JPH0214809A - 改善された特性を有する疎水性沈降シリカ - Google Patents
改善された特性を有する疎水性沈降シリカInfo
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- JPH0214809A JPH0214809A JP10613589A JP10613589A JPH0214809A JP H0214809 A JPH0214809 A JP H0214809A JP 10613589 A JP10613589 A JP 10613589A JP 10613589 A JP10613589 A JP 10613589A JP H0214809 A JPH0214809 A JP H0214809A
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Classifications
-
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3081—Treatment with organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
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- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、加熱したときに加硫することが可能なシリコ
ーンエラストマー用の組成物を製造するのに特に用いる
ことが可能な沈降シリカ、及びこの種の沈降シリカの製
造方法に関する。
ーンエラストマー用の組成物を製造するのに特に用いる
ことが可能な沈降シリカ、及びこの種の沈降シリカの製
造方法に関する。
[従来技術及び発明が解決しようする課題]加熱したと
きに加硫することが可能なシリコーンエラストマー用の
組成物を、熱分解性シリカから製造することが知られて
いる。一般に熱分解性シリカは、技術的な見地からこの
用途を満たしており、そして組成物中に導入される前に
、約400℃にて、ポリシロキサンにより、好ましくは
、シクロポリシロキサンにより、特にシクロテトラシロ
キサンにより、−層特にオクタメチルシクロテトラシロ
キサン(D4)により処理(熱分解性シリカを疎水性に
する)される。このタイプの処理を言及する特許は知ら
れており、特に、熱分解性シリカをD4で375℃にて
処理するローヌブーラン社のフランス特許筒1.234
.245号(実施例2)により、そして該操作を500
℃の温度で実施する同社のフランス特許筒1,520.
663号(実施例1参照のこと)により知られている。
きに加硫することが可能なシリコーンエラストマー用の
組成物を、熱分解性シリカから製造することが知られて
いる。一般に熱分解性シリカは、技術的な見地からこの
用途を満たしており、そして組成物中に導入される前に
、約400℃にて、ポリシロキサンにより、好ましくは
、シクロポリシロキサンにより、特にシクロテトラシロ
キサンにより、−層特にオクタメチルシクロテトラシロ
キサン(D4)により処理(熱分解性シリカを疎水性に
する)される。このタイプの処理を言及する特許は知ら
れており、特に、熱分解性シリカをD4で375℃にて
処理するローヌブーラン社のフランス特許筒1.234
.245号(実施例2)により、そして該操作を500
℃の温度で実施する同社のフランス特許筒1,520.
663号(実施例1参照のこと)により知られている。
更に、フランス特許出願筒2,411.157号の実施
例2.3及び5より、高温化(焼結)して得たシリカを
、スズ化合物の存在下で、ヘキサメチルシクロトリシロ
キサン(D、)及び(D4)の混合物で処理して疎水性
にし得ることは知られている。更にこの特許出願筒2.
411,157号は、第6ページの比較試験01〜C3
において、200℃にて混合物D$+D4によるがスズ
化合物を用いないで(C□〜C4参照のこと)または酸
性化合物を用いないで(C6参照のこと)処理した熱分
解性シリカが疎水性を示さないことを説明している。
例2.3及び5より、高温化(焼結)して得たシリカを
、スズ化合物の存在下で、ヘキサメチルシクロトリシロ
キサン(D、)及び(D4)の混合物で処理して疎水性
にし得ることは知られている。更にこの特許出願筒2.
411,157号は、第6ページの比較試験01〜C3
において、200℃にて混合物D$+D4によるがスズ
化合物を用いないで(C□〜C4参照のこと)または酸
性化合物を用いないで(C6参照のこと)処理した熱分
解性シリカが疎水性を示さないことを説明している。
加えて、その出願は、第3ページ、31〜35行の記載
で、この処理を50℃〜350℃の温度で起こし得るこ
とを説明している。
で、この処理を50℃〜350℃の温度で起こし得るこ
とを説明している。
現時点においては、熱分解性シリカの代わりに(全部ま
たは一部)、できるだけ多(の沈降シリカを用いるとい
う試みがされている。なぜなら、沈降シリカは一層安価
であるからである。しかしながら熱分解性シリカに対し
て、現在市販されており且つ400℃にて特にオクタメ
チルシクロテトラシロキサン(D4)による処理にかけ
た沈降シリカはそれらの初期の白色を喪失し;灰色にな
る。
たは一部)、できるだけ多(の沈降シリカを用いるとい
う試みがされている。なぜなら、沈降シリカは一層安価
であるからである。しかしながら熱分解性シリカに対し
て、現在市販されており且つ400℃にて特にオクタメ
チルシクロテトラシロキサン(D4)による処理にかけ
た沈降シリカはそれらの初期の白色を喪失し;灰色にな
る。
これは、かかる沈降シリカを含有する組成物から得たエ
ラストマーそのものが灰色になりやすくそして無色にな
ることができず、または顔料をかかる組成物に導入した
ときに純粋な色を有することができないという理由から
厄介である。更に、沈降シリカをDi +D4の混合物
により290℃またはそれを超える温度で処理するとき
、このシリカはD4により400℃にて処理するときと
同様に、初期のその白色度を喪失する。
ラストマーそのものが灰色になりやすくそして無色にな
ることができず、または顔料をかかる組成物に導入した
ときに純粋な色を有することができないという理由から
厄介である。更に、沈降シリカをDi +D4の混合物
により290℃またはそれを超える温度で処理するとき
、このシリカはD4により400℃にて処理するときと
同様に、初期のその白色度を喪失する。
従って、本発明の目的は、加熱したときに加硫すること
が可能なシリコーンエラストマー(HVR)用の且つ得
