JPH07294231A - 光学式表面粗度計 - Google Patents
光学式表面粗度計Info
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- JPH07294231A JPH07294231A JP10761494A JP10761494A JPH07294231A JP H07294231 A JPH07294231 A JP H07294231A JP 10761494 A JP10761494 A JP 10761494A JP 10761494 A JP10761494 A JP 10761494A JP H07294231 A JPH07294231 A JP H07294231A
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- light
- surface roughness
- measured
- objective lens
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 焦点誤差検出光学系を用いた表面粗度や表面
形状の非接触測定において、測定範囲および分解能を簡
単にかつ任意に選択することが可能である光学式表面粗
度計を提供する。 【構成】 焦点誤差検出光学系を用いた表面粗度や表面
形状を非接触で測定する光学式表面粗度計の、計測光を
被測定対象に集光するための対物レンズの実効的な開口
数（Ｎ．Ａ．）を調整する機構を設け、対物レンズの実
効的な開口数（Ｎ．Ａ．）を調整することにより、被測
定対象の表面の凹凸の大きさに合わせた測定範囲および
分解能を簡単にかつ任意に選択することが可能になる。
形状の非接触測定において、測定範囲および分解能を簡
単にかつ任意に選択することが可能である光学式表面粗
度計を提供する。 【構成】 焦点誤差検出光学系を用いた表面粗度や表面
形状を非接触で測定する光学式表面粗度計の、計測光を
被測定対象に集光するための対物レンズの実効的な開口
数（Ｎ．Ａ．）を調整する機構を設け、対物レンズの実
効的な開口数（Ｎ．Ａ．）を調整することにより、被測
定対象の表面の凹凸の大きさに合わせた測定範囲および
分解能を簡単にかつ任意に選択することが可能になる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光計測分野に係わり、
表面粗度や表面形状を非接触で測定する光学式表面粗度
計に関する。
表面粗度や表面形状を非接触で測定する光学式表面粗度
計に関する。
【０００２】
【従来の技術】被測定対象の表面形状や表面粗度を非接
触で測定するには、特開平４−６５６１５号公報に開示
されているように、被測定対象の表面と平行な方向に被
測定対象を移動させながら、焦点誤差検出光学系を用い
て、被測定対象の表面の凹凸による反射または散乱位置
の変化を測定する。焦点誤差検出光学系では、被測定対
象の表面に計測光をほぼ集光させ、被測定対象の表面で
反射または散乱された光の収束発散状態を検出すること
により、被測定対象の表面位置を測定する。焦点誤差検
出光学系としては、ナイフエッジ法やフーコー法などが
知られている。
触で測定するには、特開平４−６５６１５号公報に開示
されているように、被測定対象の表面と平行な方向に被
測定対象を移動させながら、焦点誤差検出光学系を用い
て、被測定対象の表面の凹凸による反射または散乱位置
の変化を測定する。焦点誤差検出光学系では、被測定対
象の表面に計測光をほぼ集光させ、被測定対象の表面で
反射または散乱された光の収束発散状態を検出すること
により、被測定対象の表面位置を測定する。焦点誤差検
出光学系としては、ナイフエッジ法やフーコー法などが
知られている。
【０００３】ナイフエッジ法について、図４を参照にし
て具体的に説明する。点Ｂは対物レンズ６の焦点位置で
ある。図４（ａ）に示すように、点Ｂからの光６０は、
対物レンズ６によって平行光６１になり、さらに集光レ
ンズ７によって収束光６２となった後、光軸上に頂点が
位置するように配置されたナイフエッジ２０により、収
束光６２のナイフエッジ２０と同じ側の半分６４は遮断
され、収束光６２のナイフエッジ２０と反対側の半分６
３は２分割光検出器２１の中心に集光される。２分割光
検出器２１は、集光レンズ７の焦点位置に配置され、２
分割光検出器２１の中心は光軸上に位置している。この
とき、２分割光検出器２１の中心を境にした２つの受光
部２２ａ、および２２ｂからの出力の差動信号はゼロと
なる。ここで、図４において、１５は差動増幅器であ
る。
て具体的に説明する。点Ｂは対物レンズ６の焦点位置で
ある。図４（ａ）に示すように、点Ｂからの光６０は、
対物レンズ６によって平行光６１になり、さらに集光レ
ンズ７によって収束光６２となった後、光軸上に頂点が
位置するように配置されたナイフエッジ２０により、収
束光６２のナイフエッジ２０と同じ側の半分６４は遮断
され、収束光６２のナイフエッジ２０と反対側の半分６
３は２分割光検出器２１の中心に集光される。２分割光
検出器２１は、集光レンズ７の焦点位置に配置され、２
分割光検出器２１の中心は光軸上に位置している。この
とき、２分割光検出器２１の中心を境にした２つの受光
部２２ａ、および２２ｂからの出力の差動信号はゼロと
なる。ここで、図４において、１５は差動増幅器であ
る。
【０００４】ところが、図４（ｂ）に示すように、対物
レンズ６の焦点位置より対物レンズ６に近い位置である
点Ａから光６０’が発せられる場合、光６０’は対物レ
ンズ６を透過した後発散光６１’となるため、さらに集
光レンズ７を透過した後の収束光６２’の集光位置（ビ
ームウェスト位置）は、点Ｂからの光の場合に比べて集
光レンズ７から遠くなる。このため、収束光６２’のナ
イフエッジ２０と反対側の半分６３’により、２分割光
検出器２１のナイフエッジ２０と反対側の受光部２２ａ
におもに光が照射されることになる。すなわち、２分割
光検出器２１の２つの受光部２２ａ、および２２ｂから
の出力の差動信号はプラスとなる。逆に、図４（ｃ）に
示すように、対物レンズ６の焦点位置より対物レンズ６
から遠い位置である点Ｃから光６０”が発せられる場
合、光６０”は対物レンズ６を透過した後収束光６１”
となるため、さらに集光レンズ７を透過した後の収束光
６２”の集光位置（ビームウェスト位置）は、点Ｂから
の光の場合に比べて集光レンズ７に近くなる。このた
