JPH02138493A - めっき密着性及び耐食性にすぐれたNi,Co,及びNi−Co合金めっきCr含有鋼板の製造法 - Google Patents
めっき密着性及び耐食性にすぐれたNi,Co,及びNi−Co合金めっきCr含有鋼板の製造法Info
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- JPH02138493A JPH02138493A JP29216188A JP29216188A JPH02138493A JP H02138493 A JPH02138493 A JP H02138493A JP 29216188 A JP29216188 A JP 29216188A JP 29216188 A JP29216188 A JP 29216188A JP H02138493 A JPH02138493 A JP H02138493A
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
- C25D5/36—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of iron or steel
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、めっき層の密着性及び耐食性にすぐれたNi
、Go、Ni−Co合金めつきCr含有鋼板の製造法に
関するものである。
、Go、Ni−Co合金めつきCr含有鋼板の製造法に
関するものである。
(従来の技術)
Crを含有する鋼板のめつき原板に旧糸の下地被覆層そ
の上にSnめつ籾層を施した鋼板が耐食性能をはじめ各
種性能にすぐれためフき鋼板として、例えば特開昭6i
−6293号公報、特開昭62−30896号公報等で
知られている。しかしながら、これらのめつき鋼板を安
定しで製造する方法について充分に検討されていない、
したがって、工業的生産においてその性能が充分に安定
して得られる保証はなかった。特に、これらの製品を曲
げ加工した場合、Cr含有鋼板表面とN1めっき層の界
面でしばしば剥離する現象があつた。
の上にSnめつ籾層を施した鋼板が耐食性能をはじめ各
種性能にすぐれためフき鋼板として、例えば特開昭6i
−6293号公報、特開昭62−30896号公報等で
知られている。しかしながら、これらのめつき鋼板を安
定しで製造する方法について充分に検討されていない、
したがって、工業的生産においてその性能が充分に安定
して得られる保証はなかった。特に、これらの製品を曲
げ加工した場合、Cr含有鋼板表面とN1めっき層の界
面でしばしば剥離する現象があつた。
また、Cr含有めっき原板に金属被覆層を施す方法に、
例えばステンレス鋼便覧(昭和51年日刊工業新聞社列
)、特開昭60−131996号公報がある。
例えばステンレス鋼便覧(昭和51年日刊工業新聞社列
)、特開昭60−131996号公報がある。
ステンレス鋼便覧は、 Cr含有ステンレス鋼とめっき
金属の密着性を向上する方法としてC「含有鋼を濃厚混
酸で溶解処理或いは塩酸、硫酸等の溶液中で陰極電解処
理して、表面被膜を除去した後、Niストライクめっき
する方法である。
金属の密着性を向上する方法としてC「含有鋼を濃厚混
酸で溶解処理或いは塩酸、硫酸等の溶液中で陰極電解処
理して、表面被膜を除去した後、Niストライクめっき
する方法である。
Niストライクめっき方法は、例えば、NiC,Q2:
2/10g/又とHC文 :80〜120 gelのめ
つきン谷中で電ン克密度2〜20 A/dm” 、電解
時間2〜4分の陰極電解処理を行なうもので、厚さ40
00Å以上、(通常は1μ程度)のNiめっきが施され
る。また、特開昭60−131996号公報は、C「含
有ステンレス鋼表面と金属め−)き1(Pd、^g、C
u、 Sn等)との中間層として、50g/交以上の遊
離塩酸を含む旧めっき浴中で脱脂後のCr含有鋼板を陰
極にして0゜5^/dm”以上の電流密度で陰極電解処
理を行ない、厚さ300 N1200人(0,03〜0
.12μ)のNiめっき層を施す方法である。
2/10g/又とHC文 :80〜120 gelのめ
つきン谷中で電ン克密度2〜20 A/dm” 、電解
時間2〜4分の陰極電解処理を行なうもので、厚さ40
00Å以上、(通常は1μ程度)のNiめっきが施され
る。また、特開昭60−131996号公報は、C「含
有ステンレス鋼表面と金属め−)き1(Pd、^g、C
u、 Sn等)との中間層として、50g/交以上の遊
離塩酸を含む旧めっき浴中で脱脂後のCr含有鋼板を陰
極にして0゜5^/dm”以上の電流密度で陰極電解処
理を行ない、厚さ300 N1200人(0,03〜0
.12μ)のNiめっき層を施す方法である。
これらの方法は、いずれも遊離塩酸が多量に含有したN
iめつき浴を使用するため、電解条件によっては塩素ガ
スを発生して作業環境を劣化し、また使用されるめっき
原板のCr含有量が少ない場合はめっき浴により原板が
孔食され、耐食性を劣化する問題があった。
iめつき浴を使用するため、電解条件によっては塩素ガ
スを発生して作業環境を劣化し、また使用されるめっき
原板のCr含有量が少ない場合はめっき浴により原板が
孔食され、耐食性を劣化する問題があった。
特に、ストライクニッケルめっき法は、Niめっき層が
硬質で加工等によって割れ易いため、耐食性を劣化する
問題がある。また酸洗前処理で活性化処理した後めっき
までの過程で再酸化され生成された不働態化被膜(酸化
II! )が、N1めっき浴中で除去されないままめフ
きされるため、めっき密着性不良を起す問題があった。
硬質で加工等によって割れ易いため、耐食性を劣化する
問題がある。また酸洗前処理で活性化処理した後めっき
までの過程で再酸化され生成された不働態化被膜(酸化
II! )が、N1めっき浴中で除去されないままめフ
きされるため、めっき密着性不良を起す問題があった。
この中でも特開昭60−13996号公帳の方法は、遊
I!lI!塩酸を含有する旧めっき洛中で、ステンレス
鋼表面の不働態化被膜を除去し、活性化し同時にNlの
析出を行なうため、Niめっき層に費いやす電解効率が
極めて低く、めっき層の厚い被膜を得るのに不利である
。また、めっき原板の表面は活性化され易い部分から、
Niめっき金属が順次に重畳して析出するため、N1め
っぎ層の均一被覆性が劣り、ピンホールの発生量も多く
、−様に良好な耐食性が得られない問題があった。
I!lI!塩酸を含有する旧めっき洛中で、ステンレス
鋼表面の不働態化被膜を除去し、活性化し同時にNlの
析出を行なうため、Niめっき層に費いやす電解効率が
極めて低く、めっき層の厚い被膜を得るのに不利である
。また、めっき原板の表面は活性化され易い部分から、
Niめっき金属が順次に重畳して析出するため、N1め
