JPS6046199B2 - 耐錆性の高い溶接缶用表面処理鋼板の製造方法 - Google Patents

耐錆性の高い溶接缶用表面処理鋼板の製造方法

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JPS6046199B2
JPS6046199B2 JP56089385A JP8938581A JPS6046199B2 JP S6046199 B2 JPS6046199 B2 JP S6046199B2 JP 56089385 A JP56089385 A JP 56089385A JP 8938581 A JP8938581 A JP 8938581A JP S6046199 B2 JPS6046199 B2 JP S6046199B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はシーム溶接により接胴され食缶、飲料缶に使
用される錫付着量1.5g/ゴ以下の薄目付ふりきの耐
錆性を向上させる方法に関するものである。
従来、食缶、飲料缶を製造するにあたって、ぶりきの
接胴は半田を用いて行われてきた。
しかしながら、半田に含まれている有毒な鉛が缶内容物
中に溶出する可能性があるために、近年半田による接胴
では純錫半田が使用される傾向にある。さらに最近では
、高価な錫を使用する半田法に代って、シーム溶接(ス
ードロニツク溶接)による接胴法が普及しつつある。ス
ードロニツク溶接法では、缶胴接合部の重ね合せ幅(オ
ーバラップ)が0.3〜0.4TfrnLであるため、
鋼板の表面処理法によって接合の良否が大きく左右され
る。市販ぶりきで錫付着量の低いものほど溶接性が良く
なる傾向がある。錫付着量の多いぶりきでは、抵抗溶接
で発生した熱が錫の溶融にも使われ、溶接線に沿って溶
融錫が流れて溶接部が汚れることがその理由の一つであ
る。また、錫価格が上昇しているため、缶用材料からは
薄目付のぶりき、特に缶内面を塗装して使用する場合に
は、現在市販品で最低の錫付着量(2.8g/m^2)
のいわゆる#25ふりきの112以下の付着量を有する
材料が要求されている。ところでこのような錫付着量の
少ないぶりきでは、製造後出荷され需要家で製缶される
までの数ケ月以上に亘る期間中に錆が発生し、缶用材料
として”使用できなくなることがある。 本発明者等は
薄目付ふりきの耐錆性、耐食性を向上させる方法につい
て鋭意研究を行った結果、焼鈍前に0.02〜0.2g
/m^2のニッケルめっきを施したぶりき用原板に0.
05〜1.5g/m^2(7)錫めっきを行・い、ひき
つづいて0.3〜10クーロン/m^2イのクロメート
処理を施し、溶錫処理(リフロー)を行うと、従来の薄
目付ぶりきの場合とは全く構造の異なった耐錆性の高い
合金層が形成されることを見い出した。
すなわち、錫付着量が少ないと錫めっノき層内にピンホ
ール(素地鋼の露出した孔)が多く、ぶりきの耐錆性が
悪い。錫めっき表面のピンホールの大きさあるいは数が
どの程度のものであるかを知る指標として古くから知ら
れているチオシアネート有孔度試験法がある。チオシア
ネート丁試験は一定面積の錫めっき板を酢酸、過酸化水
素およびチオシアン酸アンモニウムからなる腐食液に浸
漬して所定の時間経過後溶解した鉄イオンを赤色のチオ
シアン酸鉄として比色定量する方法である。通常の方法
で作成したぶりきの錫付着量とチオシアネート値の関係
を第1図に示す。第1図において、ぶりきの合金錫量は
0.35〜0.62g/d1化学処理量は4.5クーロ
ン/Ddである。同図中に点線で示すように、測定曲線
を外挿すると錫付着量が約1.5g/d以下のぶりきで
は素地鋼の露出面積が著しく大きいことがわかる。封孔
処理として錫めっき鋼板にはリフロー後に通常4.5ク
ーロン/Ddの電解クロメート処理が行われているが、
錫付着量が1.5g/イ以下の錫めっき鋼板に対しては
さらに多くのクロメート量が必要になる。しかし、リフ
ロー後に施されたクロメート皮膜自体は電気絶縁物質で
あるため、この皮膜が厚い場合は溶接電流が流れにくく
、溶接速度を小さくしなければならない。例えば、10
クーロン/dイ以上の電気量で処理されたクロメート皮
膜を有する鋼板をスードロニツク溶接機により溶接する
と、1ナゲツト当りの溶接電流がクロメート皮膜のない
場合に比べて10%以上低下する。ところで、1.5g
/イ以下の錫付着量の錫めっき鋼板に溶錫処理を施すと
、第2図の錫付着量が0.85g/d1合金錫量が0.