め、収束光６２”のナイフエッジ２０と反対側の半分６
３”により、２分割光検出器２１のナイフエッジ２０と
同じ側の受光部２２ｂにおもに光が照射されることにな
る。すなわち、２分割光検出器２１の２つの受光部２２
ａ、および２２ｂからの出力の差動信号はマイナスとな
る。
レンズ６の焦点位置より対物レンズ６に近い位置である
点Ａから光６０’が発せられる場合、光６０’は対物レ
ンズ６を透過した後発散光６１’となるため、さらに集
光レンズ７を透過した後の収束光６２’の集光位置（ビ
ームウェスト位置）は、点Ｂからの光の場合に比べて集
光レンズ７から遠くなる。このため、収束光６２’のナ
イフエッジ２０と反対側の半分６３’により、２分割光
検出器２１のナイフエッジ２０と反対側の受光部２２ａ
におもに光が照射されることになる。すなわち、２分割
光検出器２１の２つの受光部２２ａ、および２２ｂから
の出力の差動信号はプラスとなる。逆に、図４（ｃ）に
示すように、対物レンズ６の焦点位置より対物レンズ６
から遠い位置である点Ｃから光６０”が発せられる場
合、光６０”は対物レンズ６を透過した後収束光６１”
となるため、さらに集光レンズ７を透過した後の収束光
６２”の集光位置（ビームウェスト位置）は、点Ｂから
の光の場合に比べて集光レンズ７に近くなる。このた
め、収束光６２”のナイフエッジ２０と反対側の半分６
３”により、２分割光検出器２１のナイフエッジ２０と
同じ側の受光部２２ｂにおもに光が照射されることにな
る。すなわち、２分割光検出器２１の２つの受光部２２
ａ、および２２ｂからの出力の差動信号はマイナスとな
る。
【０００５】したがって、この差動信号により光の出射
点の位置を検知することができる。ナイフエッジ法は、
このように光の収束発散状態を検出することにより、光
の出射位置を検出する方法である。一方、フーコー法
は、ナイフエッジの代わりに分割プリズムを用いた方法
で、２分割光検出器の位置が異なるが、基本的な原理は
ナイフエッジ法と同じである。
点の位置を検知することができる。ナイフエッジ法は、
このように光の収束発散状態を検出することにより、光
の出射位置を検出する方法である。一方、フーコー法
は、ナイフエッジの代わりに分割プリズムを用いた方法
で、２分割光検出器の位置が異なるが、基本的な原理は
ナイフエッジ法と同じである。
【０００６】ナイフエッジ法を利用して表面の凹凸を測
定する方法の一例を、図５に示す。レーザ１から発せら
れるレーザ光５０は、コリメートレンズ２で円形の平行
光５１にされた後、偏光ビームスプリッタ４に入射す
る。このとき、レーザ光５０、５１は直線偏光で、その
偏光方向は反射面と平行（ｐ偏光）、つまり紙面と平行
となるようにレーザ１の向きは設定されているので、偏
光ビームスプリッタ４に入射したレーザ光５１は偏光ビ
ームスプリッタ４を透過し、さらにλ／４板５と対物レ
ンズ６を透過し、被測定対象３０の表面３１にほぼ集光
される。ほぼ集光されたレーザ光５３は被測定対象３０
の表面３１で反射または散乱され、再び対物レンズ６と
λ／４板５を透過する。λ／４板５の光学軸は、レーザ
光５１の偏光方向に対して４５゜になるように設定して
おくと、λ／４板５を２回透過したレーザ光５４の偏光
方向はλ／４板５を一度も透過していないレーザ光５１
に対して９０゜回転し、反射面と垂直（ｓ偏光）、つま
り紙面と垂直になる。偏光がｓ偏光となり、さらに再度
偏光ビームスプリッタ４に入射したレーザ光５４は今度
は偏光ビームスプリッタ４で反射され、集光レンズ７で
収束光５５となった後、光軸上に頂点が位置するように
配置された直角ナイフエッジミラー８で２方向に反射さ
れ、それぞれの反射光５６、および５７はそれぞれの２
分割光検出器１１、および１２の中心に集光され、それ
ぞれの２分割光検出器１１、および１２の受光部１３
ａ、１３ｂ、および受光部１４ａ、１４ｂに受光され
る。それぞれの２分割光検出器１１、および１２は直角
ナイフエッジミラー８でそれぞれ折り返された集光レン
ズ７の焦点位置に配置され、それぞれの２分割光検出器
１１、および１２の中心は直角ナイフエッジミラー８で
それぞれ折り返された光軸上に位置している。直角ナイ
フエッジミラー８で反射されたそれぞれの反射光５６、
および５７は両者とも、前記図４の収束光６２のナイフ
エッジ２０と反対側の半分６３に相当することになる。
すなわち、反射光５６に対しては、直角ナイフエッジミ
ラー８の頂点より左側のミラー部分１０が遮蔽として働
き、逆に反射光５７に対しては、直角ナイフエッジミラ
ー８の頂点より右側のミラー部分９が遮蔽として働くこ
とになる。したがって、それぞれの２分割光検出器１
１、および１２の受光部１３ａ、１３ｂ、および受光部
１４ａ、１４ｂに受光される光量は、光が反射または散
乱される位置、つまり被測定対象３０の表面３１の位置
にしたがって変化するので、それぞれの２分割光検出器
１１、および１２の同じ位置関係にある受光部１３ａ、
１４ａからの出力７０ａと受光部１３ｂ、１４ｂからの
出力７０ｂの差動信号により、前記図４の差動信号と同
様に、出射位置を検知することができる。このとき、２
つの２分割光検出器１１、および１２からの出力の差動
信号は、前記図４の出力差動信号の２倍になる。
定する方法の一例を、図５に示す。レーザ１から発せら
れるレーザ光５０は、コリメートレンズ２で円形の平行
光５１にされた後、偏光ビームスプリッタ４に入射す
る。このとき、レーザ光５０、５１は直線偏光で、その
偏光方向は反射面と平行（ｐ偏光）、つまり紙面と平行
となるようにレーザ１の向きは設定されているので、偏
光ビームスプリッタ４に入射したレーザ光５１は偏光ビ
ームスプリッタ４を透過し、さらにλ／４板５と対物レ
ンズ６を透過し、被測定対象３０の表面３１にほぼ集光
される。ほぼ集光されたレーザ光５３は被測定対象３０
の表面３１で反射または散乱され、再び対物レンズ６と
λ／４板５を透過する。λ／４板５の光学軸は、レーザ
光５１の偏光方向に対して４５゜になるように設定して
おくと、λ／４板５を２回透過したレーザ光５４の偏光
方向はλ／４板５を一度も透過していないレーザ光５１
に対して９０゜回転し、反射面と垂直（ｓ偏光）、つま
り紙面と垂直になる。偏光がｓ偏光となり、さらに再度
偏光ビームスプリッタ４に入射したレーザ光５４は今度
は偏光ビームスプリッタ４で反射され、集光レンズ７で
収束光５５となった後、光軸上に頂点が位置するように
配置された直角ナイフエッジミラー８で２方向に反射さ
