JPH02144540A - 焼枠の冷却方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は焼枠の冷却方法に係り、特に上枠と下枠どの間
に挟持したマスクフィルムを密着したプリント基板など
のワークの焼枠に対する冷却方法に関する。

〔従来の技術〕

近年、ＩＣは集積度が高くなりそのピン数が増大し、ま
たビン間隔の狭い表面実装型が多用されるなどプリント
配線板の実装密度や配線密度が高くなり、さらにはスル
ーホール穿設作業においても多層化が進むなど、高密度
で高精度な配線パターンが要求されるようになってきた
。

従来の露光装置においては、光源から照射される熱線に
よって、ワーク面に吸着したマスクフィルムが伸縮する
結果、これによって焼付けられるワークに寸法誤差が生
じたり、またマスクフィルムの表面に塗布される乳剤等
が膨潤してワークも熱変形するなど、所望する適正な配
線パターンが得られなくなり、これを回避するために、
マスクフィルムに冷風を吹き付ける冷却装置が採用され
ている。

上記冷却装置は、例えば露光室に隣接する背面側に冷却
機等を備えた冷却室を設け、冷却機側から得られる冷媒
を送気するファンを備えた送風口を露光室に臨ませ、こ
の送風口は、露光室に移送される焼枠のマスクフィルム
に向けて近接位置させである。なお、焼枠の両面から平
行光を照射する、いわゆる両面露光装置の場合には、例
えば焼枠の上下両面に対して送風口をそれぞれ配置しで
ある。

〔発明が解決しよ・うとする課題〕

しかしながら、上記冷却装置は送風口が一例のマスクに
対してただ一つで、しかもその送風方向が固定的である
ため、平行光が照射されるマスクフィルムの有効照射範
囲に対して均一に冷却されず、マスクに冷却ムラが生じ
る問題点があった。

この発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、マス
ク”ノ、イルムを均一に冷却し適温に調整維持すること
で、マスクフィルムの温度上昇を抑止し、ワークへの熱
影響を排除して、被露光物に適正なパターンを焼付ける
焼枠の冷却方法を提供するものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は前記問題点を解決するためになされたもので、
露光装置の光源により、焼枠の上枠と下枠との間に挟持
されたマスクフィルムを密着したワークを照射する露光
装置において、前記光源と前記焼枠との中間位置で熱線
を吸収しかつ紫外線を透過させる冷却用水槽の流水の通
過によって前記光源からの照射光を冷却する方法であり
、さらに前記光源からの照射光が前記光源と前記焼枠と
の中間位置で前記流水の他に熱吸収フィルタの通過によ
って冷却する方法であり、さらに、前記流水は気泡発生
が不能な速度を有していることを特徴とする方法である
。

〔作用〕

本発明は前記構成によって、露光装置の光源から照射さ
れる光は、マスクフィルムに到達する時点においては、
冷却用水槽の流水によって、前記照射光に含まれる熱線
が吸収される外に、熱線吸収フィルタを使用した場合に
は、このフィルタにおいて、さらに熱線が吸収され、紫
外線がマスクフィルムの透光部分を通過して、該マスク
フィルムの画像をワークへ焼き付ける９さらに、前記流
水の速度を気泡が発生しない程度の速度を有するように
加速することによって、発生気泡による焼付けむらを防
ぐ。従って、マスクフィルムは照射光線によって伸縮す
ることがなく、ワークに寸法誤差が生じない外に、マス
クフィルムの乳剤等が膨潤して熱変形しない。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を第１図ないし第６図を参照して
説明する。第１図は本発明第１実施例の概略的構成を示
す縦切断正面図である。同図において、１は露光装置の
枠型ミラーであって、ミラーが左右および前後方向に対
称に組み立てられ、内側に平らな反射面１ａ、ｌｂ、ｌ
ｃを形成した３個の中空截頭角錐状ミラーを高さ方向に
断面積が低減するように３段接続してつくられており、
全体として上すぼまりに形成されている。２は露光装置
の棒状光源であって、ミラーの頂部に配置され、長方体
状の反射箱３内に収納されている。

４は下枠であって、この下枠４と上枠５とで焼枠を形成
し、下枠４と上枠５との間には、下枠４側に向けたマス
クフィルム６を密着したワーク７が挟持されている。ま
た、８は密封用ガスケットである。しかも、光源２の照
射光によって、マスクフィルム６の各個所が均一に照射
されるように、ミラー１ａ、ｔｂ、　　１ｃＩＪ＜組み
立てられている。