っぎ層の均一被覆性が劣り、ピンホールの発生量も多く
、−様に良好な耐食性が得られない問題があった。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、Crを必須成分として含有する鋼板のNiめ
っき、Coめっき、あるいはN1−Co合金めっき鋼板
の製造において、鋼板表面からもNi等のめっき層が剥
離し難く、Ni等の電解析出効率が高く、めフき層の均
一被覆性と耐食性のすぐれた旧、Go、Ni−Co合金
めっき鋼板の製造方法を提供する事を目的としたもので
ある。
っき、Coめっき、あるいはN1−Co合金めっき鋼板
の製造において、鋼板表面からもNi等のめっき層が剥
離し難く、Ni等の電解析出効率が高く、めフき層の均
一被覆性と耐食性のすぐれた旧、Go、Ni−Co合金
めっき鋼板の製造方法を提供する事を目的としたもので
ある。
(課題を解決するための手段)
本発明の要旨は、2.5〜25%のCrを含有する鋼板
を、金属イオンのNl”、Coz+の1種又は2種が、
全504’−イオン濃度に対する重量比率〜350 g
elを含有する水溶液中で、7.5^/da’以上の電
流密度で1〜15秒間の陰極電解処理を施し、次いでN
l”、Co”の1種又は2種の金属イオンが、 504
’−イオンと6文−イオンの総和に対する重量比率で5
0%以上を含有し、かつpH3,0以下のめっき浴で陰
極電解処理するめフき密着性及び耐食性にすぐれたNi
、Go及びNi−Co合金めっきC「含有鋼板の製造法
である。
を、金属イオンのNl”、Coz+の1種又は2種が、
全504’−イオン濃度に対する重量比率〜350 g
elを含有する水溶液中で、7.5^/da’以上の電
流密度で1〜15秒間の陰極電解処理を施し、次いでN
l”、Co”の1種又は2種の金属イオンが、 504
’−イオンと6文−イオンの総和に対する重量比率で5
0%以上を含有し、かつpH3,0以下のめっき浴で陰
極電解処理するめフき密着性及び耐食性にすぐれたNi
、Go及びNi−Co合金めっきC「含有鋼板の製造法
である。
本発明の要旨において、C「含有鋼板の不働態化被膜を
効率的に除去し活性化する工程において、処理に曝され
ている間にめっき原板の穿孔腐食を防止するために、遊
離塩酸、遊離CI−イオンを含有しない酸洗浴を使用す
る。
効率的に除去し活性化する工程において、処理に曝され
ている間にめっき原板の穿孔腐食を防止するために、遊
離塩酸、遊離CI−イオンを含有しない酸洗浴を使用す
る。
すなわち、遊離硫酸を主成分として、これに硫酸塩の形
態でNr、2+、CO2*イオンの1種又は2種を含有
せしめた処理浴で陰極電解処理する。
態でNr、2+、CO2*イオンの1種又は2種を含有
せしめた処理浴で陰極電解処理する。
処理浴に含有する金属イオン量と電解処理条件を選定す
る事により、効率的な鋼板表面の酸化膜の除去と活性化
を計り、同時に微量の金属イオンを析出する。
る事により、効率的な鋼板表面の酸化膜の除去と活性化
を計り、同時に微量の金属イオンを析出する。
本方法で、鋼板表面に生成される不働態化被膜の厚さ、
クランクの生成度合等は、鋼板の表面性状によりて相違
する。酸化膜は除去され易い部分から剥離され活性化し
、金属イオンが析出し、次いで、活性化されにくい部分
に電流が集中して酸化膜を除去し活性化し、金属イオン
が析出する。
クランクの生成度合等は、鋼板の表面性状によりて相違
する。酸化膜は除去され易い部分から剥離され活性化し
、金属イオンが析出し、次いで、活性化されにくい部分
に電流が集中して酸化膜を除去し活性化し、金属イオン
が析出する。
このような作用が順次繰り返されて、鋼板表面にめっき
が施される。また、早期に金属イオンが析出された部分
は、さらに重畳して金属イオンが析出し堆積される。
が施される。また、早期に金属イオンが析出された部分
は、さらに重畳して金属イオンが析出し堆積される。
また、洛中の5042−イオン濃度に比して金属イオン
量を少なく含有せしめ短い処理時間と電解電流密度の適
正化を計れば、鋼表面の活性化と微量の金属を析出する
事ができる。この金属析出物は、Ni、Go、Ni−C
o合金等の耐酸化性にすぐれた金属が選定されているた
め、次の金属めっき処理までの間の不働態化被膜の再生
成を極力防止することができる。
量を少なく含有せしめ短い処理時間と電解電流密度の適
正化を計れば、鋼表面の活性化と微量の金属を析出する
事ができる。この金属析出物は、Ni、Go、Ni−C
o合金等の耐酸化性にすぐれた金属が選定されているた
め、次の金属めっき処理までの間の不働態化被膜の再生
成を極力防止することができる。
しかし、このままではNi等のめっき層の析出状態が前
記の如く異なり、めっと厚さも薄いので、均一被覆性に
劣り、ピンホールも多く良好な耐食性も得られない。従
って、本発明では、均一被覆性にすぐれ、ピンホールの
発生が少なく、耐食性と密着性にすぐれたNi等のめフ
き層は次の様な金属めっき浴で得られる。
記の如く異なり、めっと厚さも薄いので、均一被覆性に
劣り、ピンホールも多く良好な耐食性も得られない。従
って、本発明では、均一被覆性にすぐれ、ピンホールの
発生が少なく、耐食性と密着性にすぐれたNi等のめフ
き層は次の様な金属めっき浴で得られる。
すなわち、金属イオンは、めっき洛中に含まれる5Oa
−”イオン及びC4−イオンの50%以上を含有せしめ
、pHが3.0以下のめつぎ浴で陰極電解処理される。
−”イオン及びC4−イオンの50%以上を含有せしめ
、pHが3.0以下のめつぎ浴で陰極電解処理される。
このめっき浴は金属イオンを多量に含有するため、金属
イオンの電解析出効率が高く、均一被覆性にすぐれてい
る。さらに、めっき浴のpHを3.0以下の低pHに維
持する事によって、前処理からめつと工程までの間で不
働態被膜が再生成されても、めっき浴中で除去され、活
性化される。
イオンの電解析出効率が高く、均一被覆性にすぐれてい
る。さらに、めっき浴のpHを3.0以下の低pHに維
持する事によって、前処理からめつと工程までの間で不
働態被膜が再生成されても、めっき浴中で除去され、活
性化される。
また、本発明のめっ@浴には、遊1111(4−イオン
が含有されておらず、全C2−イオン濃度も低濃度に規
制されているため、電解m理工程あるいは電解処理後水
洗までの間にめっき浴に曝される事によって、遊離のC
1−イオンによるNi等のめりぎ層の溶解、特にめっき
層のピンホール等が発生し易い部分でのめ7き層の溶解
あるいはめつぎ原板の穿孔腐食等が防止される。
が含有されておらず、全C2−イオン濃度も低濃度に規
制されているため、電解m理工程あるいは電解処理後水
洗までの間にめっき浴に曝される事によって、遊離のC
1−イオンによるNi等のめりぎ層の溶解、特にめっき
層のピンホール等が発生し易い部分でのめ7き層の溶解
