JPH02144531A - 自動露光装置 - Google Patents
自動露光装置Info
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- JPH02144531A JPH02144531A JP63298942A JP29894288A JPH02144531A JP H02144531 A JPH02144531 A JP H02144531A JP 63298942 A JP63298942 A JP 63298942A JP 29894288 A JP29894288 A JP 29894288A JP H02144531 A JPH02144531 A JP H02144531A
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- Japan
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- light source
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G15/043—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/72—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａｌ産業上の利用分野
この発明は、光源光を原稿で反射させ、その反射光を利
用して像形成を行う複写機等において、前記光源の光量
を適切に設定するための自動露光装置の改良に関する。
用して像形成を行う複写機等において、前記光源の光量
を適切に設定するための自動露光装置の改良に関する。
（ｂ）従来の技術
一般の自動露光装置は、原稿反射光の光量をセンサで検
出し、その検出出力に応じて原稿照射用の光源に対する
供給電力を自動制御する。そして原稿が暗いことを検出
すると光源に対する供給電力を増やし、原稿が明るいこ
とを検出すると光源に対する供給電力を低下させるよう
にしている。
出し、その検出出力に応じて原稿照射用の光源に対する
供給電力を自動制御する。そして原稿が暗いことを検出
すると光源に対する供給電力を増やし、原稿が明るいこ
とを検出すると光源に対する供給電力を低下させるよう
にしている。
ところがこのような制御を行う場合、供給電力（一般に
はデユーティ圧制？１））の最大規制レベルを設定して
おかないと光源が必要以上に明るくなってしまう。例え
ば黒べた部分の横に文字や細い線が存在する場合、全体
像としては濃度が濃いと検出されるので光源が明るく点
灯される。そのためかぶりなどが生じることはないが光
量が多すぎて文字や細い線が極端に細（なったり消えて
しまうことがある。そこで一般の自動露光装；Ｕでは文
字や細い線が極端に細くなったり消えてしまうことがな
い程度の供給電力を最大規制レベルとして設定している
。
はデユーティ圧制？１））の最大規制レベルを設定して
おかないと光源が必要以上に明るくなってしまう。例え
ば黒べた部分の横に文字や細い線が存在する場合、全体
像としては濃度が濃いと検出されるので光源が明るく点
灯される。そのためかぶりなどが生じることはないが光
量が多すぎて文字や細い線が極端に細（なったり消えて
しまうことがある。そこで一般の自動露光装；Ｕでは文
字や細い線が極端に細くなったり消えてしまうことがな
い程度の供給電力を最大規制レベルとして設定している
。
ところで、複写機などに用いられる光源はその種類によ
っては環境温度等の影響を大きく受け、点灯時の立ち上
がりが非常に鈍くなってしまうものがある。例えば螢光
灯は周囲温度が低いと点灯時の立ち上がりが鈍くなる。
っては環境温度等の影響を大きく受け、点灯時の立ち上
がりが非常に鈍くなってしまうものがある。例えば螢光
灯は周囲温度が低いと点灯時の立ち上がりが鈍くなる。
しかしながら上述したように螢光灯（光源）に供給され
る電力は最大規制レベル以下に制限されているために、
まだ立ち上がりが十分でないときに例えば黒べた原稿の
複写を行った場合、設定されている最大規制レベルでし
か露光が行われず、光量が不足してかぶりのある画像し
か得られなくなってしまう。
る電力は最大規制レベル以下に制限されているために、
