl, 2-(carboethoxysulf7moyl)benzoyl, 3-ethoxycarbamoylpropionyl, and the like. As the protecting group, one selected is one which is normally used for phenol or catechols and which gives the desired product (1) through a mild elimination reaction. Such protecting groups include methyl, methoxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl, methoxythiomethyl, tetrahydropyranyl, phenacyl, aryl, cyclohexyl.
t−ブチル、ベンジル、0−ニトロベンジル、4−ピコ
リルなどのエーテル;トリメチルシリル。Ethers such as t-butyl, benzyl, 0-nitrobenzyl, 4-picolyl; trimethylsilyl.
t−ブチルジメチルシリルなどのシリルエーテル類、メ
チルカーボニル、 2,2.2−トリクロルエチルカー
ボニル、ベンジルカーボニル等のカーボネート類:メタ
ンスルホニル、p−トルエンスルホニル等のスルホネー
ト、カテコールの保護基として用いられる。メチレンア
セタール、ジフェニルメチレンケタールや環状カーボネ
ートなどが挙げられ必要に応じこれらの保護基を選んで
用いることもできる。Silyl ethers such as t-butyldimethylsilyl, carbonates such as methyl carbonyl, 2,2,2-trichloroethyl carbonyl, and benzyl carbonyl; sulfonates such as methanesulfonyl and p-toluenesulfonyl; and used as protective groups for catechol. Examples include methylene acetal, diphenylmethylene ketal, and cyclic carbonate, and these protecting groups can be selected and used as required.
式(3)においてWとnは前記式(1)で定義したもの
と同じ基、原子および数を意味する。In formula (3), W and n mean the same groups, atoms, and numbers as defined in formula (1) above.
さらに式(3)の化合物は、その塩であってもよく、好
ましい塩としては、例えば、無機酸塩(塩酸塩、臭化水
素酸塩、硫酸塩、リン酸塩など)。Furthermore, the compound of formula (3) may be a salt thereof, and preferred salts include, for example, inorganic acid salts (hydrochloride, hydrobromide, sulfate, phosphate, etc.).
有機酸塩(酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼン
スルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩など)等が挙げら
れる。Examples include organic acid salts (acetate, maleate, tartrate, benzenesulfonate, toluenesulfonate, etc.).
式(2)のセファロスポリン化合物またはその塩と式(
3)のイソキノリン化合物またはその塩との反応は、不
活性有機溶媒中で両者を接触せしめることにより行なわ
れる。The cephalosporin compound of formula (2) or its salt and the formula (
The reaction 3) with the isoquinoline compound or its salt is carried out by bringing the two into contact in an inert organic solvent.
不活性有機溶媒としては、例えば、メチレンクロライド
、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2
−ジクロロエタンなどのハロゲン化水素類ニジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン。Examples of inert organic solvents include methylene chloride, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2
-Hydrogen halides such as dichloroethane, diethyl ether, and tetrahydrofuran.
ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテル煩;ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類
;アセトニトリル:ジメチルホルムアミド:ジエチルア
セトアミド:ジメチルスルホキシド:酢酸エチル等が挙
げられる。Ether compounds such as dioxane and dimethoxyethane; hydrocarbons such as hexane, benzene, toluene, and xylene; acetonitrile, dimethylformamide, diethylacetamide, dimethyl sulfoxide, and ethyl acetate.
ざらに式(3)の化合物は、その塩であってもよく、好
ましい塩としては、例えば、無機酸塩(塩酸塩、臭化水
素酸塩、硫酸塩、リン酸塩など)。The compound of formula (3) may be a salt thereof, and preferred salts include, for example, inorganic acid salts (hydrochloride, hydrobromide, sulfate, phosphate, etc.).
有機酸塩(酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼン
スルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩など)等が挙げら
れる。Examples include organic acid salts (acetate, maleate, tartrate, benzenesulfonate, toluenesulfonate, etc.).
式(2)のセファ0スポリン化合物またはその塩と式(
3)のイソキノリン化合物またはその塩との反応は、不
活性有機溶媒中で両者を接触せしめることにより行なわ
れる。A Cephasporin compound of formula (2) or a salt thereof and a formula (
The reaction 3) with the isoquinoline compound or its salt is carried out by bringing the two into contact in an inert organic solvent.
不活性有機溶媒としては、例えば、メチレンクロライド
、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2
−ジクロロエタンなどのハロゲン化水素類ニジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン。Examples of inert organic solvents include methylene chloride, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2
-Hydrogen halides such as dichloroethane, diethyl ether, and tetrahydrofuran.
ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテル類;ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類
;アセトニトリル;ジメチルホルムアミド:ジエチルア
セトアミド;ジメチルスルホキシド;酢酸エチル等が挙
げられる。Examples include ethers such as dioxane and dimethoxyethane; hydrocarbons such as hexane, benzene, toluene, and xylene; acetonitrile; dimethylformamide: diethylacetamide; dimethyl sulfoxide; and ethyl acetate.
反応温度は室温もしくはそれ以下の温度が好ましく、通
常−30℃〜+50℃の範囲で実施するのがよい。The reaction temperature is preferably room temperature or lower, and is usually carried out in the range of -30°C to +50°C.
式(2)のセファ0スポリン化合物もしくはその塩と、
式(3)のイソキノリン化合物もしくはその塩とは等モ
ル量が反応するが、反応を行うに際しては、通常、式(
2)のセファロスポリン化合物もしくはその塩に対して
、式(3)のイソキノリン化合物もしくはその塩は0.
7〜10倍モル、好ましくは1.0〜10倍モル使用さ
れる。A Cephasporin compound of formula (2) or a salt thereof;
Equimolar amounts react with the isoquinoline compound of formula (3) or its salt, but when carrying out the reaction, usually
The isoquinoline compound of formula (3) or a salt thereof is 0.
It is used in an amount of 7 to 10 times the mole, preferably 1.0 to 10 times the mole.
反応は両者を単に攪拌するだけで進行し、反応時間は反
応溶媒2反応部度等によって異なるが、通常5分〜3時
間である。The reaction proceeds by simply stirring the two, and the reaction time varies depending on the reaction solvent, reaction site, etc., but is usually 5 minutes to 3 hours.
反応生成物は溶媒抽出、晶析、クロマトグラフィ等の公
知の手段によって単離精製することができる。The reaction product can be isolated and purified by known means such as solvent extraction, crystallization, and chromatography.
本反応式Aにおいては、原料化合物として、化合物(2
)のシン異性体を用いた場合には、シン異性体の目的物
(1)が1昇られる。化合物(2)のシンおよびアンチ
異性体の混合物を原料として用いた場合には、目的物(
1)のシンおよびアンチ異性体の混合物が得られる。か
かる混合物は、晶析、クロマトグラフィー等の通常の手
段により分離できる。In this reaction formula A, the compound (2
), the target compound (1) of the syn isomer is increased by 1. When a mixture of syn and anti isomers of compound (2) is used as a raw material, the desired product (
A mixture of syn and anti isomers of 1) is obtained. Such mixtures can be separated by conventional means such as crystallization, chromatography, etc.