れ、それぞれの反射光５６、および５７はそれぞれの２
分割光検出器１１、および１２の中心に集光され、それ
ぞれの２分割光検出器１１、および１２の受光部１３
ａ、１３ｂ、および受光部１４ａ、１４ｂに受光され
る。それぞれの２分割光検出器１１、および１２は直角
ナイフエッジミラー８でそれぞれ折り返された集光レン
ズ７の焦点位置に配置され、それぞれの２分割光検出器
１１、および１２の中心は直角ナイフエッジミラー８で
それぞれ折り返された光軸上に位置している。直角ナイ
フエッジミラー８で反射されたそれぞれの反射光５６、
および５７は両者とも、前記図４の収束光６２のナイフ
エッジ２０と反対側の半分６３に相当することになる。
すなわち、反射光５６に対しては、直角ナイフエッジミ
ラー８の頂点より左側のミラー部分１０が遮蔽として働
き、逆に反射光５７に対しては、直角ナイフエッジミラ
ー８の頂点より右側のミラー部分９が遮蔽として働くこ
とになる。したがって、それぞれの２分割光検出器１
１、および１２の受光部１３ａ、１３ｂ、および受光部
１４ａ、１４ｂに受光される光量は、光が反射または散
乱される位置、つまり被測定対象３０の表面３１の位置
にしたがって変化するので、それぞれの２分割光検出器
１１、および１２の同じ位置関係にある受光部１３ａ、
１４ａからの出力７０ａと受光部１３ｂ、１４ｂからの
出力７０ｂの差動信号により、前記図４の差動信号と同
様に、出射位置を検知することができる。このとき、２
つの２分割光検出器１１、および１２からの出力の差動
信号は、前記図４の出力差動信号の２倍になる。
【０００７】一方、被測定対象３０は、レーザ光５１と
垂直な方向に動く移動ステージ３２上に固定され、駆動
装置３３によりレーザ光５１と垂直な方向に移動する。
このとき、被測定対象３０の表面３１上に集光されるレ
ーザ光５３の反射または散乱される位置は、被測定対象
３０の表面３１の凹凸に対応して光軸方向に変位するの
で、この変位に伴い、前記図４の原理に従ってそれぞれ
の２分割光検出器１１、および１２の同じ位置関係にあ
る受光部１３ａ、１４ａからの出力７０ａと受光部１３
ｂ、１４ｂからの出力７０ｂの差動信号７１が変化し、
被測定対象３０の表面３１の凹凸を求めることができ
る。
垂直な方向に動く移動ステージ３２上に固定され、駆動
装置３３によりレーザ光５１と垂直な方向に移動する。
このとき、被測定対象３０の表面３１上に集光されるレ
ーザ光５３の反射または散乱される位置は、被測定対象
３０の表面３１の凹凸に対応して光軸方向に変位するの
で、この変位に伴い、前記図４の原理に従ってそれぞれ
の２分割光検出器１１、および１２の同じ位置関係にあ
る受光部１３ａ、１４ａからの出力７０ａと受光部１３
ｂ、１４ｂからの出力７０ｂの差動信号７１が変化し、
被測定対象３０の表面３１の凹凸を求めることができ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
従来の光学式表面粗度計においては、測定範囲と分解能
が固定されているという問題点があった。すなわち、測
定範囲が広いが低分解能であるものと、測定範囲は狭い
が高分解能のものを、一つの装置で満たすことができ
ず、それぞれの仕様を満たす装置が必要であった。
従来の光学式表面粗度計においては、測定範囲と分解能
が固定されているという問題点があった。すなわち、測
定範囲が広いが低分解能であるものと、測定範囲は狭い
が高分解能のものを、一つの装置で満たすことができ
ず、それぞれの仕様を満たす装置が必要であった。
【０００９】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、測定範囲および分解能を簡単にかつ任意に選択
することが可能である光学式表面粗度計を提供すること
を目的とするものである。
であり、測定範囲および分解能を簡単にかつ任意に選択
することが可能である光学式表面粗度計を提供すること
を目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に関わる光学式表
面粗度計は、上記課題を解決するために、焦点誤差検出
光学系を用いた表面粗度や表面形状を非接触で測定する
光学式表面粗度計において、計測光を被測定対象に集光
するための対物レンズの実効的な開口数（Ｎ．Ａ．）を
調整する機構を備えたことを特徴とするものであり、特
に、焦点誤差検出光学系として、ナイフエッジ法または
フーコー法を用いた光学系であること、計測光を被測定
対象に集光するための対物レンズの実効的な開口数
（Ｎ．Ａ．）を調整する機構として、計測光のビーム径
を調整する機構であることを特徴とするものである。
面粗度計は、上記課題を解決するために、焦点誤差検出
光学系を用いた表面粗度や表面形状を非接触で測定する
光学式表面粗度計において、計測光を被測定対象に集光
するための対物レンズの実効的な開口数（Ｎ．Ａ．）を
調整する機構を備えたことを特徴とするものであり、特
に、焦点誤差検出光学系として、ナイフエッジ法または
フーコー法を用いた光学系であること、計測光を被測定
対象に集光するための対物レンズの実効的な開口数
（Ｎ．Ａ．）を調整する機構として、計測光のビーム径
を調整する機構であることを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】前記のナイフエッジ法またはフーコー法を用い
た焦点誤差検出光学系において、測定範囲および分解能
は、被測定対象に計測光を集光する対物レンズの開口数
（Ｎ．Ａ．）で決まることが、Japanese Journal of
Applied Physics, Vol.26 (1987) Supplement 26
-4 pp183-186 に示されている。このことは定性的に
は、次のように説明できる。開口数の大きい対物レンズ
で集光される光の焦点深度は小さいために、光の出射位
置、つまり光が反射または散乱される位置が焦点位置か
ら少しでもずれると、計測光の発散収束条件が大きく変
化することになるので、測定範囲が狭くなり、その結果
分解能は高くなることになる。一方、開口数の小さい対
物レンズで集光される光の焦点深度は大きいために、光
の出射位置、つまり光が反射または散乱される位置が焦
点位置から少しぐらいずれても、計測光の発散収束条件
はあまり変化しないので、測定範囲が広くなり、その結
果分解能は低くなることになる。このとき、２分割光検