られたエラストマーが灰色を有さないことを望まないと
きでも灰色の変色を何等有さないエラストマー用の組成
物中の補強充填剤として用い得る疎水性沈降シリカであ
る。−層特に、本発明の目的は加熱したときに加硫する
ことが可能な、純粋な色を持つエラストマーを得ること
ができる沈降シリカである。
が可能なシリコーンエラストマー(HVR)用の且つ得
られたエラストマーが灰色を有さないことを望まないと
きでも灰色の変色を何等有さないエラストマー用の組成
物中の補強充填剤として用い得る疎水性沈降シリカであ
る。−層特に、本発明の目的は加熱したときに加硫する
ことが可能な、純粋な色を持つエラストマーを得ること
ができる沈降シリカである。
本発明の別の目的は、加熱したときに加硫することが可
能であるエラストマー(HVR)であり且つ熱分解性シ
リカから得られるHVRの機械的特性と同様の特性を有
するエラストマーを得ることが可能な疎水性シリカであ
る。
能であるエラストマー(HVR)であり且つ熱分解性シ
リカから得られるHVRの機械的特性と同様の特性を有
するエラストマーを得ることが可能な疎水性シリカであ
る。
更に本発明の目的は、この疎水性且つ灰色でない沈降シ
リカを得ることが可能な方法にある。
リカを得ることが可能な方法にある。
ここに、本発明者らは、20より大きい、好ましくは2
5より大きいメタノール値、84より高い輝度(即ち8
4〜100) 、50m”/gより一層大きいBET比
表面積、0.1〜20ミクロンの平均粒度を有し、そし
て、スズ化合物の不存在下でヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン(D、)及びオクタメチルシクロテトラシロキ
サン(D4)の混合物により処理されていることを特徴
とする沈降シリカを見出し、これが本発明の課題を形成
するものである。また、本発明の課題は、本発明に従う
シリカを得る方法、並びにHVR用のかかるシリカを含
有する組成物、及びこれらの組成物により得られるエラ
ストマー(加硫物)に関する。
5より大きいメタノール値、84より高い輝度(即ち8
4〜100) 、50m”/gより一層大きいBET比
表面積、0.1〜20ミクロンの平均粒度を有し、そし
て、スズ化合物の不存在下でヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン(D、)及びオクタメチルシクロテトラシロキ
サン(D4)の混合物により処理されていることを特徴
とする沈降シリカを見出し、これが本発明の課題を形成
するものである。また、本発明の課題は、本発明に従う
シリカを得る方法、並びにHVR用のかかるシリカを含
有する組成物、及びこれらの組成物により得られるエラ
ストマー(加硫物)に関する。
以下の操作を用いて、本発明に従う沈降シリカのY輝度
を測定した。用いた三刺激値光度計は商標名エルレボ−
(Elrepho)のカールザイス(CarlZeis
s1社製でありそして拡散反射を測定することができる
(拡散光10°測定)ものである。この装置は、測色学
にかかわる人々によく知られており、積分球及び積分球
の下部に置いた容器中に配置した分析すべきサンプルを
照射する二つの光源(タングステンフィラメントランプ
)を含み、積分球はこのスポットに直径35mmの観測
窓を有する。このサンプルはこの光を積分球の上部に配
置したYフィルターを通して反射しそしてこのYフィル
ターを通過した後のこの光の強度を、装置の検流計の針
をゼロに合わせることによって目盛り付き回転ドラムで
測定する。得られた値を目盛り付き回転ドラム上で読み
取るだけでよく、それが分析するサンプルのY輝度に対
応しており、このドラムは、サンプルを測定する前に、
例えば、Y輝度が、100に等しいY輝度値を有する硫
酸バリウムに対して知られている第2標準試料(Vit
rolite)を用いて較正されている。従って、この
装置により、硫酸バリウムと同じ白さのサンプルは10
0のY輝度を有し、一方、完全に黒色のサンプルはOの
Y輝度を有し、二つのこれらの極値の間の中間値はすべ
ての灰色の色相に対応する。
を測定した。用いた三刺激値光度計は商標名エルレボ−
(Elrepho)のカールザイス(CarlZeis
s1社製でありそして拡散反射を測定することができる
(拡散光10°測定)ものである。この装置は、測色学
にかかわる人々によく知られており、積分球及び積分球
の下部に置いた容器中に配置した分析すべきサンプルを
照射する二つの光源(タングステンフィラメントランプ
)を含み、積分球はこのスポットに直径35mmの観測
窓を有する。このサンプルはこの光を積分球の上部に配
置したYフィルターを通して反射しそしてこのYフィル
ターを通過した後のこの光の強度を、装置の検流計の針
をゼロに合わせることによって目盛り付き回転ドラムで
測定する。得られた値を目盛り付き回転ドラム上で読み
取るだけでよく、それが分析するサンプルのY輝度に対
応しており、このドラムは、サンプルを測定する前に、
例えば、Y輝度が、100に等しいY輝度値を有する硫
酸バリウムに対して知られている第2標準試料(Vit
rolite)を用いて較正されている。従って、この
装置により、硫酸バリウムと同じ白さのサンプルは10
0のY輝度を有し、一方、完全に黒色のサンプルはOの
Y輝度を有し、二つのこれらの極値の間の中間値はすべ
ての灰色の色相に対応する。
Y輝度が測定されるべきサンプルが配置された容器はエ
ルレボ−装置とともにカールザイスにより供給される。
ルレボ−装置とともにカールザイスにより供給される。
こJ″Lらの容器は直径40mm及び高さ3〜5mmの
サンプルを得ることが可能である。従って、測定される
べきサンプルはすべて同じ寸法を有する。
サンプルを得ることが可能である。従って、測定される
べきサンプルはすべて同じ寸法を有する。
本発明に従う沈降シリカの疎水度を測定するには、試験
として、既に言及したようなフランス特許第2.411
.157号(ページ4〜5)に記載されたようなメタノ
ール値が選ばれる。この値を以下のようにして求める: 試験する0、5gの二酸化ケイ素を50−の水に分散さ
せる。メタノールを、チップを水中に浸けたビユレット
により、撹拌しながら水に、二酸化ケイ素の約95重量
%が浸積されるようになるまで加えた。メタノール値は
メタノールの消費−である。本発明に従う沈降シリカは
、現在市販されている沈降シリカからまたはフランス特
許第2.471.947号の実施例1に従いローヌブー
ラン社より製造された沈降シリカから得たものである(
それらはDi +D、処理にかけた後のものである)。
として、既に言及したようなフランス特許第2.411