反応生成物は、必要に応じて、脱保護、塩生成。The reaction product is deprotected and salted as necessary.
エステル化、およびまたは還元反応に付される。Subjected to esterification and/or reduction reactions.
脱保護反応はそれ自体公知の反応であり、カルボキシル
基の保護基は、酸もしくはアルカリの存在下での加水分
解反応等によって除去することができる。アミン基の保
護基は、酸あるいは接触還元等によって除去することが
できる(米国特許筒4.152,433号および二同第
4.298.606号明細書参照)。The deprotection reaction is a well-known reaction per se, and the protecting group for a carboxyl group can be removed by a hydrolysis reaction in the presence of an acid or an alkali. The protecting group for the amine group can be removed by acid or catalytic reduction (see US Pat. No. 4,152,433 and US Pat. No. 4,298,606).
塩生成反応はそれ自体公知の反応であり、例えば上記反
応で得られる式(1)のベタイン構造の化合物を、塩酸
、臭化水素酸、@酸、リン酸、酢酸。The salt-forming reaction is a known reaction per se, and for example, the compound having the betaine structure of formula (1) obtained by the above reaction is treated with hydrochloric acid, hydrobromic acid, @ acid, phosphoric acid, or acetic acid.
トリフルオロ酢酸等の酸:あるいはベタインを酸の存在
下、塩化ナトリウム、ヨウ過ナトリウム。An acid such as trifluoroacetic acid: or betaine in the presence of an acid, sodium chloride, or sodium iodide.
塩化カリウム等の塩で処理することによって行なわれる
。This is done by treatment with a salt such as potassium chloride.
エステル化反応は、それ自体公知の反応であり、得られ
る式(1)のセファロスポリン化合物またはその塩とア
ルカノイルオキシアルキルハライド。The esterification reaction is a reaction known per se, and the resulting cephalosporin compound of formula (1) or a salt thereof and an alkanoyloxyalkyl halide.
アルコキシアルキルハライド等とを、アセトン。acetone with alkoxyalkyl halide, etc.
ジメチルホルムアミド等の不活性有機溶媒中で反応せし
めることによって行なわれる(英国特許第240921
号明細書参照)。This is carried out by reaction in an inert organic solvent such as dimethylformamide (UK Patent No. 240921).
(see specification).
還元反応は、それ自体公知の反応であり、式(1)にお
いて、pが1であるセファロスポリン化合物をアセチル
クロライド等で処理し、次いでヨウトイオン、亜ジオン
酸ナトリウム等で還元することによって行なわれる(前
記英国特許明細書参照)。The reduction reaction is a known reaction per se, and is carried out by treating a cephalosporin compound in formula (1) where p is 1 with acetyl chloride, etc., and then reducing it with iodide ions, sodium diionite, etc. (See above-mentioned British patent specification).
結晶性の本発明のセファロスポリン化合物を得るには例
えば以下の方法がある。For example, the following method can be used to obtain the crystalline cephalosporin compound of the present invention.
式(1)のセファロスポリン化合物のアモルファスな粉
末を水:メタノール、エタノール、アセトン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンアセトニトリル等の有機溶剤:
あるいはこれらの混合溶剤に溶解せしめ、放置すること
によって結晶として沈澱させる方法;アモルファスな粉
末を、これらの溶剤を用いて再結晶させる方法:あるい
はアモルファスな粉末を水に溶解し、次いで上記の有機
溶剤を加えて結晶として沈i12させる方法などがある
。An amorphous powder of the cephalosporin compound of formula (1) is mixed with water: an organic solvent such as methanol, ethanol, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, and acetonitrile:
Alternatively, a method of dissolving the powder in a mixed solvent of these and leaving it to precipitate as a crystal; a method of recrystallizing an amorphous powder using these solvents; or a method of dissolving the amorphous powder in water and then precipitating it as a crystal using the above organic solvent. There is a method of adding i12 to precipitate it as crystals.
一方、他の方法としては、式(1)のセファロスポリン
化合物の酸付加塩を、水またはメタノール。On the other hand, as another method, the acid addition salt of the cephalosporin compound of formula (1) is added to water or methanol.
エタノール、プロパツールなどの有機溶媒、あるいはこ
れらの混合溶媒に溶解せしめ、次いでトリエチルアミン
、水酸化ナトリウムなどの塩基で中和して結晶を得る方
法もある。There is also a method of obtaining crystals by dissolving it in an organic solvent such as ethanol, propatool, or a mixed solvent thereof, and then neutralizing it with a base such as triethylamine or sodium hydroxide.
上記の如く、水もしくは水を含む溶液中で結晶かもしく
は再結晶せしめる場合には、通常結晶性の水和物が得ら
れる。また有機溶媒中で結晶化せしめる場合には、結晶
性の無水物もしくは溶媒和物が得られる。溶媒和物は容
易に無水物に変換される。結晶性の無水物もしくは溶媒
和物は、水蒸気を含む気体中に放置することによって水
和物に変換することができる。As mentioned above, when crystallizing or recrystallizing in water or a solution containing water, a crystalline hydrate is usually obtained. When crystallized in an organic solvent, a crystalline anhydride or solvate can be obtained. Solvates are easily converted to anhydrides. A crystalline anhydride or solvate can be converted into a hydrate by standing in a gas containing water vapor.
又麦X旦
(0)p
・・・■
反応式Bでは、式(4)の化合物、その塩またはその反
応性誘導体と、式(5)の化合物、その塩。In Reaction Formula B, a compound of formula (4), a salt thereof, or a reactive derivative thereof, and a compound of formula (5), a salt thereof.
そのエステルまたはその反応性誘導体とを反応せしめる
。反応生成物は、必要に応じて脱保護、塩生成、エステ
ル化および/または還元反応に付される。React with the ester or its reactive derivative. The reaction product is subjected to deprotection, salt formation, esterification and/or reduction reactions as necessary.
式(4)において、X、YおよびR1は前記(1)の定
義に同じである。In formula (4), X, Y and R1 are the same as defined in (1) above.
式(4)の化合物は、塩であってもよく、塩としては酸
付加塩がある。かかる酸付加塩としては、反応式Aの式
(3)の化合物の酸付加塩として例示したものが同様に
挙げられる。The compound of formula (4) may be a salt, and examples of the salt include acid addition salts. Examples of such acid addition salts include those exemplified as the acid addition salt of the compound of formula (3) in reaction formula A.
式(4)の化合物の反応性誘導体としては、例えば、酸
ハライド、酸無水物、混合酸無水物活性化アミド、活性
化エステル等がある。Examples of reactive derivatives of the compound of formula (4) include acid halides, acid anhydrides, mixed acid anhydride-activated amides, and activated esters.