38y/771′の通常の薄目付ぶりきの合金層の1万
倍電子顕微鏡写真に示されるように、租い鉄一錫合金が
発達し、素地鋼の露出部分が多い。従来、鉄一錫合金層
を緻密にしてぶりきの耐食性を向上させる方法として、
例えば、特公昭54−2094吟(刊行物1)に、Ni
めっきした鋼板を非4酸化性雰囲気中においてニッケル
が鋼板中に浸透拡散してめっき層としては実質的に消失
するまで加熱し、その後に錫めっきすることを特徴とす
る高耐食性電気ぶりきの製造法が開示されている。
刊行物1に開示された方法を実施すると、第3図6に示
されるように、確かに合金層は緻密化するが、錫付着量
1.屹d以下の薄目付ぶりきの耐錆性を飛躍的に改良す
るには至らない。なお、第3図は焼鈍前に0.05g/
dのニッケルめっきを施した原板に0.80g/1の錫
めっきを行い溶錫処理・(リフロー)したふりきの合金
層の1万倍電子顕微鏡写真である。また、特公昭48−
24619号(刊行物■)には、ふりきの耐硫化性を改
良する方法として錫めっき鋼板のリフロー前にクロメー
ト処理を施す方法が開示されている。
刊行物■に記述されている方法を薄目付ぶりきに適用す
ると、錫付着量が例えば2.8g/d(市販の#2駆く
りき)以上の厚目付ぶりきの場合とは異り、リフロー前
に施されたクロメートが錫層中に島状に分布し、鉄一錫
合金の粗大化を抑制するために緻密な合金層が発達する
(第4図参照)。なお、第4図はリフロー前クロメート
処理(5クローン/dイ)を行った薄目付ぶり)き(錫
付着量0.82g/d1合金錫量0.36g/イ)の合
金層の1万倍電子顕微鏡写真である。しかし、刊行物■
に開示された方法によってもなお錫層中にいくらかの素
地鋼の露出した部分が存在することがわかる。本発明者
等は、焼鈍前にニッケルめっきした原板に錫めっきし、
このめっぎ鋼板にクロメート処理を施した後リフローを
行うと、ぶりきの合金層は極めて特異な形態になること
を見い出した(第5図参照)、第5図は、焼鈍前に0.
05g/dのニツ”ゲルめっきを施した原板に0.78
g/イの錫めっきを行い、さらに5クローン/Drfl
のクロメート処理をし、溶錫処理(リフロー)したぶり
き(合金錫量0.41g/イ)の合金層の1万倍電子顕
微鏡写真である。
第5図の電子顕微鏡写真から、素地鋼を被覆している鉄
一錫合金層は従来のぶりきに見られたような針状もしく
は棒状ではなく、極めて微少な粒子の集合体からなる層
とこの合金層上に針状、粒状もしくは棒状の鉄一錫合金
からなっていることがわかる。この上層の鉄一錫合金は
、通常の製法に従って製造されたぶりき、ニッケル前め
っき焼鈍した原板によるぶりき、あるいは、リフロー前
にクロメート処理したぶりき等の合金層には全く認めら
れないものである。本発明の製法による薄目付ぶりきが
高い耐錆性を有する理由は、第6図の本発明による薄目
付ぶりき表面近傍の断面概念図に示すように、素地鋼1
上に下層の極めて微細な粒子からなる鉄一錫合金層2と
ピンホールを埋め合わせる効果を持っている上部の鉄一
錫合金3が存在するためである。
また、本発明法によるぶりきでは、同図に示すように、
リフロー前に施したクロメートは錫層2中に島状に分布
しているために溶接電流の障害にならない。薄目付ぶり
きにおいても、ぶりきの耐錆性、耐食性を向上させるに
は鉄一錫合金層を緻密にすることが必須条件である。
本願で対象とする溶接缶用材料としてのぶりきにおいて
は、さらに溶接電流の流れるのを妨げることのない処理
でなければならない。本発明者等はこのような2つの条
件を同時に満たす方法を種々検討し、ニッケル前めっき
焼鈍した原板に錫めっきし、さらにクロメート処理を施
した後リフローしたぶりきの合金層は従来のぶりきの合
金層とは全く異なる構造を持ち、ぶりきにはピンホール
が皆無に近いことを見い出し、本発明に至った。本発明
による方法に従って溶接缶用素材を製造する場合に用い
る鋼板は、造塊材あるいは連続錆造材のいずれでも良い
通常の方法に従って0.15〜0.33wLに冷間圧延
された鋼板は脱脂後ニッケルめっきされる。ニッケルめ
っきは既存のワット浴、スルファミン酸浴などの電解浴
から0.02〜0.2g/d付着される。電解温度は上
記の電解浴が使用される通常の範囲にあれば良い。電流
密度は1〜30A/Ddが好ましい。ニッケル付着量が