.157号(ページ4〜5)に記載されたようなメタノ
ール値が選ばれる。この値を以下のようにして求める: 試験する0、5gの二酸化ケイ素を50−の水に分散さ
せる。メタノールを、チップを水中に浸けたビユレット
により、撹拌しながら水に、二酸化ケイ素の約95重量
%が浸積されるようになるまで加えた。メタノール値は
メタノールの消費−である。本発明に従う沈降シリカは
、現在市販されている沈降シリカからまたはフランス特
許第2.471.947号の実施例1に従いローヌブー
ラン社より製造された沈降シリカから得たものである(
それらはDi +D、処理にかけた後のものである)。
用いたシリカの粒度は1.5ミクロンであり、そのBE
T比表面積は175m”である。現在市販されている沈
降シリカとして、以下のものを挙げ得る: ・デグサ(Degussa)から販売されている平均粒
度6ミクロン及びBET比表面積160 m2/gの商
品FK160の沈降シリカ、 ニラポンシリカから販売されている平均粒度10ミクロ
ン、及びBET比表面積1.50 m”/gの商品ニブ
シル(Nipsil)の沈降シリカ。
T比表面積は175m”である。現在市販されている沈
降シリカとして、以下のものを挙げ得る: ・デグサ(Degussa)から販売されている平均粒
度6ミクロン及びBET比表面積160 m2/gの商
品FK160の沈降シリカ、 ニラポンシリカから販売されている平均粒度10ミクロ
ン、及びBET比表面積1.50 m”/gの商品ニブ
シル(Nipsil)の沈降シリカ。
本発明に従う沈降シリカは50+n”/gを超える、好
ましく 50〜350 m”/gのBET表面積を有す
る。それらは0.1〜20ミクロンの平均粒度を有し、
0.5〜10ミクロンが有利である。
ましく 50〜350 m”/gのBET表面積を有す
る。それらは0.1〜20ミクロンの平均粒度を有し、
0.5〜10ミクロンが有利である。
本発明に従う沈降シリカは、メタノール値として表わし
て20より高い、好ましくは25より高い疎水度(揮発
性)を有し、且つY輝度として表わして84より大きい
白色度を有する。
て20より高い、好ましくは25より高い疎水度(揮発
性)を有し、且つY輝度として表わして84より大きい
白色度を有する。
本発明に従う沈降シリカはシリカの平方ナノメーター(
nm2)当り1.5より多い、好ましくは2〜5の数の
固定した −St −0−(D)基を有する。
nm2)当り1.5より多い、好ましくは2〜5の数の
固定した −St −0−(D)基を有する。
本発明に従う沈降シリカを得るのに実験室で実施する操
作は、例えば、以下の通りである。内部直径が例えば6
6IIIfl+のガラスまたはステンレス鋼の円柱状容
器を用い、この器具はその下部にガラス焼結体(No、
2)を含み、その下に少なくとも2つの管を含み、その
一つは窒素を送るための管であり他の一つはDs +D
4混合物を送るための管である。処理すべき沈降シリカ
をガラス焼結体上に置(。この器具(その長軸が縦方向
に配置されている)はシリカ撹拌用の金属スターラーを
含む。その頂部において、この器具は窒素及びD3+
D aの混合物(シリカに固定してないもの)をガラス
サイクロンに送る管を含み、ガラスサイクロン中をガス
は接線方向に入って行き、それ故、円運動により移動し
てガス流とともに伴出し得るシリカの小部分をサイクロ
ンの下部に沈積させる。サイクロンの上部(及びその中
間部に)において、ガス(窒素+Ds + D4 )を
、20℃の水が循環して通るコンデンサーに、送る管が
ある。
作は、例えば、以下の通りである。内部直径が例えば6
6IIIfl+のガラスまたはステンレス鋼の円柱状容
器を用い、この器具はその下部にガラス焼結体(No、
2)を含み、その下に少なくとも2つの管を含み、その
一つは窒素を送るための管であり他の一つはDs +D
4混合物を送るための管である。処理すべき沈降シリカ
をガラス焼結体上に置(。この器具(その長軸が縦方向
に配置されている)はシリカ撹拌用の金属スターラーを
含む。その頂部において、この器具は窒素及びD3+
D aの混合物(シリカに固定してないもの)をガラス
サイクロンに送る管を含み、ガラスサイクロン中をガス
は接線方向に入って行き、それ故、円運動により移動し
てガス流とともに伴出し得るシリカの小部分をサイクロ
ンの下部に沈積させる。サイクロンの上部(及びその中
間部に)において、ガス(窒素+Ds + D4 )を
、20℃の水が循環して通るコンデンサーに、送る管が
ある。
凝縮した生成物留分をコンデンサーの出口で捕集する。
この器具の温度を、電気式オーブンにより230〜28
0℃、好ましくは240℃〜260℃に維持する。
0℃、好ましくは240℃〜260℃に維持する。
沈降シリカの、例えば30gを、円柱状器具に充填し、
5〜20C/時間の窒素流を、及びり。
5〜20C/時間の窒素流を、及びり。
+D4の混合物を5〜40g/時間の速度で循環する。
Ds +D、の混合物は、ガラス焼結体の下の管開口部
を離れると即座に(器具を加熱するので)蒸発する。D
s +D4の混合物は、Ds+D4混合物lOO重量部
当たり5〜35重量部のD3を含む(D、の5〜35重
量%)。このガス混合物を、沈降シリカに接触させつつ
、30分〜10時間、好ましくは1時間〜5時間循環さ
せる。工業的スケールにおいて、沈降シリカのこの処理
を、例えば流動床中で、または充填材の処理用に既に用
られている慣用の装置を用いてパルスガス流の下で実施
することができる。特に、ローヌブーラン社のフランス
特許1.234,245号及び第1.520.663号
に記載された装置を挙げ得る。
を離れると即座に(器具を加熱するので)蒸発する。D
s +D4の混合物は、Ds+D4混合物lOO重量部
当たり5〜35重量部のD3を含む(D、の5〜35重
量%)。このガス混合物を、沈降シリカに接触させつつ
、30分〜10時間、好ましくは1時間〜5時間循環さ
せる。工業的スケールにおいて、沈降シリカのこの処理
を、例えば流動床中で、または充填材の処理用に既に用
られている慣用の装置を用いてパルスガス流の下で実施
することができる。特に、ローヌブーラン社のフランス
特許1.234,245号及び第1.520.663号
に記載された装置を挙げ得る。
本発明に従う沈降シリカにより得られる加熱して加硫し
たシリコーンエラストマーは、純粋な色を有し、すなわ
ちそれらの組成物に顔料が添加されたときは灰色でなく
、或は組成物に顔料を含めないときは半透明または透明
(灰色でない)である。加熱して加硫したこれらのエラ
ストマー(加硫物としてまた知られている)の改善され