あるいはめつぎ原板の穿孔腐食等が防止される。
さらに、本発明では、Ni等のめつぎ層被覆処理は、原
板表面の活性化処理と金属析出を同時に行なってめっき
層を設ける前記の公知技術に比較して、被覆処置を別工
程で行なうため所定厚さのめっき層が均一に得られる利
点がある。
板表面の活性化処理と金属析出を同時に行なってめっき
層を設ける前記の公知技術に比較して、被覆処置を別工
程で行なうため所定厚さのめっき層が均一に得られる利
点がある。
以上の様に、本発明の方法による処理浴組成、処理条件
、処理工程でCr含有鋼板にNi、Co。
、処理工程でCr含有鋼板にNi、Co。
Ni−Co合金のめっき処理を行なう事によって、めっ
き原板の効率的な活性化処理と同時に微量めっき金属の
析出によってめっき工程までの不@態被膜の生成を防止
し、均一厚さのめっき層が得られる。この結果、めっき
密着性及び耐食性のすぐれため)き層が得られる。
き原板の効率的な活性化処理と同時に微量めっき金属の
析出によってめっき工程までの不@態被膜の生成を防止
し、均一厚さのめっき層が得られる。この結果、めっき
密着性及び耐食性のすぐれため)き層が得られる。
[作 用]
さらに本発明について詳細に説明する6本発明において
は、転炉、電炉等の溶解炉で溶製された溶鋼を連続鋳造
法または造塊、分塊法を経てスラブとし、熱間圧延、酸
洗及び冷間圧延、焼鈍工程を経て製造された鋼中にC「
を必須成分として、2.5〜25%含有する鋼板を使用
する。
は、転炉、電炉等の溶解炉で溶製された溶鋼を連続鋳造
法または造塊、分塊法を経てスラブとし、熱間圧延、酸
洗及び冷間圧延、焼鈍工程を経て製造された鋼中にC「
を必須成分として、2.5〜25%含有する鋼板を使用
する。
本発明においC1めっき原板のC「含有量を規制する理
由は、Cr含有量が25%を越えて含有する場合、その
鋼表面の不動態被膜を、so、’−イオンと金属イオン
(Ni”、Go”の1種又は2種 )からなる処理浴を
用いて、1〜15秒間の陰極電解処理で除去し、活性化
することは困難である。従って、密着性と均一被覆性、
耐食性にすぐれた金属めっき層を得ることは困難である
。また、めっき原板のCr含有量が2.5%未満の場合
、本発明のような処理によらなくても、表面の活性化処
理が容易に行なわれ、またNi等の金属めっき層を、均
一被覆性、あるいは密着性にすぐれためっき層として設
ける事ができる。しかしながら、電気めっき法により如
何に細心の注意を払っても、掻く微量といえども不可避
的にピンホールを生成する。従フて、めっき原板のCr
含有量が2.5%未満では、腐食雰囲気におけるN1等
のめっき層と原板との電位差が極めて大きいため、ピン
ホールあるいは加工時等における地鉄に達する疵の発生
部から赤錆や、穿孔腐食を発生しめつき鋼板の耐食性を
劣化する。
由は、Cr含有量が25%を越えて含有する場合、その
鋼表面の不動態被膜を、so、’−イオンと金属イオン
(Ni”、Go”の1種又は2種 )からなる処理浴を
用いて、1〜15秒間の陰極電解処理で除去し、活性化
することは困難である。従って、密着性と均一被覆性、
耐食性にすぐれた金属めっき層を得ることは困難である
。また、めっき原板のCr含有量が2.5%未満の場合
、本発明のような処理によらなくても、表面の活性化処
理が容易に行なわれ、またNi等の金属めっき層を、均
一被覆性、あるいは密着性にすぐれためっき層として設
ける事ができる。しかしながら、電気めっき法により如
何に細心の注意を払っても、掻く微量といえども不可避
的にピンホールを生成する。従フて、めっき原板のCr
含有量が2.5%未満では、腐食雰囲気におけるN1等
のめっき層と原板との電位差が極めて大きいため、ピン
ホールあるいは加工時等における地鉄に達する疵の発生
部から赤錆や、穿孔腐食を発生しめつき鋼板の耐食性を
劣化する。
従って、本発明においてCr含有量は、めっき原板の必
須成分として2.5〜25%、好ましくは5〜20%で
ある。
須成分として2.5〜25%、好ましくは5〜20%で
ある。
而して、本発明では、めっき原板として、以下の様な鋼
板を使用するのがよい。
板を使用するのがよい。
例えば、
■ 重量%で、C,0,20%以下、酸可溶^文;0.
005〜0.10%、Cr;2.5〜25%、残部Fe
及び不可避的不純物(Sl、P、S、Mn等)からなる
鋼板。
005〜0.10%、Cr;2.5〜25%、残部Fe
及び不可避的不純物(Sl、P、S、Mn等)からなる
鋼板。
■ 上記■の組成の鋼に添加元素として、N1(0,0
5〜l096)、Cu(0,05〜1零)、Mo(0,
05〜19g)、Sj (0,2〜1〜)、P(0,0
2〜0.05’J)、A交(0,1〜5%)、B (0
,0001〜0.005%)のt fm又は2種以上を
含有する鋼板。
5〜l096)、Cu(0,05〜1零)、Mo(0,
05〜19g)、Sj (0,2〜1〜)、P(0,0
2〜0.05’J)、A交(0,1〜5%)、B (0
,0001〜0.005%)のt fm又は2種以上を
含有する鋼板。
■ 重量%で、C:0.02%以下、酸可溶A又;o、
oos〜0.10%、Cr;2.5〜25%を含有し、
さらにTI(0,01〜0.8!k)、Nb(0,01
〜0.8kl、V(0,01〜0.8幻、Zr(0,0
1〜0.8%+) (1) 1種又は2種以上を含有し
、残部Fe及び不可避的不純物からなる鋼板。
oos〜0.10%、Cr;2.5〜25%を含有し、
さらにTI(0,01〜0.8!k)、Nb(0,01
〜0.8kl、V(0,01〜0.8幻、Zr(0,0
1〜0.8%+) (1) 1種又は2種以上を含有し
、残部Fe及び不可避的不純物からなる鋼板。
■ 上記■の4戊の鋼に添加元素として、N1(0,0
5〜lo%F)、Cu(0,05〜1%)、Mo(0,
05〜1零)、5i(0,2〜l96)、P(0,02
〜0.05杓、A文(0,1〜5t)、B(0,000
1〜0.005k)の1種又は2f!@以上を含有する
鋼板。
5〜lo%F)、Cu(0,05〜1%)、Mo(0,
05〜1零)、5i(0,2〜l96)、P(0,02
〜0.05杓、A文(0,1〜5t)、B(0,000
1〜0.005k)の1種又は2f!@以上を含有する
鋼板。
このようなめつき原板は通常の冷延製造工程を経て製造
されるが、さらに脱脂処理(オルケイ酸ソーダあるいは
、リン酸ソーダ等に界面活性剤を添加した溶液中での電
解処理等)された後、本発明に適用される。
されるが、さらに脱脂処理(オルケイ酸ソーダあるいは
、リン酸ソーダ等に界面活性剤を添加した溶液中での電
解処理等)された後、本発明に適用される。
先ず、これらの鋼板に対して、金属イオンとしてNi”
、Go”の1f重又は21重を5042−イオt1mI
l硫酸75〜350 g、Qからなる水溶液中で、7.
