JPH041906A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビデオテープレコーダ（Ｖ’ｌ’Ｒ）などに
用いられる薄膜磁気ヘッドに係り、特に、ヘッドチップ
をヘッドベースなどに高精度に取付けるのに好適な薄膜
磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術〕

Ｖ’Ｉ’Ｒ用磁気ヘッドは、従来のバルク型磁気コアを
用いて、これを突合せて作動ギャップを形成する１式が
用いられてきた。しかし、近年、ｖ！Ｈの記録／再生特
性の高性能化等の要求により、バルクタイプ磁気ヘッド
に代って、基板上にフォトリソ技術を用−て磁気コア、
薄膜コイル等を形成した薄膜磁気ヘッドが用いられつつ
ある。従来よシ薄膜磁気ヘッドは、第４図に示すように
、基板１の上に下部磁性層３、ギャップ用非磁性膜５、
コイル絶縁材６、コイル９、上部磁性層７、保諌膜８、
が積層された構造となっている。一般に、薄膜磁気ヘッ
ドはヘッド素子を基板上に多数個形成し、そのヘッド素
子を所定の形状に機械加工で切断、切削等を行い個々の
ヘッドチップとして用いている。第５図は特開昭６３−
４７１９号公報に記載されている薄膜磁気ヘッドを示し
たものでテープ摺動面は安定な当接を得るためチップ厚
ｔよりも薄くなるよう幅Ｗに切削加工されている。

この種薄膜磁気ヘッドはフォトリソ技術により磁気コア
の極小化ならび薄膜コイルの巻回半径が小さくできるた
め外部信号妨害を受けにくいという優れた利点をもって
いる。

ま几、磁気ヘッドのギャップ深さ（第４図のＧｄで示す
）も特開昭６２−２１９２１５号公報に記載されている
研摩量検出パターンを容易に精度よく設けることができ
る九めに研摩加工でギャップ深さ（Ｇｄ）を精度良く制
御することができ特性ばらつきの少い磁気ヘッドが得ら
れる。この種の研摩装置の例として特開昭６５−１４０
４１０号公報が挙げられる。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、従来技術の研摩量検出パターンは、ギャップ
深さ（Ｇｄ）に対応してそのパターン幅が変化する形状
に研摩面であるテープ摺動面の磁気ギャップ近傍に形成
されている。ギャップ深さの制御は、たとえば、特開昭
６５−１４０４１０号公報に記載されているような研摩
装置を用いて、テープ摺動面を研摩しながらパターン幅
を測定することによ）行なわれる。しかし、従来の技術
は第５図に示したテープ摺動面の幅Ｗについては何等考
慮がなされていなかった。すなわち、幅Ｗが狭くなると
テープ摺動面に露出している検出パターンも切削加工さ
れるため、ギャップ深さの測定ができなくなる。これを
防ぐためには検出パターンを磁気ギャップにほぼ隣接す
る位置まで配置すればよいが、この場合も、テープ摺動
面の幅Ｗは少くとも検出パターンの幅が測定できる幅ま
でしか狭くできないという問題があった。

暢Ｗは磁気ヘッドを用いるシステムによって良好なテー
プの当接が得られるように数十＃ｍ〜約５００Ｊｍの範
囲で規制されるが、特に、１００μｍ以下のテープ摺動
面幅の場合に、従来技術のパターンではギャップデプス
の測定かできなくなるという問題があった。

本発明の目的は、テープ摺動面幅を狭くしてもギャップ
深さ検出パターンにより高精度にギャップ深さが測定で
きる薄膜磁気ヘッドを提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明は基板上に磁気コア
、絶縁層、薄膜コイル、保護膜などを所定の形状に積層
形成した薄膜磁気ヘッドにおいて、テープ摺動面の上部
磁気コア上の保護膜部位に、ギャップデプス検出パター
ンを７オトリソ技術で設ける。