酸ハライドとしては、例えば、酸クロライド。Examples of acid halides include acid chloride.
酸ブロマイドが挙げられる。混合酸無水物としては、例
えば、ジアルキルリン酸、フェニルリン酸。Acid bromides are mentioned. Examples of mixed acid anhydrides include dialkyl phosphoric acid and phenyl phosphoric acid.
ピバリン酸、ペンタン酸などの酸との混合酸無水物が挙
げられる。活性化アミドとしては、例えば、イミダゾー
ル、トリアゾール、テトラゾール、ジメチルピラゾール
などで活性化されたアミド等が挙げられる。活性化エス
テルとしては、例えば、シアノメチルエステル、メトキ
シメチルエステル。Examples include mixed acid anhydrides with acids such as pivalic acid and pentanoic acid. Examples of activated amides include amides activated with imidazole, triazole, tetrazole, dimethylpyrazole, and the like. Examples of activated esters include cyanomethyl ester and methoxymethyl ester.
ジメチルイミノメチルエステル、p−ニトロフェニルエ
ステル、メシルフェニルエステルなどが挙げられる。Examples include dimethyliminomethyl ester, p-nitrophenyl ester, mesylphenyl ester, and the like.
式(5)において、Z、 R2,R3,Wおよび0は前
記(1)の定義に同じである。式(5)の化合物の塩と
しては、ナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属
塩;カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類
金属塩;アンモニウム塩;トリメチルアミン塩、トリエ
チルアミン塩、ピリジン塩などの有機塩基との塩:ある
いは前記したと同様の酸付加塩等が挙げられる。In formula (5), Z, R2, R3, W and 0 are the same as defined in (1) above. Salts of the compound of formula (5) include alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts; alkaline earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts; ammonium salts; organic bases such as trimethylamine salts, triethylamine salts, and pyridine salts. and the same acid addition salts as mentioned above.
式(5)の化合物のエステルとしては、例えば、反応式
Aの式(2)の化合物におけるR4の保護基として例示
したと同様の基でエステル化された化合物を挙げること
ができる。Examples of the ester of the compound of formula (5) include compounds esterified with the same group as exemplified as the protecting group for R4 in the compound of formula (2) of reaction formula A.
式(5)の化合物の反応性誘導体としては、例えば、ア
セト酢酸などのカルボニル化合物との反応によって形成
されるシッフ塩基型のイミノ化合物またはそのエナミン
タイプの異性体:ビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド、トリメチルクロロシラン、 tert−ブチルジメ
チルクロロシランなどのシリル化合物との反応により生
成するシリル誘導体;三酸化リン、ホスゲンとの反応に
よって得られる誘導体等が挙げられる。Reactive derivatives of the compound of formula (5) include, for example, Schiff base-type imino compounds formed by reaction with carbonyl compounds such as acetoacetic acid or their enamine-type isomers: bis(trimethylsilyl)acetamide, trimethylchlorosilane. , silyl derivatives produced by reaction with silyl compounds such as tert-butyldimethylchlorosilane; derivatives obtained by reaction with phosphorus trioxide and phosgene, and the like.
式(5)の化合物は次の方法によって製造し得る。The compound of formula (5) can be produced by the following method.
(5)の合成法
(0)p
(5“)
(0)p
上記の反応は、反応式Aで示した式(2)の化合物と式
(3)のイソキノリン化合物との反応と同様にして行う
ことができる。Synthesis method of (5) (0)p (5'') (0)p The above reaction is carried out in the same manner as the reaction between the compound of formula (2) shown in reaction formula A and the isoquinoline compound of formula (3). It can be carried out.
化合物(4)、その塩またはそれらの反応性誘導体と化
合物(5)、その塩、そのエステルまたはそれらの反応
性誘導体との反応は、不活性有機溶媒中、必要により縮
合剤もしくは塩基の存在下で、両者を接触することによ
り行なわれる。The reaction of compound (4), a salt thereof, or a reactive derivative thereof with compound (5), a salt thereof, an ester thereof, or a reactive derivative thereof is carried out in an inert organic solvent, if necessary in the presence of a condensing agent or a base. This is done by bringing the two into contact.
不活性有機溶媒としては、例えば、メチレン。Examples of inert organic solvents include methylene.
クロライド、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタンなどのエーテル類;ヘキサン、ベ
ンゼン、トルエン、キシシンなどの炭化水素類;アセト
ニトリル;ジメチルホルムアミド;ジエチルスルホキシ
ド等が挙げられる。Halogenated hydrocarbons such as chloride, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, and 1,2-dichloroethane; Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and dimethoxyethane; Hydrocarbons such as hexane, benzene, toluene, and xycin; Examples include acetonitrile; dimethylformamide; diethyl sulfoxide and the like.
反応に際しては塩基を添加してもよい。かかる塩基とし
ては、例えば水酸化アルカリ金属、炭酸水素アルカリ金
属、炭酸アルカリ金属、トリアルキルアミン、N、N−
ジアルキルベンジルアミン。A base may be added during the reaction. Such bases include, for example, alkali metal hydroxides, alkali metal hydrogen carbonates, alkali metal carbonates, trialkylamines, N, N-
Dialkylbenzylamine.
ピリジン、N−フルキルモルホリン等の有機もしくは無
機の塩基が挙げられる。かかる塩基の使用量は通常化合
物(4)、その塩またはそれらの反応性誘導体に対して
等モル−3倍モルである。Examples include organic or inorganic bases such as pyridine and N-furkylmorpholine. The amount of such a base to be used is usually equivalent to three times the mole of compound (4), its salt, or a reactive derivative thereof.
化合物(4)またはその塩を反応に用いる場合には、縮
合剤を添加してもよい。縮合剤としては、例えば、N、
N’ −ジシクロへキシルカルボジイミド、N−シクロ
ヘキシルN゛−モルホリノエチルカルボジイミド
イミド、トリメチルホスファイト、トリフェニルホスフ
ィン、2−エチル−7−ヒトロキシベンズイソオキサゾ
リウム塩などが挙げられる。かかる縮合剤の使用量は通
常、化合物(4)またはその塩に対して1〜3倍モルで
ある。When compound (4) or a salt thereof is used in the reaction, a condensing agent may be added. Examples of the condensing agent include N,
Examples thereof include N'-dicyclohexylcarbodiimide, N-cyclohexyl N'-morpholinoethylcarbodiimide, trimethylphosphite, triphenylphosphine, and 2-ethyl-7-hydroxybenzisoxazolium salt. The amount of such a condensing agent used is usually 1 to 3 times the amount of compound (4) or its salt.
化合物(4)、その塩またはそれらの反応性誘導体と化
合物(5)、その塩,そのエステルまたはそれらの反応
性誘導体とは通常はぼ等モル量を用いて反応を行なう。Compound (4), a salt thereof, or a reactive derivative thereof and compound (5), a salt thereof, an ester thereof, or a reactive derivative thereof are usually reacted in approximately equimolar amounts.