5^/dta”以上の電流密度で、1〜15秒間の陰極
電解処理が施される。
、Go”の1f重又は21重を5042−イオt1mI
l硫酸75〜350 g、Qからなる水溶液中で、7.
5^/dta”以上の電流密度で、1〜15秒間の陰極
電解処理が施される。
すなわち、この処理は、Cr含有鋼板表面に生成されて
いる強固な酸化膜(不働態被膜)を除去する表面活性化
とNi、Co、N1−Go金合金析出処理を同時に行な
う。
いる強固な酸化膜(不働態被膜)を除去する表面活性化
とNi、Co、N1−Go金合金析出処理を同時に行な
う。
この処理浴には、上記の条件を満足する(硫酸−硫酸ニ
ッケル)、(硫酸−硫酸コバルト)、(硫酸−硫酸ニッ
ケルー硫酸コバルト)浴或いはこれらに電導性を増すた
めに硫酸ナトリウム等を加えた処理浴が使用される。
ッケル)、(硫酸−硫酸コバルト)、(硫酸−硫酸ニッ
ケルー硫酸コバルト)浴或いはこれらに電導性を増すた
めに硫酸ナトリウム等を加えた処理浴が使用される。
本発明の処理浴の遊離硫酸濃度が75g/1未満では、
原板表面の酸化膜を均一に除去、表面を活性化するのが
困難であり、またNi等の同時析出を充分に行なうこと
もできない。一方、遊離硫酸濃度が350 gelを越
える場合は、その効果が飽和すると共に、処理浴の持ち
出しによる経済的な損失が多くなり、また処理浴のミス
ト発生が多く、作業環境の劣化、処理装置の損耗が著し
い等工業的に不利になる。従って、本発明においては、
遊離硫酸濃度は75〜350g/i 、好ましくは10
0〜300 gelである。
原板表面の酸化膜を均一に除去、表面を活性化するのが
困難であり、またNi等の同時析出を充分に行なうこと
もできない。一方、遊離硫酸濃度が350 gelを越
える場合は、その効果が飽和すると共に、処理浴の持ち
出しによる経済的な損失が多くなり、また処理浴のミス
ト発生が多く、作業環境の劣化、処理装置の損耗が著し
い等工業的に不利になる。従って、本発明においては、
遊離硫酸濃度は75〜350g/i 、好ましくは10
0〜300 gelである。
この遊離硫酸に対して、本発明の処理浴では、硫酸ニッ
ケル等の硫酸塩の形態で、金属イオンすなわちNi”、
Co”あるいは(Ni”+ Co2″″)る。この金属
イオンが含有された処理浴を用いる事により、原板表面
の効率的な酸化膜の除去と密着性の良好なNl、Go等
の金属が微量同時析出する。すなわち、Cr含有鋼表面
の不働態化被膜は均一でなく、本処理浴中での陰極電解
処理によって、酸化膜の除去され易い部分から除去され
活性化され、この部分に洛中の金属イオンが先ず析出す
る0次いで、他の酸化膜の剥離されていない部分に電流
が集中されて酸化膜が除去され金属イオンが析出する。
ケル等の硫酸塩の形態で、金属イオンすなわちNi”、
Co”あるいは(Ni”+ Co2″″)る。この金属
イオンが含有された処理浴を用いる事により、原板表面
の効率的な酸化膜の除去と密着性の良好なNl、Go等
の金属が微量同時析出する。すなわち、Cr含有鋼表面
の不働態化被膜は均一でなく、本処理浴中での陰極電解
処理によって、酸化膜の除去され易い部分から除去され
活性化され、この部分に洛中の金属イオンが先ず析出す
る0次いで、他の酸化膜の剥離されていない部分に電流
が集中されて酸化膜が除去され金属イオンが析出する。
この様な反応が順次繰り返されて、強固な酸化膜が生成
されたC「含有鋼表面の活性化と密着性のすぐれたNi
等の金属が同時に析出する。
されたC「含有鋼表面の活性化と密着性のすぐれたNi
等の金属が同時に析出する。
また、この析出金属の効果によって、該処理後電気めっ
ぎまでの間に酸化膜の再生成が防止され、次工程のめっ
き密着性を向上する。
ぎまでの間に酸化膜の再生成が防止され、次工程のめっ
き密着性を向上する。
而して、Ni”、Co”、(8k”+Co”)の金属イ
オン濃度が、処理浴中の全SO42−イオン濃度に対し
て、−未満では金属イオン含有量が少な過ぎて酸化膜の
除去と金属イオンの同時析出が行なわれにくく、本発明
の目的が得られない。
オン濃度が、処理浴中の全SO42−イオン濃度に対し
て、−未満では金属イオン含有量が少な過ぎて酸化膜の
除去と金属イオンの同時析出が行なわれにくく、本発明
の目的が得られない。
また、金属イオン濃度が全504′−イオン濃度に対し
て、−を越える場合は、処理浴中の金属イオン含有量が
多過ぎるため、めっき原板の活性化されない表面に密着
性の劣るめっき層の析出或いは含有金属の水酸化物、酸
化物等を析出して密着性を劣化し本発明の目的が得られ
ない。
て、−を越える場合は、処理浴中の金属イオン含有量が
多過ぎるため、めっき原板の活性化されない表面に密着
性の劣るめっき層の析出或いは含有金属の水酸化物、酸
化物等を析出して密着性を劣化し本発明の目的が得られ
ない。
従って、本発明では、金属イオン濃度と全語処理浴によ
る陰極電解処理は、電流密度が7.5A/dm2以上、
処理時間が1〜15秒で行なう。
る陰極電解処理は、電流密度が7.5A/dm2以上、
処理時間が1〜15秒で行なう。
電流密度が鋼板1dIl+2当り7.5A/dm2未満
の場合は、短時間の処理で酸化膜除去と金属の同時析出
を行なうことが困難であり、本発明では7.5A/d+
a”以上、好ましくは! 0 A/d+s2以上の陰極
電流密度で処理される。
の場合は、短時間の処理で酸化膜除去と金属の同時析出
を行なうことが困難であり、本発明では7.5A/d+
a”以上、好ましくは! 0 A/d+s2以上の陰極
電流密度で処理される。
また、電流密度の上限は、特に規制されるものではない
が、°電流密度が高過ぎると、Cr含有鋼板は比抵抗が
高く、通板時の鋼板抵抗も高くなり、コンダクタ−ロー
ルと処理浴との間で板厚によっては鋼板が発熱し、鋼の
酸化が助長される。したがりて本発明では35^/dm
”以下の電流密度がよい。
が、°電流密度が高過ぎると、Cr含有鋼板は比抵抗が
高く、通板時の鋼板抵抗も高くなり、コンダクタ−ロー
ルと処理浴との間で板厚によっては鋼板が発熱し、鋼の
酸化が助長される。したがりて本発明では35^/dm
”以下の電流密度がよい。
その場合の処理時間については、1秒未満では、本発明
の酸化)摸除去による表面活性化と金属イオンの同時析
出を行なうのに充分でなく、また15秒を越える長時間
の陰極処理を行なう場合は、効果が飽和すると共に、部
分的に厚さの異なる金属めっき層が生成され、次いで行
なわれる金属めっきの厚さも不均一となる。
の酸化)摸除去による表面活性化と金属イオンの同時析
出を行なうのに充分でなく、また15秒を越える長時間
