JPH02143106A - 電子ビーム測長方法および装置 - Google Patents
電子ビーム測長方法および装置Info
- Publication number
- JPH02143106A JPH02143106A JP63297791A JP29779188A JPH02143106A JP H02143106 A JPH02143106 A JP H02143106A JP 63297791 A JP63297791 A JP 63297791A JP 29779188 A JP29779188 A JP 29779188A JP H02143106 A JPH02143106 A JP H02143106A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- electron beam
- phase difference
- memory
- scan
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体デバイス等の製作の過程でシリコンウ
ェハ等の上に形成されたパターンの幅等を電子ビームを
使用して測長するようにした電子ビームＩＩ長方法およ
び装置に関する。
ェハ等の上に形成されたパターンの幅等を電子ビームを
使用して測長するようにした電子ビームＩＩ長方法およ
び装置に関する。
（従来の技術）
電子ビーム測長装置では、試料上の測長すべきパターン
を横切って電子ビームを直線状に走査し、この走査に伴
って得られた反射電子等の情報信号を検出し、検出信号
に基づいてパターンの幅を測長している。通常、検出信
号のＳＮ比を高めるために直線状の電子ビーム走査を多
数回行い、得られた多数の検出信号を加算するようにし
ている。
を横切って電子ビームを直線状に走査し、この走査に伴
って得られた反射電子等の情報信号を検出し、検出信号
に基づいてパターンの幅を測長している。通常、検出信
号のＳＮ比を高めるために直線状の電子ビーム走査を多
数回行い、得られた多数の検出信号を加算するようにし
ている。
この場合、電子ビーム照射による試料のダメージを小さ
くし、コンタミネーションの発生の防止やチャージアッ
プによる電子ビームのゆらぎの影響を少なくするために
、移動加算測長方式が採用されている。第３図はこの方
式を示しており、被測長パターンＰを横切って電子ビー
ムの直線状走査Ｓ、〜Ｓｏが行われる。この電子ビーム
の直線状走査は少しずつ走査位置を、ずらしながら行わ
れ、各走査に基づいて検出された、例えば、反射電子信
号は加算される。第４図は検出信号強度を示しており、
Ｄ、は走査ＳＩに対応したもの、Ｄ２は走査Ｓ１と５２
に基づく検出信号を加算したもの、Ｄ、は０回の走査に
基づいて得られた検出信号を加算したものである。この
加算信号Ｄ７に基づいてパターンＰの幅が測長される。
くし、コンタミネーションの発生の防止やチャージアッ
プによる電子ビームのゆらぎの影響を少なくするために
、移動加算測長方式が採用されている。第３図はこの方
式を示しており、被測長パターンＰを横切って電子ビー
ムの直線状走査Ｓ、〜Ｓｏが行われる。この電子ビーム
の直線状走査は少しずつ走査位置を、ずらしながら行わ
れ、各走査に基づいて検出された、例えば、反射電子信
号は加算される。第４図は検出信号強度を示しており、
Ｄ、は走査ＳＩに対応したもの、Ｄ２は走査Ｓ１と５２
に基づく検出信号を加算したもの、Ｄ、は０回の走査に
基づいて得られた検出信号を加算したものである。この
加算信号Ｄ７に基づいてパターンＰの幅が測長される。
このように、移動加算測長方式では、試料の同一位置で
多数回の電子ビームの走査が行われないので、試料のダ
メージを少なくでき、又、コンタミネーションの発生を
防止でき、更に、試料がチャージアップすることも防止
できる。
多数回の電子ビームの走査が行われないので、試料のダ
メージを少なくでき、又、コンタミネーションの発生を
防止でき、更に、試料がチャージアップすることも防止
できる。
（発明が解決しようとする課題）
ところで、第５図に示すように、線パターンＰが電子ビ
ームの走査方向に対して傾斜している場合、次の問題点
が生じる。すなわち、第１回目の走査Ｓ１に基づく検出
信号は、第６図（ａ）に示すようになるのに対し、第に
回目の走査Ｓｋに基づく検出信号は、第６図（ｂ）に示
すように、第６図（ａ）の信号に比べてピークの位置が
シフトする。このような検出信号を加算すると、第６図