た機械的特性は、平均粒度1〜7ミクロンを有する発明
に従う沈降シリカにより得られることがわかった。
たシリコーンエラストマーは、純粋な色を有し、すなわ
ちそれらの組成物に顔料が添加されたときは灰色でなく
、或は組成物に顔料を含めないときは半透明または透明
(灰色でない)である。加熱して加硫したこれらのエラ
ストマー(加硫物としてまた知られている)の改善され
た機械的特性は、平均粒度1〜7ミクロンを有する発明
に従う沈降シリカにより得られることがわかった。
本発明に従う沈降シリカにより得られる加熱して加硫し
たエラストマー(加硫物)は少なくとも47のY輝度を
有する。これらのY輝度の測定を上記のエルレボ−光度
計により、同様の較正法に従って実施する。測定試料は
、厚さが2mmであり、それぞれ標準化した支持具(V
itrolite Y輝度=77.85)上に配置した
加硫物である。測定を、加硫物を型から離脱し、冷却し
た後すぐに実施した。
たエラストマー(加硫物)は少なくとも47のY輝度を
有する。これらのY輝度の測定を上記のエルレボ−光度
計により、同様の較正法に従って実施する。測定試料は
、厚さが2mmであり、それぞれ標準化した支持具(V
itrolite Y輝度=77.85)上に配置した
加硫物である。測定を、加硫物を型から離脱し、冷却し
た後すぐに実施した。
上記性質を有する加熱加硫したエラストマー(加硫物)
得ることができるシロキサン組成物は、 a)25℃で1000000mPa・sより高い粘度を
有するジオルガノポリシロキサン樹脂100重量部、b
)有機過酸化物0.1〜7重量部、及びC)本発明に従
う沈降シリカ5〜150重量部を含む。
得ることができるシロキサン組成物は、 a)25℃で1000000mPa・sより高い粘度を
有するジオルガノポリシロキサン樹脂100重量部、b
)有機過酸化物0.1〜7重量部、及びC)本発明に従
う沈降シリカ5〜150重量部を含む。
a)で言及した25℃で1000000mPa・sより
高い粘度を有するこのジオルガノポリシロキサン樹脂は
、式R,SiO単位の結合した列からできており、その
鎖の各々の末端が式R55iO0,単位及び/または式
OR’のラジカルによってブロックされており;これら
の式中、Rは同一または異なり、メチル、エチル、n−
プロピル、フェニル、ビニル及び3.3.3−1−リフ
ルオロプロピルラジカルであり、これらのラジカルの少
なくとも60%がメチルであり且つ3%以下がビニルで
あり、そして記号R°は水素原子、炭素原子1〜4個を
含むアルキルラジカル、またはβ−メトキシエチルラジ
カルを示す。
高い粘度を有するこのジオルガノポリシロキサン樹脂は
、式R,SiO単位の結合した列からできており、その
鎖の各々の末端が式R55iO0,単位及び/または式
OR’のラジカルによってブロックされており;これら
の式中、Rは同一または異なり、メチル、エチル、n−
プロピル、フェニル、ビニル及び3.3.3−1−リフ
ルオロプロピルラジカルであり、これらのラジカルの少
なくとも60%がメチルであり且つ3%以下がビニルで
あり、そして記号R°は水素原子、炭素原子1〜4個を
含むアルキルラジカル、またはβ−メトキシエチルラジ
カルを示す。
更にこれらの組成物は、25℃で5000mPa・Sを
超えない粘度を有し且つ式R”zSfOの単位の結合し
た列でできており、その鎖の各々の末端が式OR’のラ
ジカルによってブロックされているジオルガノポリシロ
キサンを0.5〜15部含むことが好ましく・これらの
式中記号R”は同一または異なり、メチル、フェニル、
またはビニルラジカルであり、これらのラジカルの少な
くとも40%がメチルであり、そして記号R゛が上記a
)で与えた意味である。
超えない粘度を有し且つ式R”zSfOの単位の結合し
た列でできており、その鎖の各々の末端が式OR’のラ
ジカルによってブロックされているジオルガノポリシロ
キサンを0.5〜15部含むことが好ましく・これらの
式中記号R”は同一または異なり、メチル、フェニル、
またはビニルラジカルであり、これらのラジカルの少な
くとも40%がメチルであり、そして記号R゛が上記a
)で与えた意味である。
これらの組成物の種々の構成成分を以下に一層詳細に説
明する。
明する。
25℃で1000000mPa・sより高い粘度、好ま
しくは25℃で2000000mPa−sより高い粘度
を有するジオルガノポリシロキサン樹脂a)は、ジオル
ガノポリシロキサン鎖が上記式RzSiO単位で本質的
にできている高分子量の線状ポリマーであり;この鎖は
各々の末端が式R55iO0,単位及び/または式OR
’のラジカルによってブロックされている。しかしなが
ら、ジオルガノポリシロキサン鎖に沿って式R25iO
以外の単位、例えば、式R31O+、 s及び/または
SiO□単位の少量が存在することは、R25iOの単
位の数に関して2%を超えない割合という規定を外れる
ものではない。ラジカルR及びR゛の意味は上記で明ら
かにされているけれども、アルキルラジカルとはC,−
C,アルキルラジカルを意味しそして一層特に、メチル
、エチル、n−プロピル及びn−ブチルラジカルを意味
するものと理解されよう。
しくは25℃で2000000mPa−sより高い粘度
を有するジオルガノポリシロキサン樹脂a)は、ジオル
ガノポリシロキサン鎖が上記式RzSiO単位で本質的
にできている高分子量の線状ポリマーであり;この鎖は
各々の末端が式R55iO0,単位及び/または式OR
’のラジカルによってブロックされている。しかしなが
ら、ジオルガノポリシロキサン鎖に沿って式R25iO
以外の単位、例えば、式R31O+、 s及び/または
SiO□単位の少量が存在することは、R25iOの単
位の数に関して2%を超えない割合という規定を外れる
ものではない。ラジカルR及びR゛の意味は上記で明ら
かにされているけれども、アルキルラジカルとはC,−
C,アルキルラジカルを意味しそして一層特に、メチル
、エチル、n−プロピル及びn−ブチルラジカルを意味
するものと理解されよう。
式R25iO及びR3510゜、単位及び式OR’ラジ
カルの具体例として、下記式ものを挙げ得る:(CHs
)−]0. CH,(CH,=CH)Si0.C1,(
C,H,)Sin。
カルの具体例として、下記式ものを挙げ得る:(CHs
)−]0. CH,(CH,=CH)Si0.C1,(
C,H,)Sin。
(caHs)2sio。
CH3(CaL)SL0.(CH3CH2CH2)CH
3CH2゜CH3(n−C3H?)SiO。
3CH2゜CH3(n−C3H?)SiO。
(CH3) (C6H−) (CH3CH2間−OH,
−0CHs、 −0CJs、 −0−n−C3Ht、
−0−iso−CsHt。
