JPH02137108A - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は薄膜磁気ヘッド、特にヘッドの主要部が保護板
により覆われる構造を有する薄膜磁気ヘッドに関するも
のである。

［従来の技術］ 従来より、画像、文字、音声など種々の情報の記録再生
に磁気記録再生装置、たとえば磁気ディスク装置、テー
プレコーダなどが用いられている。磁気記録再生装置に
おける記録再生素子としては、磁気ヘッドが用いられる
が、磁気ヘッドとしては従来のバルクタイプのものに加
え近年では薄膜磁気ヘッドが一般的になってきている。

薄膜磁気ヘッドは、半導体の場合と同様に成膜プロセス
により製造されるもので、小型軽量化が容易であり、ま
た大量生産に向くという利点を有する。

第４図に従来の薄膜磁気ヘッドの構造を示す。

第４図において符号１で示すものは基体であリ、本薄膜
磁気ヘッドの素子部を構成する部材は基体１上に構成さ
れている。基体１はガラスなどの非磁性体材料から構成
される。

基体１の上面には下部磁性層２が成膜されている。下部
磁性層２はパーマロイ、センダストなどの磁性体材料か
ら成り、蒸着あるいはスパッタリング法などにより基体
１の表面に膜状に形成される。

下部磁性層２の上面には、不図示の絶縁層（ガラスなど
）を介して銅あるいはアルミニウム等で構成される導電
層５が形成されている。導電層５は、少なくとも、螺旋
状のパターンを持つコイル部５′とこの螺旋状部分を導
出する厚比部の２層から構成される。導電層５は蒸着あ
るいはスパッタリング法などにより形成されており、コ
イル部５′と入出力端子部５″とからなる。さらに入出
力端子部５″は不図示の磁気ヘッド【動部に接続されて
いる。

さらに下部磁性層２の上面には、不図示の絶縁層を介し
て磁性体材料からなる上部磁性層３が成膜されている。

上部磁性層３の一端は、前述の導電層５のコイル部５′
の中心部分に設けられたコンタクトホールを介して下部
磁性層２に結合されている。また、上部磁性ＮＩ３の他
端は下部磁性層２に非磁性体材料からなる磁気ギャップ
層４を介して対向している。

下部磁性層２、上部磁性／！１３、磁気ギャップ１４、
および導電層５からなる素子部の上部には各部材を外部
より保護するための保護板６が設置されている。保護板
６はガラスなどの非磁性体材料で形成されており、接層
剤などにより素子部上部に接着されている。

磁性１２．３、ギャップ層４が臨む保護板６、基体２の
前端面は円筒面、あるいは球面などの所定の形状に研削
され、この面が磁気記録媒体摺動面９となる。

なお、第４図中に符号Ａで示すものは磁気ギャップデプ
ス値であり、上述した各部材の組立終了後に摺動面９を
研磨整形する際、所定の長さに設定される。

［発明が解決しようとする課題］ 薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気記録媒体に対する良好な
情報の記録および再生を行うためには、磁気ギャップデ
プス値を所定の値に設定しなければならない。情報の記
録再生効率をあげるためには、この磁気ギャップデプス
値を１ミクロンあるいはそれ以下の精度で管理すること
が必要である。薄膜磁気ヘッドにおいてこの磁気ギャッ
プデプス値の設定は、磁気記録媒体に対する摺動面を研
磨整形する段階で行われる。

ところで従来の技術による薄Ｍｌｉｆｉ気ヘッドでは、
摺動面を研磨加工する段階において、素子部を保護する
保護板が素子部を上方から覆っている。そのため磁気ギ
ャップデプス値設定時において、磁気ギャップデプス値
の確認および測定を直視により行うことができないとい
う問題があった。

本発明の課題は、上述した問題点を解決し、磁気ギヤツ
ブ深さなど保護板に覆われた不可視の素子主要部の寸法
ないし位置を容易に識別できるようにすることにある。

口課題を解決するための手段］ 以上の課題を解決するために本発明では、基体上に薄膜
形成工程により形成された素子の主要部の一部を覆って
保護板が設けられる薄膜磁気ヘッドにおいて、保護板か
ら露出した磁気ヘッド表面に前記主要部の所定部位の基
準位置を表示するマーカーを設ける構成を、また同薄膜
磁気ヘッドの製造方法においては、前記マーカーを前記
主要部の一部を薄膜形成する際に同一材料で形成する構
成をそれぞれ採用した。

［作用］ 以上の構成によれば、磁気ヘッド外部よりマーカーの位
置を基準として保護板により覆われた不可視の素子の主
要部の位置を確認できる。

口実施例コ 以下、図面に示す実施例に基づき、本発明の詳細な説明
する。以下に示す実施例においては、従来例Ｐｒｌ様の
薄膜磁気ヘッドを例示し、従来装置と同一ないし相当す
る部分には同一符号を用いその詳細な説明は省略する。

第１図において符号１で示すものは非磁性体材料からな
る基体である。基体１の上面には磁性体材料からなる下
部磁性層２が設けられている。

下部磁性１１２の上面には、コイル部５′　と入出力端
子部５″とからなる導電層５が設置されている。さらに
入出力端子部５″は不図示の磁気ヘッド駆動部に接続さ
れている。

下部磁性層２の上面には磁性体材料からなる上部磁性層
３が配置されている。上部磁性層３の一部は非磁性体材
料からなる磁気ギャップ層４を介して下部磁性層２上に
固定されている。