（Ｃ）に示すように、ピークがブロードとなってしまい
、このような加算信号に基づいて測定されたパターンの
幅は、正確とならず、測定精度が悪化する。
ームの走査方向に対して傾斜している場合、次の問題点
が生じる。すなわち、第１回目の走査Ｓ１に基づく検出
信号は、第６図（ａ）に示すようになるのに対し、第に
回目の走査Ｓｋに基づく検出信号は、第６図（ｂ）に示
すように、第６図（ａ）の信号に比べてピークの位置が
シフトする。このような検出信号を加算すると、第６図
（Ｃ）に示すように、ピークがブロードとなってしまい
、このような加算信号に基づいて測定されたパターンの
幅は、正確とならず、測定精度が悪化する。
更に、各走査の結果得られた検出信号を全て単純に加算
しているので、パターンＰの傾斜角θを計算することが
できず、その結果、パターンＰの線分方向に垂直な幅を
特とする請求められる幅は、Ｗ／ＣＯ８θとなる。
しているので、パターンＰの傾斜角θを計算することが
できず、その結果、パターンＰの線分方向に垂直な幅を
特とする請求められる幅は、Ｗ／ＣＯ８θとなる。
本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、その目
的は、パターンが傾斜していても、高精度でパターンの
幅等のＪＰｊ長を行うことができる電子ビーム測長方法
および装置を実現することにある。
的は、パターンが傾斜していても、高精度でパターンの
幅等のＪＰｊ長を行うことができる電子ビーム測長方法
および装置を実現することにある。
（課題を解決するための手段）
請求項１の発明に基づく電子ビームハ１長方法は、電子
ビームを試料上で被測長パターンを横切って直線状に走
査すると共に、試料上の直線状走査位置をずらしながら
多数回走査を行い、各走査に応じて試料から得られた信
号を検出し、各走査毎の検出信号を加算し、加算結果に
基づいてパターンの測長を行うようにした電子ビームｉ
ｌｌ長方法において、新たな１回の直線状走査によって
得られた検出信号と、それ以前に得られた信号の位相差
を求め、この位相差に応じて、新たに得られた検出信号
のアドレスをシフトし、その後、両信号の加算を行うよ
うにしたことを特徴としている。
ビームを試料上で被測長パターンを横切って直線状に走
査すると共に、試料上の直線状走査位置をずらしながら
多数回走査を行い、各走査に応じて試料から得られた信
号を検出し、各走査毎の検出信号を加算し、加算結果に
基づいてパターンの測長を行うようにした電子ビームｉ
ｌｌ長方法において、新たな１回の直線状走査によって
得られた検出信号と、それ以前に得られた信号の位相差
を求め、この位相差に応じて、新たに得られた検出信号
のアドレスをシフトし、その後、両信号の加算を行うよ
うにしたことを特徴としている。
請求項２の発明に基づく電子ビーム側長方法は、請求項
１の発明に加えて、各直線状走査によって得られた検出
信号とそれ以前に加算された信号との位相差により、電
子ビームの走査方向に対するパターンの傾斜角度を求め
るようにしたことを特徴としている。
１の発明に加えて、各直線状走査によって得られた検出
信号とそれ以前に加算された信号との位相差により、電
子ビームの走査方向に対するパターンの傾斜角度を求め
るようにしたことを特徴としている。
請求項３の発明に基づく電子ビーム測長装置は、電子ビ
ームを試料上で直線状に走査すると共に、試料上の直線
状走査位置をずらすための手段と、試料上での電子ビー
ムの走査に伴って得られた信号を検出する検出器と、各
走査毎の検出信号を加算する加算手段とを設け、加算手
段からの加算信号に基づいてパターンの静ｊ長を行うよ
うにした電子ビーム測長装置において、加算信号を格納
する第１のメモリと、１回の直線状走査による検出器の
出力信号を格納する第２のメモリと、第１のメモリと第
２のメモリに格納された２種の信号波形の位相差を求め
るユニットと、第２のメモリに格納された信号を求めら
れた位相差分アドレスをシフトして加算手段に転送する
ユニットとを備えたことを特徴としている。
ームを試料上で直線状に走査すると共に、試料上の直線
状走査位置をずらすための手段と、試料上での電子ビー
ムの走査に伴って得られた信号を検出する検出器と、各
走査毎の検出信号を加算する加算手段とを設け、加算手
段からの加算信号に基づいてパターンの静ｊ長を行うよ
うにした電子ビーム測長装置において、加算信号を格納
する第１のメモリと、１回の直線状走査による検出器の
出力信号を格納する第２のメモリと、第１のメモリと第