まだ立ち上がりが十分でないときに例えば黒べた原稿の
複写を行った場合、設定されている最大規制レベルでし
か露光が行われず、光量が不足してかぶりのある画像し
か得られなくなってしまう。
このような不都合を解消するため従来、予め数段階の最
大規制レベルを設定しておき光量の立ち上がり状態に応
じて最大制限レベル切り換えたり（特願昭６３−１３５
３１７号）、光源の点灯初期時に光源をヒータ等を用い
て加熱するようにしていた。
大規制レベルを設定しておき光量の立ち上がり状態に応
じて最大制限レベル切り換えたり（特願昭６３−１３５
３１７号）、光源の点灯初期時に光源をヒータ等を用い
て加熱するようにしていた。
（Ｃ１発明が解決しようとする課題
ところが光源の立ち上がり状態に応じ、予め決められて
いる数段階の最大規制レベルから適切なレベルを設定す
るようにした場合、レベル切り換え時に光源光量が大き
く変動して形成される画像品質に悪影響を与えてしまう
ことがあった０例えば黒べた原稿の複写を行う場合、光
源の立ち上がりが不十分なときには原稿反射光量が非常
に少なくなり、そのため最大規制レベルが高く設定され
て大きな電力が光源に供給される。その後、立ち上がり
光量が十分になってくると原稿反射光量も増すので、最
大規制レベルが切り換えられる。するとその時点で光源
への供給電力が極端に変化し、光量の変化幅が大きくな
ってしまう。そのため、形成される画像に濃度ムラが発
生することがあった。
いる数段階の最大規制レベルから適切なレベルを設定す
るようにした場合、レベル切り換え時に光源光量が大き
く変動して形成される画像品質に悪影響を与えてしまう
ことがあった０例えば黒べた原稿の複写を行う場合、光
源の立ち上がりが不十分なときには原稿反射光量が非常
に少なくなり、そのため最大規制レベルが高く設定され
て大きな電力が光源に供給される。その後、立ち上がり
光量が十分になってくると原稿反射光量も増すので、最
大規制レベルが切り換えられる。するとその時点で光源
への供給電力が極端に変化し、光量の変化幅が大きくな
ってしまう。そのため、形成される画像に濃度ムラが発
生することがあった。
また、光源近傍にヒータを設りる方法ではコスト高にな
ってしまう問題がある。
ってしまう問題がある。
この発明の目的は、光源の光量を直接検出し７その検出
結果に基づいて光源への供給電力の最大規制レベルを実
時間で連続して設定することより、急激な最大規制レベ
ルの変動を防止できる自動露光装置を提供することを目
的とする。
結果に基づいて光源への供給電力の最大規制レベルを実
時間で連続して設定することより、急激な最大規制レベ
ルの変動を防止できる自動露光装置を提供することを目
的とする。
（ｄ１課題を解決するための手段
この発明は、原稿反射光の光量を自動露光センサで検出
し、その検出出力に応じて原稿照射用の光源に対する供
給電力を自動制御する自動露光装置において、 前記光源光の光量を検出する自動露光リミッタセンサと
、 この自動露光リミッタセンサの検出結果に基づいて前記
光源への供給電力の最大規制レベルを実時間で連続して
設定する最大規制レベル設定手段と、 を設けたことを特徴とする。
し、その検出出力に応じて原稿照射用の光源に対する供
給電力を自動制御する自動露光装置において、 前記光源光の光量を検出する自動露光リミッタセンサと
、 この自動露光リミッタセンサの検出結果に基づいて前記
光源への供給電力の最大規制レベルを実時間で連続して
設定する最大規制レベル設定手段と、 を設けたことを特徴とする。
（８１作用
この発明に係る自動露光装置では、光源がオンした後自
動露光リミッタセンサの検出出力に基づいて光源への供
給電力の最大規制レベルが実時間で連続して設定されて
ゆく。例えば、光源の光量立ち上がりが十分でないとき
には自動露光リミッタセンサの出力が低いものとなり、
最大規制レベルが高く設定される。そして光源光量が次
第に増加してゆくと、それに伴って最大規制レベルは連
続して低い値に設定されてゆく。そのため、最大規制レ
ベルの急激な変化は生じない。
動露光リミッタセンサの検出出力に基づいて光源への供
給電力の最大規制レベルが実時間で連続して設定されて
ゆく。例えば、光源の光量立ち上がりが十分でないとき
