JPH02141499A - 炭化ケイ素ウィスカーの製造方法 - Google Patents

炭化ケイ素ウィスカーの製造方法

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JPH02141499A
JPH02141499A JP63040552A JP4055288A JPH02141499A JP H02141499 A JPH02141499 A JP H02141499A JP 63040552 A JP63040552 A JP 63040552A JP 4055288 A JP4055288 A JP 4055288A JP H02141499 A JPH02141499 A JP H02141499A
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    • C03C13/00Fibre or filament compositions
    • C03C13/06Mineral fibres, e.g. slag wool, mineral wool, rock wool
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/005Growth of whiskers or needles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業−にの利用分野 本発明は細かく分割した状態のシリカ及び炭素から炭化
ケイ素ウィスカーを形成する方法に係わる。
良法!は1桁 ウィスカーは炭化ケイ素の細い単結晶質繊維てあり、操
作条件に応じて0.1〜5μmの直径を有し得、長さは
数十〜数百旧n、色は無色〜薄縁である。ウィスカーは
機械的性質(極限引張り強さ4〜12C:Pa、弾性率
300〜700GPa)に優れ、化学的に極めて安定し
ており、耐熱性も高いため、アルミニウノ、又はその合
金のような金属又はプラスチック材料の補強材として使
用するのに極めて適している。
ウィスカーの製造には、シリカ形態のケイ素と極めて細
かく分割した状態の炭素との反応がflt用される。こ
の種の反応は、例えばケイ素源、炭素の性で1、混合方
法、江意的添加剤(触媒及び/又は発泡剤(aHenL
s poroHanc*))、雰囲気及び反応性装入物
質の各点の温度といった要因に大きく依存する。
仏国特許公開第2573444号(TOK八rへCAR
BON Co。
Lid、)には、カーボンブラックとケイ素源(砂、5
ilex、シリカゲル等)との混合物を非酸化雰囲気下
1300へ1800℃の温度で加熱するSiCウィスカ
ー製造方法が開示されている。この方法で使用される炭
素は150・〜50cm2/gの窒素吸着比表面積と、
100g当たり120〜20cm1のDBP (ジブチ
ルレフタレ−I・)吸収率と、所定の色影度とを有して
いなければならない。触媒は鉄、ニッケル又はコバルト
をベースとする。
仏国特許出願第2567873号(Nippon Li
ghtMetal Co、 Ltd、)には、粉末状炭
素及び粉末状5102からSiCウィスカーを形成する
方法が開示されている。この方法では、前記炭素及び5
i02の混合物がQ、23以下の嵩密度を有し、不活性
ガス雰囲気中で1500〜2000°Cの温度に加熱さ
れる。
明が解決しようとする課題 これらの製造方法はまだ実験段階にある。構造、特性及
びコストの面で工業的使用に適した条件を備えるSiC
ウィスカーを得るためには、凝集体のごとき形態学的レ
リーフ(relierr>の発生が最小であり、長さが
5〜2001m程度、直径が51+n未満のウィスカー
を、装入物Si0□4Cに対して大きなウィスカー収率
で製造せしめるような方法が必要である。
舌、1′を ゞ るための二 本発明は、カーボンブラックと細かく分割したシリカと
を非酸化雰囲気下1300〜1800℃、好ましくは1
300〜1600°Cの温度て加熱することによ−)で
SiCウィスカーを製造する方法に係わる。
本発明の方法は、使用するカーボンブラックが少なくと
も85%の酸化性係数(1,aux d’ oxydi