−0CHs、 −0CJs、 −0−n−C3Ht、
−0−iso−CsHt。
−0−n−C4Ho+
−OCH,CH,OCH,。
これらの樹脂a)は、本発明に従う樹脂組成物の100
部に該当するのに混合させて用い得、般に、3%より少
ないビニル基を含みそして殆どの場合これらのビニル基
はシリコン原子に結合したラジカルの数の0.005〜
1.5%に該当する。
部に該当するのに混合させて用い得、般に、3%より少
ないビニル基を含みそして殆どの場合これらのビニル基
はシリコン原子に結合したラジカルの数の0.005〜
1.5%に該当する。
樹脂a)はケイ素の製造者によって販売されており、更
に樹脂a)は既に知られている方法を用いて製造するこ
とができる。
に樹脂a)は既に知られている方法を用いて製造するこ
とができる。
d)において挙げたジオルガノポリシロキサンオイルは
、樹脂a)100部当たり0〜15部、好ましくは0.
3〜12部の割合で用いる。このオイルまたはこれらの
オイルは比較的低粘度、25℃で5000mPa・Sを
超えない、好ましくは、25℃で4000mPa−5を
超大ない粘度の線状高分子であり;ジオルガノポリシロ
キサンの鎖は本質的には上記式R”zsioの単位から
できており;この鎖は各々の末端が上記式OR’のラジ
カルによってブロックされている。ラジカルR”の少な
くとも40%、好ましくは45%がメチルラジカルであ
る。
、樹脂a)100部当たり0〜15部、好ましくは0.
3〜12部の割合で用いる。このオイルまたはこれらの
オイルは比較的低粘度、25℃で5000mPa・Sを
超えない、好ましくは、25℃で4000mPa−5を
超大ない粘度の線状高分子であり;ジオルガノポリシロ
キサンの鎖は本質的には上記式R”zsioの単位から
できており;この鎖は各々の末端が上記式OR’のラジ
カルによってブロックされている。ラジカルR”の少な
くとも40%、好ましくは45%がメチルラジカルであ
る。
記号R”及びR゛の意味は上記で明らかにした。
式R”zsio及び式OR’のラジカル単位の具体例と
して、下記式のものを挙げ得る: (CH3)、Si0.CI(、(CH,=CH)Si0
.CH−(C,Hs)Sin。
して、下記式のものを挙げ得る: (CH3)、Si0.CI(、(CH,=CH)Si0
.CH−(C,Hs)Sin。
(CsHs)asio。
C,1(S (C1(2fCH) Sin。
−0f(、−0(:[(1,−0CJs、 −0−n−
C,11,、−0CH2CILzOCHi 。
C,11,、−0CH2CILzOCHi 。
好ましくは以下のものを用いる。
25℃で1(1−200’ mPa−5の粘度を有する
ジメチルポリシロキサンオイルであって、それらの鎖の
各々の末端がヒドロキシル、メトキシまたはβ−メトキ
シエトキシラジカルによってブロックされたもの; 25℃で4(1〜2000 mPa−5の粘度を有する
CHs (CJi)Sin単位からなるメチルフェニル
ポリシロキサンオイルであって、それらの鎖の各々の末
端がヒドロキシル及び/またはメトキシラジカルによっ
てブロックされているもの。
ジメチルポリシロキサンオイルであって、それらの鎖の
各々の末端がヒドロキシル、メトキシまたはβ−メトキ
シエトキシラジカルによってブロックされたもの; 25℃で4(1〜2000 mPa−5の粘度を有する
CHs (CJi)Sin単位からなるメチルフェニル
ポリシロキサンオイルであって、それらの鎖の各々の末
端がヒドロキシル及び/またはメトキシラジカルによっ
てブロックされているもの。
これらのオイルd)を用いることは本発明の組成物が保
存中に変化、−層正確には組織化及び硬化を蒙ることを
妨げることを意図し;従ってそれらは抗組織化剤である
。補強シリカC)の量が多いとき、例えば、樹脂a)1
00部当たり30〜40部より多いときに、それらの使
用をとりわけ推奨する。
存中に変化、−層正確には組織化及び硬化を蒙ることを
妨げることを意図し;従ってそれらは抗組織化剤である
。補強シリカC)の量が多いとき、例えば、樹脂a)1
00部当たり30〜40部より多いときに、それらの使
用をとりわけ推奨する。
他の抗組織化剤を全部または部分的にオイルd)、例え
ば下記式のジフェニルシランジオール及びシランに代え
ることができる: しかしながら、それらは、オイルd)を用いるよりも、
しばしば−層費用がかかり及び/または発明の組成物中
に分散するために一層労力を要する。
ば下記式のジフェニルシランジオール及びシランに代え
ることができる: しかしながら、それらは、オイルd)を用いるよりも、
しばしば−層費用がかかり及び/または発明の組成物中
に分散するために一層労力を要する。
有機過酸化物b)を、樹脂a)100部当たり0.1〜
7部、好ましくは0.2〜5部の割合で用いる。それら
は当業者にはよく知られており、−層特に過酸化ベンゾ
イル、2.4−ジクロロベンゾイルペルオキシド、ジク
ミルペルオキシド、2.5−ビス−(t−ブチルペルオ
キシ)ヘキサン、t−ブチルベルベンゾエート、t−ブ
チルペルオキシイソプロビルカーボネート、ジ−t−ブ
チルペルオキシド、1.1−ビス(t−ブチルペルオシ
)−3、3,5−トリメチルシクロヘキサン及び2.5
−ジ−メチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘ
キサンを含む。
7部、好ましくは0.2〜5部の割合で用いる。それら
は当業者にはよく知られており、−層特に過酸化ベンゾ
イル、2.4−ジクロロベンゾイルペルオキシド、ジク
ミルペルオキシド、2.5−ビス−(t−ブチルペルオ
キシ)ヘキサン、t−ブチルベルベンゾエート、t−ブ
チルペルオキシイソプロビルカーボネート、ジ−t−ブ
チルペルオキシド、1.1−ビス(t−ブチルペルオシ
)−3、3,5−トリメチルシクロヘキサン及び2.5
−ジ−メチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘ
キサンを含む。
これらの種々の過酸化物は、時には、異なる温度及び速
度で分解する。それらを必要な硬化条件の関数として選
択する。
度で分解する。それらを必要な硬化条件の関数として選
択する。
灰色でない加硫物を得ることができるこれらの組成物は
、ケイ素原子に結合したアクリロイルオキシアルキレン
またはメタクリロイルオキシアルキレン基の少なくとも
一種を含有する有機ケイ素化合物の0.02〜4部(樹
脂a)100部当たり)、好ましくは、0.03〜3部
を含み、上記化合物は下記式を有する: (式中、記号R゛はメチル、フェニルまたはビニルラジ
カルを表わし、記号R3は水素原子またはメチルラジカ
