JPH054324B2 - - Google Patents
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- JPH054324B2 JPH054324B2 JP10613589A JP10613589A JPH054324B2 JP H054324 B2 JPH054324 B2 JP H054324B2 JP 10613589 A JP10613589 A JP 10613589A JP 10613589 A JP10613589 A JP 10613589A JP H054324 B2 JPH054324 B2 JP H054324B2
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- precipitated silica
- parts
- weight
- treated
- mixture
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3081—Treatment with organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
[産業上の利用分野]
本発明は、加熱したときに加硫することが可能
なシリコーンエラストマー用の組成物を製造する
のに特に用いることが可能な沈降シリカ、及びこ
の種の沈降シリカの製造方法に関する。 [従来技術及び発明が解決しようとする課題] 加熱したときに加硫することが可能なシリコー
ンエラストマー用の組成物を、熱分解性シリカか
ら製造することが知られている。一般に熱分解性
シリカは、技術的な見地からこの用途を満たして
おり、そして組成物中に導入される前に、約400
℃にて、ポリシロキサンにより、好ましくは、シ
クロポリシロキサンにより、特にシクロテトラシ
ロキサンにより、一層特にオクタメチルシクロテ
トラシロキサン(D4)により処理(熱分解性シ
リカを疎水性にする)される。このタイプの処理
を言及する特許は知られており、特に、熱分解性
シリカをD4で375℃にて処理するローヌプーラン
社のフランス特許第1234245号(実施例2)によ
り、そして該操作を500℃の温度で実施する同社
のフランス特許第1520663号(実施例1参照のこ
と)により知られている。 更に、フランス特許出願第2411157号の実施例
2,3及び5より、高温化(焼結)して得たシリ
カを、スズ化合物の存在下で、ヘキサメチルシク
ロトリシロキサン(D3)及び(D4)の混合物で
処理して疎水性にし得ることは知られている。更
にこの特許出願第2411157号は、第6ページの比
較試験C1〜C5において、200℃にて混合物D3+D4
によるがスズ化合物を用いないで(C1〜C4参照
のこと)または酸性化合物を用いないで(C5参
照のこと)処理した熱分解性シリカが疎水性を示
さないことを説明している。加えて、その出願
は、第3ページ、31〜35行の記載で、この処理を
50℃〜350℃の温度で起こし得ることを説明して
いる。 現時点においては、熱分解性シリカの代わりに
(全部または一部)、できるだけ多くの沈降シリカ
を用いるという試みがされている。なぜなら、沈
降シリカは一層安価であるからである。しかしな
がら熱分解性シリカに対して、現在市販されてお
り且つ400℃にて特にオクタメチルシクロテトラ
シロキサン(D4)による処理にかけた沈降シリ
カはそれらの初期の白色を喪失し;灰色になる。
これは、かかる沈降シリカを含有する組成物から
得たエラストマーそのものが灰色になりすくそし
て無色になることができず、または顔料をかかる
組成物に導入したときに純粋な色を有することが
できないという理由から厄介である。更に、沈降
シリカをD3+D4の混合物により290℃またはそれ
を超える温度で処理するとき、このシリカはD4
により400℃にて処理するときと同様に、初期の
その白色度を喪失する。 従つて、本発明の目的は、加熱したときに加硫
することが可能なシリコーンエラストマー
(HVR)用の且つ得られたエラストマーが灰色を
有さないことを望まないときでも灰色の変色を何
等有さないエラストマー用の組成物中の補強充填
剤として用い得る疎水性沈降シリカである。一層