には自動露光リミッタセンサの出力が低いものとなり、
最大規制レベルが高く設定される。そして光源光量が次
第に増加してゆくと、それに伴って最大規制レベルは連
続して低い値に設定されてゆく。そのため、最大規制レ
ベルの急激な変化は生じない。
ｉｆ）実施例
第１図はこの発明の実施例のブロック図を表している。
図において１は螢光灯を示している。螢光灯は一般に低
温時にその光量の立ち上がりが常温時に比べて遅くなる
特性をもっている。原椙面２に照射された光はＡＥ（自
動露光）センサ３によってその光量が検出され、光量に
比例した電圧が増幅回路４で適当なレベルに増幅される
。その後その出力は反転増幅回路１０に入力され、反転
増幅されたのちＰＷＭ発生回路７に供給される。ＰＷＭ
発生回路７は三角波発生回路６から出力される三角波と
反転増幅回路１０または後述するＩ（ｉ ｇ ｈレベル
リミッタ発生回路からの出力を比較し、ＰＷＭ（パルス
幅変調）信号を発生する。
温時にその光量の立ち上がりが常温時に比べて遅くなる
特性をもっている。原椙面２に照射された光はＡＥ（自
動露光）センサ３によってその光量が検出され、光量に
比例した電圧が増幅回路４で適当なレベルに増幅される
。その後その出力は反転増幅回路１０に入力され、反転
増幅されたのちＰＷＭ発生回路７に供給される。ＰＷＭ
発生回路７は三角波発生回路６から出力される三角波と
反転増幅回路１０または後述するＩ（ｉ ｇ ｈレベル
リミッタ発生回路からの出力を比較し、ＰＷＭ（パルス
幅変調）信号を発生する。
第２図はこのＰＷＭ発生回路を示している。この回路は
コンパレータで構成されるＩＣ２１からなり、十入力端
子には三角波発生回路６から三角波が入力し、−入力端
子には反転増幅回路１０または）（ｉ ｇ ｈレベルリ
ミッタ発生回路の出力が入力する。なお図では反転増幅
回路１０からの入力信号を表しており、この出力レベル
は図示するようにＡＥセンサ３に入射する光量に反比例
している。すなわち原稿の反射光量が多ければ（明るけ
れば）レベルが低く、反射光量が少なければ（暗ければ
）レベルが高くなる。ＩＣ２１ではこの反転増幅回路１
０の出力レベルと三角波とを比較し、出力端子よりＰＷ
Ｍ波（パルス幅変調波）を出力する。
コンパレータで構成されるＩＣ２１からなり、十入力端
子には三角波発生回路６から三角波が入力し、−入力端
子には反転増幅回路１０または）（ｉ ｇ ｈレベルリ
ミッタ発生回路の出力が入力する。なお図では反転増幅
回路１０からの入力信号を表しており、この出力レベル
は図示するようにＡＥセンサ３に入射する光量に反比例
している。すなわち原稿の反射光量が多ければ（明るけ
れば）レベルが低く、反射光量が少なければ（暗ければ
）レベルが高くなる。ＩＣ２１ではこの反転増幅回路１
０の出力レベルと三角波とを比較し、出力端子よりＰＷ
Ｍ波（パルス幅変調波）を出力する。
ＰＷＭ波はインバータ８に導かれ、インバータ８ではそ
のパルス幅に応じて蛍光灯の高周波駆動時間を制御する
。すなわち原稿からの反射光量が少なければインバータ
８のオン時間を長くし、蛍光灯に対する供給パワーを増
やして蛍光灯を明るくしようとする。反対に反射光量が
多ければインバータのオン時間を短くして蛍光灯を暗く
するように制御する。
のパルス幅に応じて蛍光灯の高周波駆動時間を制御する
。すなわち原稿からの反射光量が少なければインバータ
８のオン時間を長くし、蛍光灯に対する供給パワーを増
やして蛍光灯を明るくしようとする。反対に反射光量が
多ければインバータのオン時間を短くして蛍光灯を暗く
するように制御する。
前記インバータ８の入力側にはフルパワー発生回路５が
接続され、フルパワー発生回路５はコピーボタンが押下
されてから図外の制御部１．Ｓｌより信号Ｓ１を受げζ
までインバータ８に対してフルパワー供給信号を出力す
る。インバータ８はこの信号を受けているとき上記ＰＷ
Ｍ波を無視して蛍光灯１に対しフルパワーを供給する。
接続され、フルパワー発生回路５はコピーボタンが押下
されてから図外の制御部１．Ｓｌより信号Ｓ１を受げζ
までインバータ８に対してフルパワー供給信号を出力す
る。インバータ８はこの信号を受けているとき上記ＰＷ
Ｍ波を無視して蛍光灯１に対しフルパワーを供給する。
信号Ｓ１はコピーボタンが押下されてから蛍光灯１によ