出器が集光レンズの焦点位置に配置され、収差の影響を
無視することができるならば、集光レンズの開口数は、
測定範囲および分解能に影響を与えないというのが特徴
である。
た焦点誤差検出光学系において、測定範囲および分解能
は、被測定対象に計測光を集光する対物レンズの開口数
（Ｎ．Ａ．）で決まることが、Japanese Journal of
Applied Physics, Vol.26 (1987) Supplement 26
-4 pp183-186 に示されている。このことは定性的に
は、次のように説明できる。開口数の大きい対物レンズ
で集光される光の焦点深度は小さいために、光の出射位
置、つまり光が反射または散乱される位置が焦点位置か
ら少しでもずれると、計測光の発散収束条件が大きく変
化することになるので、測定範囲が狭くなり、その結果
分解能は高くなることになる。一方、開口数の小さい対
物レンズで集光される光の焦点深度は大きいために、光
の出射位置、つまり光が反射または散乱される位置が焦
点位置から少しぐらいずれても、計測光の発散収束条件
はあまり変化しないので、測定範囲が広くなり、その結
果分解能は低くなることになる。このとき、２分割光検
出器が集光レンズの焦点位置に配置され、収差の影響を
無視することができるならば、集光レンズの開口数は、
測定範囲および分解能に影響を与えないというのが特徴
である。
【００１２】本発明においては、この特徴を利用し、被
測定対象に計測光を集光する対物レンズの実効的な開口
数を変えることで、測定範囲および分解能をある範囲内
で任意に選択することができるようにしたものである。
レンズの開口数は、レンズの有効径と焦点距離で決まる
が、光学系としての開口数、つまりレンズの実効的な開
口数は、レンズに入射する光のビーム径がレンズの有効
径より大きい場合には、レンズの開口数と等しくなる
が、レンズに入射する光のビーム径がレンズの有効径よ
り小さい場合には、光のビーム径とレンズの焦点距離で
決まることになる。つまり、光のビーム径をレンズの有
効径より小さくなるまで絞るか、またはレンズの焦点距
離を変えることにより、光学系としての開口数、つまり
レンズの実効的な開口数を変えることができる。したが
って、前記のナイフエッジ法またはフーコー法を用いた
焦点誤差検出光学系において、一つの方法としては、対
物レンズに入射する計測光のビーム径を調整する機構を
設け、計測光のビーム径を調整して、光学系としての開
口数、つまり対物レンズの実効的な開口数を任意に変え
ることによって、測定範囲および分解能を簡単にかつ任
意に選択することができる。また、もう一つの方法とし
ては、焦点距離が異なり実効的な開口数が異なる対物レ
ンズを入れ換える機構を設け、これらの対物レンズを入
れ換えて、光学系としての開口数を任意に変えることに
よっても、測定範囲および分解能を簡単にかつ任意に選
択することができる。
測定対象に計測光を集光する対物レンズの実効的な開口
数を変えることで、測定範囲および分解能をある範囲内
で任意に選択することができるようにしたものである。
レンズの開口数は、レンズの有効径と焦点距離で決まる
が、光学系としての開口数、つまりレンズの実効的な開
口数は、レンズに入射する光のビーム径がレンズの有効
径より大きい場合には、レンズの開口数と等しくなる
が、レンズに入射する光のビーム径がレンズの有効径よ
り小さい場合には、光のビーム径とレンズの焦点距離で
決まることになる。つまり、光のビーム径をレンズの有
効径より小さくなるまで絞るか、またはレンズの焦点距
離を変えることにより、光学系としての開口数、つまり
レンズの実効的な開口数を変えることができる。したが
って、前記のナイフエッジ法またはフーコー法を用いた
焦点誤差検出光学系において、一つの方法としては、対
物レンズに入射する計測光のビーム径を調整する機構を
設け、計測光のビーム径を調整して、光学系としての開
口数、つまり対物レンズの実効的な開口数を任意に変え
ることによって、測定範囲および分解能を簡単にかつ任
意に選択することができる。また、もう一つの方法とし
ては、焦点距離が異なり実効的な開口数が異なる対物レ
ンズを入れ換える機構を設け、これらの対物レンズを入
れ換えて、光学系としての開口数を任意に変えることに
よっても、測定範囲および分解能を簡単にかつ任意に選
択することができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例について図を参照しな
がら説明する。図１は、本発明におけるナイフエッジ法
を用いた光学式表面粗度計の一実施例を示す模式図であ
る。
がら説明する。図１は、本発明におけるナイフエッジ法
を用いた光学式表面粗度計の一実施例を示す模式図であ
る。
【００１４】出力３０ｍＷ、波長８３０ｎｍの半導体レ
ーザ１より発せられる発散レーザ光５０は、半導体レー
ザ１から２０ｍｍ離れた位置に置かれた、焦点距離２０
ｍｍ、有効径φ５ｍｍのコリメートレンズ２でビーム径
φ５ｍｍの円形の平行レーザ光５１にされた後、有効径
が可変であるアパーチャー３を通過することにより、さ
らにビーム径が任意の大きさに変えられた平行レーザ光
５２になり、１０ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍの偏光ビー
ムスプリッタ４に入射する。半導体レーザ１は、Ｈｅ−
Ｎｅレーザ等のレーザでもよく、計測に必要な光量が得
られればよい。また、波長も１〜２μｍ程度以下のもの
であれば、特に問題はない。レーザ光５０、５１、５２
は直線偏光で、その偏光方向は反射面と平行（ｐ偏
光）、つまり紙面と平行となるように半導体レーザ１の
向きは設定されているので、偏光ビームスプリッタ４に
入射したレーザ光５２は偏光ビームスプリッタ４を透過
し、さらにλ／４板５と焦点距離１０ｍｍ、有効径３ｍ
ｍの対物レンズ６を透過し、被測定対象である鋼板３０
の表面３１にほぼ集光される。被測定対象は鋼板のよう
に粗面であるものでも、アルミミラーのように鏡面であ
るものでもよい。ほぼ集光されたレーザ光５３は被測定
対象である鋼板３０の表面３１で反射または散乱され、
再び対物レンズ６とλ／４板５を透過する。λ／４板５
の光学軸は、レーザ光５２の偏光方向に対して４５゜に
なるように設定しておくと、λ／４板５を２回透過した
レーザ光５４の偏光方向はλ／４板５を一度も透過して
いないレーザ光５２に対して９０゜回転し、反射面と垂
