JPH0214343B2 - - Google Patents
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- JPH0214343B2 JPH0214343B2 JP57004433A JP443382A JPH0214343B2 JP H0214343 B2 JPH0214343 B2 JP H0214343B2 JP 57004433 A JP57004433 A JP 57004433A JP 443382 A JP443382 A JP 443382A JP H0214343 B2 JPH0214343 B2 JP H0214343B2
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Description
本発明は不飽和第４級アンモニウム塩の新規な
製法に関する。さらに詳しくは一般式〔〕で示
される不飽和化合物 （但し、式中R1はＨまたはCH3，Ａは―（CH2）
o―（但しｎ＝２から４）または
製法に関する。さらに詳しくは一般式〔〕で示
される不飽和化合物 （但し、式中R1はＨまたはCH3，Ａは―（CH2）
o―（但しｎ＝２から４）または
【式】ＸはCl，Brまたはを表わす。）
と一般式〔〕で示される第３級アミン
（但し、式中R2，R3，R4は炭素数１から８ケを
有するアルキル基，ヒドロキシアルキル基およ
び／またはベンジル基を表わす。） とを反応させ、一般式〔〕で示される不飽和第
４級アンモニウム塩を製造する方法に関する。 （但し、式中R1，R2，R3，R4，ＡおよびＸは式
〔〕および〔〕中の定義と同じ。） 一般式〔〕で示される化合物は凝集剤，帯電
防止剤，土壌改質剤，紙力増強剤，染色改良剤等
の製造原料となる有用な単量体である。 従来、一般式〔〕で表わされる（メタ）アク
リロイルオキシドエチルトリアルキルアンモニウ
ム塩は反応式(1)による方法で得られる事は知られ
ている。 （但し、式中R1はＨまたはCH3，R2，R3および
R4は―CH3または―C2H5，ＸはCl，Brまたは
を表わす。） しかし、反応式(1)による不飽和第４級アンモニウ
ム塩の合成では、副反応物の混入を完全に回避し
た製品を得ることが困難で、その為製品の重合体
を再現性良く収得する事が難しく、この点の改良
が強く望まれていた。 本発明者らは、この点を解決すべく鋭意検討し
た結果、従来通常行なわれている反応式(1)に基づ
く方法とは全く異なる新規な製造方法で、高純度
の、一般式〔〕で示される不飽和第４級アンモ
ニウム塩を製造できる事を見出し、本発明に到達
したものである。 本発明で用いる出発原料の不飽和化合物〔〕
としては、例えば２―クロロエチル（メタ）アク
リレート、２―ブロモエチル（メタ）アクリレー
ト、２―ヨードエチル（メタ）アクリレート、３
―クロロプピル（メタ）アクリレート、４―クロ
ロブチル（メタ）アクリレート、２―クロロ―２
―メチル―エチル（メタ）アクリレートなどがあ
り、第３級アミン〔〕としては、例えばトリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミ
ン、トリブタノールアミン、Ｎ，Ｎジメチルベン
ジルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメ
チルアミン、メチルエチルブチルアミンなどがあ
る。 第３級アミン〔〕と不飽和化合物〔〕の仕
込みモル比は広い範囲で反応でき、例えば0.1〜
10であるが、好ましくは0.6〜４である。 本発明者は有機溶媒の存在下で進行させること
が好ましい。 反応に用いられる溶媒は、例えばアセトニトリ
ル、プロピオニトリル、アセトン、メチルエチル
ケトン、ジメチルホルムアミド、スルホラン、テ
トラヒドロフラン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、ブタノールあるいはヘキサン、シク
ロヘキサン等が挙げられる。 反応圧力は常圧から100Kg／cm2Ｇで使用できる
が、出力原料によつては減圧下で行なつてもよ
い。好ましくは常圧から20Kg／cm2Ｇである。 反応は一般に高められた温度において行なわ
れ、室温から150℃あるか40℃から100℃で反応す
るのが好ましい。室温より低い温度でも反応は進
むが反応速度が遅く経済的ではない。 化合物〔〕及び〔〕は重合性物質であるた
め反応系には重合防止剤を存在させることが好ま
しい。 重合防止剤としては、ハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル、フエノチアジン、