の陰極処理を行なう場合は、効果が飽和すると共に、部
分的に厚さの異なる金属めっき層が生成され、次いで行
なわれる金属めっきの厚さも不均一となる。
従って、本発明の処理時間はi〜15秒間、好ましくは
1.5〜7.5秒間の範囲で処理される。
1.5〜7.5秒間の範囲で処理される。
尚、処理浴温度については、特に規制されず、常温〜9
0℃の範囲で処理される。
0℃の範囲で処理される。
又、この処理に対する電極は、pb−5n t8i。
ステンレス電極、チタンに白金めっきした電極等の不溶
性電極或いはニッケル、コバルト等の可溶性電極のいず
れも使用しつる。しかし、工業的に安定して処理作業を
実施するためには。
性電極或いはニッケル、コバルト等の可溶性電極のいず
れも使用しつる。しかし、工業的に安定して処理作業を
実施するためには。
可溶性電極は電極からの電解金属イオンが蓄積されるた
め、浴中の金属イオンの前記比率を維持するのが困難で
ある。従りて、不溶性電極を使用して、処理による金属
イオンの減少割合に対応して、炭酸ニッケル等の炭酸塩
の形態で金属イオンを補給し、その含有比率を維持する
のが有利である。
め、浴中の金属イオンの前記比率を維持するのが困難で
ある。従りて、不溶性電極を使用して、処理による金属
イオンの減少割合に対応して、炭酸ニッケル等の炭酸塩
の形態で金属イオンを補給し、その含有比率を維持する
のが有利である。
遊離塩酸或いはC2−イオンは、処理装置の構成材料或
いは原板組成によってはめっき原板の穿孔腐食を発生す
る原因となるので好ましくないが、本発明の処理洛中に
不可避的不純物として含有される程度の量では特に影響
がない。
いは原板組成によってはめっき原板の穿孔腐食を発生す
る原因となるので好ましくないが、本発明の処理洛中に
不可避的不純物として含有される程度の量では特に影響
がない。
また、不純物元素として、処理洛中にFe’+イオンが
含有される場合、他のNl”、Go”イオンの析出を妨
げるので、その含有量は5 gIQ以下、好ましくは2
−5g/l以下である。
含有される場合、他のNl”、Go”イオンの析出を妨
げるので、その含有量は5 gIQ以下、好ましくは2
−5g/l以下である。
次いで、前記の処理で余剰の処理浴を払拭した後或いは
水洗した後、Niめフぎ、Goめっき或いはN1−Co
合金めっき処理を施す。
水洗した後、Niめフぎ、Goめっき或いはN1−Co
合金めっき処理を施す。
このめっき層が、密着性と均一被覆性にすぐれ、ピンホ
ールが少なく、耐食性にすぐれためっき被膜を得るため
、本発明では次のような金属めっき浴を使用する。
ールが少なく、耐食性にすぐれためっき被膜を得るため
、本発明では次のような金属めっき浴を使用する。
すなわち、金属イオンNl”、Co”、(Nf” +C
o”)を、めっき浴を構成し、かつ電解効率に関与する
(5042−+ CR−)イオンに対して、重量比率で
50%以上を含有し、pH3,0以下のめっき浴を用い
る。Ni”、Co”、(Ni+(:o”)の金属イオン
濃度がめフぎ浴を構成する全504′−イオンと全C9
−イオンの総量に対して、50%未満ではめつき金属の
電解析出効率と均一被覆性を劣化しピンホールが多発生
して、耐食性を劣化する。
o”)を、めっき浴を構成し、かつ電解効率に関与する
(5042−+ CR−)イオンに対して、重量比率で
50%以上を含有し、pH3,0以下のめっき浴を用い
る。Ni”、Co”、(Ni+(:o”)の金属イオン
濃度がめフぎ浴を構成する全504′−イオンと全C9
−イオンの総量に対して、50%未満ではめつき金属の
電解析出効率と均一被覆性を劣化しピンホールが多発生
して、耐食性を劣化する。
従フて、本発明では、金属イオンの含有比率は、50%
以上、好ましくは60%以上である。
以上、好ましくは60%以上である。
また、この金属イオンの含有比率の上限は、特に規制す
るものでないが、その含有比率が80%を越える場合は
、処理浴の持ち出しで経済的に好ましくない。
るものでないが、その含有比率が80%を越える場合は
、処理浴の持ち出しで経済的に好ましくない。
次に、めっき浴のpl(は3.0以下に規制されるが、
めっき浴のp)Iが3.0を越える場合、本発明の前処
理後めっ咎工程までの間のNi等の析出物表面の酸化或
いはこれら析出物のピンホール部でのめつき原板の再酸
化による酸化膜の除去が困難となり、めっき層の密着性
を劣化し、まためっき層の均一被覆性を劣化してピンホ
ール発生の原因となる。従って、本発明では、pH3,
0以下、好ましくはpH2,5以下のめっき浴を用いる
。また、めっぎ浴処理でボールアノニド電極或いは金属
板等の可溶性電極を使用した場合、Nl、Co、N1−
Co合金・電極を通電溶解するため、塩化ニッケル等の
金属塩化物の形態でC1−イオンが含有される。
めっき浴のp)Iが3.0を越える場合、本発明の前処
理後めっ咎工程までの間のNi等の析出物表面の酸化或
いはこれら析出物のピンホール部でのめつき原板の再酸
化による酸化膜の除去が困難となり、めっき層の密着性
を劣化し、まためっき層の均一被覆性を劣化してピンホ
ール発生の原因となる。従って、本発明では、pH3,
0以下、好ましくはpH2,5以下のめっき浴を用いる
。また、めっぎ浴処理でボールアノニド電極或いは金属
板等の可溶性電極を使用した場合、Nl、Co、N1−
Co合金・電極を通電溶解するため、塩化ニッケル等の
金属塩化物の形態でC1−イオンが含有される。
本発明においては、CU−イオンは15g/Ll以下の
濃度での使用が好ましく、また遊離B−イオンは不可避
的不純物として含有される微量の場合を除いて、含有さ
れないことが望ましい。
濃度での使用が好ましく、また遊離B−イオンは不可避
的不純物として含有される微量の場合を除いて、含有さ
れないことが望ましい。
この全C1−イオン濃度が15 gelを越える場合或
いは遊離塩酸の様な遊離は一イオンが含有される場合、
電解処理工程或いは電解処理後水洗までの間にめっ@浴
に曝される事によって、Niめっき層の部分的な溶解、
めっき層にピンホール等の欠陥部が存在する場合にこの
欠陥部のC2−イオン基因による拡大、或いは原板の穿
孔腐食の発生等、めっき層の均一被覆性、耐食性劣化の
原因となるので好ましくない。従って、本発明において
は、めっき浴中の全02−イオン濃度は15g/交以下
、好ましくは12.5g/fl以下である。又、めっき
浴には、電解時の鋼板表面のpHを調整するためのホウ
酸等の緩しよう剤を添加してもよい。
いは遊離塩酸の様な遊離は一イオンが含有される場合、