ibte)を有していなければならないことを特徴とす
る。この酸化性は、空気中で30分間600°Cに加熱
した時に消失する当該炭素の重量によって規定される。
本発明の方法はまた、静定雰囲気下て操作した場合には
、反応混合物の温度上昇速度が10℃/分1以下、好ま
しくは3℃/分−1未満でなければならないことを特徴
とする。装入物質l am2当たり0.05・〜0.5
標準リットル(normoliLre)7分の流量で窒
素を通してパーコレーションを実施する場合には、前記
装入物質の温度上昇速度は25℃/分−1以下でな(つ
ればならない。
カーボンブラック、/シリカ混合物には装入物質のガス
透過性を維持する発泡剤を添加すると有利である。この
物質によって中空スペースが発生すれば、固体によって
占められていないこれら装入物質の空間にウィスカーの
成長に必要な反応気体種を通ずことができるからである
また、反応種(主として一酸化ケイ素及び−酸化炭素)
を熱力学に従う温度に適した濃度で含む気体生成物の均
質移送(1+omogeneous transfer
)を容易にするためには、反応中に窒素のごときガスを
装入物質に通してパーコレーションを行うと有用である
(パーコレーションを行わない場合には、ガスで低速掃
気又は掃去処理してもよい)。
第1図及び第2図は走査電子顕微鏡で撮った前記反応の
生成物の写真である。第1図(3000倍拡大写真)は
極めて品質の高いウィスカーのコクーン(繭)を示して
いる。第2図(1500(fi拡大写真)は本発明の範
囲外の実験結果を示している。この写真では、得られた
繊維に多数の凝集体及びその他の形態学的レリーフが見
られる。
本発明の方法の実施条件は3つに区分することができる
。シリカ、/炭素混合物の調製、任意的添加剤、いわゆ
る反応及びウィスカーの回収である。
1゜l鉦1へ1糺 本発明の方法の第1の特徴は、反応体(シリカ及び炭素
)を乾燥状態で混合しなければならず、且つ得られた混
合物を圧縮してはならないことにある。この条件は例え
ば、混合物を圧縮しないという特徴をもつ粉砕ナイフl
=Iき乱流混合機を使用することによって満たされる。
混合物の見掛は嵩密度は従って原料に依存し、0.40
に達し得る。
原丁し11訳− シリカ二種々の源に由来するシリカ、例えばケイ素又は
フェロシリコンを製造する電気冶金炉、又はジルコン砂
(ケイ酸ジルコニウム)を融解する電気炉の除塵によっ
て回収した超微細シリカを使用した。この塵粉は平均直
径1μm0未満のビーズ状SiO□を85%以上含む。
不純物は揮発性有機物質、炭素、炭化ケイ素、Fe化合
物、へ1化合物、Mg化合物、Ca化合物、Na化合物
及びに化合物からなる。
沈降シリカ、粉砕した石英もしくは砂、粉砕ホワイトグ
ラス等も適当な材料として使用し得る。これら種々のシ
リカは、メツシュ100 Hm以下の篩を通ったもので
あればいずれも適当である。
炭素:炭素の性質は本発明の方法を実施する上で最も重
要な要因の1つである。本発明で使用する炭素は、一般
的には、炭化水素化合物の不完全燃焼又は熱分解によっ
て得t、れる「カーボンブラック」と称する生成物に属
するものでなければならない。実際の操作では、これら
の炭化水素化合物は天然ガス、アセチレン、鉱油、ター
ル油である。これらの生成物は特に、 粒径が5〜50ナノメ一トル程度であり、炭素含量が9
5〜99%程度であって、残りが水素、酸累、窒素、硫
黄であり、 BET比表面積が極めて大きく10・〜100cm2/
8のオーダーであり、 DBP(ジブチルフタレート)吸収率が50〜b/10
0gのオーダーてあり、 吸収光及び反射光の吸収によって測定される二グロメー
タ指数(黒さの程度)を有することを特徴とする特 これら種ノ!のブラック(ヌアーネスブラック、アセヂ
レンブラック、ガスブラック等)の製造業者は更に所期
の用途〈インク及びペンキの顔イ′1、ゴノ、もしくは
プラスチックの充填剤)応じて、本発明には係わりのな
い別の特定の1N徴も指示している。
しかしながら本発明者は、カーホンブラック製造業者の
仕様には明記されていないが、生成物の反応性、より正
確には前述の酸1ヒ性が最も重要な要因であることを発
見した。
このカーボンブラックの選択テストの本質的特徴は後述