２のメモリに格納された２種の信号波形の位相差を求め
るユニットと、第２のメモリに格納された信号を求めら
れた位相差分アドレスをシフトして加算手段に転送する
ユニットとを備えたことを特徴としている。
（作用）
請求項１の発明では、移動加算測長方式において、電子
ビームの任意の１回の直線状走査に基づいて得られた検
出信号をそれまでに加算した信号と加算するに際し、既
に加算された信号と任意の直線状走査によって得られた
信号との位相差を求め、新たな信号の加算は、位相差分
信号のアドレスをシフトして行う。
ビームの任意の１回の直線状走査に基づいて得られた検
出信号をそれまでに加算した信号と加算するに際し、既
に加算された信号と任意の直線状走査によって得られた
信号との位相差を求め、新たな信号の加算は、位相差分
信号のアドレスをシフトして行う。
請求項２の発明では、請求項１の発明に加えて、各直線
状走査によって得られた検出信号の位相差に基づいてパ
ターンの傾斜角を求める。
状走査によって得られた検出信号の位相差に基づいてパ
ターンの傾斜角を求める。
請求項３の発明では、加算信号を格納する第１のメモリ
と、任意の１回の直線状走査に基づいて得られた検出信
号を格納する第２のメモリと、２つのメモリに格納され
た信号の位相差を求めるユニットと、求められた位相差
に応じて第２のメモリに格納された信号のアドレスをシ
フトして転送するユニットとを設け、第１のメモリと第
２のメモリの信号の位相を一致させて加算を行う。
と、任意の１回の直線状走査に基づいて得られた検出信
号を格納する第２のメモリと、２つのメモリに格納され
た信号の位相差を求めるユニットと、求められた位相差
に応じて第２のメモリに格納された信号のアドレスをシ
フトして転送するユニットとを設け、第１のメモリと第
２のメモリの信号の位相を一致させて加算を行う。
（実施例）
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。第１図は本発明に基づく電子ビーム測長装置の一実施
例を示しており、電子ビームＥＢは、集束レンズ１によ
ってパターンＰが形成された被ΔＩＩ長試料２上に細く
集束されると共に、電子ビームＥＢの照射位置は、静電
偏向器３によって変えられる。静電偏向器３には、偏向
器制御ユニット４から電子ビーム走査信号が供給される
が、偏向器制御ユニット４は、コンピュータ５によって
制御される。
。第１図は本発明に基づく電子ビーム測長装置の一実施
例を示しており、電子ビームＥＢは、集束レンズ１によ
ってパターンＰが形成された被ΔＩＩ長試料２上に細く
集束されると共に、電子ビームＥＢの照射位置は、静電
偏向器３によって変えられる。静電偏向器３には、偏向
器制御ユニット４から電子ビーム走査信号が供給される
が、偏向器制御ユニット４は、コンピュータ５によって
制御される。
試１１２への電子ビームＥＢの照射に基づいて発生した
反射電子は、反射電子検串器６によって検出される。検
出器６の検出信号は、増幅器７によって増幅され、Ａ−
Ｄ変換器８を介して、１回の直線状走査によって得られ
た信号を格納するバッファメモリ９に供給される。バッ
フ７メモリ９に格納された信号は、位相補正転送ユニッ
ト１０と、位相差検出ユニット１１に供給される。位相
補正転送ユニット１０から転送された信号は、累計加算
メモリ１２に供給されて加算され記憶されるが、累計加
算メモリ１２によって加算され記憶された値は、コンピ
ュータ５と位相差検出ユニット１１に供給される。
反射電子は、反射電子検串器６によって検出される。検
出器６の検出信号は、増幅器７によって増幅され、Ａ−
Ｄ変換器８を介して、１回の直線状走査によって得られ
た信号を格納するバッファメモリ９に供給される。バッ
フ７メモリ９に格納された信号は、位相補正転送ユニッ
ト１０と、位相差検出ユニット１１に供給される。位相
補正転送ユニット１０から転送された信号は、累計加算
メモリ１２に供給されて加算され記憶されるが、累計加
算メモリ１２によって加算され記憶された値は、コンピ
ュータ５と位相差検出ユニット１１に供給される。
このような構成の装置の動作は次の通りである。
まず、コンピュータ５から偏向器制御ユニット４に走査
開始信号が出力され、この信号に基づいて偏向器制御ユ
ニット４は試料２上のパターンＰを横切って多数回、電
子ビームＥＢを直線状に走査する走査信号を発生し、偏
向器３に供給する。この結果、第５図に示すように、走