電解処理工程或いは電解処理後水洗までの間にめっ@浴
に曝される事によって、Niめっき層の部分的な溶解、
めっき層にピンホール等の欠陥部が存在する場合にこの
欠陥部のC2−イオン基因による拡大、或いは原板の穿
孔腐食の発生等、めっき層の均一被覆性、耐食性劣化の
原因となるので好ましくない。従って、本発明において
は、めっき浴中の全02−イオン濃度は15g/交以下
、好ましくは12.5g/fl以下である。又、めっき
浴には、電解時の鋼板表面のpHを調整するためのホウ
酸等の緩しよう剤を添加してもよい。
以上の如く、本発明の方法によるC「含有鋼板の表面酸
化膜除去による活性化と金属析出同時処理、低pH浴を
用いた金属めっき処理により、C「含有鋼板に対して、
めっき密着性、均−被覆性及び耐食性にすぐれたNiめ
っき、Goめっき、N1=Go合金めっき鋼板の製造が
可能である。
化膜除去による活性化と金属析出同時処理、低pH浴を
用いた金属めっき処理により、C「含有鋼板に対して、
めっき密着性、均−被覆性及び耐食性にすぐれたNiめ
っき、Goめっき、N1=Go合金めっき鋼板の製造が
可能である。
尚、本発明の旧等のめっき鋼板のめっき層厚さは、特に
規制されず、その通用用途、要求される耐食寿命等によ
って設定される。例えば、容器用素材等を対象とした場
合は、0.05〜0.15μ、自動車用排気系素材等を
対象とした場合は°0,5〜4μ、また他の金属めっき
の中間処理層として使用される場合は0.01〜0.2
μ厚さ等のめっき層が設けられる。さらに、本発明の製
品の更に一層の耐食性向上或いは塗装性能向上のための
クロメート処理等が施されてもよい。
規制されず、その通用用途、要求される耐食寿命等によ
って設定される。例えば、容器用素材等を対象とした場
合は、0.05〜0.15μ、自動車用排気系素材等を
対象とした場合は°0,5〜4μ、また他の金属めっき
の中間処理層として使用される場合は0.01〜0.2
μ厚さ等のめっき層が設けられる。さらに、本発明の製
品の更に一層の耐食性向上或いは塗装性能向上のための
クロメート処理等が施されてもよい。
(実 施 例)
実施例−A
冷間圧延、焼鈍、調質圧延後の第1表(その1)に示す
鋼成分の素材について、本発明の処理法により、各々所
定のめつき量を有するNi。
鋼成分の素材について、本発明の処理法により、各々所
定のめつき量を有するNi。
Co及びNi−Co合金めっき鋼板を製造した。
該評価材について、各々下記に示す評価法によるめっき
層の密着性試験と容器缶用途を想定した耐食性試験を実
施し、下記の評価基準により各々相対比較を行なった。
層の密着性試験と容器缶用途を想定した耐食性試験を実
施し、下記の評価基準により各々相対比較を行なった。
その結果を第1表(その2)に示す。
尚、評価試験方法及び評価基準を以下に示す。
評価試験方法及び評価基準
■ めっき層の密着性試験
嗜評価法■
めっき後の評価材について、曲率半径が板厚と同一の衝
撃曲げ試験を行ない、その後セロファンテープを貼布、
剥離して、めっ離層の剥離状況を調査した。尚、評価基
準は以下の方法によって行なった。
撃曲げ試験を行ない、その後セロファンテープを貼布、
剥離して、めっ離層の剥離状況を調査した。尚、評価基
準は以下の方法によって行なった。
◎・・・めっき層の剥離なく、セロファンテープへの剥
離物の付着なし。
離物の付着なし。
○・・・めっき層の表面から若干剥離し、セロファンテ
ープに掻く軽微な剥離物が付 着。
ープに掻く軽微な剥離物が付 着。
△・・・めっき層の鋼板界面からの部分的剥離が発生、
セロファンテープへの剥離物 の付着が明瞭に認められる。
セロファンテープへの剥離物 の付着が明瞭に認められる。
×・・・めっき層全面剥離。
・評価法■
板厚0.19mmの評価材にクロメート処理(Or付着
量5mg/II+2片面当り)を施し、エポキシ−フェ
ノール系塗料を4.5μ厚さ塗装後に、以下の工程で絞
り缶を成形加工した。すなわち、ブランク径172.5
nmφから、ワックスを潤滑剤として使用し、各々しわ
押え力2000kgで、3段階の絞り加工を行なって、
外径68.0mmφ、高さ100mmの絞り缶を製作し
た。
量5mg/II+2片面当り)を施し、エポキシ−フェ
ノール系塗料を4.5μ厚さ塗装後に、以下の工程で絞
り缶を成形加工した。すなわち、ブランク径172.5
nmφから、ワックスを潤滑剤として使用し、各々しわ
押え力2000kgで、3段階の絞り加工を行なって、
外径68.0mmφ、高さ100mmの絞り缶を製作し
た。
該評価材について、脱脂後セロファンテープな貼布、剥
離して、めっき層の剥離状況を調査した。尚、このめっ
き密着性の調査は、缶壁部外面の一部を切り出し、発煙
硝酸で塗膜を剥離してから巾t8mmx長さ50Ill
ffiのセロファンテープを貼布して評価し、また評価
基準は以下の方法によった。
離して、めっき層の剥離状況を調査した。尚、このめっ
き密着性の調査は、缶壁部外面の一部を切り出し、発煙
硝酸で塗膜を剥離してから巾t8mmx長さ50Ill
ffiのセロファンテープを貼布して評価し、また評価
基準は以下の方法によった。
◎・・・めっき層の剥離なく、セロファンテープへの剥
離物の付着なし。
離物の付着なし。
O・・・めフき層の表面から若干剥離し、セロファンテ
ープに剥離物が掻く軽微に11着。
ープに剥離物が掻く軽微に11着。
△・・・めフき層の鋼板界面から部分的剥離が発生し、
セロファンテープへの剥離物 の付着が明瞭に認められる。
セロファンテープへの剥離物 の付着が明瞭に認められる。
×・・・めっき層の全面剥離或いは成形絞りの途中の工
程で剥離が生じ成形不可。
程で剥離が生じ成形不可。
11 耐食性の評価試験
■の評価試験■の方法で成形後の缶壁部から、50X5
0mmの評価試験片を切り出し、耐食性能を評価した。
0mmの評価試験片を切り出し、耐食性能を評価した。
すなわち、めっき鋼板のピンホール、加工によるめっき
層の部分的剥離等に起因する耐食性に対する影響を、塗
膜を通って侵入してくる腐食水溶液に対するFe溶出量
の測定により行なった。
層の部分的剥離等に起因する耐食性に対する影響を、塗
膜を通って侵入してくる腐食水溶液に対するFe溶出量
の測定により行なった。
・ 評価ン去の
容器缶内の耐食性を対象とした評価促進試験として、N
2掌囲気下で(1,5%クエン酸+1,5%Nacjり
溶液400cc中に、50℃;4週間の浸漬試験を行な
い、そのFe溶出量を測定し、その耐食性の評価を行な
った。尚、評価基準は以下の方法によった。
2掌囲気下で(1,5%クエン酸+1,5%Nacjり