特に、本発明の目的は加熱したときに加硫するこ
とが可能な、純粋な色を持つエラストマーを得る
ことができる沈降シリカである。 本発明の別の目的は、加熱したときに加硫する
ことが可能であるエラストマー(HVR)であり
且つ熱分解性シリカから得られるHVRの機械的
特性と同様の特性を有するエラストマーを得るこ
とが可能な疎水性シリカである。 更に本発明の目的は、この疎水性且つ灰色でな
い沈降シリカを得ることが可能な方法にある。 ここに、本発明者らは、20より大きい、好まし
くは25より大きいメタノール値、84より高い輝度
(即ち84〜100)、50m2/gより一層大きいBET比
表面積、0.1〜20ミクロンの平均粒度を有し、そ
して、スズ化合物の不存在下でヘキサメチルシク
ロトリシロキサン(D3)及びオクタメチルシク
ロテトラシロキサン(D4)の混合物により処理
されていることを特徴とする沈降シリカを見出
し、これが本発明の課題を形成するものである。
また、本発明の課題は、本発明に従うシリカを得
る方法、並びにHVR用のかかるシリカを含有す
る組成物、及びこれらの組成物により得られるエ
ラストマー(加硫物)に関する。 以下の操作を用いて、本発明に従う沈降シリカ
のY輝度を測定した。用いた三刺激値光度計は商
標名エルレポー(Elrepho)のカールザイス
(Carl Zeiss)社製でありそして拡散反射を測定
することができる(拡散光/0゜測定)ものであ
る。この装置は、測色学にかかわる人々によく知
られており、積分球及び積分球の下部に置いた容
器中に配置した分析すべきサンプルを照射する二
つの光源(タングステンフイラメントランプ)を
含み、積分球はこのスポツトに直径35mmの観測窓
を有する。このサンプルはこの光を積分球の上部
に配置したYフイルターを通して反射しそしてこ
のYフイルターを通過した後のこの光の強度を、
装置の検流計の針をゼロに合わせることによつて
目盛り付き回転ドラムで測定する。得られた値を
目盛り付き回転ドラム上で読み取るだけでよく、
それが分析するサンプルのY輝度に対応してお
り、このドラムは、サンプルを測定する前に、例
えば、Y輝度が、100に等しいY輝度値を有する
硫酸バリウムに対して知られている第2標準試料
(Vitrolite)を用いて較正されている。従つて、
この装置により、硫酸バリウムと同じ白さのサン
プルは100のY輝度を有し、一方、完全に黒色の
サンプルは0のY輝度を有し、二つのこれらの極
値の間の中間値はすべての灰色の色相に対応す
る。Y輝度が測定されるべきサンプルが配置され
た容器はエルレポー装置とともにカールザイスに
より供給される。これらの容器は直径40mm及び高
さ3〜5mmのサンプルを得ることが可能である。
従つて、測定されるべきサンプルはすべて同じ寸
法を有する。 本発明に従う沈降シリカの疎水度を測定するに
は、試験として、既に言及したようなフランス特
許第2411157号(ページ4〜5)に記載されたよ
うなメタノール値が選ばれる。この値を以下のよ
うにして求める: 試験する0.5gの四酸化ケイ素を50mlの水に分
散させる。メタノールを、チツプを水中に浸けた
ビユレツトにより、撹拌しながら水に、二酸化ケ
イ素の約95重量%が浸積されるようになるまで加
えた。メタノール値はメタノールの消費mlであ
る。本発明に従う沈降シリカは、現在市販されて
いる沈降シリカからまたはフランス特許第
2471947号の実施例1に従いローヌプーラン社よ
り製造された沈降シリカから得たものである(そ
れらはD3+D4処理にかけた後のものである)。用
いたシリカの粒度は1.5ミクロンであり、その
BET比表面積は175m2である。現在市販されてい
る沈降シリカとして、以下のものを挙げ得る: ・ デグサ(Degussa)から販売されている平均
粒度6ミクロン及びBET比表面積160m2/gの
商品FK160の沈降シリカ、 ・ ニツポンシリカから販売されている平均粒度
10ミクロン、及びBET比表面積150m2/gの商
品ニプシル(Nipsil)の沈降シリカ。 本発明に従う沈降シリカは50m2/gを超える、
好ましく50〜350m2/gのBET表面積を有する。
それらは0.1〜20ミクロンの平均粒度を有し、0.5
〜10ミクロンが有利である。 本発明に従う沈降シリカは、メタノール値とし