反応温度は、通常冷却下もしくは室温で行なわれる。The reaction temperature is usually carried out under cooling or at room temperature.
反応は通常、数分〜数十時間で終了する。The reaction usually completes in several minutes to several tens of hours.
反応生成物は溶媒抽出,晶析,クロマトグラフィー等の
公知の手段によって単離精製することができる。The reaction product can be isolated and purified by known means such as solvent extraction, crystallization, and chromatography.
反応生成物の脱保護,塩生成,エステル化および/また
は還元反応は反応式Aで示したと同様の方法により行な
うことができる。目的物の結晶を得る場合にも反応式A
で示した方法と同様にして行なうことができる。Deprotection, salt formation, esterification and/or reduction of the reaction product can be carried out in the same manner as shown in Reaction Formula A. Reaction formula A is also used when obtaining crystals of the target product.
This can be done in the same manner as shown in .
本反応においては、原料化合物として、化合物(4)の
シン異性体を用いた場合にはシン異性体の目的物(1)
が得られる。化合物(4)のシンおよびアンチ異性体の
混合物を原料として用いた場合には目的物(1)のシン
およびアンチ異性体の混合物が得られる。かかる混合物
は、晶析,クロマトグラフィー等の通常の手段により分
離できる。In this reaction, when the syn isomer of compound (4) is used as the starting compound, the target compound (1) of the syn isomer is
is obtained. When a mixture of syn and anti isomers of compound (4) is used as a raw material, a mixture of syn and anti isomers of target compound (1) is obtained. Such mixtures can be separated by conventional means such as crystallization, chromatography, etc.
反応式C
(0)p
+
82 N −OR+
反応式Cでは、式(6)の化合物,その塩またはそのエ
ステルと、式(7)の化合物,その保護された化合物ま
たはその塩と反応せしめる。反応生成物は、必要に応じ
て脱保護,塩生成,エステル化および/または還元反応
に付される。Reaction Formula C (0) p + 82 N -OR+ In Reaction Formula C, a compound of formula (6), a salt thereof, or an ester thereof is reacted with a compound of formula (7), a protected compound thereof, or a salt thereof. The reaction product is subjected to deprotection, salt formation, esterification and/or reduction reactions as necessary.
式(6)において、X. Y, Z, R2, R3,
W, nおよびpは前記定義と同じである。In formula (6), X. Y, Z, R2, R3,
W, n and p are the same as defined above.
式(6)の化合物の塩としては、酸付加塩.″あるいは
アルカリ金属塩,アルカリ土類金属塩,アンモニウム塩
,あるいは有機塩基との塩がある。これらの塩の具体例
としては式(1)の化合物で記述したものと同様の塩が
挙げられる。Examples of the salt of the compound of formula (6) include acid addition salts. or alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, or salts with organic bases. Specific examples of these salts include the same salts as described for the compound of formula (1).
式(6)の化合物のエステルとしては、例えば、反応式
Aにおける式(2)の化合物のR4の保護基として例示
したと同様の基でエステル化された化合物を挙げること
ができる。Examples of the ester of the compound of formula (6) include compounds esterified with the same group as exemplified as the protecting group for R4 of the compound of formula (2) in reaction formula A.
式(6)の化合物は次の方法によって製造し得る。The compound of formula (6) can be produced by the following method.
・・・工
(6)の合成法
(0)p
(6゛)
(0)p
上記の反応は、反応式Aにおいて示した、式(2)の化
合物と式(3)のイソキノリン化合物との反応と同様に
して行なうことができる。... Synthesis method of process (6) (0)p (6゛) (0)p The above reaction is a reaction between the compound of formula (2) and the isoquinoline compound of formula (3) shown in reaction formula A. It can be carried out in the same manner as the reaction.
式(7)において、R1は前記定義に同じである。In formula (7), R1 is the same as defined above.
化合物(7)の保護された化合物としては、R1がカル
ボキシ基等の活性な置換基を有する場合、これらの置換
基を慣用的に使用される保護基で保護した化合物が挙げ
られる。Examples of the protected compound (7) include, when R1 has an active substituent such as a carboxy group, a compound in which these substituents are protected with a commonly used protecting group.
化合物(7)の塩としては、酸付加塩が挙げられ、これ
らの具体例は前記したと同様のものが挙げられる。Examples of the salt of compound (7) include acid addition salts, and specific examples thereof include those mentioned above.
式(7)の化合物は一部公知の化合物であり、ハロゲノ
アルキルスルホン酸を用いる公知の方法(特開昭59−
88462号公報)などの方法によって製造し得る。A part of the compound of formula (7) is a known compound, and a known method using halogenoalkyl sulfonic acid (JP-A-59-1999)
88462).
化合物(6)、その塩またはそのエステルと化合物(7
)、その保護された化合物またはその塩との反応は、不
活性有機溶媒中で、必要に応じて塩基の存在下、両者を
接触せしめることにより行なわれる。Compound (6), its salt or its ester and compound (7)
), the reaction with the protected compound or its salt is carried out by bringing the two into contact in an inert organic solvent, if necessary in the presence of a base.
不活性有機溶媒としては、例えばメタノール。Examples of inert organic solvents include methanol.
エタノール、プロパツール、ブタノールなどのアルコー
ル類が挙げられる。これら不活性有機溶媒は水を含んで
いてもよい。Examples include alcohols such as ethanol, propatool, and butanol. These inert organic solvents may contain water.
必要に応じて添加される塩基としては、反応式Bの反応
で用いた塩基と同様のものが挙げられる。Examples of the base that may be added if necessary include the same bases as those used in the reaction of Reaction Formula B.
かかる塩基の使用量は、式(6)の化合物、その塩また
はそのエステルに対し、通常1〜3倍モルである。式(
6)の化合物、その塩またはそのエステルと式(7)の
化合物、その保護された化合物。The amount of the base to be used is usually 1 to 3 times the amount of the compound of formula (6), its salt, or its ester. formula(
The compound of formula (6), its salt or its ester, and the compound of formula (7), its protected compound.
またはその塩とは通常、それぞれ等モル量用いて反応が
行なわれる。or a salt thereof, and the reaction is usually carried out using equimolar amounts of each.
反応温度は通常、冷却下もしくは室温で行なわれる。The reaction temperature is usually carried out under cooling or at room temperature.
反応時間は通常、数分〜数十時間である。反応生成物は
溶媒抽出、晶析、クロマトグラフィー等の公知の手段に
よって単離精製することができる。The reaction time is usually several minutes to several tens of hours. The reaction product can be isolated and purified by known means such as solvent extraction, crystallization, and chromatography.
本反応においては、化合物のシンおよびアンチ異性体の
混合物が得られる。In this reaction, a mixture of syn and anti isomers of the compound is obtained.
かかる混合物は、晶析、クロマトグラフィー等の通常の
手段によって分離することができる。Such mixtures can be separated by conventional means such as crystallization, chromatography, etc.