の実施例て明らかにされよう。
触媒及び添加物 炭素をその反応性に基づいて選択するため、本発明の方
法は従来の触媒(Fe、 Ni、Co)を使用しなくて
も実施できる。しかしながら、これらの金属及びアルカ
リ金属化合物が偶然に存在した時の結果はとちらかとい
うと好ましいものである。特に、ナ1〜リウム化合物は
反応性の5J:り高い1ヒ合一の形成を促進し、カーボ
ンブラックの酸化性(糸数にも影響を及ぼず。
発泡剤の添加は収率及び反応効果を著しく向−1−さぜ
る。Cl5i02混音物にはこの発泡剤を5−50容量
%の割合て導入する。この物質は反応h1開始する直前
又はその最中にガス及び7′又は蒸気の形態で除去され
、互いに絡み合一]たウィスカーからなる多孔室の極め
て高い物本(コクーン)の形成が促進される。これは、
均一に分配された多くの孔をもち、従ってガスの圧力降
下(装入損失)を小さくし且つ希釈された回収反応気体
種の優先通路を提供てきる。前記反応体にガスを通して
固体成分を換気すると、該固体反応体の孔の中てウィス
カーが均・に成長するのである。
本発明者が試用した種々の発泡剤のうら、無機fヒ台1
勿(NaCl、N II 、 CIタイプ)は余り好ま
しい乙のではないことか判明した。なぜならこの種の発
泡剤は反応体を湿潤し、即1う反応体に含浸され、変形
ウィスカーの形成並びに粒子及び凝集体の形成につなが
る望ましくない反応を誘起すると思われるからである。
これに対し、タールを少ししか発生させない有機化合物
、例えば水蛭、コルク、澱粉、メラミン又は籾殻は極め
て好ましい物質と考えられる。発泡剤は製造方法の要件
に応じて下記の2種類に分けると都合がよい。
例えばメラミンのように、残留物を残さずに完全に臂華
又は分解するもの。
灰又はコークスのような残留物を残すもの。
この種の物質の粒度は、これらの不純物含有残留物を低
温酸化、浮選、懸濁液の篩別、デカンテーションのよう
な従来の方法によって除去できるように選択する必要が
ある。
2、又肚1色 この反応にかける物πは、メツシュ1001 mの篩を
完全に通過する5in2と反応性カーボンブラックとの
混合物に5〜50容量%の発泡剤を任意に加えたもので
ある。
カーボンブラックは好ましくは1ヒ学量論甲、Lり多い
量、即ちシリカ100重量部に対して70重置部(比0
7)以上の割きて導入する。全体的反応をSiO,、−
1−3C−> SiCl 2COとする場合には、ブラ
ックカーボンのJ正をシリカ100g(1−00重量%
の5i02て計算)当たり60ビ(100重量%の炭素
て31算)、即ち比06の割きにしな(つればならない
。また、この31算には、炭素によ−)て還元し得る酸
化不純物が存在する場aにはそれも考慮しなりればなら
ない。−例として、5iO9源が粉砕ガラスの時には前
記不純物はNa2Oである。
]ヒ学量論量より多いカーボンブラックを使用Jると、
経済的には好ましくなくても、あとてコクーンを形成リ
ーるウィスカーの分散が促進される。
前述のごと< 、 c+5io2 」−(’f、息的発
泡剤の混和物は圧縮してはならない。その見掛は嵩密度
は使用するシリカ源(品質及び粒径分布)、フラッフ及
び任意的添加物に応して例えは0.207cm’よりや
や小さい値から0.40H/cm3まての範囲にあって
よい。
して、ウィスカー合成の基本的要因の1つが温度上昇速
度であることを発見した。この速度はまさに、選択軸に
沿ったSiCβ単結晶の気体成長のこの巧妙な動力学的
メカニズノ\を制御するのである。
この反応は1300℃−1400’Cて始まるが、本発
明の最も重要な特徴は、反応体の温度勾配を維持しなが
ら、ウィスカーの結晶成長プロセスが気体反応体の消費
を」1回ることがないように、反応体に与えられる温度
を持続的に制御することにある。
本発明者はまた、混合物の量と反応体の表面に対する熱
流の位置という要因の重要性も確認した。
また、装入物質の外部からの熱流がウィスカーの形成に
とって好ましいものであることも判明した。
この反応の生成物は断熱性であるため、変換した反応体
からなる第1の層は熱スクリーンの役割を果たし、熱流
の通過速度を低下させる。その結果反応体の温度−り昇