る原稿台照射位置が原稿先端位置に達するまでの時間（
複写倍率により決定される時間）が経過する直前に立ち
上がる（第１図参照）。この信号Ｓ１が立ち上がるとフ
ルパワー発生回路５からの出力が出なくなりインバータ
８は上記ＰＷＭ波に基づいて蛍光灯１の制御を行う。
る原稿台照射位置が原稿先端位置に達するまでの時間（
複写倍率により決定される時間）が経過する直前に立ち
上がる（第１図参照）。この信号Ｓ１が立ち上がるとフ
ルパワー発生回路５からの出力が出なくなりインバータ
８は上記ＰＷＭ波に基づいて蛍光灯１の制御を行う。
１）は光源１の光量を検出するＡＥ（自動露光）リミッ
タセンサである。このＡＥリミッタセンサ１）は第５図
に示したように、光源１の有効光量をほぼ正確に検出で
きる位置に備えられている、ＡＥリミッタセンサ１）に
入射した光は、光景に比例した電圧信号に変換され、そ
の信号が増幅回路１２において適当なレベルに増幅され
、さらに反転増幅回路１３において反転増幅されたのち
Ｈｉｇｈレベルリミッタ発生回路９に入力される。Ｈｉ
ｇｈレベルリミフタ発生回路９は反転増幅回路１３の出
力レベルを適当なレベルに分割した信号をＨｉｇｈレベ
ルリミッタ信号としてＰＷＭ発生回路７に入力する。こ
のＨｉｇｈレベルリミッタ信号は蛍光灯の光量が増加す
れば（明るくなれば）低くなり、反対に少な（なれば（
暗くなれば）高くなる。
タセンサである。このＡＥリミッタセンサ１）は第５図
に示したように、光源１の有効光量をほぼ正確に検出で
きる位置に備えられている、ＡＥリミッタセンサ１）に
入射した光は、光景に比例した電圧信号に変換され、そ
の信号が増幅回路１２において適当なレベルに増幅され
、さらに反転増幅回路１３において反転増幅されたのち
Ｈｉｇｈレベルリミッタ発生回路９に入力される。Ｈｉ
ｇｈレベルリミフタ発生回路９は反転増幅回路１３の出
力レベルを適当なレベルに分割した信号をＨｉｇｈレベ
ルリミッタ信号としてＰＷＭ発生回路７に入力する。こ
のＨｉｇｈレベルリミッタ信号は蛍光灯の光量が増加す
れば（明るくなれば）低くなり、反対に少な（なれば（
暗くなれば）高くなる。
第３図はＡＥリミッタセンサからＨｉｇｈレベルリミッ
タ発生回路までの具体的な回路例を表した図である。
タ発生回路までの具体的な回路例を表した図である。
図中ＰＤＩはフォトダイオードで、光源光量の検出を行
うＡＥリミッタセンサである。増幅回路ではフォトセン
サＰＤＩの出力電流をＲ１にて電圧変換し、その電圧値
ＶｌをＩＣＩにより増幅している。すなわち増幅回路１
２の出力電圧■２はＶｚ ＝ｖ、（（Ｒ１＋Ｒ２）／Ｒ
１）となる。また、反転増幅回路１３ではツェナダイオ
ードＺＤＩ、ＺＤ２にて、予め設定された基準電圧■３
に対してＩＣＩの出力電圧■２を差動増幅している。ｔ
なわちＩＣ２の出力電圧■４は、Ｖ、＝Ｖ、−Ｒ６（（
Ｖ、−ｖ、）／Ｒ４）＝Ｖｓ （Ｒ６／Ｒ４）
・ （ＶＩ Ｖ３ ）となる。
うＡＥリミッタセンサである。増幅回路ではフォトセン
サＰＤＩの出力電流をＲ１にて電圧変換し、その電圧値
ＶｌをＩＣＩにより増幅している。すなわち増幅回路１
２の出力電圧■２はＶｚ ＝ｖ、（（Ｒ１＋Ｒ２）／Ｒ
１）となる。また、反転増幅回路１３ではツェナダイオ
ードＺＤＩ、ＺＤ２にて、予め設定された基準電圧■３
に対してＩＣＩの出力電圧■２を差動増幅している。ｔ
なわちＩＣ２の出力電圧■４は、Ｖ、＝Ｖ、−Ｒ６（（
Ｖ、−ｖ、）／Ｒ４）＝Ｖｓ （Ｒ６／Ｒ４）
・ （ＶＩ Ｖ３ ）となる。
Ｈｉｇｈレベルリミッタ発生回路ではＩＣ２の出力をＲ
７，Ｒ８，ＶＲＩにて分割し、ＩＣ３に入力している。
７，Ｒ８，ＶＲＩにて分割し、ＩＣ３に入力している。
ＩＣ３の出力はＩＣ３の一入力端子に帰還されており、
Ｖ、＝Ｖ。
となっているｏＶ６はさらに、ダイオードＤ１のカソー
ドに接続され、ＤｌのアノードがＰＷＭ発生回路７へと
接続されている。したがって、Ｖｑ ＝Ｖａ ＋ＶＦＤ
Ｉ とすると、ＰＷＭ発生回路７ではＶ１以上にはならない
。結局、ｖ９が最大規制レベルとなり、反転増幅回路１
０の出力電圧は■９以上にはならないことになる。すな
わち、反転増幅回路１０の出力信号レベルを■、。、と
すると、 Ｖ Ｉｏ ＜ Ｖ ｑ となった場合にはＰＷＭ発生回路６には■、。が入力さ
れ、 ■、。〉■。