下部磁性層２の上面で、後述する保護板６に覆われない
位置にはマーカー７が設けられている。

マーカー７は磁気ギャップ層４の後端部から所定の距１
１ｉ１ｔＢだけ離れた位置に、摺動面９と平行なストラ
イブ状に形成されている。

下部磁性層２、上部磁性層３、磁気ギャップ層４、およ
び導電層５からなる素子部の上部には各部材を保護する
ための保護板６が設置されている。保護板６は非磁性体
材料で形成されており、接着剤などにより素子部上部に
接着されている。

図中符号Ａで示すものは磁気ギャップデプス値であり、
上述した各部材の組立終了後に摺動面９を研磨整形する
際、所定の長さに設定される。

以上のような薄膜磁気ヘッドでは、マーカー７は磁気ギ
ャップ層の後端部からＢだけ離れた距離に配置されてい
るから、直視（目視または光学的なセンサによる）によ
り測定したマーカー７から摺動面９までの距離（Ａ＋Ｂ
）から一定距１１１ｉＢを差し引くことにより、素子の
主要部が保護板６に覆われているにもかかわらずその加
工状態における磁気ギャップデプスＡを測定することが
できる。従フて、マーカー７を基準に摺動面研磨を行う
ことにより、容易に高精度な磁気ギャップデプス値の設
定、確認ができるという効果がある。

また、一般に磁気ヘッド組立工程において、磁気ヘッド
を多数個並列に並べた状態で磁気ヘッドの加工および整
形工程を施すことにより、能率的な磁気ヘッドの組立を
行うことができるが、この場合もマーカー７を用いるこ
とにより、作業位置決定や平行出し等の動作をより高精
度に行うことができるという効果がある。

第２図および第３図に異なる実施例を示す。

第２図および第３図において符号７′で示すものはマー
カーであり、第１図の装置のマーカー７に相当するもの
である。第２実施例においてマーカー７′は金属膜など
の高反射膜により図示のような矩形の内側にスリットを
有する形状に構成されている。その他の部分の構造は第
１実施例装置と同様である。

このような構成の磁気ヘッドではマーカーが高反射膜で
形成されているため、第１実施例装置の効果のほかに、
摺動面研磨などのマーカーを基準とする作業時において
、マーカーの確認性（目視あるいは光学センサを用いた
アライメント装置による）が向上するという効果がある
。さらにマーカーの確認性が向上するため、画像処理に
よるオートアライメント等の精度を大きく改善できる。

第１図、ないし第２図および第３図の構成において、マ
ーカー７．７′は、銅またはアルミニウム等からなる導
電層５を蒸着あるいはスパッタリング法により形成する
際に、導電層５と同一の材料で導電層５と同時に形成す
ることが考えられる。このような製造方法によれば、薄
膜磁気ヘッドの製造プロセスを変更あるいは増加させる
ことなくマーカーの形成が可能である。さらにマーカー
を導電層５と同時に同一材料で形成するため、導電層５
の任意の位置とマーカーとの距離の精度が向上するとい
う効果がある。

［発明の効果］ 以上から明らかなように、本発明によれば、基体上に薄
膜形成工程により形成された素子の主要部の一部を覆っ
て保護板が設けられる薄膜磁気ヘッドにおいて、保護板
から露出した磁気ヘッド表面に前記主要部の所定部位の
基準位置を表示するマーカーを設ける構成を、また同薄
膜磁気ヘッドの製造方法においては、前記マーカーを前
記主要部の一部を薄膜形成する際に同一材料で形成する
構成をそれぞれ採用しているので、磁気ヘッド外部より
マーカーの位置を基準として保護板により覆われた不可
視の素子の主要部の位置ないし寸法などを確認できる。

たとえば、前記マーカーにより磁気ギャップの終端部の
基準位置を表示するようにすれば、摺動面研削の際など
に磁気ギャップデプス値の確認および測定が容易になり
、ギャップデプスの管理が非常に容易になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を採用した薄膜磁気ヘッドの斜視図、第
２図および第３図は本発明を採用した薄膜磁気ヘッドの
第２実施例装置の斜視図および上面図、第４図は従来の
薄膜磁気ヘッドの斜視図である。 １・・・基体　　　　　　２・・・下部磁性層３・・・
上部磁性層　　　４・・・磁気ギャップ層５・・・導電
層　　　　　６・・・保護板７・・・マーカー　　　　
９・・・摺動面６＃１板 Ｊ’Ｒｔ６ｔＡへ−ｚＦ’ｎｔｆＫ］Ｉｅ第３図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）基体上に薄膜形成工程により形成された素子の主要
   部の一部を覆つて保護板が設けられる薄膜磁気ヘッドに
   おいて、保護板から露出した薄膜磁気ヘッド表面に前記
   主要部の所定部位の基準位置を表示するマーカーを設け
   たことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 ２）前記マーカーが前記素子の主要部に含まれる磁気ギ
   ャップの深さの基準位置を表示することを特徴とする請
   求項第１項に記載の薄膜磁気ヘッド。 ３）基体上に薄膜形成工程により形成された素子の主要
   部の一部を覆って保護板が設けられる薄膜磁気ヘッドの
   製造方法において、保護板から露出した磁気ヘッド表面
   に前記主要部の所定部位の基準位置を表示するマーカー
   を前記主要部の一部を薄膜形成する際に同一材料で形成
   することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。