ルを表わし、記号R4はメチル、エチル、n−プロピル
またはβ−メトキシエチルラジカルを表わし、記号Wは
1〜5の数を表わしそして記号Uは0〜2の数を表わす
。
、ケイ素原子に結合したアクリロイルオキシアルキレン
またはメタクリロイルオキシアルキレン基の少なくとも
一種を含有する有機ケイ素化合物の0.02〜4部(樹
脂a)100部当たり)、好ましくは、0.03〜3部
を含み、上記化合物は下記式を有する: (式中、記号R゛はメチル、フェニルまたはビニルラジ
カルを表わし、記号R3は水素原子またはメチルラジカ
ルを表わし、記号R4はメチル、エチル、n−プロピル
またはβ−メトキシエチルラジカルを表わし、記号Wは
1〜5の数を表わしそして記号Uは0〜2の数を表わす
。
このタイプの生成物は、例えば米国特許筒3.567.
497号に記載されている。具体例として、下記式を有
する生成物を挙げ得る: CHi=CI(−C00CHtSi (OCHs) 5
CH2”Cl−C00CHtSi (OCHzCHJC
Hi)zc6HaCHa”CH−Coo (CHi)
−3t (OCaH−) −C1,=C(CFl、)C
oo (co2) asi (OCR,)。
497号に記載されている。具体例として、下記式を有
する生成物を挙げ得る: CHi=CI(−C00CHtSi (OCHs) 5
CH2”Cl−C00CHtSi (OCHzCHJC
Hi)zc6HaCHa”CH−Coo (CHi)
−3t (OCaH−) −C1,=C(CFl、)C
oo (co2) asi (OCR,)。
CH2=C(CHa)COO(CHz)ssicHs
(OCH3)2CH2=C(CH,)Coo (CHI
)、SL (OCHs)。
(OCH3)2CH2=C(CH,)Coo (CHI
)、SL (OCHs)。
これらの組成物の製造は知られた機械的手段、例えば、
ニーダ−、ロールミル及びスクリューミツキサ−の助け
より実施することができる。種々の構成成分を任意の順
序でこれらの装置に加え得る。しかしながら、先ず最初
に樹脂a)及び本発明に従う沈降シリカC)を充填しそ
してそれから最後に過酸化物b)を充填することを推奨
する。
ニーダ−、ロールミル及びスクリューミツキサ−の助け
より実施することができる。種々の構成成分を任意の順
序でこれらの装置に加え得る。しかしながら、先ず最初
に樹脂a)及び本発明に従う沈降シリカC)を充填しそ
してそれから最後に過酸化物b)を充填することを推奨
する。
[例]
平均粒度1.5ミクロン及びBET表面積175m2/
gを有する、フランス特許筒2.471,947号の実
施例1に従いローヌブーラン社により製造された商品R
P175MSの沈降シリカを、それぞれ、 D4により400℃にて2時間、 D4により250℃にて2時間、 Di+D<により250℃にて4時間、処理した。
gを有する、フランス特許筒2.471,947号の実
施例1に従いローヌブーラン社により製造された商品R
P175MSの沈降シリカを、それぞれ、 D4により400℃にて2時間、 D4により250℃にて2時間、 Di+D<により250℃にて4時間、処理した。
これらの処理の各々において用いた沈降シリカの量は3
0gであった。用いた装置は、上記で言及したガラス製
のものであった。スターラーを9Orpmで回転した。
0gであった。用いた装置は、上記で言及したガラス製
のものであった。スターラーを9Orpmで回転した。
窒素流15β/時間で、方、D4またはDs +DJの
流量を20g/時間にした。DJ +D4で処理する場
合、この混合物にり、33重量部及びD467重量部を
含ませた。
流量を20g/時間にした。DJ +D4で処理する場
合、この混合物にり、33重量部及びD467重量部を
含ませた。
エラストマー(加硫物)を、異なる処理にかけたこれら
のシリカの各々より製造した。これらの加硫物を、 ジオルガノポリシロキサン樹脂であって、25℃で5
X 10’ mPa−5(ミ’Jパスカル・秒)の粘度
を有し、その鎖の各々の末端がトリメチルシロキシ単位
でブロックされており、その鎖中に0.2モル%のメヂ
ルビニルシロキシ基を含むもの100部、上記の3つの
処理の一つにかけたPR175MSシリカ40部、 ポリジメチルシロキサンオイルであって、25℃で40
mPa−5の粘度を有し、その鎖の各々の末端が末端
シリコン原子に結合したヒドロキシルラジカルによって
ブロックされているもの1.4部、及び 2.5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ
)ヘキサン0.5部 を、30−ルミルで、周囲温度にて混合して製造した。
のシリカの各々より製造した。これらの加硫物を、 ジオルガノポリシロキサン樹脂であって、25℃で5
X 10’ mPa−5(ミ’Jパスカル・秒)の粘度
を有し、その鎖の各々の末端がトリメチルシロキシ単位
でブロックされており、その鎖中に0.2モル%のメヂ
ルビニルシロキシ基を含むもの100部、上記の3つの
処理の一つにかけたPR175MSシリカ40部、 ポリジメチルシロキサンオイルであって、25℃で40
mPa−5の粘度を有し、その鎖の各々の末端が末端
シリコン原子に結合したヒドロキシルラジカルによって
ブロックされているもの1.4部、及び 2.5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ
)ヘキサン0.5部 を、30−ルミルで、周囲温度にて混合して製造した。
その後、得られた混合物を170℃、150バールで1
0分間加硫して、厚さ2mmのサンプルを得た。
0分間加硫して、厚さ2mmのサンプルを得た。
以下の表は、D4 (400℃及び250℃にて)、ま
たはり、+D、(250℃にて)により処理した後に得
たRP175MSシリカの性質をシリカにより得た加硫
物の性質といっしょに示す。
たはり、+D、(250℃にて)により処理した後に得
たRP175MSシリカの性質をシリカにより得た加硫
物の性質といっしょに示す。
この表において略字は以下の意味を持つ:SH(A):
へSTM規格D−2240に従うショワーA硬度、 T S : ASTM規格D−412に対応する
AFNOR規格T−46002に従う引張強度MPa
(メガパスカル) 、 E B : AFNOR規格T−46002に従
う破断伸び%、 T r S : ASTM規格D−624に従う引
裂強度kN/m (Nロニュートン/メートル)、R,
C,S :%で測定した残留圧縮永久歪。
へSTM規格D−2240に従うショワーA硬度、 T S : ASTM規格D−412に対応する
AFNOR規格T−46002に従う引張強度MPa