0.02g/d未満の場合はぶりきの合金層にピンホー
ルが発生し、0.0?/R7lより多い場合はふりきに
ほぼ完全にピンホールが消失している。しかし、0.2
g/イ以上では、この効果は飽和し経済的デメリツトを
生ずる。このため、本発明におけるニッケルめっきの付
着量は0.02〜0.2g/イとした。ニッケルめっき
された冷延銅板はひきつづいて水洗、乾燥され、550
゜C以上720゜C以下の温度で箱焼鈍もしくは連続焼
鈍される。商用ぶりきの製造に当って焼鈍の雰囲気(H
NX気体:5〜7%H2+N2混合気体)の露点は通常
+3℃以下になっているが、本発明によるニッケル前め
っき処理された鋼板の焼鈍に用いられる雰囲気の露点も
上記の範囲にあれば良い。焼鈍前に施されたニッケルは
一部分が焼鈍により鋼板内部に拡散するが、電着したニ
ッケルの全量が鋼中に入らなくてもよい。焼鈍後の冷延
鋼板は調質圧延され、脱脂、酸洗後錫めっきされる。
錫めっきはハロゲン浴、フエロスタン浴あるいは硼弗化
物浴などの酸性めっき浴あるいはアルカリめっき浴によ
って行い、錫を0.05g/d以上1.5g/d以下付
着せしめる。本発明において錫付着量を上記の如く限定
する理由はリフロー時に錫層の中にクロメートを島状に
埋浅させ、鉄一錫合金を微細にするためである。すわな
ち、(1)錫付着量が1.5g/d以上のめっき鋼板で
は錫層表面にクメート表皮層が形成されるのみで合金層
は緻密にならないこと、(2)0.05g/d以下ご
の錫付着量では焼鈍前にニッケルめっきした原板を用
い、リフロー前にクロメート処理を行ってもピンホール
の発生を防ぐことができない、という2つの事実に基く
ものである。 上記のようにして錫めっきされた鋼板に
はひきl つづいてクロメート処理が施される。
本発明においてクロメート処理量が0.3クーロン/d
ボ以下の場合は、錫付着量1.5g/d以下のぶりきの
合金層が第5図の写真に示したような構造にならない。
また、クロメート処理量が10クーロン/Dd以上の場
合は、錫層中のクロメー1・が島状にならないためにシ
ーム溶接電流に対する抵坑が大きい。ぶりきの後処理と
してのクロメート処理は通常30g/Iの重クロム酸ソ
ーダ水溶液(40〜60゜C)を用いて行われるが、本
発明においてリフロー前に行うクロメート処理も全く同
様で良い。クロメート処置の電解時間と電流密度につい
ては特に限定されず、両者の積としての電気量が上記範
囲にあればよい。 焼鈍前にニッケルめっきが施され、
0.05〜・1.5g/イの錫めっき後0.3〜10ク
ーロン/Dntのクロメート処理を施された鋼板にはひ
きつづいて溶錫処理(リフロー)が行われる。リフロー
時に形成される合金層は鉄一錫界面で密度が高く、通常
のぶりきと同様な処理を行っても合金錫量が多フくなる
。しかし、溶接性、耐錆性の観点から合金錫量は前錫付
着量の約2ノ3以下であることが好ましい。リフロー処
理された本発明による鋼板は必要に応じて水洗、乾燥さ
れ、封孔処理を目的とした通常の化学処理、すなわち、
30g/Iの重クロ5ム酸水溶液(温度40〜60℃)
中て電気量4.5クーロン/Ddの陰極処理を施される
。以下、本発明方法を実施例および比較例を挙げて詳細
に説明する。実施例1 :O 冷間圧延後脱脂された厚さ0.22wt0)鋼板
にワット浴(60゜C)中で2A/Ddの電流密度で0
.聞′間ニッケルめっきした。
ニッケルめっきされた鋼板を水洗、乾燥後650℃で約
旬秒間焼鈍した後0.6%の調質圧延を行った。この鋼
板を可性ソーダを主成分とする水溶液中で電解説脂し、
さらに硫酸水溶液中で酸洗し、ハロゲン浴から0.82
g/イの錫めっきを行った。水洗後30g/1の重クロ
ム酸ソーダ水溶液中で5クーロン/Ddの電気量で陰極
処理を行った。水洗、乾燥後3.2秒間で250℃まで
加熱し、直ちに水冷した後30g/lの重クロム酸ソー
ダ水溶液中で4.5クーロン/dイの電気量で陰極処理
を行った。実施例2 冷間圧延後脱脂された厚さ0.22?の鋼板にワット浴
(60゜C)中で2A/dイの電流密度で1.鍬間ニッ
ケルめっきした。
ニッケルめっきされた鋼板を水洗、乾燥後650℃で約
3[相]間焼鈍した後0.5%の調質圧延を行った。こ
の鋼板を可性ソーダを主成分とする水溶液中で電解説脂
し、さらに硫酸水溶液中で酸洗し、ハロゲン浴から0.