直（ｓ偏光）、つまり紙面と垂直になる。偏光がｓ偏光
となり、さらに再度偏光ビームスプリッタ４に入射した
レーザ光５４は今度は偏光ビームスプリッタ４で反射さ
れ、焦点距離１００ｍｍ、有効径１０ｍｍの集光レンズ
７で収束光５５となった後、光軸上に頂点が位置するよ
うに配置された、各反射面がそれぞれ１０ｍｍ×１４．
１ｍｍの直角ナイフエッジミラー８で２方向に反射さ
れ、それぞれの反射光５６、および５７はそれぞれの２
分割光検出器１１、および１２の中心に集光され、それ
ぞれの２分割光検出器１１、および１２の受光部１３
ａ、１３ｂ、および受光部１４ａ、１４ｂに受光され
る。２分割光検出器１１、および１２の感度は波長８３
０ｎｍ付近で０．５ｍＡ／ｍＷで、受光部１３ａ、１３
ｂ、および受光部１４ａ、１４ｂの大きさはそれぞれ約
０．３ｍｍ×１．２ｍｍで、受光部１３ａと１３ｂ、お
よび受光部１４ａと１４ｂの間には１０μｍのデッドゾ
ーンがある。それぞれの２分割光検出器１１、および１
２は直角ナイフエッジミラー８でそれぞれ折り返された
集光レンズ７の焦点位置に配置され、それぞれの２分割
光検出器１１、および１２の中心は直角ナイフエッジミ
ラー８でそれぞれ折り返された光軸上に位置している。
したがって、それぞれの２分割光検出器１１、および１
２の受光部１３ａ、１３ｂ、および受光部１４ａ、１４
ｂに受光される光量は、光が反射または散乱される位
置、つまり被測定対象である鋼板３０の表面３１の位置
にしたがって変化するので、それぞれの２分割光検出器
１１、および１２の同じ位置関係にある受光部１３ａ、
１４ａからの出力７０ａと受光部１３ｂ、１４ｂからの
出力７０ｂを差動増幅器１５で差動増幅した差動信号７
１により、被測定対象である鋼板３０の表面３１の位置
を検知することができる。
ーザ１より発せられる発散レーザ光５０は、半導体レー
ザ１から２０ｍｍ離れた位置に置かれた、焦点距離２０
ｍｍ、有効径φ５ｍｍのコリメートレンズ２でビーム径
φ５ｍｍの円形の平行レーザ光５１にされた後、有効径
が可変であるアパーチャー３を通過することにより、さ
らにビーム径が任意の大きさに変えられた平行レーザ光
５２になり、１０ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍの偏光ビー
ムスプリッタ４に入射する。半導体レーザ１は、Ｈｅ−
Ｎｅレーザ等のレーザでもよく、計測に必要な光量が得
られればよい。また、波長も１〜２μｍ程度以下のもの
であれば、特に問題はない。レーザ光５０、５１、５２
は直線偏光で、その偏光方向は反射面と平行（ｐ偏
光）、つまり紙面と平行となるように半導体レーザ１の
向きは設定されているので、偏光ビームスプリッタ４に
入射したレーザ光５２は偏光ビームスプリッタ４を透過
し、さらにλ／４板５と焦点距離１０ｍｍ、有効径３ｍ
ｍの対物レンズ６を透過し、被測定対象である鋼板３０
の表面３１にほぼ集光される。被測定対象は鋼板のよう
に粗面であるものでも、アルミミラーのように鏡面であ
るものでもよい。ほぼ集光されたレーザ光５３は被測定
対象である鋼板３０の表面３１で反射または散乱され、
再び対物レンズ６とλ／４板５を透過する。λ／４板５
の光学軸は、レーザ光５２の偏光方向に対して４５゜に
なるように設定しておくと、λ／４板５を２回透過した
レーザ光５４の偏光方向はλ／４板５を一度も透過して
いないレーザ光５２に対して９０゜回転し、反射面と垂
直（ｓ偏光）、つまり紙面と垂直になる。偏光がｓ偏光
となり、さらに再度偏光ビームスプリッタ４に入射した
レーザ光５４は今度は偏光ビームスプリッタ４で反射さ
れ、焦点距離１００ｍｍ、有効径１０ｍｍの集光レンズ
７で収束光５５となった後、光軸上に頂点が位置するよ
うに配置された、各反射面がそれぞれ１０ｍｍ×１４．
１ｍｍの直角ナイフエッジミラー８で２方向に反射さ
れ、それぞれの反射光５６、および５７はそれぞれの２
分割光検出器１１、および１２の中心に集光され、それ
ぞれの２分割光検出器１１、および１２の受光部１３
ａ、１３ｂ、および受光部１４ａ、１４ｂに受光され
る。２分割光検出器１１、および１２の感度は波長８３
０ｎｍ付近で０．５ｍＡ／ｍＷで、受光部１３ａ、１３
ｂ、および受光部１４ａ、１４ｂの大きさはそれぞれ約
０．３ｍｍ×１．２ｍｍで、受光部１３ａと１３ｂ、お
よび受光部１４ａと１４ｂの間には１０μｍのデッドゾ
ーンがある。それぞれの２分割光検出器１１、および１
２は直角ナイフエッジミラー８でそれぞれ折り返された
集光レンズ７の焦点位置に配置され、それぞれの２分割
光検出器１１、および１２の中心は直角ナイフエッジミ
ラー８でそれぞれ折り返された光軸上に位置している。
したがって、それぞれの２分割光検出器１１、および１
２の受光部１３ａ、１３ｂ、および受光部１４ａ、１４
ｂに受光される光量は、光が反射または散乱される位
置、つまり被測定対象である鋼板３０の表面３１の位置
にしたがって変化するので、それぞれの２分割光検出器
１１、および１２の同じ位置関係にある受光部１３ａ、
１４ａからの出力７０ａと受光部１３ｂ、１４ｂからの
出力７０ｂを差動増幅器１５で差動増幅した差動信号７
１により、被測定対象である鋼板３０の表面３１の位置
を検知することができる。
【００１５】一方、被測定対象である鋼板３０は、レー
ザ光５２と垂直な方向に動く移動ステージ３２上に固定
され、駆動装置３３によりレーザ光５２と垂直な方向に
移動する。このとき、被測定対象３０の表面３１上に集
光されるレーザ光５３の反射または散乱される位置は、
被測定対象３０の表面３１の凹凸に対応して光軸方向に
変位するので、この変位に伴い、それぞれの２分割光検
出器１１、および１２の同じ位置関係にある受光部１３
ａ、１４ａからの出力７０ａと受光部１３ｂ、１４ｂか
らの出力７０ｂの差動信号が変化し、被測定対象である
鋼板３０の表面３１の凹凸を求めることができる。
ザ光５２と垂直な方向に動く移動ステージ３２上に固定
され、駆動装置３３によりレーザ光５２と垂直な方向に
移動する。このとき、被測定対象３０の表面３１上に集
光されるレーザ光５３の反射または散乱される位置は、
被測定対象３０の表面３１の凹凸に対応して光軸方向に
変位するので、この変位に伴い、それぞれの２分割光検
出器１１、および１２の同じ位置関係にある受光部１３
ａ、１４ａからの出力７０ａと受光部１３ｂ、１４ｂか
らの出力７０ｂの差動信号が変化し、被測定対象である
鋼板３０の表面３１の凹凸を求めることができる。