速度も低下することになるが、これはウィスカー形態S
iCの形成にとって好ましい要因である。従って温度を
231!に」二Rさせると、この温度上昇速度に応じた
厚みを有し旧つウィスカー形態をもたない粒子で本質的
に柘成される外側スクリーン層が形成されることに在る
。この層の厚みは収率(形成されるウィスカーの量)の
匝点から見て操1トの効〒を著し・く低下さぜ1する。
粒度の小さい極めて人さな反応性をLっシリカを用いて
少量り゛つ操作した揚音には、装入物の温度が晟大値1
800℃、一般的には1600℃にな1.た11!1点
て加熱器を切断して反応体を放冷してよい。それ以外の
場合、即ち反応体の量を数百Uから数kg又は数十kg
にし及び/又は反応性のより小さいシリカ(例えば粉砕
ガラス)を使用した場合には、最高温度(例えば約16
00℃)を5分〜5時間維持した後で加熱器を切断して
装入物を放冷する。窒素パーコレーションを実施しなが
ら操作した場合には、窒素流を任意に減量して冷却の少
なくとも一部分にわたり流し続ける。
反応体をこのように熱処理すると炭化ケイ素ウィスカー
がコクーンを形成する。このコクーンの多孔率及び機械
的強度は反応混合物の見掛は密度、より正確には圧縮度
とカーボンブラックの割合とに依存する。
このウィスカー集合体が反応体の外側表面全体から発生
して内側に進むと、反応混合物の一部分が互いに絡み合
ったウィスカーからなる厚いエンベロープに包まれるこ
とになる。シリカ及び炭素から炭化ケイ素を形成する反
応は大量の気体種即ち一酸化炭素を発生させる。小さな
内部圧力を維持するためには、余り大きな圧力降下を伴
わすに1に のガスを除去する必要がある。この条件は、=7クーン
の核では、熱流及び反応体の夫々の位置に起因して、又
は発泡剤が存在しない(又は不1−分である)ために満
たされていないことがある。
本発明者は、前述の場合にはコク−〉・の核を′d易に
除去できることを発見した。なぜならコクーンの核は、
これを包む絡み台−ノだウィスカーの厚い層とは異なる
二7ンシスデンシー及び色彩を(T I−るからである
本発明者はまたこの現象が、中間室OL 1ヒ音物を−
・時的に形成しなからウィスカーの成長を促進すると考
えられる窒素のようなガスのパーコレーションによって
弱まり得ることを発見した。
装入物質の中心又は軸線に配置した感応体又は抵抗体を
用いて熱源及び反応体の人々の位置を変えると、コクー
ン形態のウィスカーを通常の重量で得ることはできなか
った。ウィスカーは低温ゾーン内に発生する気体種、即
ちウィスカー成長高温ゾーン内の計算された熱力学的平
衡の比率には相当しない比率(又は部分圧)をもつ気体
様によって高温ゾーンで成長すると考えられる。
3、久ニス功:ぜ薯月1 形成されたコクーンのウィスカーを分離する操作は本発
明の方法の最終段階を構成する。
前記反応の生成物は容易に分離し得る2つのゾーン、即
ち 操作条件に応じて異なる厚みをもち、殆ど炭化ゲイ素ウ
ィスカー及び過剰カーボンブラックだけからなる外側エ
ンベロープと、 大きな機械的強度をもたず、殆ど炭化ケイ素粒子含有粉
末、過剰カーボンブラック及びウイ、スカーだIJから
なる中心部分 とて構成されるコクーンの形態て得られる。
周知のように、前記カーボンフラ・ツクは空気中500
・〜700°Cの加熱によって除去することがてきる。
丸は燵 内径200 +n mの管状黒1()製抵抗器を備えた
水T電気炉を使用し窒素て掃気(3リソlル/分)して
4・発明の方法を実施した。
反応性装入物質は通気路を設0た内径120 m m、
長さ500 m川の黒1(1製ルツホ゛内に配:;デシ
た。1こθ)ルツボに反応混合1勿を最高273まで充
偵し、前記炉の均一・温度ゾーン内に配置した。
k皿」L 出発混合物は下記のR■成を有り−る:BET面rIi
460112g−1、酸化11係数87%、揮発性物質
含有率16重量%のDEGUSS八礼製炭素へW2V・
48重量%、 ケイ素ブ戸の除塵に由来する1敢細シリカ・52重量%
該混合物の密度 0.20g/c+n’1飲灸止 温度上昇 2時間て室温から1000°Cまで(500
°Ch−’L3時間て1000℃から1300℃まで(
100℃h −’ )、8時間て1300℃から160