(メガパスカル) 、 E B : AFNOR規格T−46002に従
う破断伸び%、 T r S : ASTM規格D−624に従う引
裂強度kN/m (Nロニュートン/メートル)、R,
C,S :%で測定した残留圧縮永久歪。
この表は、250℃(すなわち特許請求の範囲に記載の
温度範囲内である)にてD3 +D4処理にかけた沈降
シリカRP175MSが84より大きなY輝度及び20
より大きいメタノール値を有し、一方D4で400℃に
て処理した同じシリカは実質上間等のメタノール値を、
しかしかなり一層小さい輝度を有し、そしてDうで25
0℃で処理したシリカがわずかに低いY輝度及びかなり
一層低いメタノール値を有することを示している。
温度範囲内である)にてD3 +D4処理にかけた沈降
シリカRP175MSが84より大きなY輝度及び20
より大きいメタノール値を有し、一方D4で400℃に
て処理した同じシリカは実質上間等のメタノール値を、
しかしかなり一層小さい輝度を有し、そしてDうで25
0℃で処理したシリカがわずかに低いY輝度及びかなり
一層低いメタノール値を有することを示している。
この表は、また、250℃にてDs 十D4で処理した
シリカより得た加硫物が最大のY輝度及びD4により4
00℃にて処理したシリカで得られた加硫物の性質に相
当する最良の機械的性質を有することを示している。
シリカより得た加硫物が最大のY輝度及びD4により4
00℃にて処理したシリカで得られた加硫物の性質に相
当する最良の機械的性質を有することを示している。
同様の結果は、デグサにより販売されている、平均粒度
6ミクロンを有する沈降シリカ商品FK160により得
られるということを知るべきである。
6ミクロンを有する沈降シリカ商品FK160により得
られるということを知るべきである。
更に、もし沈降シリカFK160またはRPI75MS
を280℃を超える温度でDa +D4により処理する
ならば、この種のシリカのY輝度は84を下回り、得ら
れる加硫物は47未満のY輝度を有する。一方、もし、
これらのシリカDa+D4により230℃を下回る温度
で処理したならば、加硫物の機械的性質は一層悪く、こ
のシリカ手糸売ネ甫正書 平成元年5月23日
を280℃を超える温度でDa +D4により処理する
ならば、この種のシリカのY輝度は84を下回り、得ら
れる加硫物は47未満のY輝度を有する。一方、もし、
これらのシリカDa+D4により230℃を下回る温度
で処理したならば、加硫物の機械的性質は一層悪く、こ
のシリカ手糸売ネ甫正書 平成元年5月23日
Claims (10)
- (1)20より大きい、好ましくは25より大きいメタ
ノール値、84より大きいY輝度、50m^2/gより
大きいBET比表面積、0.1〜20ミクロンの平均粒
度を有し、且つヘキサメチルシクロトリシロキサン(D
_3)及びオクタメチルシクロテトラシロキサン(D_
4)の混合物により、スズ化合物の不存在下で、処理さ
れていることを特徴とする沈降シリカ。 - (2)230〜280℃の温度にてD_3+D_4混合
物により処理され、BET比表面積が50〜350m^
2/gであり、平均粒度が0.5〜10ミクロンである
請求項1に記載の沈降シリカ。 - (3)D_3+D_4混合物100重量部当たり5〜3
5重量部のD_3を含むD_3+D_4混合物により処
理されている請求項1または2に記載の沈降シリカ。 - (4)D_3+D_4の混合物により30分〜10時間
、好ましくは1時間〜5時間処理されている前記請求項
のうちいずれか1項に記載の沈降シリカ。 - (5)窒素の存在下で、D_3+D_4混合物により処
理されている前記請求項のうちいずれか1項に記載の沈
降シリカ。 - (6)沈降シリカの30gが、D_3を5〜35重量%
含むD_3+D_4混合物5〜40g/時間及び窒素5
〜20l/時間を、同時に用いて30分〜10時間処理
されている請求項5に記載の沈降シリカ。 - (7)シリカのnm^2当たり結合している基Dの数が
1.5〜5である前記請求項のうちいずれか一項に記載
の沈降シリカ。 - (8)請求項1〜7のいずれか一項に記載のシリカを、
加熱して加硫することが可能なオルガノポリシロキサン
エラストマーを補強するために用いる方法。 - (9)加熱して加硫することが可能なオルガノポリシロ
キサン組成物であって、 a)25℃で1000000mPa・sより高い粘度を
有するジオルガノポリシロキサン樹脂100重量部、 b)有機過酸化物0.1〜7重量部、 c)請求項1〜7のいずれか1項に記載の沈降シリカ5
〜150重量部、及び d)ジオルガノポリシロキサンオイルであつて25℃で
5000mPa・sを超えない粘度を有し、式R”_a
SiO単位の結合した列からできており、鎖の各々の末
端が式OR’のラジカルでブロックされているもの0〜
15重量部 (これらの式中、記号R”は同一または異なり、メチル
、フェニル及びビニルラジカルを示しこれらのラジカル
の少なくとも40%がメチルであり、そして記号R’は
水素原子、炭素原子1〜4個を有するアルキルラジカル
またはβ−メトキシエチルラジカルである)を含む上記
組成物。 - (10)少なくとも47のY輝度を有する請求項9に記
載の組成物により得られる加硫物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8805952A FR2630722B1 (fr) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | Silice de precipitation hydrophobe a proprietes ameliorees |
| FR88/05952 | 1988-04-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0214809A true JPH0214809A (ja) | 1990-01-18 |
| JPH054324B2 JPH054324B2 (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=9365957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10613589A Granted JPH0214809A (ja) | 1988-04-28 | 1989-04-27 | 改善された特性を有する疎水性沈降シリカ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0340129A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0214809A (ja) |