【００１６】このときに、半導体レーザ１からのレーザ
光５０を円形の平行光にコリメートするコリメートレン
ズ２と、被測定対象である鋼板３０の表面３１にレーザ
光５２を集光する対物レンズ６の間の、円形の平行光に
コリメートされたレーザ光５１のビーム径を調整するた
めのアパーチャー３により、レーザ光５１のビーム径を
調整して、被測定対象である鋼板３０の表面３１にレー
ザ光５２を集光する対物レンズ６の実効的な開口数を任
意に変えることによって、測定範囲および分解能を簡単
にかつ任意に選択して、被測定対象である鋼板３０の表
面３１の凹凸を測定する。アパーチャー３の有効径がφ
３ｍｍ以上のときは、対物レンズの実効的な開口数は、
対物レンズの実際の開口数になり、測定範囲および分解
能はほとんど固定されるが、アパーチャー３の有効径が
φ３ｍｍ以下のときは、対物レンズの実効的な開口数
は、アパーチャー３の有効径で決められることになる。
例えば、アパーチャー３の有効径がφ３ｍｍ以上の場
合、対物レンズの焦点距離は１０ｍｍなので対物レンズ
の実効的な開口数は０．１５となり、レーザ光５３が反
射または散乱される位置、つまり被測定対象である鋼板
３０の表面３１の位置の変位に対する、２分割光検出器
１１、および１２からの差動信号７１は、焦点位置に対
して±５０μｍの範囲で単調増加を示し、図２の曲線９
０のようになる。また、アパーチャー３の有効径がφ１
ｍｍの場合、対物レンズの焦点距離は１０ｍｍなので対
物レンズの実効的な開口数は０．０５となり、レーザ光
５３が反射または散乱される位置、つまり被測定対象で
ある鋼板３０の表面３１の位置の変位に対する、２分割
光検出器１１、および１２からの差動信号７１は、焦点
位置に対して±１５０μｍの範囲で単調増加を示し、図
２の曲線９１のようになる。したがって、被測定対象で
ある鋼板３０の表面３１の凹凸の大きさに合わせた測定
範囲および分解能になるように、アパーチャー３の有効
径を調整して測定することにより、感度のよい測定をす
ることができる。
光５０を円形の平行光にコリメートするコリメートレン
ズ２と、被測定対象である鋼板３０の表面３１にレーザ
光５２を集光する対物レンズ６の間の、円形の平行光に
コリメートされたレーザ光５１のビーム径を調整するた
めのアパーチャー３により、レーザ光５１のビーム径を
調整して、被測定対象である鋼板３０の表面３１にレー
ザ光５２を集光する対物レンズ６の実効的な開口数を任
意に変えることによって、測定範囲および分解能を簡単
にかつ任意に選択して、被測定対象である鋼板３０の表
面３１の凹凸を測定する。アパーチャー３の有効径がφ
３ｍｍ以上のときは、対物レンズの実効的な開口数は、
対物レンズの実際の開口数になり、測定範囲および分解
能はほとんど固定されるが、アパーチャー３の有効径が
φ３ｍｍ以下のときは、対物レンズの実効的な開口数
は、アパーチャー３の有効径で決められることになる。
例えば、アパーチャー３の有効径がφ３ｍｍ以上の場
合、対物レンズの焦点距離は１０ｍｍなので対物レンズ
の実効的な開口数は０．１５となり、レーザ光５３が反
射または散乱される位置、つまり被測定対象である鋼板
３０の表面３１の位置の変位に対する、２分割光検出器
１１、および１２からの差動信号７１は、焦点位置に対
して±５０μｍの範囲で単調増加を示し、図２の曲線９
０のようになる。また、アパーチャー３の有効径がφ１
ｍｍの場合、対物レンズの焦点距離は１０ｍｍなので対
物レンズの実効的な開口数は０．０５となり、レーザ光
５３が反射または散乱される位置、つまり被測定対象で
ある鋼板３０の表面３１の位置の変位に対する、２分割
光検出器１１、および１２からの差動信号７１は、焦点
位置に対して±１５０μｍの範囲で単調増加を示し、図
２の曲線９１のようになる。したがって、被測定対象で
ある鋼板３０の表面３１の凹凸の大きさに合わせた測定
範囲および分解能になるように、アパーチャー３の有効
径を調整して測定することにより、感度のよい測定をす
ることができる。
【００１７】また、アパーチャー３の代わりに対物レン
ズを入れ換えるレボルバを設け、焦点距離が異なり実効
的な開口数が異なる対物レンズを入れ換えて、光学系と
しての開口数を任意に変えることによっても、測定範囲
および分解能を簡単にかつ任意に選択することができる
ので、感度のよい測定をすることができる。
ズを入れ換えるレボルバを設け、焦点距離が異なり実効
的な開口数が異なる対物レンズを入れ換えて、光学系と
しての開口数を任意に変えることによっても、測定範囲
および分解能を簡単にかつ任意に選択することができる
ので、感度のよい測定をすることができる。
【００１８】図３は、本発明におけるもう一つの方法で
あるフーコー法を用いた光学式表面粗度計の一実施例を
示す模式図である。半導体レーザ１、コリメートレンズ
２、アパーチャー３、偏光ビームスプリッタ４、λ／４
板５、対物レンズ６、集光レンズ７、２分割光検出器１
１、および１２、２分割光検出器１１の受光部１３ａ、
および１３ｂ、２分割光検出器１２の受光部１４ａ、お
よび１４ｂ、差動増幅器１５、被測定対象３０、被測定
対象３０の表面３１、移動ステージ３２、駆動装置３
３、レーザ光５０、５１、５２、５３、５４、および５
５、２分割光検出器１１の受光部１３ａと２分割光検出
器１２の受光部１４ａからの出力信号７０ａ、２分割光
検出器１１の受光部１３ｂと２分割光検出器１２の受光
部１４ｂからの出力信号７０ｂ、出力信号７０ａと出力
信号７０ｂの差動信号７１は、図１に示すナイフエッジ
法を用いた光学式表面粗度計と同様であるが、２分割光
検出器１１、および１２の位置はプリズム１６でそれぞ
れ曲げられた集光レンズ７の焦点に配置され、それぞれ
の２分割光検出器１１、および１２の中心がプリズム１
６でそれぞれ曲げられた光軸上に位置している。図３に
示すフーコー法を用いた光学式表面粗度計では、集光レ
ンズ７を透過した収束光５５は、図１に示すナイフエッ
ジ法を用いた光学式表面粗度計の直角ナイフエッジプリ
ズム８の代わりに、光軸上に頂点が位置するように配置
されたプリズム１６を透過して２方向に分離され、それ
ぞれの透過光５８、および５９はそれぞれの２分割光検
出器１１、および１２の中心に集光される。以下、ナイ
フエッジ法を用いた光学式表面粗度計と同様にして、被
測定対象である鋼板３０の表面３１の凹凸を測定し、開
口数調整機構により、感度のよい測定をすることができ
る。