査位置を移動させながらの電子ビームＥＢの直線状走査
が行われる。
開始信号が出力され、この信号に基づいて偏向器制御ユ
ニット４は試料２上のパターンＰを横切って多数回、電
子ビームＥＢを直線状に走査する走査信号を発生し、偏
向器３に供給する。この結果、第５図に示すように、走
査位置を移動させながらの電子ビームＥＢの直線状走査
が行われる。
１回目の電子ビームの直線状走査に基づいて検出器６か
ら得られた信号は、増幅器７によって増幅され、Ａ−Ｄ
変換器８によってディジタル信号に変換されてバッファ
メモリ９に格納される。この時、まだ累計加算ユニット
１２にはデータが格納されていないので、位相差検出ユ
ニット１１によって求められる位相差は０となり、バッ
ファメモリ９に格納された信号は、何等のアドレスシフ
トが行、われずに累計加算メモリ１２に転送され、格納
される。
ら得られた信号は、増幅器７によって増幅され、Ａ−Ｄ
変換器８によってディジタル信号に変換されてバッファ
メモリ９に格納される。この時、まだ累計加算ユニット
１２にはデータが格納されていないので、位相差検出ユ
ニット１１によって求められる位相差は０となり、バッ
ファメモリ９に格納された信号は、何等のアドレスシフ
トが行、われずに累計加算メモリ１２に転送され、格納
される。
次に、２回目の電子ビームの直線状走査が行われると、
この走査に基づいて得られた検出信号は、バッファメモ
リ９に格納される。位相差検出ユニット１１は、バッフ
ァメモリ９に格納された信号波形と、累計加算メモリ１
２に格納された信号波形との位相差ΔＸを求めている。
この走査に基づいて得られた検出信号は、バッファメモ
リ９に格納される。位相差検出ユニット１１は、バッフ
ァメモリ９に格納された信号波形と、累計加算メモリ１
２に格納された信号波形との位相差ΔＸを求めている。
この位相差ΔＸを求める方法については、種々用いるこ
とができるが、例えば、次のような原理を用いることが
できる。
とができるが、例えば、次のような原理を用いることが
できる。
バッファメモリ９に格納された、１回の電子ビ−ムの直
線状走査に基づく検出信号波形のデータをｆ（ｉ）、累
計加算メモリ１２において累計加算されて記憶されてい
る信号の波形をｇ （ｉ）とし、メモリの最大アドレス
をｍとする。ｆ（ｘ）。
線状走査に基づく検出信号波形のデータをｆ（ｉ）、累
計加算メモリ１２において累計加算されて記憶されてい
る信号の波形をｇ （ｉ）とし、メモリの最大アドレス
をｍとする。ｆ（ｘ）。
ｇ （ｘ）のアドレスをｉだけずらして乗算し、その値
を幅ｎに対して加算した値をＲ（ｉ）とすると、このＲ
（ｉ）は次のように表わすことができる。
を幅ｎに対して加算した値をＲ（ｉ）とすると、このＲ
（ｉ）は次のように表わすことができる。
Ｒ（ｉ） −Σ ｆ （ｊ） ・ｇ（ｉ＋ｊ）な
お、 ｉ−ｍ −（ｍ−ｎ）、 ・・・、 ０． １．
・・・ （ｍ−ｎ）である。
お、 ｉ−ｍ −（ｍ−ｎ）、 ・・・、 ０． １．
・・・ （ｍ−ｎ）である。
今、ｉを−（ｍ−ｎ）から（ｍ−ｎ）まで変化させ、そ
れぞれについてＲ（ｉ）を求めると、Ｒ（１）が最大値
をとる時、ｆ （ｘ）とｇ（ｘ＋ｉ）の位置が一番一致
する時である。位相差検出ユニット１１では、Ｒ（ｉ）
を ｉｍ−（ｍ−ｎ）、・・・、 ０． １．・・・、
（ｍｎ）について算出しており、算出されたＲ （ｉ）
の値が最大の時のｉがΔｘ１すなわち両信号波形の位相
差となる。
れぞれについてＲ（ｉ）を求めると、Ｒ（１）が最大値
をとる時、ｆ （ｘ）とｇ（ｘ＋ｉ）の位置が一番一致
する時である。位相差検出ユニット１１では、Ｒ（ｉ）
を ｉｍ−（ｍ−ｎ）、・・・、 ０． １．・・・、
（ｍｎ）について算出しており、算出されたＲ （ｉ）
の値が最大の時のｉがΔｘ１すなわち両信号波形の位相
差となる。
このようにして求められた位相差ΔＸは、位相補正転送
ユニット１０に供給される。位相補正転送ユニット１０
は、バッファメモリ９に格納された信号のアドレスを位
相差Δχ分シフトし、累計加算メモリ１２に供給する。
ユニット１０に供給される。位相補正転送ユニット１０
は、バッファメモリ９に格納された信号のアドレスを位
相差Δχ分シフトし、累計加算メモリ１２に供給する。
累計加算メモリ１２は、既に記憶されている信号と、位
相補正転送ユニット１０から転送された信号の加算を行
って記憶する。
相補正転送ユニット１０から転送された信号の加算を行
って記憶する。
第２図（ａ）は、１回目の電子ビームの直線状走査によ