ドに接続され、ＤｌのアノードがＰＷＭ発生回路７へと
接続されている。したがって、Ｖｑ ＝Ｖａ ＋ＶＦＤ
Ｉ とすると、ＰＷＭ発生回路７ではＶ１以上にはならない
。結局、ｖ９が最大規制レベルとなり、反転増幅回路１
０の出力電圧は■９以上にはならないことになる。すな
わち、反転増幅回路１０の出力信号レベルを■、。、と
すると、 Ｖ Ｉｏ ＜ Ｖ ｑ となった場合にはＰＷＭ発生回路６には■、。が入力さ
れ、 ■、。〉■。
となった場合にはＰＷＭ発生回路７にはＶ９が入力され
る。一方、低温時などで螢光灯の光量立ち上がりが十分
でないときにはＡＥリミットセンサの検出光量が少なく
なって、Ｈｉｇｈレベルリミッタ発生回路９からの出力
が大きく、すなわち最大規制レベルが大きく設定される
。したがって、光源の立ち上がり時などで光源の光量が
所定量に達しないときや、黒べたの原稿などで反射光量
が少ないときなどにはＨＩ ｇ ｈレベルリミッタ発生
回路９において大きな最大規制レベルが設定されるため
、ＰＷＭ波は螢光灯に大きな電力を供給するべく大きな
パルス幅となり、また光源光量が増加してゆ（とそれに
応じて最大規制レベルも連続的に低下してゆく、すなわ
ち上記最大規制レベルは光源光量に応じてリアルタイム
で連続して変化してゆく（設定されてゆく）ため、最大
規制レベルの急激な変化はない。
る。一方、低温時などで螢光灯の光量立ち上がりが十分
でないときにはＡＥリミットセンサの検出光量が少なく
なって、Ｈｉｇｈレベルリミッタ発生回路９からの出力
が大きく、すなわち最大規制レベルが大きく設定される
。したがって、光源の立ち上がり時などで光源の光量が
所定量に達しないときや、黒べたの原稿などで反射光量
が少ないときなどにはＨＩ ｇ ｈレベルリミッタ発生
回路９において大きな最大規制レベルが設定されるため
、ＰＷＭ波は螢光灯に大きな電力を供給するべく大きな
パルス幅となり、また光源光量が増加してゆ（とそれに
応じて最大規制レベルも連続的に低下してゆく、すなわ
ち上記最大規制レベルは光源光量に応じてリアルタイム
で連続して変化してゆく（設定されてゆく）ため、最大
規制レベルの急激な変化はない。
第４図は螢光灯のリミッタ光量の変化を表した図である
。なおリミッタ光量はＡＥセンサの出力が小さいときす
なわち光源の立ち上がり光量が極めて少ないときや黒べ
た原稿の複写を行うときに照射される光量に対応する。
。なおリミッタ光量はＡＥセンサの出力が小さいときす
なわち光源の立ち上がり光量が極めて少ないときや黒べ
た原稿の複写を行うときに照射される光量に対応する。
図中Ｌ０は像形成を行うときの最適リミッタ光量である
。すなわち、この光量を越えてしまうと黒べた部分の横
に文字や細い線などがあった場合、その文字や細い線な
どが極端に細くなったり消えてしまうことがある。
。すなわち、この光量を越えてしまうと黒べた部分の横
に文字や細い線などがあった場合、その文字や細い線な
どが極端に細くなったり消えてしまうことがある。
■は１００％の固定デユーティ比で点灯し続けたときの
光量変化を表しており、光量は時間ｔ１の時点で最適リ
ミッタ光量Ｌ０を越えてしまい、その後さらに増え続け
る傾向にある。また■はＡＥセンサの出力に応じて最大
規制レベルを２段階に切り換える従来方法でのリミッタ
光量の変化を表している。まず初期段階では螢光灯の光
量立ち上がり状態が悪いので最大規制レベルが高く設定
されているが、ＡＥセンサでの検出光量が予め決められ
た所定光量に達すれば（ｔａ時）、最大規制レベルが低
い側に切り換えられるやすると、図示するようにリミッ
タ光量が突然に減少し、黒ベタ原稿などを複写している
場合には形成画像に濃度ムラが生じてしまう問題がある
。なお■はこの場合のデユーティ比を示している。
光量変化を表しており、光量は時間ｔ１の時点で最適リ
ミッタ光量Ｌ０を越えてしまい、その後さらに増え続け
る傾向にある。また■はＡＥセンサの出力に応じて最大
規制レベルを２段階に切り換える従来方法でのリミッタ
光量の変化を表している。まず初期段階では螢光灯の光
量立ち上がり状態が悪いので最大規制レベルが高く設定
されているが、ＡＥセンサでの検出光量が予め決められ
た所定光量に達すれば（ｔａ時）、最大規制レベルが低
い側に切り換えられるやすると、図示するようにリミッ