52g/dの錫めっきを行った。水洗後30g/1の重
クロム酸ソーダ水溶液中で7クーロン/Drrlの電気
量で陰極処理を行った。水洗、乾燥後2.8秒間で26
0゜Cまで加熱し、直ちに水冷した後30g/1の重ク
ロム酸ソーダ水溶液中で4.5クーロン/Ddの電気量
で陰極処理を行った。実施例3 冷間圧延後脱脂された厚さ0.227077!の鋼板に
スルファミン酸浴(65゜C)中で3A/dイの電流密
度,で1刀秒間ニッケルめっきした。
ニッケルめっきされた銅板を水洗、乾燥後650℃で約
4秒間焼鈍した後0.6%の調質圧延を行った。この鋼
板を可性ソーダを主成分とする水溶液中で電解説脂し、
さらに硫酸水溶液中で酸洗し、ハロゲン浴から、0.7
0g/イの錫めっきを行った。水洗後30gIの重クロ
ム酸ソーグ水溶液中で5クーロン/dイの電気量で陰極
処理を行った、水洗、乾燥後3.@間で250゜Cまで
加熱し、直ちに水冷した後30g/1の重クロム酸ソー
ダ水溶液中で4.5クーロン/d、dの電気量で陰極処
理を行った。比較例1 冷間圧延後脱脂された厚さ0.22TnII1(:I)
銅板にワット浴(60゜C)中で2A/Ddの電流密度
で0.5秒間ニッケルめっきした。
ニッケルめっきされた銅板くを水洗、乾燥後650℃て
約旬秒間焼鈍した後0.6%の調質圧延を行った。この
鋼板を可性ソーダを主成分とする水溶液中で電解説脂し
、さらに硫酸水溶液中で酸洗し、ハロゲン浴から0.8
5g/イの錫めっきを行った。水洗、乾燥後3.鍬間で
250℃まで加熱し、直ちに水冷した後30g/lの重
クロム酸ソーダ水溶液(45しC)中で4.5クーロン
/Ddの電気量で陰極処理した。比較例2 冷間圧延後脱脂された厚さ0.22藺の鋼板にワット
浴(60℃)中で1A/dイの電流密度で0.鍛間ニッ
ケルめっきした。
ニッケルめっきされた鋼板を水洗、乾燥後650℃で約
40秒間焼鈍した後0.6%フの調質圧延を行った。こ
の鋼板を可性ソーダを主成分とする水溶液中て電解説脂
し、さらに硫酸水溶液中で酸洗し、ハロゲン浴から0.