って得られた検出信号波形を示しており、第２図（ｂ）
は、２回目の検出信号波形を示している。なお、この図
において縦軸は信号強度、横軸は電子ビームの走査位置
（メモリのアドレス）である。両信号波形は、パターン
Ｐが電子ビームの走査方向に対して傾斜していることか
ら、位相差ΔＸを有している。位相差検出ユニット１０
は、第２図（ｂ）の実線の信号を点線の信号のように、
位相差Δχ分子アドレスシフトし、累計加算メモリ１２
に転送する。累計加算メモリ１２では、第２図（ａ）の
信号と、第２図（ｂ）の点線の信号を加算して記憶する
。
って得られた検出信号波形を示しており、第２図（ｂ）
は、２回目の検出信号波形を示している。なお、この図
において縦軸は信号強度、横軸は電子ビームの走査位置
（メモリのアドレス）である。両信号波形は、パターン
Ｐが電子ビームの走査方向に対して傾斜していることか
ら、位相差ΔＸを有している。位相差検出ユニット１０
は、第２図（ｂ）の実線の信号を点線の信号のように、
位相差Δχ分子アドレスシフトし、累計加算メモリ１２
に転送する。累計加算メモリ１２では、第２図（ａ）の
信号と、第２図（ｂ）の点線の信号を加算して記憶する
。
上述した検出信号の位相差の検出と検出信号のアドレス
をシフトさせての転送は、各直線状ｆＥ査に基づく検出
信号に対して行われる。所定回数の全ての直線状走査が
終了し、この走査に基づく信号の加算が行われた後、コ
ンピュータ５は、累計加算メモリ１２に記憶されている
信号を読み出し、この信号に基づいてパターンＰの幅の
Δ−１長を行つ。
をシフトさせての転送は、各直線状ｆＥ査に基づく検出
信号に対して行われる。所定回数の全ての直線状走査が
終了し、この走査に基づく信号の加算が行われた後、コ
ンピュータ５は、累計加算メモリ１２に記憶されている
信号を読み出し、この信号に基づいてパターンＰの幅の
Δ−１長を行つ。
累計加算メモリ１２に記憶されている加算信号は、パタ
ーンＰの傾斜による検出信号の位相差が補正された信号
を加算することによって得られたものであり、パターン
端部による信号のピークはシャープとなり、このような
信号によって測長された幅は極めて正確なものとなる。
ーンＰの傾斜による検出信号の位相差が補正された信号
を加算することによって得られたものであり、パターン
端部による信号のピークはシャープとなり、このような
信号によって測長された幅は極めて正確なものとなる。
なお、累計加算メモリ１２に記憶された信号に基づいて
得られたパターンの幅は、パターンが角度θ傾斜してい
る場合には、Ｗ／ ｃｏｓθとなる。
得られたパターンの幅は、パターンが角度θ傾斜してい
る場合には、Ｗ／ ｃｏｓθとなる。
このため、位相差検出ユニット１０において求められた
各直線状走査に基づく検出信号の位相差ΔＸは、コンピ
ュータ５に供給されており、コンピュータ５は、供給さ
れた各走査毎の位相差に基づいてパターンの電子ビーム
走査方向に対する傾斜角θを求める。更に、コンピュー
タ５は、累計加算された信号により求められた幅Ｗ／
ＣＯＳθと、各位相差ΔＸに基づいて得られた角度θと
から、パターンＰの長さ方向に対して垂直な幅Ｗを演算
して求めている。
各直線状走査に基づく検出信号の位相差ΔＸは、コンピ
ュータ５に供給されており、コンピュータ５は、供給さ
れた各走査毎の位相差に基づいてパターンの電子ビーム
走査方向に対する傾斜角θを求める。更に、コンピュー
タ５は、累計加算された信号により求められた幅Ｗ／
ＣＯＳθと、各位相差ΔＸに基づいて得られた角度θと
から、パターンＰの長さ方向に対して垂直な幅Ｗを演算
して求めている。
以上本発明を説明したが、本発明はこの実施例に限定さ
れない。例えば、位相差ΔＸを求める方法は、前記した
方法に限らず、他の方法を用いても良い。例えば、任意
の１回の直線状走査に基づいて得られた検出信号のピー
クの位置と、加算された信号のピークの位置を求め、そ
の差を比べて、位相差ΔＸを求めるようにしても良い。
れない。例えば、位相差ΔＸを求める方法は、前記した
方法に限らず、他の方法を用いても良い。例えば、任意
の１回の直線状走査に基づいて得られた検出信号のピー
クの位置と、加算された信号のピークの位置を求め、そ
の差を比べて、位相差ΔＸを求めるようにしても良い。
（発明の効果）
以上説明したように、請求項１および３の発明では、直
線状走査に基づく検出信号の位相差を求め、この位相差
に応じて検出信号のアドレスをシフトさせて加算するよ
うにしているので、加算信号のピークをシャープな波形