脱保護、塩生成、エステル化および/または還元反応は
反応式へと同様にして行なうことができる。目的物の結
晶性無水物もしくは水和物を得る場合にも、反応Aで示
した方法と同様にして行なうことができる。Deprotection, salt formation, esterification and/or reduction reactions can be carried out analogously to the reaction formula. When obtaining a crystalline anhydride or hydrate of the target product, the same method as shown in Reaction A can be used.
叉駆双旦
(0)p
+
aiR
反応式りでは、式I −(1)の化合物、その塩または
そのエステルと、式(10)の化合物とを反応せしめる
。反応生成物は必要に応じて、脱保護、塩生成、エステ
ル化および/または還元反応に付される。In the reaction formula, a compound of formula I-(1), a salt thereof, or an ester thereof is reacted with a compound of formula (10). The reaction product is subjected to deprotection, salt formation, esterification and/or reduction reactions as necessary.
式I −(1)においてX、 Y、 Z、 R1,R2
,R3゜w、n 、oは前記定義に同じである。In formula I-(1), X, Y, Z, R1, R2
, R3°w, n, and o are the same as defined above.
式I −(1)の化合物の塩としては、酸付加塩。The salt of the compound of formula I-(1) is an acid addition salt.
あるいはアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩。Or alkali metal salts, alkaline earth metal salts.
アンモニウム塩、有機塩基との塩などがある。これらの
塩の具体例としては式(1)の化合物で記述したものと
同様の塩が挙げられる。Examples include ammonium salts and salts with organic bases. Specific examples of these salts include the same salts as described for the compound of formula (1).
式I−(1)の化合物のエステルとしては反応式Aの式
(2)の化合物におけるR4の保護基と同じ基でエステ
ル化された化合物を挙げることができる。Examples of the ester of the compound of formula I-(1) include compounds esterified with the same group as the protecting group for R4 in the compound of formula (2) of reaction formula A.
式I −(1)の化合物は次の方法により製造し得る。The compound of formula I-(1) can be produced by the following method.
L二(1)五食承韮
(0)p
(0)p
0■
(4゛)
上記反応において、式(5′)の化合物と式(3)の化
合物との反応は、反応式Aで述べた反応と同様にして行
なうことができ、式(5)の化合物と式(4°)の化合
物との反応は、反応式Bで述べた反応と同様にして行な
うことができる。式(4”)の化合物は公知の化合物で
あり、公知の方法(米国特許筒4,298,606号明
細書)により製造し得る。L2 (1) Goshokujou (0) p (0) p 0■ (4゛) In the above reaction, the reaction between the compound of formula (5') and the compound of formula (3) is expressed by reaction formula A. The reaction between the compound of formula (5) and the compound of formula (4°) can be carried out in the same manner as the reaction described in reaction formula B. The compound of formula (4'') is a known compound and can be produced by a known method (US Pat. No. 4,298,606).
式(10)において、Haiは、塩素、臭素、ヨウ素な
どのハロゲン原子を表わす。式(10)の化合物は、相
当する芳香族炭化水素を慣用の手段によりハロゲン化す
ることによって得られる。In formula (10), Hai represents a halogen atom such as chlorine, bromine, or iodine. Compounds of formula (10) can be obtained by halogenating the corresponding aromatic hydrocarbon by conventional means.
式I −(1)の化合物、その塩またはそのエステルと
式(10)の化合物との反応は、不活性溶媒中で、必要
に応じて塩基の存在下に、両者を接触せしめることによ
り行なわれる。The reaction of the compound of formula I-(1), its salt or ester thereof with the compound of formula (10) is carried out by bringing the two into contact in an inert solvent, optionally in the presence of a base. .
不活性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール
、プロパツール、ブタノールなどのアルコール類;メチ
レングロライド、ジクロロメタン。Examples of inert solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propatool, and butanol; methylene chloride, and dichloromethane.
クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンな
どのハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエ
ーテル類ニジメチルホルムアミド、ジエチルアセトアミ
ド;酢酸エチル;水などが挙げられる。Examples include halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, and 1,2-dichloroethane; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and dimethoxyethane; dimethylformamide and diethylacetamide; ethyl acetate; and water.
必要に応じて、塩基の存在下に反応を行なってもよい。If necessary, the reaction may be carried out in the presence of a base.
かかる塩基としては、例えば水酸化アルカリ金属、炭酸
水素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、トリアルキルア
ミン、N、N−ジアルキルベンジルアミン、ピリジン、
N−アルキルモリホリン等の有機もしくは無機の塩基が
挙げられる。Examples of such bases include alkali metal hydroxide, alkali metal hydrogen carbonate, alkali metal carbonate, trialkylamine, N,N-dialkylbenzylamine, pyridine,
Examples include organic or inorganic bases such as N-alkylmorpholine.
かかる塩基の使用量は、通常式I −(1)の化合物、
その塩またはエステルに対して、1〜3倍モルである。The amount of such base to be used is usually determined by the amount of the compound of formula I-(1),
The molar amount is 1 to 3 times that of the salt or ester.
式(10)の化合物は、式I −(1)の化合物、その
塩、またはそのエステルに対して、通常1〜3倍モル用
いられる。The compound of formula (10) is usually used in an amount of 1 to 3 times the mole of the compound of formula I-(1), its salt, or its ester.
反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下〜溶媒の
沸点程度の加熱下に行なわれる。Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under cooling to heating to about the boiling point of the solvent.
反応時間は、通常、数分〜数十時間である。The reaction time is usually several minutes to several tens of hours.
反応生成物は、溶媒抽出、晶析、クロマトグラフィー等
の公知の手段によって単離精製することができる。本反
応においては、原料化合物として、化合物I−(1)の
シン異性体を用いた場合には、化合物I −(1)のシ
ン異性体が得られる。化合物I−(1)のシンおよびア
ンチ異性体の混合物を用いた場合には、化合物I−(1
)のシンおよびアンチ異性体の混合物が得られる。かか
る混合物は晶析、クロマトグラフィー等の手段により分
離できる。The reaction product can be isolated and purified by known means such as solvent extraction, crystallization, and chromatography. In this reaction, when the syn isomer of compound I-(1) is used as the starting compound, the syn isomer of compound I-(1) is obtained. When a mixture of syn and anti isomers of compound I-(1) is used, compound I-(1)
A mixture of syn and anti isomers of ) is obtained. Such mixtures can be separated by means such as crystallization and chromatography.
脱保護、塩生成、エステル化、還元反応は、反応式Aで
示した方法と同様にして行なうことができる。目的物の
結晶性無水物もしくは水和物を得る場合にも、反応式A
で示した方法と同様にして行なうことができる。Deprotection, salt formation, esterification, and reduction reactions can be carried out in the same manner as shown in reaction formula A. Also when obtaining a crystalline anhydride or hydrate of the target product, reaction formula A
This can be done in the same manner as shown in .