あるフーコー法を用いた光学式表面粗度計の一実施例を
示す模式図である。半導体レーザ１、コリメートレンズ
２、アパーチャー３、偏光ビームスプリッタ４、λ／４
板５、対物レンズ６、集光レンズ７、２分割光検出器１
１、および１２、２分割光検出器１１の受光部１３ａ、
および１３ｂ、２分割光検出器１２の受光部１４ａ、お
よび１４ｂ、差動増幅器１５、被測定対象３０、被測定
対象３０の表面３１、移動ステージ３２、駆動装置３
３、レーザ光５０、５１、５２、５３、５４、および５
５、２分割光検出器１１の受光部１３ａと２分割光検出
器１２の受光部１４ａからの出力信号７０ａ、２分割光
検出器１１の受光部１３ｂと２分割光検出器１２の受光
部１４ｂからの出力信号７０ｂ、出力信号７０ａと出力
信号７０ｂの差動信号７１は、図１に示すナイフエッジ
法を用いた光学式表面粗度計と同様であるが、２分割光
検出器１１、および１２の位置はプリズム１６でそれぞ
れ曲げられた集光レンズ７の焦点に配置され、それぞれ
の２分割光検出器１１、および１２の中心がプリズム１
６でそれぞれ曲げられた光軸上に位置している。図３に
示すフーコー法を用いた光学式表面粗度計では、集光レ
ンズ７を透過した収束光５５は、図１に示すナイフエッ
ジ法を用いた光学式表面粗度計の直角ナイフエッジプリ
ズム８の代わりに、光軸上に頂点が位置するように配置
されたプリズム１６を透過して２方向に分離され、それ
ぞれの透過光５８、および５９はそれぞれの２分割光検
出器１１、および１２の中心に集光される。以下、ナイ
フエッジ法を用いた光学式表面粗度計と同様にして、被
測定対象である鋼板３０の表面３１の凹凸を測定し、開
口数調整機構により、感度のよい測定をすることができ
る。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、実効的な開口数を調整
する機構により、測定範囲および分解能を簡単にかつ任
意に選択することが可能になる。
する機構により、測定範囲および分解能を簡単にかつ任
意に選択することが可能になる。
【図１】本発明に関するナイフエッジ法を用いた光学式
表面粗度計の一実施例を示す模式図である。
表面粗度計の一実施例を示す模式図である。
【図２】本発明の一実施例において、被測定対象３０の
表面３１の位置の変位に対する、２分割光検出器１１、
および１２からの差動信号７１を示す図である。
表面３１の位置の変位に対する、２分割光検出器１１、
および１２からの差動信号７１を示す図である。
【図３】本発明に関するフーコー法を用いた光学式表面
粗度計の一実施例を示す模式図である。
粗度計の一実施例を示す模式図である。
【図４】ナイフエッジ法による焦点誤差検出法を説明す
る図である。
る図である。
【図５】従来の光学式表面粗度計の一実施例を示す模式
図である。
図である。
１ 半導体レーザ ２ コリメートレンズ ３ アパーチャー ４ 偏光ビームスプリッタ ５ λ／４板 ６ 対物レンズ ７ 集光レンズ ８ 直角ナイフエッジミラー ９、１０ 直角ナイフエッジミラー８のミラー部分 １１、１２ ２分割光検出器 １３ａ、１３ｂ ２分割光検出器１１の受光部 １４ａ、１４ｂ ２分割光検出器１２の受光部 １５ 差動増幅器 １６ プリズム ２０ ナイフエッジ ２１ ２分割光検出器 ２２ａ ２分割光検出器２１のナイフエッジと反対側
の受光部 ２２ｂ ２分割光検出器２１のナイフエッジと同じ側
の受光部 ３０ 被測定対象 ３１ 被測定対象３０の表面 ３２ 移動ステージ ３３ 駆動装置 ５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５
８、５９ レーザ光 ６０、６０’、６０” 発散光 ６１ 平行光 ６１’ 平行光に近い発散光 ６１” 平行光に近い収束光 ６２、６２’、６２” 収束光 ６３ レーザ光６２のナイフエッジと反対側の半分 ６３’ レーザ光６２’のナイフエッジと反対側の半
分 ６３” レーザ光６２”のナイフエッジと反対側の半
分 ６４ レーザ光６２のナイフエッジと同じ側の半分 ６４’ レーザ光６２’のナイフエッジと同じ側の半
分 ６４” レーザ光６２”のナイフエッジと同じ側の半
分 ７０ａ ２分割光検出器１１の受光部１３ａと、２分
割光検出器１２の受光部１４ａからの出力信号 ７０ｂ ２分割光検出器１１の受光部１３ｂと、２分
割光検出器１２の受光部１４ｂからの出力信号 ７１ 出力信号７０ａと出力信号７０ｂの差動信号 ９０ アパーチャー３の有効径がφ３ｍｍ以上の場合
の、被測定対象３０の表面３１の位置の変位に対する、
２分割光検出器１１、および１２からの差動信号７１ ９１ アパーチャー３の有効径がφ１ｍｍの場合の、
被測定対象３０の表面３１の位置の変位に対する、２分
割光検出器１１、および１２からの差動信号７１ Ａ 対物レンズ６の焦点位置より対物レンズ６に近い
位置 Ｂ 対物レンズ６の焦点位置 Ｃ 対物レンズ６の焦点位置より対物レンズ６から遠
い位置
の受光部 ２２ｂ ２分割光検出器２１のナイフエッジと同じ側
の受光部 ３０ 被測定対象 ３１ 被測定対象３０の表面 ３２ 移動ステージ ３３ 駆動装置 ５０、５１、５２、５３、５４、５５、５６、５７、５
８、５９ レーザ光 ６０、６０’、６０” 発散光 ６１ 平行光 ６１’ 平行光に近い発散光 ６１” 平行光に近い収束光 ６２、６２’、６２” 収束光 ６３ レーザ光６２のナイフエッジと反対側の半分 ６３’ レーザ光６２’のナイフエッジと反対側の半
分 ６３” レーザ光６２”のナイフエッジと反対側の半
分 ６４ レーザ光６２のナイフエッジと同じ側の半分 ６４’ レーザ光６２’のナイフエッジと同じ側の半
分 ６４” レーザ光６２”のナイフエッジと同じ側の半
分 ７０ａ ２分割光検出器１１の受光部１３ａと、２分
割光検出器１２の受光部１４ａからの出力信号 ７０ｂ ２分割光検出器１１の受光部１３ｂと、２分
割光検出器１２の受光部１４ｂからの出力信号 ７１ 出力信号７０ａと出力信号７０ｂの差動信号 ９０ アパーチャー３の有効径がφ３ｍｍ以上の場合
の、被測定対象３０の表面３１の位置の変位に対する、
２分割光検出器１１、および１２からの差動信号７１ ９１ アパーチャー３の有効径がφ１ｍｍの場合の、
被測定対象３０の表面３１の位置の変位に対する、２分
割光検出器１１、および１２からの差動信号７１ Ａ 対物レンズ６の焦点位置より対物レンズ６に近い
位置 Ｂ 対物レンズ６の焦点位置 Ｃ 対物レンズ６の焦点位置より対物レンズ６から遠