上記焼枠の構成は下枠側から焼き付ける場合であるが、
上枠側から焼き付ける場合には、上記構成記載における
下枠を上枠に、上枠を下枠に置き代えればよい。

第１実施例は上記従来の構成において、光源体２と前記
下枠４との中間位置、すなわち光源２を収納した反射箱
３とミラー１ａとの間に冷却用水槽９を設けて構成する
。

第２図は上記冷却用水Ｉ！９の構成図であって、第２図
（Ａ）は平面図、第２図（［１）は同（Ａ）図における
Ｂ−Ｂ線の切断正面図、第２図（Ｃ）は同図（Ｂ）内の
部分Ｃの拡大図である。冷却用水槽９は同図に示すよう
に、熱線を吸収しかつ紫外線を透過する２枚の板状ガラ
ス１０．１）を並行に並べる。

この上側の仮ガラス１０ば外周を押え金具１５を介して
クツション部材１８によって囲まれ、このクツション部
材１８の外周縁部に設けた溝１８ａに０リング２０を挿
入することによって仮ガラス１０の外周を押え金具１５
に密着させている。他方、板ガラス１０の内側面外周縁
部に当接するクツション部材１８に設けた溝２１にＯリ
ング２２を挿入し、締め付りボルトｉ７ａを押え金具１
５を貫通してクツション部材１８に締め付ｉ′ＪＪるこ
とによって、板ガラス１０の内側面外周縁とクツション
部材１８とを密着させている。

また、下側の仮ガラス１）は外周を押え金具１６を介し
てクツション部材１９によって囲まれ、さらに、このク
ツション部材１９０図面上左側部分には予め吸水孔１３
ａ、１３ｂ、１３ｃが分配水路１２＆ご連通可能にクツ
ション部材１９に穿設され、分配水路１２に連通した水
路１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄ、１４ｅ、１４ｆは
クツション部材１８を通って冷却水槽９の内部に連通し
ていると共に、図面上右側には排水孔１３ａ’、１３ｂ
’、１３ｅ’が分配水路１２′に連通可能にクツション
部材１９に穿設され、これら排水孔に連通ずる水路１４
３′〜１４ｒ′がクツション部材１８に形成されている
。また、クツション部材１８に設けた溝２３にはＯリン
グ２４を挿入し、締め付はボルト１７ｂを押え金具１６
を貫通してり、／・ジョン部材１８に締め付けることに
よって板ガラス１）の内側周縁面とクツション部材１８
とを密封する。さらに、クツション部材１８に設けた溝
２５に０リング２６を挿入し、締め付はボルト１７ｃ、
１７ｄをそれぞれ９７２３７部材１９を介してクツショ
ン部材１８に締め付けることにより、クツション部材１
８．１９の間およびクツション部材１９と給水孔１３ｂ
、水路１４ｅとの間を密封する。

上記構成の第１実施例では、冷却水槽９に冷却水が分配
水路１２、吸水孔１３ａ、１３ｂ、１３Ｃを介して注水
される。冷却水槽９は２枚のガラス仮１０．１）の周囲
をクツション部材１８．１９によって水密に形成されて
いるので、注入された冷却水は漏水することな（排水孔
１３ａ’、１３ｂ’、１３ｃ’および分配水路１２′を
介して冷却水槽９外に排出される。このため光源２から
下枠４−・の投射光の熱線は冷却水槽９内の流水によっ
て吸収され、上記投射光の紫外線は仮ガラス１）、冷却
水、仮ガラス１０を透過し下枠４を介して゛７スクフイ
ルム６を照射する。マスクフィルＪ、６は投射光が熱線
を殆んど含有しないので、温度上昇することがなく、ワ
ーク７に適正なパターンを焼付けることができる。

第３図は本発明の第２実施例の縦切断正面図である。第
２実施例が第１実施例と相違する構成は、冷却用水槽９
が焼枠の下枠４の光源２側に支持部材４ａによって固定
さねでいることであり、冷却水槽９の構成は第１実施例
のものと同一である。

従って、第２実施例の効果も第１実施例と同様である。

第４図は本発明の第３実施例の光源からの照射光の経路
の概略的構成を示す正面図であって、この実施例は、第
１．第２実施例との構成上の相違は露光装置の枠型ミラ
ー１の光源２から焼枠の下枠４への投射光は反射鏡２７
．２８を介して照射されることであり、第４図は冷却用
水槽９は下枠４の光源側に配置されている場合を示す。

この場合に、冷却用水槽９は第１実施例のように光源２
を収納した反射箱３とミラー１ａとの間に設けてもよい
こと勿論である。

この実施例は配置場所の制約から、光源が焼枠から水平
方向に離間している場合であるが第１実施例と同様な作
用と効果を生じさせる。

第５図は本発明の第４実施例に使用される冷却用水槽の
縦切断正面図である。この冷却用水槽９ａが第１ないし
第２実施例に使用された冷却用水槽９と相違する構成は
、冷却用水槽９ａの構成部材である仮ガラスｉｏ、１ｉ
と平行して熱線フィＪＬ夕２９を設けると井に、この熱
線フィルタ２９の周端部を仮ガラス１０の周囲を保持す
るクツション部材１９によって保持させていることにあ
る。