反応式E
(0)p
+ YNH−C−NH2→
この反応式Eは、一般式■においてXが一〇H=の場合
の化合物の合成法を示す。Reaction formula E (0) p + YNH-C-NH2→ This reaction formula E shows a method for synthesizing a compound when X is 10H= in the general formula (2).
反応式Eでは、式(8)の化合物、その塩またはそのエ
ステルと、式(9)の化合物またはその塩とを反応せし
める。反応生成物は、必要に応じて、脱保護、塩生成、
エステル化および/または還元反応に付される。In reaction formula E, a compound of formula (8), a salt thereof, or an ester thereof is reacted with a compound of formula (9) or a salt thereof. The reaction product is subjected to deprotection, salt formation, and
Subjected to esterification and/or reduction reactions.
式(8)において、Y、 Z、 R’、 R2,R3,
W、 nおよびpは前記定義に同じであり、R6は、塩
素。In formula (8), Y, Z, R', R2, R3,
W, n and p are the same as defined above, and R6 is chlorine.
臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を表わす。Represents a halogen atom such as bromine or iodine.
式(8)の化合物の塩としては、例えばアルカリ金属塩
、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩。Examples of the salt of the compound of formula (8) include alkali metal salts, alkaline earth metal salts, and ammonium salts.
有機塩基との塩あるいは酸付加塩がある。これらの塩の
具体例としては、化合物(1)で記述したものと同様の
塩が挙げられる。There are salts with organic bases or acid addition salts. Specific examples of these salts include the same salts as described for compound (1).
式(8)の化合物のエステルとしては、例えば、反応A
における(2)の化合物のR4の保護基と同様の基でエ
ステル化された化合物が挙げられる。As the ester of the compound of formula (8), for example, reaction A
Examples include compounds esterified with the same group as the protecting group for R4 of the compound in (2).
式(8)の化合物は以下のようにして製造される。The compound of formula (8) is produced as follows.
(8)の合成法
(0)p
↑
(0)p
(8′)
(0)p
上記反応において、式(5′)の化合物と式(3)の化
合物との反応は、反応式Aにおいて述べた反応と同様に
して行なわれる。式(5)の化合物と式(8°)の化合
物との反応は、反応式Bにおいて述べた反応と同様にし
て行なわれる。式(8°)の化合物は公知の化合物であ
り、公知の方法(例えば英国特許第2,012,276
号明細書)によって製造し得る。Synthesis method of (8) (0)p ↑ (0)p (8') (0)p In the above reaction, the reaction between the compound of formula (5') and the compound of formula (3) is performed in reaction formula A. It is carried out analogously to the reaction described. The reaction between the compound of formula (5) and the compound of formula (8°) is carried out in the same manner as the reaction described in reaction formula B. The compound of formula (8°) is a known compound and can be prepared by a known method (for example, British Patent No. 2,012,276).
(No. 2003).
式(9)において、R1は水素原子または保護基を表わ
す。式(9)の化合物は公知の化合物である(米国特許
第4.298.606号明細書)。In formula (9), R1 represents a hydrogen atom or a protective group. The compound of formula (9) is a known compound (US Pat. No. 4,298,606).
式(9)の化合物の塩としては、酸付加塩が挙げられ、
かかる酸付加塩の具体例としては、式(1)の化合物で
記述したものと同様の酸付加塩が挙げられる。Examples of the salt of the compound of formula (9) include acid addition salts,
Specific examples of such acid addition salts include acid addition salts similar to those described for the compound of formula (1).
式(8)の化合物、その塩またはそのエステルと式(9
)の化合物またはその塩との反応は、不活性溶媒中で、
両者を接触することにより行なわれる。A compound of formula (8), a salt thereof or an ester thereof and formula (9)
) with the compound or its salt in an inert solvent,
This is done by bringing the two into contact.
不活性溶媒としては、例えば、水:メタノール。Examples of inert solvents include water:methanol.
エタノール、プロパツール、ブタノールなどのアルコー
ル類ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類ニジメチルホルムアミド;ジメチ
ルアセトアミド:メチルピペリドン等が挙げられる。こ
れらの溶媒の混合物も同様に用いることができる。Examples include alcohols such as ethanol, propatool and butanol; ethers such as diethyl ether; tetrahydrofuran and dioxane; dimethylformamide; dimethylacetamide; methylpiperidone; and the like. Mixtures of these solvents can be used as well.
式(9)の化合物またはその塩は、通常、式(8)の化
合物、その塩またはそのエステルに対して1〜3倍モル
用いられる。The compound of formula (9) or its salt is usually used in a molar amount of 1 to 3 times the amount of the compound of formula (8), its salt, or its ester.
反応温度は特に限定されないが、通常、室温から溶媒の
沸点程度の温度で行なわれる。Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out at a temperature from room temperature to about the boiling point of the solvent.
反応時間は通常、1〜10時間程度である。The reaction time is usually about 1 to 10 hours.
反応生成物は溶媒抽出、晶析、クロマトグラフィー等の
公知の手段によって単離精製することができる。The reaction product can be isolated and purified by known means such as solvent extraction, crystallization, and chromatography.
脱保護、塩生成、エステル化および/または還元反応は
反応式Aで示した方法と同様にして行なうことができる
。目的物の結晶性無水物もしくは水和物を得る場合にも
、反応式Aで示した方法と同様にして行なうことができ
る。Deprotection, salt formation, esterification and/or reduction reactions can be carried out in the same manner as shown in Reaction Scheme A. When obtaining a crystalline anhydride or hydrate of the target product, the same method as shown in Reaction Formula A can be used.
本発明の式(1)のセファロスポリン化合物、特にYが
アミノ基である式(1)のセファ0スポリン化合物また
はその薬学的に許容しうる塩またはそのエステルは、広
範囲のダラム陽性菌およびダラム陰性菌に対して高い抗
菌活性を示し人を含む動物の細菌感染症の治療に有用で
ある。本発明のセフ10スポリン化合物は、緑膿菌、チ
フス菌、エンテロバクタ−等のダラム陰性菌、黄色ブド
ー状球菌、化膿しンサ球菌、枯草菌等のダラム陽性菌に
対し強力な抗菌活性を有する。また本発明のセファ0ス
ポリン誘導体は作用持続時間が長いという特徴を有する
。The cephalosporin compound of formula (1) of the present invention, particularly the cephalosporin compound of formula (1) in which Y is an amino group, or a pharmaceutically acceptable salt thereof or an ester thereof, can be used to treat a wide range of Durum-positive bacteria and Durum-positive bacteria. It shows high antibacterial activity against negative bacteria and is useful for treating bacterial infections in animals including humans. The cef-10 sporin compound of the present invention has strong antibacterial activity against Durum-negative bacteria such as Pseudomonas aeruginosa, Salmonella typhi, and Enterobacter, and against Durum-positive bacteria such as Staphylococcus aureus, Streptococcus pyogenes, and Bacillus subtilis. . Furthermore, the Cefa-Osporin derivative of the present invention is characterized by a long duration of action.