とすることができ、高精度の測長を行うことができる。
線状走査に基づく検出信号の位相差を求め、この位相差
に応じて検出信号のアドレスをシフトさせて加算するよ
うにしているので、加算信号のピークをシャープな波形
とすることができ、高精度の測長を行うことができる。
又、請求項２の発明では、各検出信号の位相差から電子
ビームの走査方向に対する傾斜角を求めており、この傾
斜角を求めることにより、パターンの長さ方向に対して
垂直な方向の幅を求めることが可能となる。
ビームの走査方向に対する傾斜角を求めており、この傾
斜角を求めることにより、パターンの長さ方向に対して
垂直な方向の幅を求めることが可能となる。
第１図は、本発明の一実施例である電子ビーム測長装置
を示す図、第２図は、検出信号波形を示す図、第３図は
、移動加算ｉ１！１長方式を説明するための図、第４図
は、加算信号を示す図、第５図は、傾斜したパターンに
対する電子ビームの走査の様子を示す図、第６図は、第
５図の走査による検出信号波形を示す図である。 １・・・集束レンズ ２・・・試料３・・・偏向器 ４・・・偏向器制御ユニット ５・・・コンピュータ ７・・・増幅器 ９・・・バッファメモリ １０・・・位相補正転送ユニット １１・・・位相差検出ユニット １２・・・累計加算メモリ ６・・・検出器 ８・・・Ａ−Ｄ変換器
を示す図、第２図は、検出信号波形を示す図、第３図は
、移動加算ｉ１！１長方式を説明するための図、第４図
は、加算信号を示す図、第５図は、傾斜したパターンに
対する電子ビームの走査の様子を示す図、第６図は、第
５図の走査による検出信号波形を示す図である。 １・・・集束レンズ ２・・・試料３・・・偏向器 ４・・・偏向器制御ユニット ５・・・コンピュータ ７・・・増幅器 ９・・・バッファメモリ １０・・・位相補正転送ユニット １１・・・位相差検出ユニット １２・・・累計加算メモリ ６・・・検出器 ８・・・Ａ−Ｄ変換器
Claims (3)
- （１）電子ビームを試料上で被測長パターンを横切って
直線状に走査すると共に、試料上の直線状走査位置をず
らしながら多数回走査を行い、各走査に応じて試料から
得られた信号を検出し、各走査毎の検出信号を加算し、
加算結果に基づいてパターンの測長を行うようにした電
子ビーム測長方法において、新たに１回の直線状走査に
よって得られた検出信号と、それ以前に得られた信号の
位相差を求め、この位相差に応じて、新たに得られた検
出信号のアドレスをシフトし、その後、両信号の加算を
行うようにしたことを特徴とする電子ビーム測長方法。 - （２）各直線状走査によって得られた検出信号とそれ以
前に加算された信号との位相差により、電子ビームの走
査方向に対するパターンの傾斜角度を求めるようにした
請求項１記載の電子ビーム測長方法。 - （３）電子ビームを試料上で直線状に走査すると共に、
試料上の直線状走査位置をずらすための手段と、試料上
での電子ビームの走査に伴って得られた信号を検出する
検出器と、各走査毎の検出信号を加算する加算手段とを
設け、加算手段からの加算信号に基づいてパターンの測
長を行うようにした電子ビーム測長装置において、加算
信号を格納する第１のメモリと、１回の直線状走査によ
る検出器の出力信号を格納する第２のメモリと、第１の
メモリと第２のメモリに格納された２種の信号波形の位
相差を求めるユニットと、第２のメモリに格納された信
号を求められた位相差分アドレスをシフトして加算手段
に転送するユニットとを備えたことを特徴とする電子ビ
ーム測長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63297791A JP2507566B2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 電子ビ―ム測長方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63297791A JP2507566B2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 電子ビ―ム測長方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02143106A true JPH02143106A (ja) | 1990-06-01 |