85g/d(7)錫めっきを行った。水洗後30g/l
の重クロム酸ソーダ水溶液中で5クーロン/Ddの電気
量で陰極・処理を行った。水洗乾燥後3.′@間で25
0゜Cまで加熱し、直ちに水冷した後重クロム酸ソーダ
水溶液中で4.5クーロン/dイの電気量で陰極処理し
た。比較例3 脱脂、酸洗された厚さ0.22朗の銅板にハロゲン浴
から0.93g/イの錫めっきを行い、水洗後30g/
lの重クロム酸ソーダ水溶液(45℃)中で12クーロ
ン/dイの電気量でクロメート処理を行った。
この錫めっき銅板を水洗、乾燥後3.4秒間で260℃
まで加熱し、直ちに水冷した後30g/Iの重クロム酸
ソーダ水溶液(45しC)中で4.5クーロン/Ddの
電気量で陰極処理した。比較例4 脱脂、酸洗された冷延鋼板に0,85g/dの錫めっ
きを行い、水洗乾燥後3.4秒間で260℃まで加熱し
、直ちに水冷した後30g/lの重クロム酸ソーダ水溶
液(45゜C)中で4.5クーロン/Ddの電気量で陰
極処理した。
比較例5 1脱脂、酸洗された冷延鋼板に2.94g/イの錫めっ
きを行い、水洗乾燥後3.4秒間で260℃まで加熱し
、直ちに水冷した後30g/1の重クロム酸ソーダ水溶
液(45℃)中で4.5クーロン/dイの電気量で陰極
処理した。
これは市販の#25ふりき相ピ1 当する。 上記のよ
うな処理をした鋼板から50×80mの大きさの試片を
切り出し、端部を接着テープでシールして表面積40×
707r0nを残した試料を用いて以下に示すようにし
て、湿潤試験および塩水噴霧試験を行った。またチオシ
アネート有孔度試験を行った。さらに、165.5×8
0mの試片を用いて下記条件でシーム溶接性試験を行っ
た。(1)湿潤試験 温度50℃、相対湿度93%の試験槽に試片を取り付け
、一定期間経過後試片表面の赤錆発生率(%)を目視判
定した。
(2)塩水噴霧試験 JISZ237l法に基いて試験し、赤錆発生率(%)
を目視判定した。
(3) チオシアネート有孔度試験 TinResearchInstitute刊(196
4年第2版)P3Oを準拠して行った。
(4)シーム溶接性試験 (a)溶接機 スードロニツク社正雑缶製造用機2屹径
用ガイドツール組込み、オーバーラップ0.4〜0.5
T$L(b)溶接速度8m1/Min (c)溶接電流1ナゲツト当り25〜30A(d)接胴
加圧力40c1a.N(e) 試験項目 (e−1) ハインテスト 溶接部をはさんだ円筒端部から■字型の 切り込み
を入れ、三角部をプライヤーで 握って他端に向って引
っ張る。
途中で溶接 部分が切断しなければ0良ョとする。(e
−2) スパッター観察 溶接部の1ナゲツト毎にスパッターが出 ていない
かどうかを目視で調べる。
(e−3) 溶性断面光学顕微鏡観察 溶接部断面を樹脂に埋込んで10Cfiて観 察す
る。
接合面にへアラインなどがなけれ ば1良ョとする。上
記試料についての諸試験結果を示す下表1から明らかな
ように、薄目付(イ).05〜1.5g/d)の錫めっ
き鋼板であっても、焼鈍前にニッケルめっきした原板に
錫めっきし、さらに0.3〜10クーロン/dイのクロ
メート処理を施した後リフロー処理することにより、耐
錆性およびシーム溶接性に優れ、市販の#2?くりき(
錫付着量2.8g/d)に比肩するものであることがわ
かる。
【図面の簡単な説明】
第1図は錫めっき鋼板の錫付着量とチオシアネート値の
関係を示すグラフ、第2〜5図は金属の表面組織の電子
顕微鏡写真であって、第2図は通常の薄目付ぶりき(錫
付着量0.85g/ボ、合金錫量0.3改/d)の合金
層の1万倍電子顕微鏡写真、第3図は焼鈍前に0.05
g/dのニッケルめっきを施した原板に0.80g/d
の錫めっきを行い、溶錫(リフロー)処理したぶりきの
合金層の1万倍電子顕微鏡写真、第4図はリフロー前ク
ロメート処理(5クーロン/Dd)を行った薄目付ふり
き(錫付着量0.82g/イ、合金錫量0.38y/d
)の合金層の1万倍電子顕微鏡写真、第5図は焼鈍前に
0.05g/dのニッケルめっきを施した原板に0.7
8g/dの錫めっきを行い、さらに5クーロン/Drr
lのクロメート処理し、溶錫処理したふりきの合金層の
1万倍電子顕微鏡写真、第6図は本発明による薄目付ぶ
りきの表面近傍の線図的断面図である。 符号の説明、1・・・・・・素地鋼、2・・・・・・微
細粒からなる鉄一錫合金層、3・・・・・・ピンホール
を埋め合わ゛せる鉄一錫合金、4・・・・・・クロメー
ト、5・・・・・・錫層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 冷延圧延後脱脂された鋼板に0.02〜0.2g/
    m^2のニッケルめっきを施し、焼鈍、調質圧延後0.
    05〜1.5g/m^2の錫めっきを行い、次いで0.
    3〜10クーロン/dm^2の電気量でクロメートル処
    理を施し、この後溶錫処理することを特徴とする耐錆性
    の高い溶接併用表面処理鋼板の製造方法。
JP56089385A 1981-06-10 1981-06-10 耐錆性の高い溶接缶用表面処理鋼板の製造方法 Expired JPS6046199B2 (ja)

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