溶液400cc中に、50℃;4週間の浸漬試験を行な
い、そのFe溶出量を測定し、その耐食性の評価を行な
った。尚、評価基準は以下の方法によった。
O・・・Fe溶出量がxoppm未満。
0− F a溶出量が10ppI11以上〜15ppl
!1未満。
!1未満。
△・・・Fe溶出量がtsppm以上で穿孔腐食の傾向
が認められる。
が認められる。
×・・・pel出量がtsppm以上で穿孔腐食の発生
が著しく認められる。
が著しく認められる。
・ 評価ン去■
腐食促進溶液として、0.196リン酸溶液を用いて、
上記と同様の試験を行ない、そのFe溶出量を測定して
、耐食性能を以下の評価基準で評価した。
上記と同様の試験を行ない、そのFe溶出量を測定して
、耐食性能を以下の評価基準で評価した。
◎・・・Fe溶出量が3 ppm未満
0−−・Fe溶出量が3 ppm以上〜7ppff1未
満△・・・Fe溶出量が7 ppts以上〜15ppm
未満x−Fen出量が15ppm以上 実施例−B 冷間圧延、焼鈍、調質圧延後の第2表(その1)に示す
鋼成分の素材について、本発明の処理法により、各々所
定のめっき量を有するNi。
満△・・・Fe溶出量が7 ppts以上〜15ppm
未満x−Fen出量が15ppm以上 実施例−B 冷間圧延、焼鈍、調質圧延後の第2表(その1)に示す
鋼成分の素材について、本発明の処理法により、各々所
定のめっき量を有するNi。
Go、Nf−Go金合金っき鋼板を製造した。
該評価材について、各々下記に示す評価法によるめっき
層の密着性試験と自動車マフラー或いは建材等の用途を
想定した腐食雰囲気を対象とした耐食性試験を実施し、
下記の評価基準により、各々相対比較を行なった。その
結果を第2表(その2)に示す。
層の密着性試験と自動車マフラー或いは建材等の用途を
想定した腐食雰囲気を対象とした耐食性試験を実施し、
下記の評価基準により、各々相対比較を行なった。その
結果を第2表(その2)に示す。
尚、評価試験方法及び評価基準を以下に示す。
評価試験方法及び評価基準
■ めっき層の密着性試験
O評価法■
0.6m+++厚さのめっき後の評価材について、押し
出し高さ5mmのエリクセン加工を行ない、該部分にセ
ロファンテープを貼布、剥離して、めっき層の剥離状況
を調査した。尚評価基準は以下の方法によって行なフた
。
出し高さ5mmのエリクセン加工を行ない、該部分にセ
ロファンテープを貼布、剥離して、めっき層の剥離状況
を調査した。尚評価基準は以下の方法によって行なフた
。
◎・・・めっき層の剥離なく、セロファンテープへの剥
離物の付着なし。
離物の付着なし。
O・・・めっき層の表面から若干剥離し、セロファンテ
ープに掻く軽微な剥離物が付 着。
ープに掻く軽微な剥離物が付 着。
△・・・めっき層の鋼板界面からの部分的剥離が発生、
セロファンテープへの剥離物 の付着が明瞭に認めらねる。
セロファンテープへの剥離物 の付着が明瞭に認めらねる。
×・・・めっき層全面剥離。
O評価法■
評価材(100x 100100Oを長手方向に第1図
に示す断面形状のビッツバーゲタイブにロックフォーマ
−加工を行ない、曲げ加工部のめつぎ層の剥離状況を調
査した。尚、評価基準は以下の方法によって行なった。
に示す断面形状のビッツバーゲタイブにロックフォーマ
−加工を行ない、曲げ加工部のめつぎ層の剥離状況を調
査した。尚、評価基準は以下の方法によって行なった。
◎・・・めっき層に異字なく良好
O・・・めっき層に亀裂発生
△・・・掻く一部にめっき剥離発生
×・・・めっき層の剥離状況極めて大
+1 耐食性の評価試験
O評価法の
自動車・マフラー内部の腐食環境を想定して、腐食促進
溶液として、< 504”−(1000ppm) −1
4J−(150ppm) −C9−(30Gppm)−
co3”−(4000ppm) −N)I4” (30
00ppm) −14COOt+ (1000ppm)
−CH5COOH(1000ppm) )系水溶液を
pH8に調整したものを用い、以下の条件でサイクルテ
ストを行なった。すなわち、評価材(0,6x 30x
500mm1に曲率半径が板厚の2倍の曲げ加工を施
し、((350℃で60分加熱)−腐食試験液・半没テ
スト(密閉容器を用い、評価材の172部を腐食溶液中
に浸漬、80℃−5時間)−乾燥(100℃、24時間
)−腐食試験液・半没テスト(上記と同方法、80℃−
24時間)−乾燥(10(1℃、24時間)−腐食試験
・半没テスト(上記と同方法、80℃−24時間)−室
内曝露(30℃−56時間)〉を1サイクルとして、5
サイクルテスト後の外観腐食状況を調査し、その性能を
評価した。
溶液として、< 504”−(1000ppm) −1
4J−(150ppm) −C9−(30Gppm)−
co3”−(4000ppm) −N)I4” (30
00ppm) −14COOt+ (1000ppm)
−CH5COOH(1000ppm) )系水溶液を
pH8に調整したものを用い、以下の条件でサイクルテ
ストを行なった。すなわち、評価材(0,6x 30x
500mm1に曲率半径が板厚の2倍の曲げ加工を施
し、((350℃で60分加熱)−腐食試験液・半没テ
スト(密閉容器を用い、評価材の172部を腐食溶液中
に浸漬、80℃−5時間)−乾燥(100℃、24時間
)−腐食試験液・半没テスト(上記と同方法、80℃−
24時間)−乾燥(10(1℃、24時間)−腐食試験
・半没テスト(上記と同方法、80℃−24時間)−室
内曝露(30℃−56時間)〉を1サイクルとして、5
サイクルテスト後の外観腐食状況を調査し、その性能を
評価した。
尚5曲げ加工部が上記の浸漬テストにおいて、丁度気−
液界面部になる様に設置するとともに、評価基準は以下
の方法によって評価した。
液界面部になる様に設置するとともに、評価基準は以下
の方法によって評価した。
◎・・・腐食溶液浸漬部の気−液界面部における赤錆の
発生が微少黒錆5点以下 O・・・腐食溶液浸漬部の気−液界面部を中心に微少赤
錆6点以上〜15点以下或い は赤錆発生率でO,t96以下 Δ・・・上記の気−液界面部或いは他の部分に可成りの
赤錆発生 X・・・赤錆の発生状況は上記△の状況でかつ錆TIご
穿孔状の腐食著しく発生 O評価法■ 工業地帯で使用される建材を対象に、0.8mm板厚、
75x 150mmサイズの評価材に押し出し高さ8g
II+のエリクセン加工を施し、(亜硫酸ガス濃度25
ppm 、温度40℃、湿度95%)の雰囲気下で7
日間曝露、その赤錆の発生状況を調査し、その性能を評
価した。尚、評価基準は以下の方法によった。
発生が微少黒錆5点以下 O・・・腐食溶液浸漬部の気−液界面部を中心に微少赤