タ光量が突然に減少し、黒ベタ原稿などを複写している
場合には形成画像に濃度ムラが生じてしまう問題がある
。なお■はこの場合のデユーティ比を示している。
■はこの実施例の自動露光装置で制御を行った場合のリ
ミッタ光量の変化を表し、たちのであるが、図示するよ
うに光量は最適リミッタ光量Ｌ０とほぼ一致している。
ミッタ光量の変化を表し、たちのであるが、図示するよ
うに光量は最適リミッタ光量Ｌ０とほぼ一致している。
すなわち本発明の方法ではＡＥリミッタセンサ１）で検
出される光量に対応して最大規制レベルを連続的に変化
させており、そのデユーティ比は■に示したようなもの
になる。
出される光量に対応して最大規制レベルを連続的に変化
させており、そのデユーティ比は■に示したようなもの
になる。
ずなわぢ、検出される光量が最適リミッタ光量ＬＯに達
するまではＡ Ｅリミッタセンサでの検出光量が少ない
ので、最大のデイ−ティ比（１００％）に最大規制レベ
ルが設定されるが、それ以降は光量の増加に合わせて最
大規制レベルが連続的に変化（設定）されてゆき、その
ため■のように極端にリミッタ光量が変動してしまうこ
とがない。
するまではＡ Ｅリミッタセンサでの検出光量が少ない
ので、最大のデイ−ティ比（１００％）に最大規制レベ
ルが設定されるが、それ以降は光量の増加に合わせて最
大規制レベルが連続的に変化（設定）されてゆき、その
ため■のように極端にリミッタ光量が変動してしまうこ
とがない。
したがって、このように制御される自動露光装置で黒べ
た原稿を複写しても濃度ムラが生じることはない。
た原稿を複写しても濃度ムラが生じることはない。
なお、黒へた以外の原稿についてはＡＥセンザの検出値
に基づいて光源のデユーティ比制御が行われる。また、
この発明における「最大規制レベル設定手段ＪはＨｉｇ
ｈレベルリミッタ発生回路９に対応する。
に基づいて光源のデユーティ比制御が行われる。また、
この発明における「最大規制レベル設定手段ＪはＨｉｇ
ｈレベルリミッタ発生回路９に対応する。
（ａ発明の効果
以上のようにこの発明によれば、光源の直接光量に基づ
いてリアルタイムで最大規制レベルが設定されてゆくた
め、最大規制レベルの変化量がなだらかなものとなって
、例えば複写機などにおいて最大規制レベルで複写が行
われるとき（黒べた原稿のとき）に極端な光量変化など
が発生ずることがなく、形成される画像に濃度ムラなど
が生じるのを防止することができる。
いてリアルタイムで最大規制レベルが設定されてゆくた
め、最大規制レベルの変化量がなだらかなものとなって
、例えば複写機などにおいて最大規制レベルで複写が行
われるとき（黒べた原稿のとき）に極端な光量変化など
が発生ずることがなく、形成される画像に濃度ムラなど
が生じるのを防止することができる。
第１図はこの発明の実施例である自動露光装置のブロッ
ク図、第２図はＰＷＭ発生回路の構成図、第３図はＨｉ
ｇ ｈレベルリミッタ発生回路の構成例を表した図、
第４図は光源のリミッタ光量の変化を表した図、第５図
はＡＥセンサおよびＡＥリミッタセンサの設置例を表し
た図である。 ９−Ｈ４ｇｈｌノベルリミッタ発生回路（最大規制レベ
ル設定手段）。
ク図、第２図はＰＷＭ発生回路の構成図、第３図はＨｉ
ｇ ｈレベルリミッタ発生回路の構成例を表した図、
第４図は光源のリミッタ光量の変化を表した図、第５図
はＡＥセンサおよびＡＥリミッタセンサの設置例を表し
た図である。 ９−Ｈ４ｇｈｌノベルリミッタ発生回路（最大規制レベ
ル設定手段）。
Claims (1)
- （１）原稿反射光の光量を自動露光センサで検出し、そ
の検出出力に応じて原稿照射用の光源に対する供給電力
を自動制御する自動露光装置において、 前記光源光の光量を検出する自動露光リミッタセンサと
、 この自動露光リミッタセンサの検出結果に基づいて前記
光源への供給電力の最大規制レベルを実時間で連続して