て表わして20より高い、好ましくは25より高い疎
水度(揮発性)を有し、且つY輝度として表わし
て84より大きい白色度を有する。 本発明に従う沈降シリカはシリカの平方ナノメ
ーター(nm2)当り1.5より多い、好ましくは2
〜5の数の固定した
なシリコーンエラストマー用の組成物を製造する
のに特に用いることが可能な沈降シリカ、及びこ
の種の沈降シリカの製造方法に関する。 [従来技術及び発明が解決しようとする課題] 加熱したときに加硫することが可能なシリコー
ンエラストマー用の組成物を、熱分解性シリカか
ら製造することが知られている。一般に熱分解性
シリカは、技術的な見地からこの用途を満たして
おり、そして組成物中に導入される前に、約400
℃にて、ポリシロキサンにより、好ましくは、シ
クロポリシロキサンにより、特にシクロテトラシ
ロキサンにより、一層特にオクタメチルシクロテ
トラシロキサン(D4)により処理(熱分解性シ
リカを疎水性にする)される。このタイプの処理
を言及する特許は知られており、特に、熱分解性
シリカをD4で375℃にて処理するローヌプーラン
社のフランス特許第1234245号(実施例2)によ
り、そして該操作を500℃の温度で実施する同社
のフランス特許第1520663号(実施例1参照のこ
と)により知られている。 更に、フランス特許出願第2411157号の実施例
2,3及び5より、高温化(焼結)して得たシリ
カを、スズ化合物の存在下で、ヘキサメチルシク
ロトリシロキサン(D3)及び(D4)の混合物で
処理して疎水性にし得ることは知られている。更
にこの特許出願第2411157号は、第6ページの比
較試験C1〜C5において、200℃にて混合物D3+D4
によるがスズ化合物を用いないで(C1〜C4参照
のこと)または酸性化合物を用いないで(C5参
照のこと)処理した熱分解性シリカが疎水性を示
さないことを説明している。加えて、その出願
は、第3ページ、31〜35行の記載で、この処理を
50℃〜350℃の温度で起こし得ることを説明して
いる。 現時点においては、熱分解性シリカの代わりに
(全部または一部)、できるだけ多くの沈降シリカ
を用いるという試みがされている。なぜなら、沈
降シリカは一層安価であるからである。しかしな
がら熱分解性シリカに対して、現在市販されてお
り且つ400℃にて特にオクタメチルシクロテトラ
シロキサン(D4)による処理にかけた沈降シリ
カはそれらの初期の白色を喪失し;灰色になる。
これは、かかる沈降シリカを含有する組成物から
得たエラストマーそのものが灰色になりすくそし
て無色になることができず、または顔料をかかる
組成物に導入したときに純粋な色を有することが
できないという理由から厄介である。更に、沈降
シリカをD3+D4の混合物により290℃またはそれ
を超える温度で処理するとき、このシリカはD4
により400℃にて処理するときと同様に、初期の
その白色度を喪失する。 従つて、本発明の目的は、加熱したときに加硫
することが可能なシリコーンエラストマー
(HVR)用の且つ得られたエラストマーが灰色を
有さないことを望まないときでも灰色の変色を何
等有さないエラストマー用の組成物中の補強充填
剤として用い得る疎水性沈降シリカである。一層
特に、本発明の目的は加熱したときに加硫するこ
とが可能な、純粋な色を持つエラストマーを得る
ことができる沈降シリカである。 本発明の別の目的は、加熱したときに加硫する
ことが可能であるエラストマー(HVR)であり
且つ熱分解性シリカから得られるHVRの機械的
特性と同様の特性を有するエラストマーを得るこ
とが可能な疎水性シリカである。 更に本発明の目的は、この疎水性且つ灰色でな
い沈降シリカを得ることが可能な方法にある。 ここに、本発明者らは、20より大きい、好まし
くは25より大きいメタノール値、84より高い輝度
(即ち84〜100)、50m2/gより一層大きいBET比
表面積、0.1〜20ミクロンの平均粒度を有し、そ
して、スズ化合物の不存在下でヘキサメチルシク
ロトリシロキサン(D3)及びオクタメチルシク
ロテトラシロキサン(D4)の混合物により処理
されていることを特徴とする沈降シリカを見出
し、これが本発明の課題を形成するものである。
また、本発明の課題は、本発明に従うシリカを得