なお、熱線フィルタ２９はクツション部材１８に保持さ
せてもよい。

上記の構成によって、この実施例は、第１〜第２実施例
よりも更に効率よく、枠型ミラーＩ内の光源２から下枠
４への照射光から熱線を吸収する効果を奏する。

第６図は本発明の第５実施例に使用される冷却用水槽９
ｂの構成を示す平面図である。この第５実施例の冷却用
水槽９ｂと第１実施例の冷却水槽９との構成上の相違は
、冷却水の注入機構と排出機構とにある。すなわち、冷
却用水槽９ｂの注入と排出機構は、離間して平行配置し
た２枚の仮ガラスの四辺を密封保持するクツション部材
１８または１９の１つの辺に吸水孔３０と排水孔３１と
を設り、吸水孔３０の水槽定に設けた案内３２とυ１水
孔３１の水槽内に設けた案内３３とをそれぞれ冷却水が
水槽内で循環できるように対向し７た壁面に個別に向は
取り付け、さらに、注入孔３０への注水管路にはポンプ
３４を設けていることにある。

上記の構成によって、第５実施例は、第１実施例と同様
に、冷却用水槽９ｂ’を図示しない光源と焼枠の下枠と
の間に設け、しかも水槽９ｂ’内では注入された冷却水
は水槽内を大きい速度で循環して排出されるので、下枠
とワークとの間に設けたマスクフィルムの温度上昇を効
率よく抑正し、ワークへの熱影響を排除して、ワークに
適正なパターンを焼き付ける。しかも、ポンプを介在さ
せることによって、冷却水を大きい速度を持って水槽９
ｂ内に注入し、排出させるので、冷却水は水槽内で照射
光から奪った熱によって気泡を発生する程加熱されない
。すなわら、第５実施例においては、冷却用水槽９ｂの
使用による気泡に基づくマスクフィルムの焼きむらを生
じることがない。

〔発明の効果〕

本願発明は、光源と焼枠との中間位置で熱線を吸収し、
紫外線を透過させる冷却用水槽の流水によって、さらに
この流水の他に熱線フィルタによって光源からの熱線を
除去するか、または、前記流水を気泡の発生が不可能な
速度に加速するようにした焼枠の冷却方法である。従っ
て、本願は高温度雰囲気においての焼付作業においても
マスクフィルムの温度」二昇を抑止し、乳剤などが膨潤
して熱変形することがなく、また前記冷却水に気泡が発
生ずることによる焼付けむらもなく、適正なパターンを
ワークへ焼き付けることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第６図は本発明実施例の図面であって、第
１図は第１実施例の概略的構成を示す縦切断正面図、第
２図（Ａ）　、　（Ｂ）　、　（Ｃ）は第１実施例に使
用される冷却用水槽の構成図であって、図（Ａ）は平面
図、図（Ｂ）は図（Ａ）におＣ）るＢ−Ｂ線の切断正面
図、図（Ｃ）は図（Ｂ）内の部分Ｃの拡大図、第３図は
第２実施例の縦切断正面図、第４図は第３実施例の光源
からの照射光の経路の概略的構成を示す正面図、第５図
は第４実施例の冷却用水槽の縦切断正面図、第６図は第
５実施例に使用される冷却用水槽の構成を示す平面図で
ある。 ｌ・・・露光装置の枠形ミラー ２・・・露光装置の棒状光源 ・・・反射箱　　　　　　４・・・下枠・・・上枠　　
　　　　　６・・・マスクフィルム９ａ、９ｂ・・・冷
却用水槽 ０．１）・・・仮ガラス　１２・・・分配水路３・・・
吸水孔　　　　　１４・・・水路５．１Ｇ・・・押え板
　　Ｉ７・・・締付ボルト８．１９・・・クツション部
材 ０．２２，２４．２６・・・Ｏリング １．２３．２５・・・溝　２７．２８・・・反射鏡９・
・・熱線吸収フィルタ ０・・・吸水孔　　　　　３１・・・排水孔２．３３・
・・ノズル　　３４・・・ポンプ第１図 第３図 第４図 第５図 １】 第６図 ＋８（＋９）

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）露光装置の光源により、焼枠の上枠と下枠との間
   に挟持されたマスクフィルムを密着したワークを照射す
   る露光装置において、 前記光源と前記焼枠との中間位置で熱線を吸収しかつ紫
   外線を透過させる冷却用水槽の流水の通過によって前記
   光源からの熱線を除去することを特徴とする焼枠の冷却
   方法。
2. （２）前記光源からの照射光が前記光源と前記焼枠との
   中間位置で前記流水の他に熱吸収フィルタの通過によっ
   て冷却することを特徴とする前記第１項記載の焼枠の冷
   却方法。
3. （３）前記流水は気泡発生が不能な速度を有しているこ
   とを特徴とする前記第１項ないし第２項の何れかの項記
   載の焼枠の冷却方法。