設定する最大規制レベル設定手段と、 を設けたことを特徴とする自動露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63298942A JPH068944B2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 自動露光装置 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63298942A JPH068944B2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 自動露光装置 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH02144531A true JPH02144531A (ja) | 1990-06-04 |
| JPH068944B2 JPH068944B2 (ja) | 1994-02-02 |
Family
ID=17866181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63298942A Expired - Lifetime JPH068944B2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 自動露光装置 |
Country Status (2)
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| US (1) | US5016046A (ja) |
| JP (1) | JPH068944B2 (ja) |
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Citations (4)
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| JPH0627867A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-02-04 | Hitachi Ltd | パーソナル教育機械及び方法 |
| JPH06240948A (ja) * | 1993-02-10 | 1994-08-30 | Nabco Ltd | 自動扉用検知スイッチ |
| JPH0684324U (ja) * | 1993-05-13 | 1994-12-02 | エフニック株式会社 | 光センサー装置 |
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| JPS57181762A (en) * | 1981-04-28 | 1982-11-09 | Hazama Gumi Ltd | Underwater plasma cutting method for steel pipe |
| JPS6031132A (ja) * | 1983-07-30 | 1985-02-16 | Mita Ind Co Ltd | 自動露光装置 |
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1988
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-
1989
- 1989-11-22 US US07/440,304 patent/US5016046A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6394285U (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-17 | ||
| JPH0627867A (ja) * | 1992-07-10 | 1994-02-04 | Hitachi Ltd | パーソナル教育機械及び方法 |
| JPH06240948A (ja) * | 1993-02-10 | 1994-08-30 | Nabco Ltd | 自動扉用検知スイッチ |
| JPH0684324U (ja) * | 1993-05-13 | 1994-12-02 | エフニック株式会社 | 光センサー装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5016046A (en) | 1991-05-14 |
| JPH068944B2 (ja) | 1994-02-02 |
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