る方法、並びにHVR用のかかるシリカを含有す
る組成物、及びこれらの組成物により得られるエ
ラストマー(加硫物)に関する。 以下の操作を用いて、本発明に従う沈降シリカ
のY輝度を測定した。用いた三刺激値光度計は商
標名エルレポー(Elrepho)のカールザイス
(Carl Zeiss)社製でありそして拡散反射を測定
することができる(拡散光/0゜測定)ものであ
る。この装置は、測色学にかかわる人々によく知
られており、積分球及び積分球の下部に置いた容
器中に配置した分析すべきサンプルを照射する二
つの光源(タングステンフイラメントランプ)を
含み、積分球はこのスポツトに直径35mmの観測窓
を有する。このサンプルはこの光を積分球の上部
に配置したYフイルターを通して反射しそしてこ
のYフイルターを通過した後のこの光の強度を、
装置の検流計の針をゼロに合わせることによつて
目盛り付き回転ドラムで測定する。得られた値を
目盛り付き回転ドラム上で読み取るだけでよく、
それが分析するサンプルのY輝度に対応してお
り、このドラムは、サンプルを測定する前に、例
えば、Y輝度が、100に等しいY輝度値を有する
硫酸バリウムに対して知られている第2標準試料
(Vitrolite)を用いて較正されている。従つて、
この装置により、硫酸バリウムと同じ白さのサン
プルは100のY輝度を有し、一方、完全に黒色の
サンプルは0のY輝度を有し、二つのこれらの極
値の間の中間値はすべての灰色の色相に対応す
る。Y輝度が測定されるべきサンプルが配置され
た容器はエルレポー装置とともにカールザイスに
より供給される。これらの容器は直径40mm及び高
さ3〜5mmのサンプルを得ることが可能である。
従つて、測定されるべきサンプルはすべて同じ寸
法を有する。 本発明に従う沈降シリカの疎水度を測定するに
は、試験として、既に言及したようなフランス特
許第2411157号(ページ4〜5)に記載されたよ
うなメタノール値が選ばれる。この値を以下のよ
うにして求める: 試験する0.5gの四酸化ケイ素を50mlの水に分
散させる。メタノールを、チツプを水中に浸けた
ビユレツトにより、撹拌しながら水に、二酸化ケ
イ素の約95重量%が浸積されるようになるまで加
えた。メタノール値はメタノールの消費mlであ
る。本発明に従う沈降シリカは、現在市販されて
いる沈降シリカからまたはフランス特許第
2471947号の実施例1に従いローヌプーラン社よ
り製造された沈降シリカから得たものである(そ
れらはD3+D4処理にかけた後のものである)。用
いたシリカの粒度は1.5ミクロンであり、その
BET比表面積は175m2である。現在市販されてい
る沈降シリカとして、以下のものを挙げ得る: ・ デグサ(Degussa)から販売されている平均
粒度6ミクロン及びBET比表面積160m2/gの
商品FK160の沈降シリカ、 ・ ニツポンシリカから販売されている平均粒度
10ミクロン、及びBET比表面積150m2/gの商
品ニプシル(Nipsil)の沈降シリカ。 本発明に従う沈降シリカは50m2/gを超える、
好ましく50〜350m2/gのBET表面積を有する。
それらは0.1〜20ミクロンの平均粒度を有し、0.5
〜10ミクロンが有利である。 本発明に従う沈降シリカは、メタノール値とし
て表わして20より高い、好ましくは25より高い疎
水度(揮発性)を有し、且つY輝度として表わし
て84より大きい白色度を有する。 本発明に従う沈降シリカはシリカの平方ナノメ
ーター(nm2)当り1.5より多い、好ましくは2
〜5の数の固定した
【式】基を有す
る。
本発明に従う沈降シリカを得るのに実験室で実
施する操作は、例えば、以下の通りである。内部
直径が例えば66mmのガラスまたはステンレス鋼の
円柱状容器を用い、この器具はその下部にガラス
焼結体(No.2)を含み、その下に少なくとも2つ
の管を含み、その一つは窒素を送るための管であ
り他の一つD3+D4混合物を送るための管である。
処理すべき沈降シリカをガラス焼結体上に置く。
この器具(その長軸が縦方向に配置されている)
はシリカ撹拌用の金属スターラーを含む。その頂
部において、この器具は窒素及びD3+D4の混合
物(シリカに固定してないもの)をガラスサイク
ロンに送る管を含み、ガラスサイクロン中をガス
は接線方向に入つて行き、それ故、円運動により
移動してガス流とともに伴出し得るシリカの小部
分をサイクロンの下部に沈積させる。サイクロン
の上部(及びその中間部に)において、ガス(窒
素+D3+D4)を、20℃の水が循環して通るコン
デンサーに、送る管がある。凝縮した生成物留分
をコンデンサーの出口で捕集する。この器具の温
度を、電気式オーブンにより230〜280℃、好まし
くは240℃〜260℃に維持する。 沈降シリカの、例えば30gを、円柱状器具に充
填し、5〜20/時間の窒素流流を、及びD3+
D4の混合物を5〜40g/時間の速度で循環する。
D3+D4の混合物は、ガラス焼結体の下の管開口
部を離れると即座に(器具を加熱するので)蒸発
する。D3+D4の混合物は、D3+D4混合物100重
量部当たり5〜35重量部のD3を含む(D3の5〜
35重量%)。このガス混合物を、沈降シリカに接
触させつつ、30分〜10時間、好ましくは1時間〜
5時間循環させる。工業的スケールにおいて、沈
降シリカのこの処理を、例えば流動床中で、また
は充填材の処理用に既に用いられている慣用の装
置を用いてパルスガス流の下で実施することがで
きる。特に、ローヌプーラン社のフランス特許
1234245号及び第1520663号に記載された装置を挙
げ得る。 本発明に従う沈降シリカにより得られる加熱し
て加硫したシリコーンエラストマーは、純粋な色
を有し、すなわちそれらの組成物に顔料が添加さ
れたときは灰色でなく、或は組成物に顔料を含め
ないときは半透明または透明(灰色でない)であ
る。加熱して加硫したこれらのエラストマー(加
硫物としてまた知られている)の改善された機械
的特性は、平均粒度1〜7ミクロンを有する発明
に従う沈降シリカにより得られることがわかつ
た。 本発明に従う沈降シリカにより得られる加熱し
て加硫したエラストマー(加硫物)は少なくとも
47のY輝度を有する。これらのY輝度の測定を上
記のエルレポー光度計により、同様の較正法に従
つて実施する。測定試料は、厚さが2mmであり、
それぞれ標準化した支持具(Vitrolite Y輝度=
77.85)上に配置した加硫物である。測定を、加
硫物を型から離脱し、冷却した後すぐに実施し
た。 上記性質を有する加熱加硫したエラストマー
(加硫物)得ることができるシロキサン組成物は、 a 25℃で1000000mPa・sより高い粘度を有す
るジオルガノポリシロキサン樹脂100重量部、 b 有機過酸化物0.1〜7重量部、及び c 本発明に従う沈降シリカ5〜150重量部を含
む。 a)で言及した25℃で1000000mPa・sより高
い粘度を有するこのジオルガノポリシロキサン樹
脂は、式R2SiO単位の結合した列からできてお
り、その鎖の各々の末端が式R3SiO0.5単位及び/
または式OR′のラジカルによつてブロツクされて
おり;これらの式中、Rは同一または異なり、メ
チル、エチル、n−プロピル、フエニル、ビニル
及び3,3,3−トリフルオロプロピルラジカル
であり、これらのラジカルの少なくとも60%がメ
チルであり且つ3%以下がビニルであり、そして
記号R′は水素原子、炭素原子1〜4個を含むア
ルキルラジカル、またはβ−メトキシエチルラジ
カルを示す。 更にこれらの組成物は、25℃で5000mPa・s
を超えない粘度を有し且つ式R″2SiOの単位の結
合した列でできており、その鎖の各々の末端が式
OR′のラジカルによつてブロツクされているジオ
ルガノポリシロキサンを0.5〜15部含むことが好
ましく;これらの式中記号R″は同一または異な
り、メチル、フエニル、またはビニルラジカルで
あり、これらのラジカルの少なくとも40%がメチ
ルであり、そして記号R′が上記a)で与えた意
味である。 これらの組成物の種々の構成成分を以下に一層
詳細に説明する。 25℃で1000000mpa・sより高い粘度、好まし
くは25℃で2000000mpa・sより高い粘度を有す
るジオルガノポリシロキサン樹脂a)は、ジオル
ガノポリシロキサン鎖が上記式R2SiO単位で本質
的にできている高分子量の線状ポリマーであり;
この鎖は各々の末端が式R3SiO0.5単位及び/また
は式OR′のラジカルによつてブロツクされてい
る。しかしながら、ジオルガノポリシロキサン鎖
に沿つて式R2SiO以外の単位、例えば、式RSiO1.
5及び/またはSiO2単位の少量が存在することは、
R2SiOの単位の数に関して2%を超えない割合と
いう規定を外れるものではない。ラジカルR及び
R′の意味は上記で明らかにされているけれども、
アルキルラジカルとはC1−C4アルキルラジカル
を意味しそして一層特に、メチル、エチル、n−
プロピル及びn−ブチルラジカルを意味するもの
と理解されよう。 式R2SiO及びR3SiO0.5単位及び式OR′ラジカル
の具体例として、下記式のものを挙げ得る: (CH3)2SiO,CH3(CH2=CH)SiO,CH3
(C6H5)SiO, (C6H5)2SiO, CH3(C2H5)SiO,(CH3CH2CH2)CH3SiO, CH3(n−C3H7)SiO, (CH3)(C6H5)(CH2=CH)SiO0.5, −OH,−OCH3,−OC2H5,−O−n−C3H7,−O
−iso−C3H7, −O−n−C4H9, −OCH2CH2OCH3。 これらの樹脂a)は、本発明に従う樹脂組成物
の100部に該当するのに混合させて用い得、一般
に、3%より少ないビニル基を含みそして殆どの
場合これらのビニル基はシリコン原子に結合した
ラジカルの数の0.005〜1.5%に該当する。 樹脂a)はケイ素の製造者によつて販売されて
おり、更に樹脂a)は既に知られている方法を用
いて製造することができる。 d)において挙げたジオルガノポリシロキサン
オイルは、樹脂a)100部当たり0〜15部、好ま
しくは0.3〜12部の割合で用いる。このオイルま
たはこれらのオイルは比較的低粘度、25℃で
5000mPa・sを超えない、好ましくは、25℃で
4000mPa・sを超えない粘度の線状高分子であ
り;ジオルガノポリシロキサンの鎖は本質的には
上記式R″2SiOの単位からできており;この鎖は
各々の末端が上記式OR′のラジカルによつてブロ
ツクされている。ラジカルR″の少なくとも40%、
好ましくは45%がメチルラジカルである。 記号R″及びR′の意味は上記で明らかにした。 式R″2SiO及び式OR′のラジカル単位の具体例
として、下記式のものを挙げ得る: (CH3)2SiO,CH3(CH2=CH)SiO,CH3
(C6H5)SiO, (C6H5)2SiO, C6H5(CH2=CH)SiO, −OH,−OCH3,−OC2H5,−O−n−C3H7,−
OCH2CH2OCH3。 好ましくは以下のものを用いる。 25℃で10〜200mPa・sの粘度を有するジメチ
ルポリシロキサンオイルであつて、それらの鎖
の各々の末端がヒドロキシル、メトキシまたは
β−メトキシエトキシラジカルによつてブロツ
クされたもの; 25℃で40〜2000mPa・sの粘度を有するCH3
(C6H5)SiO単位からなるメチルフエニルポリ
シロキサンオイルであつて、それらの鎖の各々
の末端がヒドロキシル及び/またはメトキシラ
ジカルによつてブロツクされているもの。 これらのオイルd)を用いることは本発明の組
成物が保存中に変化、一層正確には組織化及び硬
化を蒙ることを妨げることを意図し;従つてそれ
らは抗組織化剤である。補強シリカc)の量が多
いとき、例えば、樹脂a)100部当たり30〜40部
より多いときに、それらの使用をとりわけ推奨す
る。 他の抗組織化剤を全部または部分的にオイル
d)、例えば下記式のジフエニルシランジオール
及びシランに代えることができる: しかしながら、それらは、オイルd)を用いる
よりも、しばしば一層費用がかかり及び/または
発明の組成物中に分散するために一層労力を要す
る。 有機過酸化物b)を、樹脂a)100部当たり0.1
〜7部、好ましくは0.2〜5部の割合で用いる。
それらは当業者にはよく知られており、一層特に
過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイル
ペルオキシド、ジクミルペルオキシド、2,5−
ビス−(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、t−
ブチルペルベンゾエート、t−ブチルペルオキシ
イソプロピルカーボネート、ジ−t−ブチルペル
オキシド、1,1−ビス(t−ブチルペルオシ)
−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン及び
2,5−ジ−メチル−2,5−ジ(t−ブチルペ
ルオキシ)ヘキサンを含む。 これらの種々の過酸化物は、時には、異なる温
度及び速度で分解する。それらを必要な硬化条件
の関数として選択する。 灰色でない加硫物を得ることができるこれらの
組成物は、ケイ素原子に結合したアクリロイルオ
キシアルキレンまたはメタクリロイルオキシアル
キレン基の少なくとも一種を含有する有機ケイ素
化合物の0.02〜4部(樹脂a)100部当たり)、好
ましくは、0.03〜3部を含み、上記化合物は下記
式を有する: (式中、記号R″はメチル、フエニルまたはビ
ニルラジカルを表わし、記号R3は水素原子また
はメチルラジカルを表わし、記号R4はメチル、
エチル、n−プロピルまたはβ−メトキシエチル
ラジカルを表わし、記号wは1〜5の数を表わし
そして記号uは0〜2の数を表わす。 このタイプの生成物は、例えば米国特許第
3567497号に記載されている。具体例として、下
記式を有する生成物を挙げ得る: CH2=CH−COOCH2Si(OCH3)3 CH2=CH−COOCH2Si
(OCH2CH2OCH3)2C6H5 CH2=CH−COO(CH2)3Si(OC2H5)3 CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3 CH2=C(CH3)COO(CH2)3SiCH3(OCH3)2 CH2=C(CH3)COO(CH2)5Si(OCH3)3 これらの組成物の製造は知られた機械的手段、
例えば、ニーダー、ロールミル及びスクリユーミ
ツキサーの助けより実施することができる。種々
の構成成分を任意の順序でこれらの装置に加え得
る。しかしながら、先ず最初に樹脂a)及び本発
明に従う沈降シリカc)を充填しそしてそれから
最後に過酸化物b)を充填することを推奨する。 [例] 平均粒度1.5ミクロン及びBET表面積175m2/
gを有する、フランス特許第2471947号の実施例
1に従いローヌプーラン社により製造された商品
RP175MSの沈降シリカを、それぞれ、 D4により400℃にて2時間、 D4により250℃にて2時間、 D3+D4により250℃にて4時間、処理した。 これらの処理の各々において用いた沈降シリカ
の量は30gであつた。用いた装置は、上記で言及
したガラス製のものであつた。スターラーを
90rpmで回転した。窒素流15/時間で、一方、
D4またはD3+D4の流量を20g/時間にした。D3
+D4で処理する場合、この混合物にD333重量部
及びD467重量部を含ませた。 エラストマー(加硫物)を、異なる処理にかけ
たこれらのシリカの各々より製造した。これらの
加硫物を、 ジオルガノポリシロキサン樹脂であつて、25℃
で5×106mPa・s(ミリパスカル・秒)の粘度を
有し、その鎖の各々の末端がトリメチルシロキシ
単位でブロツクされており、その鎖中に0.2モル
%のメチルビニルシロキシ基を含むもの100部、 上記の3つの処理の一つにかけたPR175MSシ
リカ40部、 ポリジメチルシロキサンオイルであつて、25℃