| BR (1) | BR8902457A (ja) |
| FR (1) | FR2630722B1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003160327A (ja) * | 2001-08-04 | 2003-06-03 | Degussa Ag | 疎水性沈降シリカ、その製法およびその使用 |
| JP2007519793A (ja) * | 2004-01-30 | 2007-07-19 | ロディア・シミ | シリコーンエラストマー用の補強充填剤としての予備処理された沈降シリカの使用、および常温混合によって得られた硬化性シリコーンエラストマー組成物 |
| US9761696B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-09-12 | Vishay-Siliconix | Self-aligned trench MOSFET and method of manufacture |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6191122B1 (en) | 1996-03-29 | 2001-02-20 | DEGUSSA HüLS AKTIENGESELLSCHAFT | Partially hydrophobic precipitated silicas |
| JP3478521B2 (ja) * | 1997-02-17 | 2003-12-15 | 株式会社トクヤマ | 歯科用軟質裏装材 |
| US6316050B1 (en) | 1997-12-22 | 2001-11-13 | Degussa | Method of producing hydrophobic pyrogenically produced oxides |
| DE19757210A1 (de) * | 1997-12-22 | 1999-07-01 | Degussa | Hydrophobierte, pyrogen hergestellte Oxide |
| DE10138491A1 (de) | 2001-08-04 | 2003-02-13 | Degussa | Verfahren zur Herstellung einer hydrophoben Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad und extrem niedriger Feuchtigkeitsaufnahme |
| DE10138490A1 (de) | 2001-08-04 | 2003-02-13 | Degussa | Hydrophobe Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad und extrem niedriger Feuchtigkeitsaufnahme |
| JP5357020B2 (ja) | 2006-06-26 | 2013-12-04 | ダウ・コーニング・コーポレイション | シリコーンゴムエラストマーの製造 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3948676A (en) * | 1970-11-24 | 1976-04-06 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Process for preparing hydrophobic particles |
| DE2754484C2 (de) * | 1977-12-07 | 1983-07-21 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zum Herstellen von hydrophobem Siliciumdioxyd |
-
1988
- 1988-04-28 FR FR8805952A patent/FR2630722B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-04-27 EP EP89420153A patent/EP0340129A1/fr not_active Withdrawn
- 1989-04-27 JP JP10613589A patent/JPH0214809A/ja active Granted
- 1989-04-28 BR BR898902457A patent/BR8902457A/pt not_active Application Discontinuation
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003160327A (ja) * | 2001-08-04 | 2003-06-03 | Degussa Ag | 疎水性沈降シリカ、その製法およびその使用 |
| JP2007519793A (ja) * | 2004-01-30 | 2007-07-19 | ロディア・シミ | シリコーンエラストマー用の補強充填剤としての予備処理された沈降シリカの使用、および常温混合によって得られた硬化性シリコーンエラストマー組成物 |
| JP4842840B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2011-12-21 | ロディア・シミ | シリコーンエラストマー用の補強充填剤としての予備処理された沈降シリカの使用、および常温混合によって得られた硬化性シリコーンエラストマー組成物 |
| US9761696B2 (en) | 2007-04-03 | 2017-09-12 | Vishay-Siliconix | Self-aligned trench MOSFET and method of manufacture |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2630722A1 (fr) | 1989-11-03 |
| BR8902457A (pt) | 1990-01-16 |
| EP0340129A1 (fr) | 1989-11-02 |
| JPH054324B2 (ja) | 1993-01-19 |
| FR2630722B1 (fr) | 1990-09-07 |
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