錆6点以上〜15点以下或い は赤錆発生率でO,t96以下 Δ・・・上記の気−液界面部或いは他の部分に可成りの
赤錆発生 X・・・赤錆の発生状況は上記△の状況でかつ錆TIご
穿孔状の腐食著しく発生 O評価法■ 工業地帯で使用される建材を対象に、0.8mm板厚、
75x 150mmサイズの評価材に押し出し高さ8g
II+のエリクセン加工を施し、(亜硫酸ガス濃度25
ppm 、温度40℃、湿度95%)の雰囲気下で7
日間曝露、その赤錆の発生状況を調査し、その性能を評
価した。尚、評価基準は以下の方法によった。
◎・・・赤錆の発生率O71零未満
○・・・赤錆の発生率0.1零〜1.ok未満△・・・
赤錆の発生率1%〜10%未満×・・・赤錆の発生率1
0%以上 (発明の効果) 本発明方法により、鋼板表面からNi等のめつぎ層が剥
離し難く、Ni等の電解析出効果が高く、めっき層の均
一被覆性と耐食性の優れたNl、Go、N1−Go合金
メツキC「含有鋼板が、容易に且つ有効に得られる効果
がある。
赤錆の発生率1%〜10%未満×・・・赤錆の発生率1
0%以上 (発明の効果) 本発明方法により、鋼板表面からNi等のめつぎ層が剥
離し難く、Ni等の電解析出効果が高く、めっき層の均
一被覆性と耐食性の優れたNl、Go、N1−Go合金
メツキC「含有鋼板が、容易に且つ有効に得られる効果
がある。
第1図は実施例におけるめりき鋼板のビッツバーゲタイ
ブロックフォーマ−加工の説明図である。 他4名 第1図
ブロックフォーマ−加工の説明図である。 他4名 第1図
Claims (1)
- 1 2.5〜25%のCrを含有する鋼板を、金属イオ
ンのNi^2^+、Co^2^+の1種又は2種が、全
SO_4^2^−イオン濃度に対する重量比率で、1/
50≦(金属イオン濃度)/全SO_2^2^−イオン
濃度≦1/5、遊離硫酸75〜350g/lを含有する
水溶液中で、7.5A/dm^2以上の電流密度で1〜
15秒間の陰極電解処理を施し、次いでNi^2^−、
Co^2^+の1種又は2種の金属イオンが、SO_4
^2^−イオンとCl−イオンの総和に対する重量比率
で50%以上を含有し、かつpH3.0以下のめっき浴
で陰極電解処理する事を特徴とするめっき密着性及び耐
食性にすぐれたNi、Co及びNi−Co合金めっきC
r含有鋼板の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63292161A JPH0765214B2 (ja) | 1988-11-18 | 1988-11-18 | めっき密着性及び耐食性にすぐれたNi,Co,及びNi−Co合金めっきCr含有鋼板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63292161A JPH0765214B2 (ja) | 1988-11-18 | 1988-11-18 | めっき密着性及び耐食性にすぐれたNi,Co,及びNi−Co合金めっきCr含有鋼板の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02138493A true JPH02138493A (ja) | 1990-05-28 |
| JPH0765214B2 JPH0765214B2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=17778337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63292161A Expired - Lifetime JPH0765214B2 (ja) | 1988-11-18 | 1988-11-18 | めっき密着性及び耐食性にすぐれたNi,Co,及びNi−Co合金めっきCr含有鋼板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0765214B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0939448A4 (ja) * | 1996-05-09 | 1999-09-01 | ||
| WO2011118848A1 (ja) * | 2010-03-25 | 2011-09-29 | 新日本製鐵株式会社 | 耐食性に優れた容器用鋼板 |
| WO2015198495A1 (ja) * | 2014-06-25 | 2015-12-30 | 日新製鋼株式会社 | Snめっきステンレス鋼板 |
Citations (2)
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| JPS63186889A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-02 | Nisshin Steel Co Ltd | 高速連続光沢ニツケルめつき方法 |
-
1988
- 1988-11-18 JP JP63292161A patent/JPH0765214B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US8993118B2 (en) | 2010-03-25 | 2015-03-31 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Steel sheet for container excellent in corrosion resistance |
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| CN106661754A (zh) * | 2014-06-25 | 2017-05-10 | 日新制钢株式会社 | 镀Sn不锈钢板 |
| US9834848B2 (en) | 2014-06-25 | 2017-12-05 | Nisshin Steel Co., Ltd. | Sn-plated stainless steel sheet |
| CN106661754B (zh) * | 2014-06-25 | 2018-03-27 | 日新制钢株式会社 | 镀Sn不锈钢板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0765214B2 (ja) | 1995-07-12 |
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