本発明のセファ0スポリン化合物、その薬学的に許容し
得る塩またはそのエステルは、非経口的経口的に投与さ
れる。非経口的に投与する剤型としては、例えば静脈も
しくは筋肉内に注射剤、学則等がある。注射剤は水性も
しくは油性溶液、懸濁液等の形態をとることができる。The cephalosporin compounds of the present invention, pharmaceutically acceptable salts thereof, or esters thereof are administered parenterally or orally. Examples of dosage forms for parenteral administration include intravenous or intramuscular injections, academic regulations, and the like. Injections can take the form of aqueous or oily solutions, suspensions, and the like.
また投与前に殺菌水で再調合して使用する粉末、結晶で
あってもよい。学則はココアバター、グリセリド等の通
常の賦形剤に、必要に応じて吸収促進剤を含有せしめて
なる製剤が挙げられる。It may also be in the form of powders or crystals that are reconstituted with sterile water before administration. The academic regulations include preparations made of ordinary excipients such as cocoa butter and glycerides and, if necessary, absorption enhancers.
経口的に投与する場合には、通常のカプセル剤。When administered orally, conventional capsules.
錠剤、顆粒剤等があり、これらには吸収促進剤。There are tablets, granules, etc., and these include absorption enhancers.
保存剤等を含有せしめることができる。It may contain a preservative or the like.
これら各種の製剤は当業界周知の方法で製造することが
できる。These various formulations can be manufactured by methods well known in the art.
本発明のセファ0スポリン化合物、その薬学的に許容し
うる塩またはそのエステルの投与量は、年令、症状、投
与形態により異なるが、通常10〜2000mM日であ
る。The dosage of the cephalosporin compound, its pharmaceutically acceptable salt, or its ester of the present invention varies depending on the age, symptoms, and mode of administration, but is usually 10 to 2000 mM per day.
以下本発明を実施例により更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples.
実施例1
(6R,7R)−7−[2−(2−トリルアミノチアゾ
ール−4−イル)−2−オキソアセトアミド]−3−(
6,7−ジハイドロキシイソキノリニウム)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート385maをメタノ
ール50dの混合物にアミノオキシメタンスルホン12
54mgと水10Inlを加え溶解する。これに濃塩酸
230μlを加え室温で48時間反応する。メタノール
減圧下留去し0.1−N苛性ソーダ水溶液でpH6,5
とした。Example 1 (6R,7R)-7-[2-(2-tolylaminothiazol-4-yl)-2-oxoacetamide]-3-(
6,7-dihydroxyisoquinolinium)methyl-3
- 385 ma of cephem-4-carboxylate in a mixture of 50 d of methanol and 12 min of aminooxymethane sulfone.
Add 54 mg and 10 Inl of water and dissolve. Add 230 μl of concentrated hydrochloric acid to this and react at room temperature for 48 hours. Methanol was distilled off under reduced pressure and the pH was adjusted to 6.5 with 0.1-N caustic soda aqueous solution.
And so.
次いでこの反応溶液を1007のアセトン中に加え沈澱
物を得た。得られた化合物を液体クロマトグラフィー[
カラム: RP−18,溶出溶媒:水−メタノール混合
溶媒、検出:UV波長260止]により分取して目的化
合物を得た( 70ma >。(化合物■)
I R(cm−’ ) : 1775
NMR(d6−DMSO)δ:
3.462H,brs)、 4.62(2H,brs)
。Next, this reaction solution was added to 1007 acetone to obtain a precipitate. The obtained compound was subjected to liquid chromatography [
Column: RP-18, elution solvent: water-methanol mixed solvent, detection: UV wavelength at 260] to obtain the target compound (70 ma >. (Compound ■) IR (cm-'): 1775 NMR (d6-DMSO) δ: 3.462H,brs), 4.62(2H,brs)
.
5.21111.d、J=5.4Hz)、 5.51(
2N、brS)。5.21111. d, J=5.4Hz), 5.51(
2N,brS).
5.851H,dd、J=5.4Hz、8.3Hz)、
6.82(1N、S)。5.851H, dd, J=5.4Hz, 8.3Hz),
6.82 (1N, S).
7.461H,S)、 7.61(IH,S)。7.461H,S), 7.61(IH,S).
8.181H,d、J=7.3H2)、 8.34(I
H,d、J=7.3Hz)。8.181H, d, J=7.3H2), 8.34(I
H, d, J = 7.3Hz).
9.481H,S)、 9.69(IH,d、J=8.
3Hz)。9.481H,S), 9.69(IH,d, J=8.
3Hz).
実施例2
■n vitro抗菌活性
Invttro抗菌活性を、寒天平板希釈法によって測
定した。Example 2 In vitro antibacterial activity In vitro antibacterial activity was measured by the agar plate dilution method.
各種試験菌をトリプトケース−ソイプロス中−夜培養し
、その−白金耳(生菌数106 /7)を、本発明化合
物を各種濃度で含むミュラーヒントン寒天に画線し、3
7℃で16時間培養し、最小発育阻止濃度(IVLIc
、μ0 /ml)を求めた。結果は表−I、Itに示し
た通りである。Various test bacteria were cultured overnight in Tryptocase-Soypros, and the platinum loops (viable bacterial count: 106/7) were streaked onto Mueller-Hinton agar containing various concentrations of the compound of the present invention.
Incubate at 7°C for 16 hours and increase the minimum inhibitory concentration (IVLIc).
, μ0/ml). The results are shown in Table I, It.