0℃まで(50℃、l+−電、即ちく 1℃ miミロ
−)。
冷却:窒素掃気下て自然冷却。
冷却したルツボからコクーンを取り出し、これを軸線に
沿って2つに分割する。
次いて空気中600℃で加熱して残留炭素を酸化させる
。この処理の所要時間は使用するカーボンブラックの酸
化性に依存する。
その後コクーンの前記ゾーンを色彩及び機械的コンシス
チンシーに応じて互いに分離する。
この第1実施例ては、繊維の内径が5μm未満、平均長
さが20〜100111nてあり且つ、第1図に示すよ
うに、望ましくない形態をもつ種の比率が非常に小さい
極めて美しい様相を呈するウイスカーコクーンが得られ
た。
火」l舛βユ 微細シリカの代わりにメツシュ100μmの篩に通した
1分砕ポワイトグラスを用いて実施例1と同様の条件で
操作を行った。前記粉砕ホワイトクラスは台g1約15
%のNa+にと Q 、 (i %の粉砕によって1−
たFe、OJと、5/’0 (重量%)未満のホウ素(
化合物状態)とを含んていノと。
混合物は下記の組成に&(−って調製J−る粉砕ポワ、
イ1〜グラス0.58重量2.1カーボンブラツク  
    42重量2.;該混合物の密度、 、 、 、
 、 、 、 0.331.cmlこのシリーズのデス
トでは、実施例1ど同しDEGUSSA社製h −ホ7
7ラツ’/ FW2V、!: 、 [lET面積20c
m24−’、酸化性係数87重量%(30分/600°
C)のDEGUSSA社製Pr1ntex85を使用し
たが、結果は殆と同じであった。このJ:うを組成物を
用いた場合でも極めて美しい様相を呈するコクーンが得
られ、その繊維の内径は511m ’J:満、長さは2
0〜1.00μm0てあった(第1図の繊維と同様)。
丸1隨よ 条件は実施例1及び2と同し。
混合物の組成 微細シリカ塵粉(Si炉に由来)、29%Pr1nte
x85. 、 、 、 、 、 、 、 、 、 、 
21%メラミン(発泡剤)、、、、、、、50%見掛は
嵩密度、 、 、 、 、 、 、  0.4g、cm
弓結果:実施例1及び2の場合と同様に極めて良好。
火差−乳上 実施例1と同じ条件。但L1300’Cへ一1500℃
の温度上昇速度は20°C/分にし、炉断面積c111
2当たり0、]5標準リットル/分の流量で装入物質に
窒素を通してパーコレーションを行った。2時間の温度
紐仁は1600℃で実施した。
極めて美しいウィスカーのコクーンが得られたか、窒素
パーコレーションを省略して同じ実験を行ったところ、
SiC結晶凝集体に混じった厚くて短いSiCの棒しか
得られなかった。このような棒は金属を7トリクスとす
る複合材料の製造には使用できない。
実施例5 実施例1と同し条件て、但し混合l吻をエチルアルコー
ル中で均質化して操作を行−ノな。見打1・(“)嵩密
度・アルコール蒸発1支て0.7)(、cm1結果:最
終生成物は使用不可。即ち、S i C4:M了の凝集
体中に包みこまれた幾つかのまばらなウィスカーしか1
1られなかりた。
及1作房 実施例1と同し条件。1旦しカーボンフラッフの酸化性
係数は70%(30分/600℃/空気)である。
結果ニー形態学的に望ましくない生成物の混さ−)たウ
イスカーコクーンが得られる。この生成物の分離は可能
ではあるが、有用な生成物の収率が著しく低下する(第
2図の写真)。
実画1舛1一 実施例1と同し条件。但し、カーボンフラッフの酸化性
係数は15%0 結果:凝集体中に分散したわずかなSiCウィスカ−し
か得られず、これを凝集体から分離することは困難であ
る。
笈1燵影 実施例1と同じ条件。但し、温度上昇条件は変えた。
温度は100°0間隔で、30〜6cmmの平坦部分が
得られるように且つ各平坦部分相互間に第1テストで1
0℃/分、第2テス1〜て20℃/分、第3テス1〜で
30℃/分の温度上昇速度を適用して、1000°Cか
ら1600℃に上げた。前記3つのテストは窒素パーコ
レーションを行わずに実施した。
これら3つのテス1への結果はいずれも余り好ましいも
のではなかった。即ち、不均質(長さ及び直径)なウィ
スカーが形成され、粒子及び凝集体の割合が太さか・っ
な。
以上の説明から、特許請求の範囲に記載の条件に従わな
いと満足な結果が得られないことは明らかてあろう。