２，６―ジターシヤリーブチルパラクレゾール、
尿素、チオ尿素、２，４，６―トリターシヤリー
ブチルフエノール、Ｎ―フエニル―N′―イソプ
ロピル―パラフエニレンジアミン等が用いられ
る。 第３級アミン〔〕と不飽和化合物〔〕およ
び重合防止剤はそれぞれ別々の手段によつて反応
器に加えてもよく、あるいはそれらの一部または
全部を反応器入口の手前で混合して反応器に加え
てもよい。 また、本発明の方法は回分式または連続式のど
ちらの操作で行つてもよい。例えば加圧回分式の
反応操作では必要ならば不活性気体で反応器容積
を置換した後、反応器を封じ、反応原料および重
合防止剤を加え所定の温度で所定の時間が経過し
た後、必要ならば反応器および内容物を所定の温
度まで冷却し、過、晶析、抽出、脱溶剤などの
通常の方法で目的の化合物を得ることができる。 反応器としては、かくはん装置付オートクレー
ブや加圧管等が用いられる。連続式の操作では、
例えば反応原料および重合防止剤が反応器に連続
的に加えられれ、反応混合物が所定の温度にて、
所定の滞在時間が経過できるようなかくはん装置
付反応器、あるいはオートクレーブや加圧管また
はコイルのような装置であつてもよい。 以下実施例を用いて具体的に説明する。 実施例 １ かくはん装置、圧力計および熱電対を備えたグ
ラスライニング製オートクレーブ内に室温で２―
クロロエチルメタクリレート74g（0.5モル）およ
びハイドロキノンモノメチルエーテル0.15g、ア
セトニトリル100mlを添加し容器を封じ、トリメ
チルアミン30g（0.5モル）を容器内に約30分にか
けて添加した。 ついで75℃に加温し、この温度で10時間かくは
んしながら反応せしめた。 反応終了液を室温に冷却し、反応器の圧力を常
圧に戻した後、結晶を過乾燥して結晶100gを
得た。 得られた結晶はIR、NMR、二重結合値、酸
価、第４級塩および元素分析からの高純度の２―
メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニ
ウムクロライドであることを確認した。 実施例 ２ 実施例１と同一の反応器に室温で２―クロロエ
チルアクリレート67g（0.5モル）ハイドロキノン
モノメチルエーテル0.13g、アセトニトリル100ml
を添加し、容器を封じ、トリメチルアミン30g
（0.5モル）を容器内に約30分かけて添加した。 ついで75℃に加温し、この温度で10時間反応せ
しめた。 反応終了液を室温に冷却し、反応器の圧力を常
圧に戻した後、内容物を取り出し、過乾燥して
結晶92gを得た。 得られた結晶はIR、、NMR、二重結合値、酸
価、第４級塩および元素分析から高純度の２―ア
クリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム
クロライドであることを確認した。 実施例 ３ 実施例１と同じ反応装置を用い、室温で２―ク
ロロエチルメタクリレート74g（0.5モル）および
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.15g、アセ
トニトリル100mlを添加し、容器を封じ、トリメ
チルアミン89g（1.5モル）を容器内に約45分かけ
て添加した。 ついで75℃に加温し、この温度で６時間反応せ
しめた。 反応終了液を室温に冷却し、反応器の圧力を常
圧に戻した後、内容物を取り出し、過乾燥して
結晶97gを得た。 得られた結晶を実施例１と同様に分析した結
果、高純度の２―メタクリロイルオキシエチルト
リメチルアンモニウムクライドが得られることを
確認した。 実施例 ４ 実施例１と同じ反応装置を用い、室温で２―ク
ロロエチルメタクリレート74g（0.5モル）および
ハイドロキノン0.15g、アセトニトリル100mlを添
加し、容器を封じ、トリメチルアミン23.6g（0.4
モル）を容器内に約20分かけて添加した。 ついで75℃に加温し、この温度で12時間反応せ
しめた。 実施例１と同様に操作し、結晶38gを得た。実
施例１と同様に分析した結果、高純度の２―メタ
クリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム
クロライドであることを確認した。 実施例 ５ かくはん装置、温度計、および冷却管を備えた
４口フラスコに２―クロロエチルメタクリレート
74g（0.5モル）、ハイドロキノン0.15g、アセトニ
トル100mlおよびトリエタノールアミン75g（0.5モ
ル）を室温で添加したのち昇温し75℃で10時間反
応した。 反応終了液を室温に冷却し、内容物を取り出
し、過乾燥して結晶139gを得た。 実施例１と同様の分析を行ない、純度99.9％の
メタクリロイルオキシエチルトリヒドロキシエチ
ルアンモニウムクロライドを得た。 実施例 ６ かくはん装置、温度計および冷却管を備えた４
口フラスコに２―クロロエチルメタクリレート
74g（0.5モル）、ハイドロキノン0.15g、アセトニ
トリル100mlおよびＮ，Ｎジメチルベンジルアミ
ン68g（0.5モル）を室温で添加したのち昇温し90
℃で８時間反応した。 反応終了液を室温に冷却し、内容物を取り出
し、過乾燥して結晶136gを得た。 実施例１と同様の分析を行つた結果、純度
100.0％の２―メタクリロイルオキシエチルＮ，
Ｎジメチルベンジルアンモニウムクロライドであ
ることを確認した。
有するアルキル基，ヒドロキシアルキル基およ
び／またはベンジル基を表わす。） とを反応させ、一般式〔〕で示される不飽和第
４級アンモニウム塩を製造する方法に関する。 （但し、式中R1，R2，R3，R4，ＡおよびＸは式
〔〕および〔〕中の定義と同じ。） 一般式〔〕で示される化合物は凝集剤，帯電
防止剤，土壌改質剤，紙力増強剤，染色改良剤等
の製造原料となる有用な単量体である。 従来、一般式〔〕で表わされる（メタ）アク
リロイルオキシドエチルトリアルキルアンモニウ
ム塩は反応式(1)による方法で得られる事は知られ
ている。 （但し、式中R1はＨまたはCH3，R2，R3および
R4は―CH3または―C2H5，ＸはCl，Brまたは
を表わす。） しかし、反応式(1)による不飽和第４級アンモニウ
ム塩の合成では、副反応物の混入を完全に回避し
た製品を得ることが困難で、その為製品の重合体
を再現性良く収得する事が難しく、この点の改良
が強く望まれていた。 本発明者らは、この点を解決すべく鋭意検討し
た結果、従来通常行なわれている反応式(1)に基づ
く方法とは全く異なる新規な製造方法で、高純度
の、一般式〔〕で示される不飽和第４級アンモ
ニウム塩を製造できる事を見出し、本発明に到達
したものである。 本発明で用いる出発原料の不飽和化合物〔〕
としては、例えば２―クロロエチル（メタ）アク
リレート、２―ブロモエチル（メタ）アクリレー
ト、２―ヨードエチル（メタ）アクリレート、３
―クロロプピル（メタ）アクリレート、４―クロ
ロブチル（メタ）アクリレート、２―クロロ―２
―メチル―エチル（メタ）アクリレートなどがあ
り、第３級アミン〔〕としては、例えばトリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミ
ン、トリブタノールアミン、Ｎ，Ｎジメチルベン
ジルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメ
チルアミン、メチルエチルブチルアミンなどがあ
る。 第３級アミン〔〕と不飽和化合物〔〕の仕
込みモル比は広い範囲で反応でき、例えば0.1〜
10であるが、好ましくは0.6〜４である。 本発明者は有機溶媒の存在下で進行させること
が好ましい。 反応に用いられる溶媒は、例えばアセトニトリ
ル、プロピオニトリル、アセトン、メチルエチル
ケトン、ジメチルホルムアミド、スルホラン、テ
トラヒドロフラン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、ブタノールあるいはヘキサン、シク
ロヘキサン等が挙げられる。 反応圧力は常圧から100Kg／cm2Ｇで使用できる
が、出力原料によつては減圧下で行なつてもよ
い。好ましくは常圧から20Kg／cm2Ｇである。 反応は一般に高められた温度において行なわ
れ、室温から150℃あるか40℃から100℃で反応す
るのが好ましい。室温より低い温度でも反応は進
むが反応速度が遅く経済的ではない。 化合物〔〕及び〔〕は重合性物質であるた
め反応系には重合防止剤を存在させることが好ま
しい。 重合防止剤としては、ハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル、フエノチアジン、
２，６―ジターシヤリーブチルパラクレゾール、
尿素、チオ尿素、２，４，６―トリターシヤリー
ブチルフエノール、Ｎ―フエニル―N′―イソプ
ロピル―パラフエニレンジアミン等が用いられ
る。 第３級アミン〔〕と不飽和化合物〔〕およ
び重合防止剤はそれぞれ別々の手段によつて反応
器に加えてもよく、あるいはそれらの一部または
全部を反応器入口の手前で混合して反応器に加え
てもよい。 また、本発明の方法は回分式または連続式のど
ちらの操作で行つてもよい。例えば加圧回分式の
反応操作では必要ならば不活性気体で反応器容積
を置換した後、反応器を封じ、反応原料および重
合防止剤を加え所定の温度で所定の時間が経過し
た後、必要ならば反応器および内容物を所定の温
度まで冷却し、過、晶析、抽出、脱溶剤などの
通常の方法で目的の化合物を得ることができる。 反応器としては、かくはん装置付オートクレー
ブや加圧管等が用いられる。連続式の操作では、
例えば反応原料および重合防止剤が反応器に連続
的に加えられれ、反応混合物が所定の温度にて、
所定の滞在時間が経過できるようなかくはん装置
付反応器、あるいはオートクレーブや加圧管また
はコイルのような装置であつてもよい。 以下実施例を用いて具体的に説明する。 実施例 １ かくはん装置、圧力計および熱電対を備えたグ
ラスライニング製オートクレーブ内に室温で２―
クロロエチルメタクリレート74g（0.5モル）およ
びハイドロキノンモノメチルエーテル0.15g、ア
セトニトリル100mlを添加し容器を封じ、トリメ
チルアミン30g（0.5モル）を容器内に約30分にか
けて添加した。 ついで75℃に加温し、この温度で10時間かくは
んしながら反応せしめた。 反応終了液を室温に冷却し、反応器の圧力を常
圧に戻した後、結晶を過乾燥して結晶100gを
得た。 得られた結晶はIR、NMR、二重結合値、酸
価、第４級塩および元素分析からの高純度の２―
メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニ
ウムクロライドであることを確認した。 実施例 ２ 実施例１と同一の反応器に室温で２―クロロエ
チルアクリレート67g（0.5モル）ハイドロキノン
モノメチルエーテル0.13g、アセトニトリル100ml
を添加し、容器を封じ、トリメチルアミン30g
（0.5モル）を容器内に約30分かけて添加した。 ついで75℃に加温し、この温度で10時間反応せ
しめた。 反応終了液を室温に冷却し、反応器の圧力を常
圧に戻した後、内容物を取り出し、過乾燥して
結晶92gを得た。 得られた結晶はIR、、NMR、二重結合値、酸
価、第４級塩および元素分析から高純度の２―ア
クリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム
クロライドであることを確認した。 実施例 ３ 実施例１と同じ反応装置を用い、室温で２―ク
ロロエチルメタクリレート74g（0.5モル）および
ハイドロキノンモノメチルエーテル0.15g、アセ
トニトリル100mlを添加し、容器を封じ、トリメ
チルアミン89g（1.5モル）を容器内に約45分かけ
て添加した。 ついで75℃に加温し、この温度で６時間反応せ
しめた。 反応終了液を室温に冷却し、反応器の圧力を常
圧に戻した後、内容物を取り出し、過乾燥して
結晶97gを得た。 得られた結晶を実施例１と同様に分析した結
果、高純度の２―メタクリロイルオキシエチルト
リメチルアンモニウムクライドが得られることを
確認した。 実施例 ４ 実施例１と同じ反応装置を用い、室温で２―ク
ロロエチルメタクリレート74g（0.5モル）および
ハイドロキノン0.15g、アセトニトリル100mlを添
加し、容器を封じ、トリメチルアミン23.6g（0.4
モル）を容器内に約20分かけて添加した。 ついで75℃に加温し、この温度で12時間反応せ
しめた。 実施例１と同様に操作し、結晶38gを得た。実
施例１と同様に分析した結果、高純度の２―メタ
クリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム
クロライドであることを確認した。 実施例 ５ かくはん装置、温度計、および冷却管を備えた
４口フラスコに２―クロロエチルメタクリレート
74g（0.5モル）、ハイドロキノン0.15g、アセトニ
トル100mlおよびトリエタノールアミン75g（0.5モ
ル）を室温で添加したのち昇温し75℃で10時間反
応した。 反応終了液を室温に冷却し、内容物を取り出
し、過乾燥して結晶139gを得た。 実施例１と同様の分析を行ない、純度99.9％の
メタクリロイルオキシエチルトリヒドロキシエチ
ルアンモニウムクロライドを得た。 実施例 ６ かくはん装置、温度計および冷却管を備えた４
口フラスコに２―クロロエチルメタクリレート
74g（0.5モル）、ハイドロキノン0.15g、アセトニ
トリル100mlおよびＮ，Ｎジメチルベンジルアミ
ン68g（0.5モル）を室温で添加したのち昇温し90
℃で８時間反応した。 反応終了液を室温に冷却し、内容物を取り出
し、過乾燥して結晶136gを得た。 実施例１と同様の分析を行つた結果、純度
100.0％の２―メタクリロイルオキシエチルＮ，
Ｎジメチルベンジルアンモニウムクロライドであ
ることを確認した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式〔〕で示される不飽和化合物 （但し、式中R1はＨまたはCH3，Ａは―（CH2）
o―（但しｎは２から４）または
【式】ＸはCl，Brまたはを表わす。） と一般式〔〕で示される第３級アミン （但し、式中R2，R3，R4は炭素数１から８ケを
有するアルキル基，ヒドロキシアルキル基およ
び／またはベンジル基を表わす。） とを反応させることを特徴とする一般式〔〕 で示される不飽和第４級アンモニウム塩の製造方
法。 （式中R1，R2，R3，R4，ＡおよびＸは式〔〕
および式〔〕中の定義と同じ。） ２ 有機溶媒の存在下で反応させることを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP443382A JPS58121254A (ja) | 1982-01-14 | 1982-01-14 | 不飽和第４級アンモニウム塩の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP443382A JPS58121254A (ja) | 1982-01-14 | 1982-01-14 | 不飽和第４級アンモニウム塩の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58121254A JPS58121254A (ja) | 1983-07-19 |
| JPH0214343B2 true JPH0214343B2 (ja) | 1990-04-06 |
Family
ID=11584103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP443382A Granted JPS58121254A (ja) | 1982-01-14 | 1982-01-14 | 不飽和第４級アンモニウム塩の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58121254A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5916859A (ja) * | 1982-07-19 | 1984-01-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 不飽和第４級アンモニウム塩の製造方法 |
| KR20030078233A (ko) * | 2002-03-28 | 2003-10-08 | 학교법인조선대학교 | 경화속도 및 내마모성이 우수한 자외선 경화형 4급암모늄염, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 자외선 경화형수지 조성물 |
| CN102276486A (zh) * | 2011-05-30 | 2011-12-14 | 湖北工业大学 | 一种酯交换法生产（甲基）丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵的方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6043146B2 (ja) * | 1980-01-11 | 1985-09-26 | ブラザー工業株式会社 | ミシンの縫目位置情報プログラミング装置 |
| US4352334A (en) * | 1981-08-03 | 1982-10-05 | Childs William R | Method and apparatus for stitching material along a curve |
| JPS5991A (ja) * | 1982-06-23 | 1984-01-05 | ジューキ株式会社 | 刺繍縫いミシンのデ−タ作成装置 |
-
1982
- 1982-01-14 JP JP443382A patent/JPS58121254A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58121254A (ja) | 1983-07-19 |
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