〔作用〕

上記した検出パターンは、薄膜磁気ヘッドの製造工程時
に７オトリソ技術によって形成され、その形状、位置精
度は良好なものとなっている。そして、テープ摺動幅加
工を行っても検出パターンを切断することのないテープ
摺動面の保ｉａ膜部位に位置しているため、摺動幅の狭
いヘッドでも高精度のギャップデプスを得ることができ
る。よって、性能ばらつきの少い薄膜磁気ヘッドを得る
ことができる。

〔実施例〕

以下、本発明を第１図と第２図に示した実施例によって
説明する。第１図は本発明の磁気ヘッドのテープ摺動面
から見た平面図である。

第１図において１は基板、５は下部コア、５は磁気ギャ
ップ、６は絶縁層、７は上部コア、８Ａ。

８Ｂは保護膜であり、ギャップ深さ検出マーカ９は磁気
ヘッドのギャップ深さとそのパターン幅ｔが対応する形
状にパターニングし、さらに、上部コア７上゛の保護膜
８Ａ　、８Ｂ内のテープ摺動面にその断面が露呈してお
シ、テープ摺動面側からそのパターン幅ｔが測定できる
ようになっている。

また、その位置はテープ摺動面の幅方向のほぼ中心に位
置している。

このような位置にギャップ深さ検出パターン９を配置す
ることにより、テープ摺動幅Ｗを小さくしてもギャップ
深さを測定することができる。また、検出パターンはフ
ォトリソ技術で形成するために１μｍ以内のパターン形
状精度が容易に得られるため高精度にギャップ深さを測
定することができる。

次に、薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する。

まず、基板１の母材となる基板母材１２（第２図）上に
、イオンミリングによって、下部磁気コア３を埋込むた
めの溝２を所定部位に多数個形成し、その後、ダイサ加
工によって構２に所定幅のコアフロント部形成予定部位
等を切削加工する。次にＣ，−Ｎ、　−Ｚ、系の非晶質
合金膜を溝２が埋まるまでスパッタリング等の手法で全
面に成膜形成しく例えば、膜厚２０〜６０ｓｒｓ程度）
、機械研摩による平坦化処理を施こした後、イオンミリ
ングにより所定の形状に整形して下部磁気コア３を形成
する。次に絶縁層（下部磁気コア埋込み絶縁層）４が５
ｉ０２　ｌＡｔ２０Ｂ　ｌＭｇＯ−８ｉＯｚ等の絶縁材
料をスパッタリング等で成膜することによって形成され
、これを機械研摩によって平坦化処理し、下部磁気コア
６の表面を露呈・平坦化する。

この後、第１のギアツブ深さ検出パターン１４をスパッ
タリング等の薄膜形成技術と７オトリソ技術によってた
とえばＣｒ等の非磁性材で形成する。

この後、所定のギャップ長を確保するため、　５ｉｏ２
＋Ａ４２０ｓ、或いは、Ｃｒ等の非磁性材によって、ギ
ャップ規制膜５を所定部分（下部磁気コア５のフロント
部分）に、例えば、膜厚Ｉ１５ｘｍ程度に形成する。次
に、薄膜コイル１０を、例えば、Ｃｕ膜等でバターニン
グすると共に、絶縁層６を形成して薄膜コイル１０と磁
気コアとの電気的絶縁を確保する。

