JPH02144132U - - Google Patents

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JPH02144132U
JPH02144132U JP5046789U JP5046789U JPH02144132U JP H02144132 U JPH02144132 U JP H02144132U JP 5046789 U JP5046789 U JP 5046789U JP 5046789 U JP5046789 U JP 5046789U JP H02144132 U JPH02144132 U JP H02144132U
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JP
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semiconductor laser
noise
laser
optical disk
half mirror
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JP5046789U
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【図面の簡単な説明】
第１図は本考案による半導体レーザのノイズ測
定装置の一実施例を示す構成図、第２図は半導体
レーザの位置調整用に設けられた受光素子上のス
ポツト形状を示す説明図、第３図は半導体レーザ
からの射出光量と戻り光量との比に対する相対光
強度ノイズ特性を示す特性曲線図、第４図は従来
装置を示す構成図である。 ２０……レーザ取付部材、２１……半導体レー
ザ、２２……ハーフミラー、２５……透過率可変
フイルタ、２６……対物レンズ、２７……ミラー
、２８……ミラーアクチユエータ、３１……フオ
ーカシングエラー検出用受光素子、３２……測定
制御回路、３８……ホログラム素子、３９……ノ
イズ測定用受光素子、４０……半導体レーザ位置
検出用受光素子、４１……電圧計、４２……スペ
クトルアナライザ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 被検査半導体レーザから射出されたレーザ
    光を、２分して異なる光路に射出するハーフミラ
    ーと、 レーザ光を反射する光デイスク相当部材と、 この光デイスク相当部材をフオーカシング方向
    に動揺させる光デイスク相当部材アクチユエータ
    と、 少なくとも対物レンズを備え、上記ハーフミラ
    ーを介した一方のレーザ光を、上記デイスク相当
    部材に照射させる光学系と、 上記光デイスク相当部材によつて反射され、上
    記光学系及び上記ハーフミラーを介した戻り光に
    基づいて、上記対物レンズを駆動して上記光デイ
    スク相当部材に対するフオーカシング制御を行な
    うフオーカシングサーボ系と、 上記被検査半導体レーザから射出されたレーザ
    光のうち、上記ハーフミラーによつて上記光デイ
    スク相当部材に向かわないレーザ光に基づいて、
    上記半導体レーザから射出されたレーザ光のノイ
    ズ特性を検出するノイズ検出手段と、 上記被検査半導体レーザから射出されたレーザ
    光のうち、上記ハーフミラーによつて上記光デイ
    スク相当部材に向かわないレーザ光に基づいて、
    上記半導体レーザの取付け位置を検出する半導体
    レーザ位置検出手段とを備えたことを特徴とする
    半導体レーザのノイズ測定装置。 (2) 上記半導体レーザ位置検出手段によつて検
    出された取付位置に基づいて、上記半導体レーザ
    の取付位置を所定の位置に位置させる取付位置可
    変手段を設け、上記ノイズ測定手段は上記半導体
    レーザが所定位置に位置決めされた後にノイズ特
    性を検出することを特徴とする請求項第１項に記
    載の半導体レーザのノイズ測定装置。 (3) 上記ノイズ検出手段が、ノイズ特性として
    相対光強度ノイズを検出することを特徴とする請
    求項第１項又は第２項に記載の半導体レーザのノ
    イズ測定装置。 (4) 上記光学系に、上記半導体レーザから射出
    されたレーザ光の光量と上記光デイスク相当部材
    からの戻り光の光量との比を可変する光量可変手
    段を設け、上記ノイズ検出手段が、所定の光量比
    における相対光強度ノイズを所定の閾値と比較し
    て上記半導体レーザの良否を決定することを特徴
    とする請求項第３項に記載の半導体レーザのノイ
    ズ測定装置。
JP5046789U 1989-04-29 1989-04-29 Pending JPH02144132U (ja)

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JPH02144132U true JPH02144132U (ja) 1990-12-06

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JP (1) JPH02144132U (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7387723B2 (en) 2004-04-22 2008-06-17 Siemens Water Technologies Corp. Filtration apparatus comprising a membrane bioreactor and a treatment vessel for digesting organic materials
US7455765B2 (en) 2006-01-25 2008-11-25 Siemens Water Technologies Corp. Wastewater treatment system and method
US7563363B2 (en) 2005-10-05 2009-07-21 Siemens Water Technologies Corp. System for treating wastewater
US7632439B2 (en) 2002-02-12 2009-12-15 Siemens Water Technologies Corp. Poly(ethylene chlorotrifluoroethylene) membranes
US8858796B2 (en) 2005-08-22 2014-10-14 Evoqua Water Technologies Llc Assembly for water filtration using a tube manifold to minimise backwash

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