表 ■ CAZ (セクタジジム) 表 ■ 特 許 出 願 人 帝人株式会社table ■ CAZ (Sectazigym) table ■ Special permission Out wish Man Teijin Corporation
Claims (1)
てもよいアミノ基、Zは水素原子、メトキシ基またはホ
ルムアミノ基、R^1は置換されていてもよいスルホア
ルキル基、R^2およびR^3は同一もしくは異なり水
素原子またはアシル基、Wは置換基、nは0〜5の整数
を表わす。〕 で表わされる化合物またはその塩類。 2、下記一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2) 〔ここでXは−CH=または−N=、Yは保護されてい
てもよいアミノ基、Zは水素原子、メトキシ基またはホ
ルムアミノ基、R^1は置換されていてもよいスルホア
ルキル基またはその塩、R^5は後述のイソキノリン化
合物(3)との反応により脱離し得る基、R^4はカル
ボキシル基保護基、pは0または1を表わす。〕 で表わされる化合物と、下記一般式(3) ▲数式、化学式、表等があります▼…(3) ここでR^2およびR^3は同一もしくは異なり水素原
子またはアシル基、Wは置換基、nは0〜5の整数を表
わす。 で表わされるイソキノリン化合物とを反応せしめ、必要
により脱保護、還元、エステル化、塩形成せしめること
を特徴とする下記一般式 I ▲数式、化学式、表等があ
ります▼… I 〔ここでX,Y,Z,R^1,R^2,R^3,Wおよ
びnの定義は前記と同じものを意味する。〕 で表わされるセフアロスポリン化合物およびその塩類の
製造法。 3、下記一般式(4) ▲数式、化学式、表等があります▼…(4) 〔ここでXは−CH=または−N=、Yは保護されてい
てもよいアミノ基、R^1は置換されていてもよいスル
ホアルキル基を表わす。〕 で表わされる化合物、その塩またはその反応性誘導体と
、下記一般式(5) ▲数式、化学式、表等があります▼…(5) 〔ここでZは水素原子、メトキシ基またはホルミルアミ
ノ基、R^2およびR^3は同一もしくは異なり水素原
子またはアシル基、Wは置換基、nは0〜5の整数、p
は0または1を表わす。〕で表わされる化合物、その塩
、そのエステルまたはその反応性誘導体とを反応せしめ
、必要により、脱保護、塩形成、エステル化、還元せし
めることを特徴とする下記一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼… I 〔ここでX,Y,Z,R^1,R^2,R^3,Wおよ
びnの定義は前記と同じものを意味する。〕 で表わされるセフアロスポリン化合物およびその塩類の
製造法。 4、下記一般式(6) ▲数式、化学式、表等があります▼…(6) 〔ここでXは−CH=または−N=、Yは保護されてい
てもよいアミノ基、Zは水素原子、メトキシ基またはホ
ルムアミノ基、R^2およびR^3は同一もしくは異な
り水素原子またはアシル基、Wは置換基、nは0〜5の
整数を表わす。pは0または1である。〕 で表わされる化合物、その塩またはエステルと、下記一
般式(7) NH_2O−R^1…(7) 〔ここでR^1は置換されていてもよいスルホアルキル
基を表わす。〕 で表わされる化合物、その保護された化合物または塩と
反応せしめ、必要により、脱保護、塩形成、エステル化
、還元せしめることを特徴とする下記一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼… I 〔ここでX,Y,Z,R^1,R^2,R^3,Wおよ
びnの定義は前記と同じものを意味する。〕 で表わされるセフアロスポリン化合物およびその塩類の
製造法。 5、下記一般式 I −(1) ▲数式、化学式、表等があります▼…(1) 〔ここでXは−CH=または−N=、Yは保護されてい
てもよいアミノ基、Zは水素原子、メトキシ基またはホ
ルムアミノ基、R^2およびR^3は同一もしくは異な
り水素原子またはアシル基、Wは置換基、nは0〜5の
整数、pは0または1を示す。〕 で表わされる化合物、その塩またはエステルと、下記一
般式(10) Hal−R^1…(10) 〔ここでR^1は置換されていてもよいスルホアルキル
基またはその塩、Halはハロゲン原子を表わす。〕 で表わされる化合物とを反応せしめ、必要により脱保護
、塩形成、エステル化、還元せしめることを特徴とする
下記一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼… I 〔ここでX,Y,Z,R^1,R^2,R^3,Wおよ
びnの定義は前記と同じものを意味する。〕 で表わされるセフアロスポリン化合物およびその塩類の
製造法。[Claims] 1. The following general formula I ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼... I [Here, X is -CH= or -N=, Y is an optionally protected amino group, and Z is Hydrogen atom, methoxy group or formamino group, R^1 is an optionally substituted sulfoalkyl group, R^2 and R^3 are the same or different hydrogen atom or acyl group, W is a substituent, n is 0 to Represents an integer of 5. ] A compound represented by or its salts. 2. General formula (2) below ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(2) [Here, X is -CH= or -N=, Y is an optionally protected amino group, and Z is a hydrogen atom , methoxy group or formamino group, R^1 is an optionally substituted sulfoalkyl group or a salt thereof, R^5 is a group that can be removed by reaction with the isoquinoline compound (3) described below, R^4 is carboxyl The group protecting group p represents 0 or 1. ] Compounds represented by the following general formula (3) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼... (3) Here, R^2 and R^3 are the same or different, hydrogen atom or acyl group, W is a substituent , n represents an integer from 0 to 5. The following general formula I ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼... I [Here, X, Y , Z, R^1, R^2, R^3, W and n have the same meanings as above. ] A method for producing a cephalosporin compound and its salts. 3. General formula (4) below ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(4) [Here, X is -CH= or -N=, Y is an optionally protected amino group, and R^1 is Represents an optionally substituted sulfoalkyl group. ] Compounds represented by, salts thereof, or reactive derivatives thereof, and the following general formula (5) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(5) [Here, Z is a hydrogen atom, a methoxy group, or a formylamino group, R^2 and R^3 are the same or different hydrogen atoms or acyl groups, W is a substituent, n is an integer of 0 to 5, p
represents 0 or 1. ], a salt thereof, an ester thereof, or a reactive derivative thereof is reacted with the following general formula I ▲Mathematical formula, chemical formula, table etc. ▼... I [Here, the definitions of X, Y, Z, R^1, R^2, R^3, W and n have the same meanings as above. ] A method for producing a cephalosporin compound and its salts. 4. General formula (6) below ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available ▼... (6) [Here, X is -CH= or -N=, Y is an optionally protected amino group, and Z is a hydrogen atom , a methoxy group or a formamino group, R^2 and R^3 are the same or different and represent a hydrogen atom or an acyl group, W represents a substituent, and n represents an integer of 0 to 5. p is 0 or 1. ] A compound, its salt or ester represented by the following general formula (7) NH_2O-R^1...(7) [Here, R^1 represents an optionally substituted sulfoalkyl group. ] The following general formula I ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. are included▼ ... I [Here, the definitions of X, Y, Z, R^1, R^2, R^3, W and n have the same meanings as above. ] A method for producing a cephalosporin compound and its salts. 5. The following general formula I - (1) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are included ▼... (1) [Here, X is -CH= or -N=, Y is an optionally protected amino group, and Z is A hydrogen atom, a methoxy group or a formamino group, R^2 and R^3 are the same or different and are a hydrogen atom or an acyl group, W is a substituent, n is an integer of 0 to 5, and p is 0 or 1. [Here, R^1 is an optionally substituted sulfoalkyl group or a salt thereof, and Hal is a halogen. represents an atom. ] The following general formula I ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼... I [Here, X, Y , Z, R^1, R^2, R^3, W and n have the same meanings as above. ] A method for producing a cephalosporin compound and its salts.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63287585A JPH02134384A (en) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | Cephalosporin compound and production thereof |
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| JP63287585A JPH02134384A (en) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | Cephalosporin compound and production thereof |
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| JPH02134384A true JPH02134384A (en) | 1990-05-23 |
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|---|---|---|---|
| JP63287585A Pending JPH02134384A (en) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | Cephalosporin compound and production thereof |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02134384A (en) |
-
1988
- 1988-11-16 JP JP63287585A patent/JPH02134384A/en active Pending
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