次に、絶縁層６の所定部位をエツチングによりて除去し
た後、下部磁気コア３と同一磁性材料をスパッタリング
等で成膜した後、イオンミリングによって所定形状に成
形して上部磁気コア７ｔ−作成する。その後、磁気テー
プと摺接性が良効な、例えば、ＭｇＯ−８ｉ０２系セラ
ミツクよシなる第一の保護膜８人を形成しく例えば、膜
厚１ｏ〜６゜’ｍＬ　これを機械研摩によって平坦化し
た後、はぼフロントギャップ部の上部担当部分に第二の
ギャップ深さ検出パターン９を第一のギャップ深さ検出
パターンと同様にしてスパッタリング等の薄膜形成技術
と７オ）　ＩＪソ技術によって、例えば、Ｃｒ膜等で形
成する。ここで第二のギャップ深さ検出パターンは第一
のパターン程ギャップデプス＝０の位置に精度良く位置
を合せる必要はなく、少くとも、ギャップデプス−〇の
場合でも、そのパターン幅が測定できる位置にあればよ
く、この場合、後述する摺動幅加工前Ｉ／ｃ第−、第二
のパターン幅の差を測定しておけばよい、さらに、パタ
ーン形状も第一のギャップ深さ検出パターンと同じ形状
が望ましいが、パターン形状を変えても本特許は有効で
あシ、要はギャップデプスの変化に対応してパターン幅
が変化する形状であればよい。

次に、第一の保護膜と同一の材料で第二の保護膜８Ｂを
形成し、第二のギャップ深さ検出パターンを間にはさん
だ構造とする。その後、保＃に膜８Ａ。

８Ｂ、絶縁層６′ｔ−選択的にエツチングして、薄膜コ
イルと同時に形成されたポンディングパッド１１１−ｉ
呈させ、第２図に示したように一つの基板母材１２上に
多数の薄膜ヘッド素子を形成したウェハが得られること
になる。次に、ヘッド素子をウェハから機械加工で切断
、切削し個々の磁気ヘッドとする。この時の摺動幅加工
で、第一のギャップ深さ検出パターンが加工されても第
二のパターンで高精度にギャップ深さを測定できる。

本実施例では第一の保護膜と第二の保護膜を同一の材料
としたが異る材料で構成した場合も本発明は有効である
。第３図は本発明の第二の実施例に係る磁気ヘッドのテ
ープ摺動面から見た平面図であ夛、テープ摺動面に切シ
欠き溝１３を設け、ヘッドトラック＠Ｔ、を規制してい
る。この場合も第一の実施例に示したように、上部磁気
コア７上の保護膜部８Ａにギヤツブ検出ｉ−力９を設け
た構造となっておシ、これにょル高精度のギャップ深さ
を測定することができる。なお、切り欠き溝１３＃Ｃ，
たとえば、保護膜８Ａ　、８Ｂと同一の材料、もしくは
、ガラス等の非磁性材を充填しても何らさしつかえない
。

〔発明の効果〕

不発８ＡＫよれば、薄膜磁気ヘッドのテープ摺動幅を小
さくしてもギャップ深さの測定が可能であシ、また、ギ
ャップ深さ検出１−力はフォトリソ技術で極めて精度よ
く形成できこれにより高精度のギャップ深さをもつ薄膜
磁気ヘッドを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の薄膜磁気ヘッドのテープ摺
動面から見た平面図、第２図はヘッドチツブの製造工程
の説明図、第３図は本発明の他の実施例の薄膜磁気ヘッ
ドのテープ摺動面の平面図、第４図は第５図のＡ−Ａ線
に沿う要部断面図、第５図はヘッドチップのヘッド素子
形成面の平面図である。 符号の説明 １・・・・・・基板、　　５．７・・・・・・磁気コア
、　　５・・・・・・磁気ギャップ、　　４．６・・・
・・・絶縁層、　　８Ａ、８Ｂ・・・・・・保護膜、　
　９・・・・・・ギャップ深さ検出マーカ、１０・・・
・・・薄膜コイル。 オ失邸マーカ ２図 ４１￥１ η１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に磁気コア、絶縁層、薄膜コイル、保護膜を
   所定の形状に積層形成し、テープが摺動するヘッド摺動
   面を所定幅に機械加工した薄膜磁気ヘッドにおいて、 前記ヘッド摺動面の前記保護膜内に平面で見てその断面
   が磁気ギャップとほぼ平行する位置に露呈するギャップ
   深さ検出マーカを設けたことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
   ド。