| JP2507566B2 JP2507566B2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=17851220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63297791A Expired - Fee Related JP2507566B2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 電子ビ―ム測長方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2507566B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012089262A (ja) * | 2010-10-15 | 2012-05-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 観察画像取得方法、走査型電子顕微鏡 |
-
1988
- 1988-11-25 JP JP63297791A patent/JP2507566B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012089262A (ja) * | 2010-10-15 | 2012-05-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 観察画像取得方法、走査型電子顕微鏡 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2507566B2 (ja) | 1996-06-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6509966B2 (en) | Optical system for detecting surface defect and surface defect tester using the same | |
| JPS61502486A (ja) | 精密ｓｅｍ測定のための方法と装置 | |
| US3901814A (en) | Method and apparatus for detecting a registration mark on a target such as a semiconductor wafer | |
| JP2507566B2 (ja) | 電子ビ―ム測長方法および装置 | |
| JPH08115959A (ja) | 電子ビーム装置及び電子ビームを用いた測定方法 | |
| JPS6010725A (ja) | 走査ビ−ムをパタ−ンに整列させるシステム | |
| JPH0687011B2 (ja) | 電子ビーム測長装置 | |
| JPH04105010A (ja) | 形状寸法測定装置および測定方法 | |
| JP3293276B2 (ja) | 電子線描画装置 | |
| JPH04274711A (ja) | 荷電ビームを用いたパターン寸法測定方法 | |
| JPS62261911A (ja) | 形状測定方法 | |
| JP2644257B2 (ja) | ビーム検出用ターゲット | |
| JP3194986B2 (ja) | マーク検出方法および装置並びにそれを用いた電子線描画方法およびその装置 | |
| JPH0554605B2 (ja) | ||
| JPH0887974A (ja) | 試料の高さ変位の補正方法，試料の高さ測定方法，電子ビームの自動焦点合わせ方法 | |
| JPH1050244A (ja) | ビーム検出信号の処理回路 | |
| JPS61114116A (ja) | 寸法測長装置 | |
| JPH0763542A (ja) | 電子線測長方法及び電子線測長装置 | |
| JPH09166698A (ja) | 荷電粒子ビームの測定方法 | |
| JPH0147892B2 (ja) | ||
| JP2726855B2 (ja) | 焦点合わせ方法 | |
| JPH0724256B2 (ja) | サイズ測定装置 | |
| JPH08114436A (ja) | 電子ビーム測長方法 | |
| JPH05312962A (ja) | 荷電粒子線径計測方法 | |
| JPH04127416A (ja) | マーク位置検出方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |