JPH06279360A - ハロゲン化ケイ皮酸およびそのエステル、それらの製造方法およびハロゲン化アリールジアゾニウム塩 - Google Patents
ハロゲン化ケイ皮酸およびそのエステル、それらの製造方法およびハロゲン化アリールジアゾニウム塩Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C245/00—Compounds containing chains of at least two nitrogen atoms with at least one nitrogen-to-nitrogen multiple bond
- C07C245/20—Diazonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C57/52—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen
- C07C57/58—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen containing six-membered aromatic rings
- C07C57/60—Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms containing halogen containing six-membered aromatic rings having unsaturation outside the rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/62—Halogen-containing esters
- C07C69/65—Halogen-containing esters of unsaturated acids
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- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 置換されているケイ皮酸およびケイ皮酸エス
テル群からの新規化合物を提供する。 【構成】 式 【化1】 〔式中R1 およびR2 は同一または異なり、水素または
炭素原子数1〜18の、場合により酸素、窒素またはハ
ロゲンを含むアルキル基であり、基X、YおよびZは同
一であり、フッ素、臭素またはヨウ素原子であるか、あ
るいは、基X、YまたはZの中の2つが同一であるかま
たは基X、Y、Z全てが互いに異なる場合には、X、Y
およびZはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子であ
る。〕で表される化合物。
テル群からの新規化合物を提供する。 【構成】 式 【化1】 〔式中R1 およびR2 は同一または異なり、水素または
炭素原子数1〜18の、場合により酸素、窒素またはハ
ロゲンを含むアルキル基であり、基X、YおよびZは同
一であり、フッ素、臭素またはヨウ素原子であるか、あ
るいは、基X、YまたはZの中の2つが同一であるかま
たは基X、Y、Z全てが互いに異なる場合には、X、Y
およびZはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子であ
る。〕で表される化合物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規ハロゲン化ケイ皮
酸およびそのエステル、それらの製造方法および、これ
に必要な新規ハロゲン化アリールジアゾニウム化合物に
関する。
酸およびそのエステル、それらの製造方法および、これ
に必要な新規ハロゲン化アリールジアゾニウム化合物に
関する。
【0002】
【従来の技術】置換されているケイ皮酸およびケイ皮酸
エステルは、工業的に重要である。それらは、クリー
ム、軟膏および油中で、紫外線吸収材料として使用され
る。化粧品分野における光保護剤としてのそれらの用途
に加えて、置換されているケイ皮酸およびそのエステル
は、におい物質および酸化防止剤として役に立つ(引用
文献 DE3139994、DE3012535、EP
484122、US4970332、JP041297
90)。さらに、それらは、一方で、除草剤、殺真菌剤
および薬学的に活性な物質の製造のための重要な出発物
質および中間体であり、他方で、それ自体、活性化合
物、例えば、リポキシゲナーゼ阻害剤またはアルドラー
ゼ還元酵素阻害剤として役に立つ(JP0419389
0、JP04208211)。上記の適用領域は、当該
新規ハロゲン化ケイ皮酸およびハロゲン化ケイ皮酸エス
テルにも当てはまる。
エステルは、工業的に重要である。それらは、クリー
ム、軟膏および油中で、紫外線吸収材料として使用され
る。化粧品分野における光保護剤としてのそれらの用途
に加えて、置換されているケイ皮酸およびそのエステル
は、におい物質および酸化防止剤として役に立つ(引用
文献 DE3139994、DE3012535、EP
484122、US4970332、JP041297
90)。さらに、それらは、一方で、除草剤、殺真菌剤
および薬学的に活性な物質の製造のための重要な出発物
質および中間体であり、他方で、それ自体、活性化合
物、例えば、リポキシゲナーゼ阻害剤またはアルドラー
ゼ還元酵素阻害剤として役に立つ(JP0419389
0、JP04208211)。上記の適用領域は、当該
新規ハロゲン化ケイ皮酸およびハロゲン化ケイ皮酸エス
テルにも当てはまる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この物質類の一般的重
要性および多方面の使用適性のため、やりがいのある目
的は、それらの可能性のある適用範囲を補足するためだ
けでなく、物質特性の微妙な区別をつけることによりこ
の範囲を豊かにし、広げるためにも、この物質群からの
新規化合物を提供することである。
要性および多方面の使用適性のため、やりがいのある目
的は、それらの可能性のある適用範囲を補足するためだ
けでなく、物質特性の微妙な区別をつけることによりこ
の範囲を豊かにし、広げるためにも、この物質群からの
新規化合物を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】この目的は式
【0005】
【化13】
【0006】〔式中R1 およびR2 は同一または異なっ
ていて、水素または炭素原子数1〜18の、場合により
酸素、窒素またはハロゲンを含むアルキル基であり、基
X、YおよびZは同一であって、フッ素、臭素またはヨ
ウ素原子であるか、あるいは、基X、YまたはZの中の
2つが同一であるかまたは基X、Y、Z全てが互いに異
なる場合には、X、YおよびZはフッ素、塩素、臭素ま
たはヨウ素原子である。〕で表される化合物により達成
される。
ていて、水素または炭素原子数1〜18の、場合により
酸素、窒素またはハロゲンを含むアルキル基であり、基
X、YおよびZは同一であって、フッ素、臭素またはヨ
ウ素原子であるか、あるいは、基X、YまたはZの中の
2つが同一であるかまたは基X、Y、Z全てが互いに異
なる場合には、X、YおよびZはフッ素、塩素、臭素ま
たはヨウ素原子である。〕で表される化合物により達成
される。
【0007】一般に適当なアルキル基は、環状、直鎖あ
るいは、単一または多重分枝のアルキル基──それは、
飽和または一不飽和もしくは多不飽和であり、場合によ
り1個またはそれ以上のヘテロ原子、例えば酸素、窒素
またはハロゲンを含む──である。これらの基の例は、
メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、t−ブチル、i−ブチル、n−ペンチル、i−ペ
ンチル、n−ヘキシル、i−ヘキシル、n−ヘプチル、
i−ヘプチル、n−オクチル、i−オクチル、2−エチ
ルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、
トリデシテル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル、2−クロロエチル、2−ブロモエチル、2−ヒド
ロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキ
シプロピル、2−メトキシエチル、2−エトキシエチ
ル、4−エトキシブチル、2−プロポキシエチル、2−
ブトキシエチル、3−メトキシプロピル、3−エトキシ
プロピル、4−メトキシブチル、3−エトキシブチル、
3−ヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル、3−
クロロプロピル、2−クロロプロピル、2−アセトキシ
エチル、3−アセトキシプロピル、4−アセトキシブチ
ル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル、シクロデシル、シクロドデシル、
2,3−エポキシプロピル、2−アミノエチル、2−ア
ミノプロピル、3−アミノプロピル、4−アミノブチ
ル、2−アセトアミドエチル、3−アセトアミドプロピ
ル、4−アセトアミドブチル、2−フリル、3−フリ
ル、2−エテニル、2−プロペニル、2−ブテニル、3
−ブテニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、シクロ
ペンテニルおよびシクロヘキセニルである。
るいは、単一または多重分枝のアルキル基──それは、
飽和または一不飽和もしくは多不飽和であり、場合によ
り1個またはそれ以上のヘテロ原子、例えば酸素、窒素
またはハロゲンを含む──である。これらの基の例は、
メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、t−ブチル、i−ブチル、n−ペンチル、i−ペ
ンチル、n−ヘキシル、i−ヘキシル、n−ヘプチル、
i−ヘプチル、n−オクチル、i−オクチル、2−エチ
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トリデシテル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル、2−クロロエチル、2−ブロモエチル、2−ヒド
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プロピル、4−メトキシブチル、3−エトキシブチル、
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クロロプロピル、2−クロロプロピル、2−アセトキシ
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シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル、シクロデシル、シクロドデシル、
2,3−エポキシプロピル、2−アミノエチル、2−ア
ミノプロピル、3−アミノプロピル、4−アミノブチ
ル、2−アセトアミドエチル、3−アセトアミドプロピ
ル、4−アセトアミドブチル、2−フリル、3−フリ
ル、2−エテニル、2−プロペニル、2−ブテニル、3
−ブテニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、シクロ
ペンテニルおよびシクロヘキセニルである。
【0008】R1 は、水素の他に、炭素原子数1〜1
8、特に1〜12の、場合により酸素、窒素またはハロ
ゲン、特に塩素を含むアルキル基である。これらの基に
は、炭素原子数1〜18の、特に1〜12の、場合によ
りアルコキシ基またはアシルオキシ基で置換されている
直鎖または分枝鎖のアルキル基が含まれる。アルコキシ
基またはアシルオキシ基は、いかなる位置を占めてもよ
い。R1 は特に水素あるいはメチアル、エチル、n−プ
ロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−
ブチル、n−ヘキシル、i−ヘキシル、n−オクチル、
i−オクチル、2−エチルヘキシル、デシルまたはドデ
シル基である。
8、特に1〜12の、場合により酸素、窒素またはハロ
ゲン、特に塩素を含むアルキル基である。これらの基に
は、炭素原子数1〜18の、特に1〜12の、場合によ
りアルコキシ基またはアシルオキシ基で置換されている
直鎖または分枝鎖のアルキル基が含まれる。アルコキシ
基またはアシルオキシ基は、いかなる位置を占めてもよ
い。R1 は特に水素あるいはメチアル、エチル、n−プ
ロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−
ブチル、n−ヘキシル、i−ヘキシル、n−オクチル、
i−オクチル、2−エチルヘキシル、デシルまたはドデ
シル基である。
【0009】R1 がHである式(I)で表される遊離ケ
イ皮酸は、それらがそれ自体上述した適用のための中間
体として重要であり、アルコールとの反応によって対応
するエステルに変換されることができ、エステルの多様
性への道を開くので、かなり重要である。
イ皮酸は、それらがそれ自体上述した適用のための中間
体として重要であり、アルコールとの反応によって対応
するエステルに変換されることができ、エステルの多様
性への道を開くので、かなり重要である。
【0010】アルキル基は、−(CH2 )n −OR3 基
(但しn=2〜6かつR3 は炭素原子数1〜4のアルキ
ルである)または−(CH2 −CH2 −O)n −R3 基
(但しn=2〜4かつR3 は炭素原子数1〜4のアルキ
ル基である)である基を意味することもできる。これ
は、R1 およびR2 の両方に、特にR1 に関係する。
(但しn=2〜6かつR3 は炭素原子数1〜4のアルキ
ルである)または−(CH2 −CH2 −O)n −R3 基
(但しn=2〜4かつR3 は炭素原子数1〜4のアルキ
ル基である)である基を意味することもできる。これ
は、R1 およびR2 の両方に、特にR1 に関係する。
【0011】R2 が水素またはメチル基である式(I)
で表される化合物が重要である。それらは簡単にかつ経
済的に製造され得る。X、YおよびZが同一である場合
には、これらの基は、それぞれフッ素、臭素またはヨウ
素原子である。3つの基X、YおよびZの中の2つが互
いに同一である場合、X、YまたはZはフッ素、塩素、
臭素またはヨウ素原子、特にフッ素、塩素または臭素原
子であり、その際、互いに同一である基は特にフッ素ま
たは塩素原子である。基X、Y、Z全てが互いに同一で
ある場合、X、YおよびZはフッ素、塩素、臭素または
ヨウ素原子、特にフッ素、塩素または臭素原子である。
で表される化合物が重要である。それらは簡単にかつ経
済的に製造され得る。X、YおよびZが同一である場合
には、これらの基は、それぞれフッ素、臭素またはヨウ
素原子である。3つの基X、YおよびZの中の2つが互
いに同一である場合、X、YまたはZはフッ素、塩素、
臭素またはヨウ素原子、特にフッ素、塩素または臭素原
子であり、その際、互いに同一である基は特にフッ素ま
たは塩素原子である。基X、Y、Z全てが互いに同一で
ある場合、X、YおよびZはフッ素、塩素、臭素または
ヨウ素原子、特にフッ素、塩素または臭素原子である。
【0012】重点は、2つの同一の基XおよびYが臭素
原子でありそしてZがフッ素原子であるかまたは2つの
同一の基YおよびZがそれぞれフッ素原子でありそして
Xが臭素原子である式(I)で表される化合物に置かれ
る。さらに、Xが臭素原子であり、Yが塩素原子であり
そしてZがフッ素原子である化合物も重要である。
原子でありそしてZがフッ素原子であるかまたは2つの
同一の基YおよびZがそれぞれフッ素原子でありそして
Xが臭素原子である式(I)で表される化合物に置かれ
る。さらに、Xが臭素原子であり、Yが塩素原子であり
そしてZがフッ素原子である化合物も重要である。
【0013】R1 およびR2 が同一または異なってい
て、水素または、炭素原子数1〜18、特に1〜12
の、場合により酸素、窒素またはハロゲンを含むアルキ
ル基であり、Xが塩素原子でありそしてYおよびZがそ
れぞれフッ素原子である式(I)で表される化合物が特
に重要である。R1 が水素またはアルキル基、特に炭素
原子数1〜12の飽和アルキル基であり、そしてR2 が
水素またはメチル基、特に水素であるこのタイプの化合
物が特に挙げられる。これらの例は、2−クロロ−4,
5−ジフルオロケイ皮酸のメチル、エチル、n−プロピ
ル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシ
ル、デシル、ドデシル、2−クロロエチル、2−アミノ
エチル、2−アセトアミドエチル、2−アセトキシエチ
ルおよび3−アセトキシプロピルエステルである。2−
クロロ−4,5−ジフルオロケイ皮酸のメチル、エチ
ル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブ
チル、t−ブチル、ヘキシル、オクチルおよび2−エチ
ルヘキシルエステルが好ましい。
て、水素または、炭素原子数1〜18、特に1〜12
の、場合により酸素、窒素またはハロゲンを含むアルキ
ル基であり、Xが塩素原子でありそしてYおよびZがそ
れぞれフッ素原子である式(I)で表される化合物が特
に重要である。R1 が水素またはアルキル基、特に炭素
原子数1〜12の飽和アルキル基であり、そしてR2 が
水素またはメチル基、特に水素であるこのタイプの化合
物が特に挙げられる。これらの例は、2−クロロ−4,
5−ジフルオロケイ皮酸のメチル、エチル、n−プロピ
ル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシ
ル、デシル、ドデシル、2−クロロエチル、2−アミノ
エチル、2−アセトアミドエチル、2−アセトキシエチ
ルおよび3−アセトキシプロピルエステルである。2−
クロロ−4,5−ジフルオロケイ皮酸のメチル、エチ
ル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブ
チル、t−ブチル、ヘキシル、オクチルおよび2−エチ
ルヘキシルエステルが好ましい。
【0014】同様に、R1 およびR2 が同一または異な
っていて、水素または炭素原子数1〜18、特に1〜1
2の、場合により酸素、窒素またはハロゲンを含むアル
キル基でありそしてX、YおよびZがそれぞれフッ素原
子である式(I)で表される化合物も特に重要である。
R1 が水素またはアルキル基、特に炭素原子数1〜12
の飽和アルキル基でありそしてR2 が水素またはメチル
基、特に水素であるこのタイプの化合物が特に挙げられ
る。
っていて、水素または炭素原子数1〜18、特に1〜1
2の、場合により酸素、窒素またはハロゲンを含むアル
キル基でありそしてX、YおよびZがそれぞれフッ素原
子である式(I)で表される化合物も特に重要である。
R1 が水素またはアルキル基、特に炭素原子数1〜12
の飽和アルキル基でありそしてR2 が水素またはメチル
基、特に水素であるこのタイプの化合物が特に挙げられ
る。
【0015】これらの例は、2,4,5−トリフルオロ
ケイ皮酸のメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピ
ル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、ペンチル、
ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、デシル、ド
デシル、2−クロロエチル、2−アミノ−エチル、2−
アセトアミドエチル、2−アセトキシエチルおよび3−
アセトキシプロピルエステルである。2,4,5−トリ
フルオロケイ皮酸のメチル、エチル、n−プロピル、i
−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、ヘ
キシル、オクチルおよび2−エチルヘキシルエステルが
好ましい。
ケイ皮酸のメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピ
ル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、ペンチル、
ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、デシル、ド
デシル、2−クロロエチル、2−アミノ−エチル、2−
アセトアミドエチル、2−アセトキシエチルおよび3−
アセトキシプロピルエステルである。2,4,5−トリ
フルオロケイ皮酸のメチル、エチル、n−プロピル、i
−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、ヘ
キシル、オクチルおよび2−エチルヘキシルエステルが
好ましい。
【0016】同様に、R1 およびR2 が同一または異な
っていて、水素または炭素原子数1〜18、特に1〜1
2の、場合により酸素、窒素またはハロゲンを含むアル
キル基であり、XおよびYがそれぞれ塩素原子でありそ
してZがフッ素原子である式(I)で表される化合物も
特に重要である。R1 が水素またはアルキル基、特に炭
素原子数1〜12の飽和アルキル基であり、そしてR2
が水素またはメチル基、特に水素であるこのタイプの化
合物が特に挙げられ得る。これらの例は、2,4−ジク
ロロ−5−フルオロケイ皮酸のメチル、エチル、n−プ
ロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘ
キシル、デシル、ドデシル、2−クロロエチル、2−ア
ミノエチル、2−アセトアミドエチル、2−アセトキシ
エチルおよび3−アセトキシプロピルエステルである。
っていて、水素または炭素原子数1〜18、特に1〜1
2の、場合により酸素、窒素またはハロゲンを含むアル
キル基であり、XおよびYがそれぞれ塩素原子でありそ
してZがフッ素原子である式(I)で表される化合物も
特に重要である。R1 が水素またはアルキル基、特に炭
素原子数1〜12の飽和アルキル基であり、そしてR2
が水素またはメチル基、特に水素であるこのタイプの化
合物が特に挙げられ得る。これらの例は、2,4−ジク
ロロ−5−フルオロケイ皮酸のメチル、エチル、n−プ
ロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘ
キシル、デシル、ドデシル、2−クロロエチル、2−ア
ミノエチル、2−アセトアミドエチル、2−アセトキシ
エチルおよび3−アセトキシプロピルエステルである。
【0017】2,4−ジクロロ−5−フルオロケイ皮酸
のメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−
ブチル、i−ブチル、t−ブチル、ヘキシル、オクチル
および2−エチルヘキシルエステルが好ましい。
のメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−
ブチル、i−ブチル、t−ブチル、ヘキシル、オクチル
および2−エチルヘキシルエステルが好ましい。
【0018】さらに、R1 が、炭素原子数1〜18、特
に1〜12の、場合によりアルコキシまたはアシルオキ
シで置換されている直鎖または分枝鎖のアルキル基であ
るかまたは−(CH2 )n −OR3 基(但しn=2〜6
かつR3 は炭素原子数1〜4のアルキル基である)であ
る上述の3つのグループの化合物(1.X=Cl、Y=
Z=F;2.X=Y=Z=F;3.X=Y=Cl;Z=
F)も重要である。R 2 は、特に、水素またはメチル
基、好ましくは水素原子である。これらの例は、対応す
る2−ヒドロキシエチル、2−メトキシエチル、2−エ
トキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキ
シプロピル、3−メトキシプロピル、3−エトキシプロ
ピル、4−メトキシブチルおよび4−エトキシブチルエ
ステルである。
に1〜12の、場合によりアルコキシまたはアシルオキ
シで置換されている直鎖または分枝鎖のアルキル基であ
るかまたは−(CH2 )n −OR3 基(但しn=2〜6
かつR3 は炭素原子数1〜4のアルキル基である)であ
る上述の3つのグループの化合物(1.X=Cl、Y=
Z=F;2.X=Y=Z=F;3.X=Y=Cl;Z=
F)も重要である。R 2 は、特に、水素またはメチル
基、好ましくは水素原子である。これらの例は、対応す
る2−ヒドロキシエチル、2−メトキシエチル、2−エ
トキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキ
シプロピル、3−メトキシプロピル、3−エトキシプロ
ピル、4−メトキシブチルおよび4−エトキシブチルエ
ステルである。
【0019】2−ヒドロキシエチル、2−メトキシエチ
ルおよび2−エトキシエチルエステルが好ましい。ハロ
ゲン化ケイ皮酸およびそのエステルは、適当なオレフィ
ン化合物、特に場合により置換されているアクリル酸ま
たは場合により置換されているアクリル酸エステルを、
対応して置換されているアリールハロゲン化物、または
アリールジアゾニウム化合物と、パラジウム含有触媒の
存在下に反応させることによって製造され得る。
ルおよび2−エトキシエチルエステルが好ましい。ハロ
ゲン化ケイ皮酸およびそのエステルは、適当なオレフィ
ン化合物、特に場合により置換されているアクリル酸ま
たは場合により置換されているアクリル酸エステルを、
対応して置換されているアリールハロゲン化物、または
アリールジアゾニウム化合物と、パラジウム含有触媒の
存在下に反応させることによって製造され得る。
【0020】アリールジアゾニウム塩は、ケイ皮酸およ
びそのエステルの比較的簡単な製造を可能にする。それ
らの塩は、本発明の主題であって、式
びそのエステルの比較的簡単な製造を可能にする。それ
らの塩は、本発明の主題であって、式
【0021】
【化14】
【0022】〔式中X、YおよびZは同一であって、フ
ッ素、臭素またはヨウ素原子であるか、あるいは、基
X、YおよびZの中の2つが同一であるかまたは基X、
Y、Z全てが互いに異なる場合には、X、YおよびZは
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子でありそしてA
(-) はpKa <7を有する酸のアニオンである。〕によ
って記載され得る。pKa <7を有する使用され得る酸
は、例えば、HBF 4 、HPF6 、H2 SO4 、HC
l、HNO3 、CH3 COOH、H3 PO4 、HClO
4 、CF3 COOH、CH3 CH2 COOH、シュウ
酸、ClCH2 COOH、PhSO3 H、H2 SnCl
6 、特にHBF4 、HPF6 、HCl、H 2 SO4 、C
H3 COOH、好ましくはHBF4 、CH3 COOHま
たはH2 SO4 である。
ッ素、臭素またはヨウ素原子であるか、あるいは、基
X、YおよびZの中の2つが同一であるかまたは基X、
Y、Z全てが互いに異なる場合には、X、YおよびZは
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子でありそしてA
(-) はpKa <7を有する酸のアニオンである。〕によ
って記載され得る。pKa <7を有する使用され得る酸
は、例えば、HBF 4 、HPF6 、H2 SO4 、HC
l、HNO3 、CH3 COOH、H3 PO4 、HClO
4 、CF3 COOH、CH3 CH2 COOH、シュウ
酸、ClCH2 COOH、PhSO3 H、H2 SnCl
6 、特にHBF4 、HPF6 、HCl、H 2 SO4 、C
H3 COOH、好ましくはHBF4 、CH3 COOHま
たはH2 SO4 である。
【0023】Xが塩素原子でありそしてYおよびZがそ
れぞれフッ素原子である、上述の式(II)で表される
アリールジアゾニウム化合物が特に重要である。これら
の例は2−クロロ−4,5−ジフルオロフェニルジアゾ
ニウムテトラフルオロボラート、硫酸水素2−クロロ−
4,5−ジフルオロフェニルジアゾニウム、硫酸2−ク
ロロ−4,5−ジフルオロフェニルジアゾニウム、塩化
2−クロロ−4,5−ジフルオロフェニルジアゾニウ
ム、酢酸2−クロロ−4,5−ジフルオロフェニルジア
ゾニウム、ビス−(2−クロロ−4,5−ジフルオロフ
ェニルジアゾニウム)スズテトラクロリドである。
れぞれフッ素原子である、上述の式(II)で表される
アリールジアゾニウム化合物が特に重要である。これら
の例は2−クロロ−4,5−ジフルオロフェニルジアゾ
ニウムテトラフルオロボラート、硫酸水素2−クロロ−
4,5−ジフルオロフェニルジアゾニウム、硫酸2−ク
ロロ−4,5−ジフルオロフェニルジアゾニウム、塩化
2−クロロ−4,5−ジフルオロフェニルジアゾニウ
ム、酢酸2−クロロ−4,5−ジフルオロフェニルジア
ゾニウム、ビス−(2−クロロ−4,5−ジフルオロフ
ェニルジアゾニウム)スズテトラクロリドである。
【0024】同様に特に重要なものは、X、YおよびZ
がそれぞれフッ素原子である、上述の式(II)で表さ
れるアリールジアゾニウム化合物である。これらの例
は、2,4,5−トリフルオロフェニルジアゾニウムテ
トラフルオロボラート、硫酸水素2,4,5−トリフル
オロフェニルジアゾニウム、硫酸2,4,5−トリフル
オロフェニルジアゾニウム、塩化2,4,5−トリフル
オロフェニルジアゾニウム、酢酸2,4,5−トリフル
オロフェニルジアゾニウム、ビス−(2,4,5−トリ
フルオロフェニルジアゾニウム)スズテトラクロリドで
ある。
がそれぞれフッ素原子である、上述の式(II)で表さ
れるアリールジアゾニウム化合物である。これらの例
は、2,4,5−トリフルオロフェニルジアゾニウムテ
トラフルオロボラート、硫酸水素2,4,5−トリフル
オロフェニルジアゾニウム、硫酸2,4,5−トリフル
オロフェニルジアゾニウム、塩化2,4,5−トリフル
オロフェニルジアゾニウム、酢酸2,4,5−トリフル
オロフェニルジアゾニウム、ビス−(2,4,5−トリ
フルオロフェニルジアゾニウム)スズテトラクロリドで
ある。
【0025】同様に特に重要なものは、XおよびYがそ
れぞれ塩素原子でありそしてZがフッ素原子である、上
述の式(II)で表されるアリールジアゾニウム化合物
である。これらの例は、2,4−ジクロロ−5−フルオ
ロフェニルジアゾニウムテトラフルオロボラート、硫酸
水素2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジアゾニ
ウム、硫酸2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジ
アゾニウム、塩化2,4−ジクロロ−5−フルオロフェ
ニルジアゾニウム、酢酸2,4−ジクロロ−5−フルオ
ロフェニルジアゾニウム、ビス−(2,4−ジクロロ−
5−フルオロフェニルジアゾニウム)スズテトラクロリ
ドである。
れぞれ塩素原子でありそしてZがフッ素原子である、上
述の式(II)で表されるアリールジアゾニウム化合物
である。これらの例は、2,4−ジクロロ−5−フルオ
ロフェニルジアゾニウムテトラフルオロボラート、硫酸
水素2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジアゾニ
ウム、硫酸2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジ
アゾニウム、塩化2,4−ジクロロ−5−フルオロフェ
ニルジアゾニウム、酢酸2,4−ジクロロ−5−フルオ
ロフェニルジアゾニウム、ビス−(2,4−ジクロロ−
5−フルオロフェニルジアゾニウム)スズテトラクロリ
ドである。
【0026】アリールジアゾニウム化合物は、慣用の方
法によって(Houben Weyl, Methodender organischen Ch
emie[有機化学の方法], 第X/3巻、第3〜214
頁、特に第12〜113頁)、ハロゲン原子によって対
応して置換されている芳香族アミンを亜硝酸または亜硝
酸を発生させる物質、例えば亜硝酸アルカリ金属塩また
は別のジアゾ化物質、例えば亜硝酸アルキルと反応させ
ることによって製造され得る。この反応は全く困難を生
じさせず、一般に高い収率に導く。多くの場合、アリー
ルジアゾニウム塩を単離しそしてそれを純粋な形に、例
えば結晶性生成物としてさらに加工するのがよい。溶液
状態で製造されるジアゾニウム塩を均質な形で存在する
パラジウム触媒によって直接それぞれのケイ皮酸および
ケイ皮酸エステルに転化することもできる。
法によって(Houben Weyl, Methodender organischen Ch
emie[有機化学の方法], 第X/3巻、第3〜214
頁、特に第12〜113頁)、ハロゲン原子によって対
応して置換されている芳香族アミンを亜硝酸または亜硝
酸を発生させる物質、例えば亜硝酸アルカリ金属塩また
は別のジアゾ化物質、例えば亜硝酸アルキルと反応させ
ることによって製造され得る。この反応は全く困難を生
じさせず、一般に高い収率に導く。多くの場合、アリー
ルジアゾニウム塩を単離しそしてそれを純粋な形に、例
えば結晶性生成物としてさらに加工するのがよい。溶液
状態で製造されるジアゾニウム塩を均質な形で存在する
パラジウム触媒によって直接それぞれのケイ皮酸および
ケイ皮酸エステルに転化することもできる。
【0027】亜硝酸アルカリ金属塩を使用する場合、ア
リールジアゾニウム化合物の製造は、酸H+ A- (但
し、A- は例えばBF4 - 、PF6 - 、HSO3 - 、C
l- 、H2 PO4 - 、ClO4 - およびCH3 COO-
である)を同時に使用する場合特に有利になり、そして
この方法において、基A- は既にアリールジアゾニウム
化合物に導入されている。
リールジアゾニウム化合物の製造は、酸H+ A- (但
し、A- は例えばBF4 - 、PF6 - 、HSO3 - 、C
l- 、H2 PO4 - 、ClO4 - およびCH3 COO-
である)を同時に使用する場合特に有利になり、そして
この方法において、基A- は既にアリールジアゾニウム
化合物に導入されている。
【0028】ケイ皮酸エステルを、アリールジアゾニウ
ム塩とアクリル酸誘導体とのパラジウムで触媒される反
応によって製造することは、つい最近、より詳細に研究
された方法である。
ム塩とアクリル酸誘導体とのパラジウムで触媒される反
応によって製造することは、つい最近、より詳細に研究
された方法である。
【0029】K. Kijukawa ら, Chemi. Lett., 1977, 15
9; Bull. Chem. Soc., 1979, 52,2609および Tetrahed
ron, 1981, 37, 31は、溶解性Pd(O)錯体および塩
基の存在下でのアリールジアゾニウム塩のビニル化を記
載している。該反応は、高価なビスベンジリデンパラジ
ウム(O)を使用して化学量論的量を越えた(superstoi
chimometric amounts)の塩基の存在下にのみ良好な収率
を与える。さらに、比較的高い量(2モル%)のパラジ
ウム錯体──それは反応が終わったら捨てられなければ
ならない──を使用する。EP0508264は、置換
されているオレフィンをアリールジアゾニウム塩および
オレフィンからパラジウム触媒の存在下で製造する方法
を記載している。ケイ皮酸エステルの合成(例20〜2
2)は、反応混合物中に溶解しているPd(OAc)2
によって行なわれる。ハロゲン化ケイ皮酸およびケイ皮
酸エステルの製造方法は、上述の先行技術に言及されて
いない。先行技術の方法は、いずれにせよ著しい不都合
を有する。反応に必要なパラジウム触媒は均質な形です
なわち溶解した状態で使用される。その結果、反応後の
触媒の分離が問題となる。このことはさらに、情況によ
り、パラジウム触媒を非常に少量で、すなわち0.1〜
5モル%の範囲で使用することを、著しい程度でより困
難にする。貴重なパラジウム触媒の回収およびその再利
用は、これが工業的方法を実施するために所望の利点に
なるであろうにも拘わらず、先行技術の方法によっては
提供されない。
9; Bull. Chem. Soc., 1979, 52,2609および Tetrahed
ron, 1981, 37, 31は、溶解性Pd(O)錯体および塩
基の存在下でのアリールジアゾニウム塩のビニル化を記
載している。該反応は、高価なビスベンジリデンパラジ
ウム(O)を使用して化学量論的量を越えた(superstoi
chimometric amounts)の塩基の存在下にのみ良好な収率
を与える。さらに、比較的高い量(2モル%)のパラジ
ウム錯体──それは反応が終わったら捨てられなければ
ならない──を使用する。EP0508264は、置換
されているオレフィンをアリールジアゾニウム塩および
オレフィンからパラジウム触媒の存在下で製造する方法
を記載している。ケイ皮酸エステルの合成(例20〜2
2)は、反応混合物中に溶解しているPd(OAc)2
によって行なわれる。ハロゲン化ケイ皮酸およびケイ皮
酸エステルの製造方法は、上述の先行技術に言及されて
いない。先行技術の方法は、いずれにせよ著しい不都合
を有する。反応に必要なパラジウム触媒は均質な形です
なわち溶解した状態で使用される。その結果、反応後の
触媒の分離が問題となる。このことはさらに、情況によ
り、パラジウム触媒を非常に少量で、すなわち0.1〜
5モル%の範囲で使用することを、著しい程度でより困
難にする。貴重なパラジウム触媒の回収およびその再利
用は、これが工業的方法を実施するために所望の利点に
なるであろうにも拘わらず、先行技術の方法によっては
提供されない。
【0030】支持されたパラジウム触媒の使用はヨーロ
ッパ特許出願公開第0508264号公報第4頁、第2
〜3行に記載されているが、それは、1つの場合に、す
なわち、アニリン−2−スルホン酸とエチレンとを反応
させてスチレン−2−スルホン酸とする(例6)際にし
か関連していない。しかし、Pd(OAc)2 を用いて
行なわれている例4との比較が示すように、パラジウム
含有支持触媒(木炭上10%Pd)を使用する際に収率
が著しく減少する(例4:87%収率、例7:74%収
率)。両方の例において、反応は、アニリン−2−スル
ホン酸に対して過剰に使用される塩基を使用して行なわ
れる。実験に基づく知見が証明しているように(実験部
の比較試験を参照)、ヨーロッパ特許出願公開第050
8264号の例で行なわれた、アリールジアゾニウム塩
をその場で製造し次いでさらにそれを処理する手順は、
一般に、パラジウム含有支持触媒によるケイ皮酸エステ
ルの製造に適用され得ない。比較試験は、所望のケイ皮
酸エステルが少量で決して形成されないことを実証して
いる。これらの実験に基づく知見は、パラジウム含有支
持触媒が本発明によるケイ皮酸およびケイ皮酸エステル
の製造に適していることを予期させない。
ッパ特許出願公開第0508264号公報第4頁、第2
〜3行に記載されているが、それは、1つの場合に、す
なわち、アニリン−2−スルホン酸とエチレンとを反応
させてスチレン−2−スルホン酸とする(例6)際にし
か関連していない。しかし、Pd(OAc)2 を用いて
行なわれている例4との比較が示すように、パラジウム
含有支持触媒(木炭上10%Pd)を使用する際に収率
が著しく減少する(例4:87%収率、例7:74%収
率)。両方の例において、反応は、アニリン−2−スル
ホン酸に対して過剰に使用される塩基を使用して行なわ
れる。実験に基づく知見が証明しているように(実験部
の比較試験を参照)、ヨーロッパ特許出願公開第050
8264号の例で行なわれた、アリールジアゾニウム塩
をその場で製造し次いでさらにそれを処理する手順は、
一般に、パラジウム含有支持触媒によるケイ皮酸エステ
ルの製造に適用され得ない。比較試験は、所望のケイ皮
酸エステルが少量で決して形成されないことを実証して
いる。これらの実験に基づく知見は、パラジウム含有支
持触媒が本発明によるケイ皮酸およびケイ皮酸エステル
の製造に適していることを予期させない。
【0031】本発明はさらに本発明による化合物の製造
方法に関する。それは、式
方法に関する。それは、式
【0032】
【化15】
【0033】〔式中基X、YおよびZは同一であって、
フッ素、臭素またはヨウ素原子であるか、あるいは、基
X、YおよびZの中の2つが同一であるかまたは基X、
YおよびZ全てが互いに異なる場合には、X、Yおよび
Zはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子でありそして
A(-) はpKa <7を有する酸のアニオンである。〕で
表されるアリールジアゾニウム塩を式
フッ素、臭素またはヨウ素原子であるか、あるいは、基
X、YおよびZの中の2つが同一であるかまたは基X、
YおよびZ全てが互いに異なる場合には、X、Yおよび
Zはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子でありそして
A(-) はpKa <7を有する酸のアニオンである。〕で
表されるアリールジアゾニウム塩を式
【0034】
【化16】
【0035】〔式中R1 およびR2 は同一または異なっ
ていて、水素または炭素原子数1〜18の、酸素、窒素
またはハロゲンを含み得るアルキル基である。〕で表さ
れる化合物と、パラジウム含有触媒の存在下に、場合よ
り塩基を添加して、反応させることを包含する。
ていて、水素または炭素原子数1〜18の、酸素、窒素
またはハロゲンを含み得るアルキル基である。〕で表さ
れる化合物と、パラジウム含有触媒の存在下に、場合よ
り塩基を添加して、反応させることを包含する。
【0036】Xが塩素原子でありそしてYおよびZがフ
ッ素原子であるか、または、X、YおよびZがそれぞれ
フッ素原子であるか、または、XおよびYがそれぞれ塩
素原子でありそしてZがフッ素原子であり、そしてA-
がNO3 - 、BF4 - 、PF 6 - 、HSO4 - 、C
l- 、CH3 COO- 、特にBF4 - 、PF6 - 、HS
O 4 - 、Cl- 、CH3 COO- 、好ましくはBF4 -
またはHSO4 - である式(II)で表されるアリール
ジアゾニウム化合物は当該方法に非常に適している。
ッ素原子であるか、または、X、YおよびZがそれぞれ
フッ素原子であるか、または、XおよびYがそれぞれ塩
素原子でありそしてZがフッ素原子であり、そしてA-
がNO3 - 、BF4 - 、PF 6 - 、HSO4 - 、C
l- 、CH3 COO- 、特にBF4 - 、PF6 - 、HS
O 4 - 、Cl- 、CH3 COO- 、好ましくはBF4 -
またはHSO4 - である式(II)で表されるアリール
ジアゾニウム化合物は当該方法に非常に適している。
【0037】当該方法は、均質な形のパラジウム含有触
媒──それは従って溶解した状態で存在する──、およ
び不均質な形のパジウム含有触媒、特にパラジウム含有
支持触媒のいずれを用いても行なわれ得る。適当な均質
なパジウム化合物は例えば酢酸パラジウム、二塩化パラ
ジウム、二臭化パラジウム、二硝酸パラジウム、ナトリ
ウムテトラクロロパラダートおよび硫酸パラジウムであ
る。それらは単独でまたは任意の所望の混合物の形で使
用され得る。ある場合には、本発明による方法を実施す
る際に、パラジウムまたはパラジウム塩との錯体を形成
する化合物を添加することが有利であり得る。適当な錯
生成剤は、ベンゾニトリルまたはアセトニトリルのよう
なニトリルおよびトリエチルホスフィットのようなホス
フィットである。トリアリールホスファンおよびトリア
ルキルホスファンのようなホスファンが好ましい。キレ
ート化(chelating) ホスファンまたはビスホスファンま
たはビス−およびモノホスファンの混合物を使用するこ
とも有利であり得る。ホスファンは有機溶剤および水の
中に溶解でき、その際、最後の場合には、これにはイオ
ン性置換基が付いていなければならない。
媒──それは従って溶解した状態で存在する──、およ
び不均質な形のパジウム含有触媒、特にパラジウム含有
支持触媒のいずれを用いても行なわれ得る。適当な均質
なパジウム化合物は例えば酢酸パラジウム、二塩化パラ
ジウム、二臭化パラジウム、二硝酸パラジウム、ナトリ
ウムテトラクロロパラダートおよび硫酸パラジウムであ
る。それらは単独でまたは任意の所望の混合物の形で使
用され得る。ある場合には、本発明による方法を実施す
る際に、パラジウムまたはパラジウム塩との錯体を形成
する化合物を添加することが有利であり得る。適当な錯
生成剤は、ベンゾニトリルまたはアセトニトリルのよう
なニトリルおよびトリエチルホスフィットのようなホス
フィットである。トリアリールホスファンおよびトリア
ルキルホスファンのようなホスファンが好ましい。キレ
ート化(chelating) ホスファンまたはビスホスファンま
たはビス−およびモノホスファンの混合物を使用するこ
とも有利であり得る。ホスファンは有機溶剤および水の
中に溶解でき、その際、最後の場合には、これにはイオ
ン性置換基が付いていなければならない。
【0038】パラジウム−ホスファン錯体は好ましくは
その場で作り出されるが、予め形成された錯体、例えば
パラジウムテトラキスフェニルホスファンを代わりに使
用することができる。
その場で作り出されるが、予め形成された錯体、例えば
パラジウムテトラキスフェニルホスファンを代わりに使
用することができる。
【0039】特別な利点は、反応が終わった後に、例え
ばろ過またはデカンテーションにより、非常に容易に分
離できるパラジウム含有支持触媒の使用にある。工業的
な方法には、パラジウム含有支持触媒を固定床に配列
し、それに、転化すべき出発混合物を通すことが適して
いる。固定床として使用されるパラジウム含有触媒の別
の適用はもはや必要とされない。
ばろ過またはデカンテーションにより、非常に容易に分
離できるパラジウム含有支持触媒の使用にある。工業的
な方法には、パラジウム含有支持触媒を固定床に配列
し、それに、転化すべき出発混合物を通すことが適して
いる。固定床として使用されるパラジウム含有触媒の別
の適用はもはや必要とされない。
【0040】不均質なパラジウム触媒は例えば、金属パ
ラジウム、パラジウムブラックまたは支持材料に固定さ
れたパラジウムである。使用され得る支持材料は、任意
の所望の不活性固体である。ここで挙げられ得る例は活
性炭、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウ
ム、アルミノケイ酸塩、炭酸カリウム、硫酸バリウムお
よび炭酸カルシウムである。特に適当な支持材料は、活
性炭、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素およびアルミノ
ケイ酸塩である。
ラジウム、パラジウムブラックまたは支持材料に固定さ
れたパラジウムである。使用され得る支持材料は、任意
の所望の不活性固体である。ここで挙げられ得る例は活
性炭、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウ
ム、アルミノケイ酸塩、炭酸カリウム、硫酸バリウムお
よび炭酸カルシウムである。特に適当な支持材料は、活
性炭、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素およびアルミノ
ケイ酸塩である。
【0041】反応は、一般に、溶剤の存在下に行なわれ
る。有機溶剤、好ましくは双極子非プロトン性溶剤のみ
ならず、プロトン性溶剤も使用できる。反応が、双極子
非プロトン性溶剤中で行なわれる場合、次の溶剤が適し
ている:エーテル、好ましくは環状エーテル、例えばテ
トラヒドロフランまたはジオキサンおよびアクリル酸エ
ーテル、例えばメチルt−ブチルエーテル、グライム、
例えば、ジ−、トリ−およびテトラグライム、N,N−
ジアルキルアミド、特にジメチルアセトアミド、ジメチ
ルホルムアミドおよびN−メチルピロリドンである。適
当なプロトン性溶剤はアルコール、好ましくはメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコー
ル、2−エチルヘキサノールおよび水である。
る。有機溶剤、好ましくは双極子非プロトン性溶剤のみ
ならず、プロトン性溶剤も使用できる。反応が、双極子
非プロトン性溶剤中で行なわれる場合、次の溶剤が適し
ている:エーテル、好ましくは環状エーテル、例えばテ
トラヒドロフランまたはジオキサンおよびアクリル酸エ
ーテル、例えばメチルt−ブチルエーテル、グライム、
例えば、ジ−、トリ−およびテトラグライム、N,N−
ジアルキルアミド、特にジメチルアセトアミド、ジメチ
ルホルムアミドおよびN−メチルピロリドンである。適
当なプロトン性溶剤はアルコール、好ましくはメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコー
ル、2−エチルヘキサノールおよび水である。
【0042】異なる溶剤の混合物も、たとえそれが多相
系を形成しても、使用され得る。当該方法は、一般に、
−10〜120℃の温度で行なわれる。多くの場合、0
〜100℃、特に20〜80℃の温度が使用され得る。
系を形成しても、使用され得る。当該方法は、一般に、
−10〜120℃の温度で行なわれる。多くの場合、0
〜100℃、特に20〜80℃の温度が使用され得る。
【0043】本発明はさらに、上述の化合物を製造する
ための付加的な方法に関する。それは、式
ための付加的な方法に関する。それは、式
【0044】
【化17】
【0045】〔式中Aは臭素原子であり、Xおよび/ま
たはYはフッ素原子または塩素原子でありそしてZはフ
ッ素原子であるか、あるいは、Aはヨウ素原子であり、
Xおよび/またはYはフッ素原子、塩素原子または臭素
原子でありそしてZはフッ素原子であるか、あるいは、
Aは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子でありそして
X、YおよびZはそれぞれフッ素原子である。〕で表さ
れるアリールハロゲン化物を、式
たはYはフッ素原子または塩素原子でありそしてZはフ
ッ素原子であるか、あるいは、Aはヨウ素原子であり、
Xおよび/またはYはフッ素原子、塩素原子または臭素
原子でありそしてZはフッ素原子であるか、あるいは、
Aは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子でありそして
X、YおよびZはそれぞれフッ素原子である。〕で表さ
れるアリールハロゲン化物を、式
【0046】
【化18】
【0047】〔式中R1 およびR2 は同一または異なっ
ていて、水素または炭素原子数1〜18の、酸素、窒素
またはハロゲンを含み得るアルキル基である。〕で表さ
れる化合物と、パラジニウム含有触媒の存在下に、場合
により塩基を添加して、反応させることを包含する。一
般に溶剤が使用される。
ていて、水素または炭素原子数1〜18の、酸素、窒素
またはハロゲンを含み得るアルキル基である。〕で表さ
れる化合物と、パラジニウム含有触媒の存在下に、場合
により塩基を添加して、反応させることを包含する。一
般に溶剤が使用される。
【0048】適当な不活性有機溶剤は、反応成分によ
り、例えば、場合により塩素化された脂肪族、脂環式ま
たは芳香族炭化水素、例えば、n−ペンタン、n−ヘプ
タン、n−オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびクロロベンゼ
ン;芳香族、脂肪族および環状エーテル、例えばアニソ
ール、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テ
トラヒドロフランおよびジオキサン;N−置換モルホリ
ン、例えばN−メチル−およびN−ホルミルモルホリ
ン;ニトリル、特にベンゾニトリルおよび炭素原子数2
〜5のアルキルニトリル、例えばアセトニトリル、プロ
ピオニトリル、ブチロニトリル、3−メトキシプロピオ
ニトリルおよび3−エトキシプロピオニトリル;ジアル
キルスルホキシド、例えばジメチルスルホキシドおよび
ジエチルスルホキシド;酸部分に1〜3個の炭素原子を
有する脂肪族モノカルボン酸のN,N−ジアルキルアミ
ド、例えばN,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N
−ジメチルアセトアミド;8個までの炭素原子を有する
アルコール、例えばエタノール、n−プロパノールおよ
びt−ブタノール;脂肪族および環状ケトン、例えばア
セトン、ジエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、
シクロペンタノン、シクロヘキサノン、1,3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノンおよび1,3−ジメチル−
3,4,5,6−テトラヒドロ−2−(1H)−ピリミ
ジノン;テトラメチルウレア;例えばカルボン酸のエス
テルのようなエステル、例えば炭酸ジエチル;ニトロメ
タン;全部で2〜8個の炭素原子を有する脂肪族モノカ
ルボン酸のアルキルエステルまたはアルコキシアルキル
エステル、例えば酢酸メチル、エチル、n−ブチルおよ
びイソブチル、酪酸エチルおよびn−ブチルおよび1−
アセトキシ−2−エトキシエタンである。好ましい溶剤
は、N,N−ジアルキルアミド、特にジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンお
よびエチレングリコールジメチルエーテル、ジ−、トリ
−およびテトラエチレングリコールジメチルエーテルで
ある。双極子非プロトン性溶剤が溶剤として好ましい。
り、例えば、場合により塩素化された脂肪族、脂環式ま
たは芳香族炭化水素、例えば、n−ペンタン、n−ヘプ
タン、n−オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびクロロベンゼ
ン;芳香族、脂肪族および環状エーテル、例えばアニソ
ール、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テ
トラヒドロフランおよびジオキサン;N−置換モルホリ
ン、例えばN−メチル−およびN−ホルミルモルホリ
ン;ニトリル、特にベンゾニトリルおよび炭素原子数2
〜5のアルキルニトリル、例えばアセトニトリル、プロ
ピオニトリル、ブチロニトリル、3−メトキシプロピオ
ニトリルおよび3−エトキシプロピオニトリル;ジアル
キルスルホキシド、例えばジメチルスルホキシドおよび
ジエチルスルホキシド;酸部分に1〜3個の炭素原子を
有する脂肪族モノカルボン酸のN,N−ジアルキルアミ
ド、例えばN,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N
−ジメチルアセトアミド;8個までの炭素原子を有する
アルコール、例えばエタノール、n−プロパノールおよ
びt−ブタノール;脂肪族および環状ケトン、例えばア
セトン、ジエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、
シクロペンタノン、シクロヘキサノン、1,3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノンおよび1,3−ジメチル−
3,4,5,6−テトラヒドロ−2−(1H)−ピリミ
ジノン;テトラメチルウレア;例えばカルボン酸のエス
テルのようなエステル、例えば炭酸ジエチル;ニトロメ
タン;全部で2〜8個の炭素原子を有する脂肪族モノカ
ルボン酸のアルキルエステルまたはアルコキシアルキル
エステル、例えば酢酸メチル、エチル、n−ブチルおよ
びイソブチル、酪酸エチルおよびn−ブチルおよび1−
アセトキシ−2−エトキシエタンである。好ましい溶剤
は、N,N−ジアルキルアミド、特にジメチルアセトア
ミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンお
よびエチレングリコールジメチルエーテル、ジ−、トリ
−およびテトラエチレングリコールジメチルエーテルで
ある。双極子非プロトン性溶剤が溶剤として好ましい。
【0049】溶剤の混合物も、たとえそれが多相系を形
成しても、使用され得る。有利には、2,4,5−トリ
ハロアリールハロゲン化物とアクリル酸またはアクリル
酸エステルとを塩基の存在下に反応させることができ
る。
成しても、使用され得る。有利には、2,4,5−トリ
ハロアリールハロゲン化物とアクリル酸またはアクリル
酸エステルとを塩基の存在下に反応させることができ
る。
【0050】適当な塩基は、鎖状または環状の第二また
は第三アミン、例えばジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、ピロリドン、ピペリジン、ピペラジン、ジアザビシ
クロオクタン(DABCO)、ジアザビシクロノン(D
BN)、ジアザビシクロウンデカン(DBU)、アリー
ルアミン、アリールジアミン、脂肪族および芳香族カル
ボン酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例
えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウムまたは酢酸カルシウ
ム、プロピオン酸ナトリウムまたはプロピオン酸カリウ
ム、ラウリン酸ナトリウムまたはラウリン酸カリウム、
安息香酸ナトリウムまたは安息香酸カリウム、炭酸アル
カリ金属塩および炭酸アルカリ土類金属塩、例えば炭酸
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸カルシ
ウム、炭酸水素アルカリ金属塩および炭酸水素アルカリ
土類金属塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カル
シウムまたは他の水酸化アルカリ金属塩または水酸化ア
ルカリ土類金属塩、例えば水酸化リチウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウムおよび水酸
化バリウムである。挙げた塩基は、単独でまたは互いに
任意に混合して使用され得る。
は第三アミン、例えばジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、ピロリドン、ピペリジン、ピペラジン、ジアザビシ
クロオクタン(DABCO)、ジアザビシクロノン(D
BN)、ジアザビシクロウンデカン(DBU)、アリー
ルアミン、アリールジアミン、脂肪族および芳香族カル
ボン酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例
えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウムまたは酢酸カルシウ
ム、プロピオン酸ナトリウムまたはプロピオン酸カリウ
ム、ラウリン酸ナトリウムまたはラウリン酸カリウム、
安息香酸ナトリウムまたは安息香酸カリウム、炭酸アル
カリ金属塩および炭酸アルカリ土類金属塩、例えば炭酸
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸カルシ
ウム、炭酸水素アルカリ金属塩および炭酸水素アルカリ
土類金属塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カル
シウムまたは他の水酸化アルカリ金属塩または水酸化ア
ルカリ土類金属塩、例えば水酸化リチウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウムおよび水酸
化バリウムである。挙げた塩基は、単独でまたは互いに
任意に混合して使用され得る。
【0051】反応は上昇した温度で行なわれるのが好都
合である。50〜250℃の温度が一般に使用される。
大抵の場合、60〜200℃、特に80〜180℃の温
度が当該反応を行なうためには適当であることがわかっ
た。
合である。50〜250℃の温度が一般に使用される。
大抵の場合、60〜200℃、特に80〜180℃の温
度が当該反応を行なうためには適当であることがわかっ
た。
【0052】適当な触媒は、均質な形および不均質な形
のパラジウム含有触媒である。適当な均質なパラジウム
化合物は、酢酸パラジウム、二塩化パラジウム、二臭化
パラウジウム、二硝酸パラジウムおよび硫酸パラジウム
である。それらは単独でまたは任意の所望の混合状態で
使用され得る。2,4,5−トリハロアリールハロゲン
化物の反応において、パラジウムまたはパラジウム塩と
の錯体を形成する化合物を添加するのが有利であり得
る。適当な錯生成剤は、ニトリル、例えばベンゾニトリ
ルまたはアセトニトリルおよびホスフィット、例えばト
リエチルホスフィットである。好ましいものとしてホス
ファンが挙げられる。
のパラジウム含有触媒である。適当な均質なパラジウム
化合物は、酢酸パラジウム、二塩化パラジウム、二臭化
パラウジウム、二硝酸パラジウムおよび硫酸パラジウム
である。それらは単独でまたは任意の所望の混合状態で
使用され得る。2,4,5−トリハロアリールハロゲン
化物の反応において、パラジウムまたはパラジウム塩と
の錯体を形成する化合物を添加するのが有利であり得
る。適当な錯生成剤は、ニトリル、例えばベンゾニトリ
ルまたはアセトニトリルおよびホスフィット、例えばト
リエチルホスフィットである。好ましいものとしてホス
ファンが挙げられる。
【0053】適当な単座モノホスファンは、特に、トリ
アリールホスファン、ジアルキルアリールホスファン、
ジアリールホスファン、ジアリールアルキルホスファン
およびトリアルキルホスファンであり、その際、アルキ
ル基は1〜12個の炭素原子を含み、そしてアリール基
はフェニルまたはナフチル基であり、それらの各々は、
C1-4 −アルキル、C1-3 −アルコキシまたはSO3 N
aで置換され得る。
アリールホスファン、ジアルキルアリールホスファン、
ジアリールホスファン、ジアリールアルキルホスファン
およびトリアルキルホスファンであり、その際、アルキ
ル基は1〜12個の炭素原子を含み、そしてアリール基
はフェニルまたはナフチル基であり、それらの各々は、
C1-4 −アルキル、C1-3 −アルコキシまたはSO3 N
aで置換され得る。
【0054】挙げられ得る例は、トリフェニルホスファ
ン、トリシクロヘキシルホスファン、トリイソプロピル
ホスファン、トリ−n−ブチルホスファン、トリ(メト
キシフェニル)−ホスファン、ジイソプロピルフェニル
ホスファン、ジフェニルイソプロピルホスファン、トリ
イソブチルホスファン、メチルジフェニルホスファン、
トリ−o−およびトリ−p−トリルホスファン、トリエ
チルホスファン、t−ブチルジフェニルホスファンおよ
びトリ−(スルホナトフェニル)−ホスファンである。
ン、トリシクロヘキシルホスファン、トリイソプロピル
ホスファン、トリ−n−ブチルホスファン、トリ(メト
キシフェニル)−ホスファン、ジイソプロピルフェニル
ホスファン、ジフェニルイソプロピルホスファン、トリ
イソブチルホスファン、メチルジフェニルホスファン、
トリ−o−およびトリ−p−トリルホスファン、トリエ
チルホスファン、t−ブチルジフェニルホスファンおよ
びトリ−(スルホナトフェニル)−ホスファンである。
【0055】特に好ましいものは、トリフェニルホスフ
ァン、トリシクロヘキシルホスファンおよびトリ−o−
トリルホスファンである。キレート化ホスファンまたは
ビスホスファンまたはビス−およびモノホスファンの混
合物を使用することも有利であり得る。ホスファンは有
機溶剤および水に溶解でき、その際、最後の場合には、
これにはイオン性置換基が付いていなければならない。
ァン、トリシクロヘキシルホスファンおよびトリ−o−
トリルホスファンである。キレート化ホスファンまたは
ビスホスファンまたはビス−およびモノホスファンの混
合物を使用することも有利であり得る。ホスファンは有
機溶剤および水に溶解でき、その際、最後の場合には、
これにはイオン性置換基が付いていなければならない。
【0056】パラジウムホスファン錯体は好ましくはそ
の場で作り出されるが、予め形成された錯体、例えばパ
ラジウムテトラキスフェニルホスファンを代わりに使用
することができる。不均質なパラジウム触媒は金属パラ
ジウム、パラジウムブラックまたは支持材料に固定した
パラジウムである。使用され得る支持材料は、任意の所
望の不活性固体である。ここで挙げられ得る例は、活性
炭、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウ
ム、アルミノケイ酸塩、炭酸カリウム、硫酸バリウムお
よび炭酸カルシウムである。特に適当な支持材料は活性
炭、酸化アルミニウムおよび二酸化ケイ素である。
の場で作り出されるが、予め形成された錯体、例えばパ
ラジウムテトラキスフェニルホスファンを代わりに使用
することができる。不均質なパラジウム触媒は金属パラ
ジウム、パラジウムブラックまたは支持材料に固定した
パラジウムである。使用され得る支持材料は、任意の所
望の不活性固体である。ここで挙げられ得る例は、活性
炭、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウ
ム、アルミノケイ酸塩、炭酸カリウム、硫酸バリウムお
よび炭酸カルシウムである。特に適当な支持材料は活性
炭、酸化アルミニウムおよび二酸化ケイ素である。
【0057】使用されるパラジウムの量は、アリールハ
ロゲン化物に対して、0.001〜10モル%、好まし
くは0.01〜5モル%であるのが有利である。不均質
な触媒のパラジウム含有率は、支持材料に対して1〜2
0重量%、好ましくは2〜10重量%である。
ロゲン化物に対して、0.001〜10モル%、好まし
くは0.01〜5モル%であるのが有利である。不均質
な触媒のパラジウム含有率は、支持材料に対して1〜2
0重量%、好ましくは2〜10重量%である。
【0058】反応は一般に減圧、大気圧または超大気圧
で行なわれ得る。
で行なわれ得る。
【0059】
【実施例】以下の例により、本発明を説明するが、本発
明はこれらに限定されない。
明はこれらに限定されない。
【0060】実験部 比較実験(EP0508264、例22に類似して) 4−アニシジン(4−メトキシアニリン)12.3gを
10mlの濃硫酸および60mlの2−エチルヘキサノ
ールと攪拌して混合し、この混合物を約10℃に冷却す
る。亜硝酸アミル11.7gを次いでゆっくりと添加
し、添加が終わった後、混合物をさらに40分間攪拌す
る。2−エチルヘキシルアクリラート20.2gおよび
Pd(活性炭上5重量%のPd)100mgを次いで反
応混合物に添加し、これを1時間にわたって65℃に加
熱しそしてこの温度で12時間攪拌する。混合物を水1
00mlで希釈し、200mlのジクロロメタンで抽出
する。薄層クロマトグラフィーおよびガスクロマトグラ
フィーによる研究が示すように、p−メトキシケイ皮酸
2−エチルヘキシルは、最も少量ですら全く形成されて
いない。使用した2−エチルヘキシルアクリラートは、
本質的に未変化形で存在する。
10mlの濃硫酸および60mlの2−エチルヘキサノ
ールと攪拌して混合し、この混合物を約10℃に冷却す
る。亜硝酸アミル11.7gを次いでゆっくりと添加
し、添加が終わった後、混合物をさらに40分間攪拌す
る。2−エチルヘキシルアクリラート20.2gおよび
Pd(活性炭上5重量%のPd)100mgを次いで反
応混合物に添加し、これを1時間にわたって65℃に加
熱しそしてこの温度で12時間攪拌する。混合物を水1
00mlで希釈し、200mlのジクロロメタンで抽出
する。薄層クロマトグラフィーおよびガスクロマトグラ
フィーによる研究が示すように、p−メトキシケイ皮酸
2−エチルヘキシルは、最も少量ですら全く形成されて
いない。使用した2−エチルヘキシルアクリラートは、
本質的に未変化形で存在する。
【0061】例1 2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニル−ジアゾニウ
ムテトラフルオロボラート8.78g(31.5ミリモ
ル)および2−エチルヘキシルアクリラート11.61
g(63.0ミリモル)を、40mlのジメチルスルホ
キシド中で懸濁し、0.75g(0.32ミリモル)の
パラジウム(活性炭上5重量%のPd)を0℃で添加す
る。反応混合物を1時間にわたって60℃に加熱し、こ
の温度で12時間攪拌する。室温に冷却した後、触媒を
濾去しエタノールで洗浄する。
ムテトラフルオロボラート8.78g(31.5ミリモ
ル)および2−エチルヘキシルアクリラート11.61
g(63.0ミリモル)を、40mlのジメチルスルホ
キシド中で懸濁し、0.75g(0.32ミリモル)の
パラジウム(活性炭上5重量%のPd)を0℃で添加す
る。反応混合物を1時間にわたって60℃に加熱し、こ
の温度で12時間攪拌する。室温に冷却した後、触媒を
濾去しエタノールで洗浄する。
【0062】混合物を100mlのジクロロメタンで希
釈し、60mlの水を用いて3回洗浄する。有機相を減
圧下で濃縮する。生じた粗生成物をカラムクロマトグラ
フィーで分離する。
釈し、60mlの水を用いて3回洗浄する。有機相を減
圧下で濃縮する。生じた粗生成物をカラムクロマトグラ
フィーで分離する。
【0063】収率:2,4−ジクロロ−5−フルオロケ
イ皮酸2−エチルヘキシル 84%。 Rf :0.73(酢酸エチル/石油エーテル 1:
8)。
イ皮酸2−エチルヘキシル 84%。 Rf :0.73(酢酸エチル/石油エーテル 1:
8)。
【0064】GCデータから推定される沸点:363
℃。1 H−NMR(300MHz,CDCl3 ):0.9
0、0.92(2t,J=7.5Hz,6H,C
H3 )、1.26〜1.46(m,8H,CH2 )、
1.57〜1.70(m,1H,CH)、4.15(d
d,J=2,7.5Hz,2H,CH2 O)、6.42
(d,J=16Hz,1H,CHCHCO2 )、7.4
2(d,J=9Hz,1H,CH)、7.47(d,J
=7Hz,1H,CH)、7.95(dd,J=2,1
6Hz,1H,CHCHCO2 )。
℃。1 H−NMR(300MHz,CDCl3 ):0.9
0、0.92(2t,J=7.5Hz,6H,C
H3 )、1.26〜1.46(m,8H,CH2 )、
1.57〜1.70(m,1H,CH)、4.15(d
d,J=2,7.5Hz,2H,CH2 O)、6.42
(d,J=16Hz,1H,CHCHCO2 )、7.4
2(d,J=9Hz,1H,CH)、7.47(d,J
=7Hz,1H,CH)、7.95(dd,J=2,1
6Hz,1H,CHCHCO2 )。
【0065】19 F NMR(94MHz):116.9(CF)。 マススペクトル(EI,70eV):349(38),
347(63)(M+H)、219(58)、217
(100)(C9 H4 OCl2 F)、112(78)
(C8 H16)。
347(63)(M+H)、219(58)、217
(100)(C9 H4 OCl2 F)、112(78)
(C8 H16)。
【0066】例2 例1の手順に従う:触媒系としてジアゾニウム塩に対し
て1モル%のパラジウム(酸化アルミニウムに対して5
重量%)を使用する。
て1モル%のパラジウム(酸化アルミニウムに対して5
重量%)を使用する。
【0067】収率:2,4−ジクロロ−5−フルオロケ
イ皮酸塩2−エチルヘキシル 80%。 例3 2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジアゾニウム
テトラフルオロボラート8.78g(31.5ミリモ
ル)およびアクリル酸ブチル8.07g(63.0ミリ
モル)を、40mlのジメチルスルホキシド中に懸濁
し、パラジウム(活性炭上5重量%)0.75g(0.
32ミリモル)を0℃で添加する。反応混合物を1時間
にわたって60℃に加熱し、この温度で12時間攪拌す
る。室温に冷却後、触媒を濾去し、エタノールで洗浄す
る。
イ皮酸塩2−エチルヘキシル 80%。 例3 2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジアゾニウム
テトラフルオロボラート8.78g(31.5ミリモ
ル)およびアクリル酸ブチル8.07g(63.0ミリ
モル)を、40mlのジメチルスルホキシド中に懸濁
し、パラジウム(活性炭上5重量%)0.75g(0.
32ミリモル)を0℃で添加する。反応混合物を1時間
にわたって60℃に加熱し、この温度で12時間攪拌す
る。室温に冷却後、触媒を濾去し、エタノールで洗浄す
る。
【0068】混合物を100mlのジクロロメタンで希
釈し、水60mlを用いて3回洗浄する。有機相を減圧
下に濃縮する。生じた粗生成物をカラムクロマトグラフ
ィーで分離する。
釈し、水60mlを用いて3回洗浄する。有機相を減圧
下に濃縮する。生じた粗生成物をカラムクロマトグラフ
ィーで分離する。
【0069】収率:2,4−ジクロロ−5−フルオロケ
イ皮酸ブチル 73%。 Rf :0.65(酢酸エチル/石油エーテル 1:
8)。 沸点:0.8mbarで155〜160℃。
イ皮酸ブチル 73%。 Rf :0.65(酢酸エチル/石油エーテル 1:
8)。 沸点:0.8mbarで155〜160℃。
【0070】1H−NMR(100MHz,CDC
l3 ):0.94(t,J=7Hz,3H,CH3 )、
1.22〜1.82(m,4H,CH2 )、4.24
(t,J=7Hz,2H,CH2 O)、6.40(d,
J=16.5Hz,1H,CHCO 2 )、7.43
(d,J=16.5Hz,1H,CH)、7.44
(s,1H,CH)、7.93(dd,J=2,16.
5Hz,1H,CHCHCO2 )。
l3 ):0.94(t,J=7Hz,3H,CH3 )、
1.22〜1.82(m,4H,CH2 )、4.24
(t,J=7Hz,2H,CH2 O)、6.40(d,
J=16.5Hz,1H,CHCO 2 )、7.43
(d,J=16.5Hz,1H,CH)、7.44
(s,1H,CH)、7.93(dd,J=2,16.
5Hz,1H,CHCHCO2 )。
【0071】19 F−NMR(94MHz):117.0(C−F)。 例4 2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジアゾニウム
テトラフルオロボラート8.78g(31.5ミリモ
ル)およびアクリル酸エチル8.07g(63.0ミリ
モル)を40mlのエタノールに懸濁し、活性炭上0.
75g(0.32ミリモル)のパラジウム(5%濃度)
を0℃で添加する。反応混合物を1時間にわたって60
℃に加熱し、この温度で12時間攪拌する。
テトラフルオロボラート8.78g(31.5ミリモ
ル)およびアクリル酸エチル8.07g(63.0ミリ
モル)を40mlのエタノールに懸濁し、活性炭上0.
75g(0.32ミリモル)のパラジウム(5%濃度)
を0℃で添加する。反応混合物を1時間にわたって60
℃に加熱し、この温度で12時間攪拌する。
【0072】室温に冷却後、触媒を濾去し、エタノール
で洗浄する。溶剤を減圧下に蒸発させる。生じた粗生成
物は2,4−ジクロロ−5−フルオロケイ皮酸エチル8
7%を含む。
で洗浄する。溶剤を減圧下に蒸発させる。生じた粗生成
物は2,4−ジクロロ−5−フルオロケイ皮酸エチル8
7%を含む。
【0073】収率:2,4−ジクロロ−5−フルオロケ
イ皮酸エチル 93%。 Rf :0.59(酢酸エチル/石油エーテル 1:
8)。 沸点:0.5mmHgで147〜152℃。
イ皮酸エチル 93%。 Rf :0.59(酢酸エチル/石油エーテル 1:
8)。 沸点:0.5mmHgで147〜152℃。
【0074】1H−NMR(100MHz,CDC
l3 ):1.32(t,J=7.5Hz,3H,C
H3 )、4.28(q,J=7.5Hz,2H,C
H2 )、6.37(d,J=16Hz,1H,CHCO
2 )、7.40(d,J=16.5Hz,1H,C
H)、7.43(s,1H,CH)、7.91(dd,
J=2,16Hz,1H,CHCHCO2 )。
l3 ):1.32(t,J=7.5Hz,3H,C
H3 )、4.28(q,J=7.5Hz,2H,C
H2 )、6.37(d,J=16Hz,1H,CHCO
2 )、7.40(d,J=16.5Hz,1H,C
H)、7.43(s,1H,CH)、7.91(dd,
J=2,16Hz,1H,CHCHCO2 )。
【0075】例5 アクリル酸ブチル65.4ml、酢酸パラジウム450
mg、トリフェニルホスファン1.075g、ビス(フ
ェニルホスフィノ)エタン0.815gおよび酢酸ナト
リウム20.15gを、50.0gの1−ブロモ−2,
4−ジクロロ−5−フルオロベンゼンに、保護ガス下で
添加し、混合物を100mlのジメチルアセトアミド中
に溶解させる。反応混合物を140〜145℃で12時
間沸騰させる。次いで混合物を200mlのジクロロメ
タンで希釈し、水100mlと振とうすることによって
2回洗浄する。有機相をロータリーエバポレーターによ
って濃縮する。
mg、トリフェニルホスファン1.075g、ビス(フ
ェニルホスフィノ)エタン0.815gおよび酢酸ナト
リウム20.15gを、50.0gの1−ブロモ−2,
4−ジクロロ−5−フルオロベンゼンに、保護ガス下で
添加し、混合物を100mlのジメチルアセトアミド中
に溶解させる。反応混合物を140〜145℃で12時
間沸騰させる。次いで混合物を200mlのジクロロメ
タンで希釈し、水100mlと振とうすることによって
2回洗浄する。有機相をロータリーエバポレーターによ
って濃縮する。
【0076】収率:2,4−ジクロロ−5−フルオロケ
イ皮酸ブチル 86%。 例6 2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジアゾニウム
テトラフルオロボラートの合成 テトラヒドロフラン165mlを、室温で2,4−ジク
ロロ−5−フルオロアニリンに添加する。この溶液に3
33mlのテトラフルオロホウ酸(50%濃度)を冷却
しながら添加する。水117ml中57.5gの亜硝酸
ナトリウムを、内部温度が7〜13℃になるように5〜
10℃に冷却した反応混合物に添加する。添加が終わっ
たら、0℃の溶液をろ過する。残留分をテトラヒドロフ
ランおよび氷冷した水で洗浄する。121gの生成物が
残る。
イ皮酸ブチル 86%。 例6 2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジアゾニウム
テトラフルオロボラートの合成 テトラヒドロフラン165mlを、室温で2,4−ジク
ロロ−5−フルオロアニリンに添加する。この溶液に3
33mlのテトラフルオロホウ酸(50%濃度)を冷却
しながら添加する。水117ml中57.5gの亜硝酸
ナトリウムを、内部温度が7〜13℃になるように5〜
10℃に冷却した反応混合物に添加する。添加が終わっ
たら、0℃の溶液をろ過する。残留分をテトラヒドロフ
ランおよび氷冷した水で洗浄する。121gの生成物が
残る。
【0077】収率:2,4−ジクロロ−5−フルオロフ
ェニルジアゾニウムテトラフルオロボラート 80%。1 H−NMR(100MHz,D2 O):8.31
(d,J=6Hz,1H,CH)、8.65(d,6.
5Hz,1H,CH)。
ェニルジアゾニウムテトラフルオロボラート 80%。1 H−NMR(100MHz,D2 O):8.31
(d,J=6Hz,1H,CH)、8.65(d,6.
5Hz,1H,CH)。
【0078】19F−NMR(d6 −アセトン):10
0.8(t,CF)、151.3(s,BF4 )。 例7 2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジアゾニウム
テトラフルオロボラートの代わりの合成 2,4−ジクロロ−5−フルオロアニリン16gをテト
ラフルオロホウ酸160mlと共に100℃に加熱す
る。オレンジ色〜茶色の溶液を次いで0〜5℃に冷却
し、水25ml中10.5gの亜硝酸ナトリウムを滴加
する。反応溶液を次いで氷水200mlに添加する。生
成物を吸引により除去し、テトラヒドロフランで洗浄す
る。
0.8(t,CF)、151.3(s,BF4 )。 例7 2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジアゾニウム
テトラフルオロボラートの代わりの合成 2,4−ジクロロ−5−フルオロアニリン16gをテト
ラフルオロホウ酸160mlと共に100℃に加熱す
る。オレンジ色〜茶色の溶液を次いで0〜5℃に冷却
し、水25ml中10.5gの亜硝酸ナトリウムを滴加
する。反応溶液を次いで氷水200mlに添加する。生
成物を吸引により除去し、テトラヒドロフランで洗浄す
る。
【0079】収率:2,4−ジクロロ−5−フルオロフ
ェニルジアゾニウムテトラフルオロボラート 60%。 例8 2,4,5−トリフルオロケイ皮酸エチルヘキシルの合
成 1−ブロモ−2,4,5−トリフルオロベンゼン3.0
g(14.2ミリモル)を保護ガス下で、10mlのジ
メチルアセトアミド中で30.3ミリモルの2−エチル
ヘキシルアクリラート、活性炭上140mgのパラジウ
ム(5%濃度)、0.82gの炭酸ナトリウムおよび1
0mgのジ−t−ブチルフェノールと共に170℃で1
8時間還流する。触媒を濾去し、混合物をジクロロメタ
ンで希釈し、水で抽出する。粗生成物をクロマトグラフ
ィーで分離する。
ェニルジアゾニウムテトラフルオロボラート 60%。 例8 2,4,5−トリフルオロケイ皮酸エチルヘキシルの合
成 1−ブロモ−2,4,5−トリフルオロベンゼン3.0
g(14.2ミリモル)を保護ガス下で、10mlのジ
メチルアセトアミド中で30.3ミリモルの2−エチル
ヘキシルアクリラート、活性炭上140mgのパラジウ
ム(5%濃度)、0.82gの炭酸ナトリウムおよび1
0mgのジ−t−ブチルフェノールと共に170℃で1
8時間還流する。触媒を濾去し、混合物をジクロロメタ
ンで希釈し、水で抽出する。粗生成物をクロマトグラフ
ィーで分離する。
【0080】収率:2,4,5−トリフルオロケイ皮酸
エチルヘキシル 87%。 Rf :=(酢酸エチル/石油エーテル 1:6)。1 H−NMR(CDCl3 ):0.91、0.93(2
t,J=7.5Hz,6H,CH3 )、1.27〜1.
46(m,8H,CH2 )、1.59〜1.72(m,
1H,CH)、4.17(dd,J=2,7.5Hz,
2H,CH2 O)、6.46(d,J=16Hz,1
H,CHCHCO2 )、7.46〜7.55(m,2
H,CH)、7.99(dd,J=2,16Hz,1
H,CHCHCO2 )。
エチルヘキシル 87%。 Rf :=(酢酸エチル/石油エーテル 1:6)。1 H−NMR(CDCl3 ):0.91、0.93(2
t,J=7.5Hz,6H,CH3 )、1.27〜1.
46(m,8H,CH2 )、1.59〜1.72(m,
1H,CH)、4.17(dd,J=2,7.5Hz,
2H,CH2 O)、6.46(d,J=16Hz,1
H,CHCHCO2 )、7.46〜7.55(m,2
H,CH)、7.99(dd,J=2,16Hz,1
H,CHCHCO2 )。
【0081】 MS(70eV):315(100%)M+ 。 例9 硫酸水素2,4−ジクロロ−5−フルオロフェニルジア
ゾニウムの合成 2,4−ジクロロ−5−フルオロアニリン36.0g
(0.20モル)を、室温でエタノール180ml中に
溶解し、濃硫酸36.0gを冷却しながら添加する。こ
の混合物に、27.0ml(0.23モル)の亜硝酸ア
ミルを滴加する。次いで、沈澱したジアゾニウム塩を吸
引により除去し、少量のジエチルエーテルで洗浄する。
ゾニウムの合成 2,4−ジクロロ−5−フルオロアニリン36.0g
(0.20モル)を、室温でエタノール180ml中に
溶解し、濃硫酸36.0gを冷却しながら添加する。こ
の混合物に、27.0ml(0.23モル)の亜硝酸ア
ミルを滴加する。次いで、沈澱したジアゾニウム塩を吸
引により除去し、少量のジエチルエーテルで洗浄する。
【0082】収率:硫酸水素2,4−ジクロロ−5−フ
ルオロフェニルジアゾニウム 74%。1 H−NMR(100MHz,d6 −アセトン):8.
83(d,J=7Hz,1H,CH)、8.94(d,
J=7Hz,1H,CH)。
ルオロフェニルジアゾニウム 74%。1 H−NMR(100MHz,d6 −アセトン):8.
83(d,J=7Hz,1H,CH)、8.94(d,
J=7Hz,1H,CH)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラウレント・ヴァイセ ドイツ連邦共和国、61440 オーバーウア ゼル、アン・デン・パペルン、3 (72)発明者 クラウス・フォアシユティンガー ドイツ連邦共和国、65451 ケルシユター バッハ、ベルクシユトラーセ、38 (72)発明者 ラルフ・プフィルマン ドイツ連邦共和国、64347 グリースハイ ム、カールシユトラーセ、1ツェー (72)発明者 ハインツ・シユトルッツ ドイツ連邦共和国、61250 ウジンゲン、 ラントラート−ベックマン−シユトラー セ、1
Claims (25)
- 【請求項1】 式 【化1】 〔式中R1 およびR2 は同一または異なっていて、水素
または炭素原子数1〜18の、場合により酸素、窒素ま
たはハロゲンを含むアルキル基であり、基X、Yおよび
Zは同一であって、フッ素、臭素またはヨウ素原子であ
るか、あるいは、基X、YまたはZの中の2つが同一で
あるかまたは基X、Y、Z全てが互いに異なる場合に
は、X、YおよびZはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素
原子である。〕で表される化合物。 - 【請求項2】 R2 が水素またはメチル基である、請求
項1記載の化合物。 - 【請求項3】 R1 が、炭素原子数1〜18、特に1〜
12の、場合によりアルコキシ基またはアシルオキシ基
で置換されている直鎖または分枝鎖のアルキル基であ
る、請求項1および2の中の1つまたはそれ以上に記載
の化合物。 - 【請求項4】 R1 が、−(CH2 )n −OR3 基(但
し、n=2〜6かつR3 は炭素原子数1〜4のアルキル
基である)である請求項1〜3の中の1つまたはそれ以
上に記載の化合物。 - 【請求項5】 XおよびYがそれぞれ臭素原子であり、
そしてZがフッ素原子である、請求項1〜4の中の1つ
またはそれ以上に記載の化合物。 - 【請求項6】 Xが臭素原子であり、YおよびZがそれ
ぞれフッ素原子であるかまたはYが塩素原子でありそし
てZがフッ素原子であるか、あるいは、Xが塩素原子で
あり、Yが臭素原子でありそしてZがフッ素原子である
か、あるいは、XおよびZがフッ素原子でありそしてY
が臭素または塩素原子である、請求項1〜4の中の1つ
またはそれ以上に記載の化合物。 - 【請求項7】 式 【化2】 〔式中R1 およびR2 は同一または異なっていて、水素
または炭素原子数1〜18の、場合により酸素、窒素ま
たはハロゲンを含むアルキル基であり、Xは塩素原子で
ありそしてYおよびZはそれぞれフッ素原子である。〕
で表される化合物。 - 【請求項8】 式 【化3】 〔式中R1 およびR2 は同一または異なっていて、水素
または炭素原子数1〜18の、場合により酸素、窒素ま
たはハロゲンを含むアルキル基であり、そしてX、Yお
よびZはそれぞれフッ素原子である。〕で表される化合
物。 - 【請求項9】 式 【化4】 〔式中R1 およびR2 は同一または異なっていて、水素
または炭素原子数1〜18の、場合により酸素、窒素ま
たはハロゲンを含むアルキル基であり、そしてXおよび
Yはそれぞれ塩素原子でありそしてZはフッ素原子であ
る。〕で表される化合物。 - 【請求項10】 R2 が水素またはメチル基である、請
求項7〜9の中の1つに記載の化合物。 - 【請求項11】 R1 が、炭素原子数1〜18の、特に
1〜12の、場合によりアルコキシまたはアシルオキシ
基で置換されている直鎖または分枝鎖のアルキル基であ
る、請求項7〜10の中の1つに記載の化合物。 - 【請求項12】 R1 が−(CH2 )n −OR3 基(但
し、n=2〜6かつR3 は炭素原子数1〜4のアルキル
である)である、請求項7〜11の中の1つまたはそれ
以上に記載の化合物。 - 【請求項13】 式 【化5】 〔式中基X、YおよびZは同一であって、フッ素、臭素
またはヨウ素原子であるか、あるいは、基X、Yおよび
Zの中の2つが同一であるかまたは基X、YおよびZ全
てが互いに異なる場合には、X、YおよびZはフッ素、
塩素、臭素またはヨウ素原子でありそしてA(-) はpK
a <7を有する酸のアニオンである。〕で表されるアリ
ールジアゾニウム化合物。 - 【請求項14】 式 【化6】 〔式中Xは塩素原子でありそしてYおよびZはそれぞれ
フッ素原子である。〕で表されるアリールジアゾニウム
化合物。 - 【請求項15】 式 【化7】 〔式中XおよびYはそれぞれ塩素原子でありそしてZは
フッ素原子である。〕で表されるアリールジアゾニウム
化合物。 - 【請求項16】 式 【化8】 〔式中X、YおよびZはそれぞれフッ素原子である。〕
で表されるアリールジアゾニウム化合物。 - 【請求項17】 式 【化9】 〔式中基X、YおよびZは同一であって、フッ素、臭素
またはヨウ素原子であるか、あるいは、基X、Yおよび
Zの中の2つが同一であるかまたは基X、YおよびZ全
てが互いに異なる場合には、X、YおよびZはフッ素、
塩素、臭素またはヨウ素原子でありそしてA(-) はpK
a <7を有する酸のアニオンである。〕で表されるアリ
ールジアゾニウム塩を式 【化10】 〔式中R1 およびR2 は同一または異なっていて、水素
または炭素原子数1〜18の、場合により酸素、窒素ま
たはハロゲンを含むアルキル基である。〕で表される化
合物と、パラジウム含有触媒の存在下に、場合より塩基
を添加して、反応させることを特徴とする、請求項1〜
12の中の1つまたはそれ以上に記載の化合物の製造方
法。 - 【請求項18】 反応が溶剤の存在下に行なわれる、請
求項17記載の方法。 - 【請求項19】 使用される溶剤が、双極子非プロトン
性またはプロトン性溶剤である、請求項17および18
の中の1つまたはそれ以上に記載の方法。 - 【請求項20】 反応が−20〜120℃、特に−10
〜100℃、好ましくは0〜80℃の温度で行なわれ
る、請求項17〜19の中の1つまたはそれ以上に記載
の方法。 - 【請求項21】 反応が、パラジウム含有支持触媒の存
在下に行なわれる、請求項17〜20の中の1つまたは
それ以上に記載の方法。 - 【請求項22】 式 【化11】 〔式中Aは臭素原子であり、Xおよび/またはYはフッ
素原子または塩素原子でありそしてZはフッ素原子であ
るか、あるいは、Aはヨウ素原子であり、Xおよび/ま
たはYはフッ素原子、塩素原子または臭素原子でありそ
してZはフッ素原子であるか、あるいは、Aは塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子でありそしてX、Yおよ
びZはそれぞれフッ素原子である。〕で表されるアリー
ルハロゲン化物を、式 【化12】 〔式中R1 およびR2 は同一または異なっていて、水素
または炭素原子数1〜18の、場合により酸素、窒素ま
たはハロゲンを含むアルキル基である。〕で表される化
合物と、パラジニウム含有触媒の存在下に、場合により
塩基を添加して、反応させることを特徴とする、請求項
1〜12の中の1つまたはそれ以上に記載の化合物の製
造方法。 - 【請求項23】 反応が溶剤の存在下に行なわれる、請
求項22記載の方法。 - 【請求項24】 使用される溶剤が、双極子非プロトン
性溶剤である、請求項22および23の中の1つまたは
それ以上に記載の方法。 - 【請求項25】 反応が、50〜250℃、特に60〜
200℃、好ましくは80〜180℃の温度で行なわれ
る、請求項22〜24の中の1つまたはそれ以上に記載
の方法。
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