【図面の簡単な説明】
第1図は品で1の極めて高いウィスカーコクーンの繊維
の形状を示す電子顕微鏡写真、第2図は形態学的欠陥を
有するウィスカーニア2−ンの)aR:IIの形状の電
子!Vi微鏡写真である。 υ□□□嗅メ  ヘ・シネ・シ餠しメダルルン゛代程へ
弁理士 f48 山 武 手わυネ市正凸: 特泊庁長官 小 邦 犬 殿 國 1、事件の表示 昭和63年特許願第7IO552号 2゜ 発明の名称 炭化ケイ素ウィスカ の製造方法 3、補正をJる者 事件との関係

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)カーボンブラックと酸化ケイ素源との混合物から
    なる装入物質を非酸化雰囲気下1300℃以上の温度で
    反応させることにより炭化ケイ素ウィスカーを製造する
    方法であって、空気中600℃で30分の加熱により測
    定される酸化性係数が少なくとも85%であるカーボン
    ブラックと粒度100μm未満の酸化ケイ素源とを、反
    応SiO_2+3C→SiC+2COの化学量論量(即
    ちC/SiO_2=0.6)に少なくとも等しい重量比
    で混合し、静定雰囲気下で操作する場合には温度上昇速
    度を1300℃から1600℃の間で3℃.min^−
    ^1以下にし、窒素パーコレーションを実施しながら操
    作する場合には温度上昇速度を25℃.min^−^1
    以下にして前記混合物を約1600℃に加熱し、この加
    熱処理を前記混合物の外部からカロリーを与えるように
    行うことを特徴とする方法。
  2. (2)SiO_2/C重量比が少なくとも0.7に等し
    いことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方法
  3. (3)温度を5分〜5時間にわたり約1600℃に維持
    することを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
    に記載の方法。
  4. (4)装入物質が更に有機発泡剤も含むことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項から第3項のいずれか1項に記
    載の方法。
  5. (5)ガスによるパーコレーションを、このガスが通る
    装入物質の断面積cm^2当たり0.05〜0.5標準
    リットル/分の速度で実施することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項から第4項のいずれか1項に記載の方法
  6. (6)パーコレーション用ガスが窒素であることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項から第5項のいずれか1項
    に記載の方法。
  7. (7)シリカ源が、炭素熱によりケイ素もしくはフェロ
    シリコンを製造する炉又はジルコン砂を融解する電気炉
    の除塵に由来するシリカ塵粉からなり、この塵粉がシリ
    カを平均直径1ミクロン未満のビーズ形状で85%以上
    含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項から第6項
    のいずれか1項に記載の方法。
  8. (8)使用するシリカ源が、10重量%を上回るアルカ
    リ性化合物(特にナトリウム)と5重量%を下回るホウ
    素(化合物形態)とを含む粒径100μm未満の粉砕ガ
    ラスからなり得ることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項から第7項のいずれか1項に記載の方法。
  9. (9)過剰カーボンブラックが、空気中500〜700
    ℃で1〜10時間酸化することによりエンベロープから
    除去されることを特徴とする特許請求の範囲第1項から
    第8項のいずれか1項に記載の方法。
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