い位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 俵口 隆雄 神奈川県相模原市淵野辺５丁目10番１号 新日本製鐵株式会社エレクトロニクス研究 所内
Claims (3)
- 【請求項１】 焦点誤差検出光学系を用いた表面粗度や
表面形状を非接触で測定する光学式表面粗度計におい
て、計測光を被測定対象に集光するための対物レンズの
実効的な開口数（Ｎ．Ａ．）を調整する機構を備えたこ
とを特徴とする光学式表面粗度計。 - 【請求項２】 前記焦点誤差検出光学系として、ナイフ
エッジ法またはフーコー法を用いた光学系であることを
特徴とする、請求項１記載の光学式表面粗度計。 - 【請求項３】 前記計測光を被測定対象に集光するため
の対物レンズの実効的な開口数（Ｎ．Ａ．）を調整する
機構として、計測光のビーム径を調整する機構であるこ
とを特徴とする、請求項１または請求項２記載の光学式
表面粗度計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10761494A JPH07294231A (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | 光学式表面粗度計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10761494A JPH07294231A (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | 光学式表面粗度計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07294231A true JPH07294231A (ja) | 1995-11-10 |
Family
ID=14463645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10761494A Withdrawn JPH07294231A (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | 光学式表面粗度計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07294231A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002310623A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-23 | Fotonikusu:Kk | 表面形状測定方法および表面形状測定装置 |
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| JP2010091343A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-04-22 | Hitachi High-Technologies Corp | 微小突起物検査装置 |
| US8514410B2 (en) | 2010-08-30 | 2013-08-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Displacement detection device and method |
| EP1901028A4 (en) * | 2005-07-06 | 2014-06-04 | Japan Science & Tech Agency | METHOD AND DEVICE FOR OBSERVING A THREE-DIMENSIONAL POSITION |
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| US20220236142A1 (en) * | 2021-01-28 | 2022-07-28 | Klingelnberg Gmbh | Method and device for measuring a toothing |
-
1994
- 1994-04-22 JP JP10761494A patent/JPH07294231A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP1901028A4 (en) * | 2005-07-06 | 2014-06-04 | Japan Science & Tech Agency | METHOD AND DEVICE FOR OBSERVING A THREE-DIMENSIONAL POSITION |
| JP2009258022A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Sony Corp | 変位検出装置 |
| JP2010091343A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-04-22 | Hitachi High-Technologies Corp | 微小突起物検査装置 |
| US8514410B2 (en) | 2010-08-30 | 2013-08-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Displacement detection device and method |
| JP2018105847A (ja) * | 2016-11-10 | 2018-07-05 | クリンゲルンベルク・アクチェンゲゼルシャフトＫｌｉｎｇｅｌｎｂｅｒｇ ＡＧ | 光センサを有する座標測定装置とそれに対応する方法 |
| US20220236142A1 (en) * | 2021-01-28 | 2022-07-28 | Klingelnberg Gmbh | Method and device for measuring a toothing |
| US12560511B2 (en) * | 2021-01-28 | 2026-02-24 | Klingelnberg Gmbh | Method and device for measuring a toothing |
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