で40mPa・sの粘度を有し、その鎖の各々の末
端が末端シリコン原子に結合したヒドロキシルラ
ジカルによつてブロツクされているもの1.4部、
及び 2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペ
ルオキシ)ヘキサン0.5部 を、3ロールミルで、周囲温度にて混合して製造
した。 その後、得られた混合物を170℃、150バールで
10分間加硫して、厚さ2mmのサンプルを得た。 以下の表は、D4(400℃及び250℃にて)、また
はD3+D4(250℃にて)により処理した後に得た
RP175MSシリカの性質をシリカにより得た加硫
物の性質といつしよに示す。
施する操作は、例えば、以下の通りである。内部
直径が例えば66mmのガラスまたはステンレス鋼の
円柱状容器を用い、この器具はその下部にガラス
焼結体(No.2)を含み、その下に少なくとも2つ
の管を含み、その一つは窒素を送るための管であ
り他の一つD3+D4混合物を送るための管である。
処理すべき沈降シリカをガラス焼結体上に置く。
この器具(その長軸が縦方向に配置されている)
はシリカ撹拌用の金属スターラーを含む。その頂
部において、この器具は窒素及びD3+D4の混合
物(シリカに固定してないもの)をガラスサイク
ロンに送る管を含み、ガラスサイクロン中をガス
は接線方向に入つて行き、それ故、円運動により
移動してガス流とともに伴出し得るシリカの小部
分をサイクロンの下部に沈積させる。サイクロン
の上部(及びその中間部に)において、ガス(窒
素+D3+D4)を、20℃の水が循環して通るコン
デンサーに、送る管がある。凝縮した生成物留分
をコンデンサーの出口で捕集する。この器具の温
度を、電気式オーブンにより230〜280℃、好まし
くは240℃〜260℃に維持する。 沈降シリカの、例えば30gを、円柱状器具に充
填し、5〜20/時間の窒素流流を、及びD3+
D4の混合物を5〜40g/時間の速度で循環する。
D3+D4の混合物は、ガラス焼結体の下の管開口
部を離れると即座に(器具を加熱するので)蒸発
する。D3+D4の混合物は、D3+D4混合物100重
量部当たり5〜35重量部のD3を含む(D3の5〜
35重量%)。このガス混合物を、沈降シリカに接
触させつつ、30分〜10時間、好ましくは1時間〜
5時間循環させる。工業的スケールにおいて、沈
降シリカのこの処理を、例えば流動床中で、また
は充填材の処理用に既に用いられている慣用の装
置を用いてパルスガス流の下で実施することがで
きる。特に、ローヌプーラン社のフランス特許
1234245号及び第1520663号に記載された装置を挙
げ得る。 本発明に従う沈降シリカにより得られる加熱し
て加硫したシリコーンエラストマーは、純粋な色
を有し、すなわちそれらの組成物に顔料が添加さ
れたときは灰色でなく、或は組成物に顔料を含め
ないときは半透明または透明(灰色でない)であ
る。加熱して加硫したこれらのエラストマー(加
硫物としてまた知られている)の改善された機械
的特性は、平均粒度1〜7ミクロンを有する発明
に従う沈降シリカにより得られることがわかつ
た。 本発明に従う沈降シリカにより得られる加熱し
て加硫したエラストマー(加硫物)は少なくとも
47のY輝度を有する。これらのY輝度の測定を上
記のエルレポー光度計により、同様の較正法に従
つて実施する。測定試料は、厚さが2mmであり、
それぞれ標準化した支持具(Vitrolite Y輝度=
77.85)上に配置した加硫物である。測定を、加
硫物を型から離脱し、冷却した後すぐに実施し
た。 上記性質を有する加熱加硫したエラストマー
(加硫物)得ることができるシロキサン組成物は、 a 25℃で1000000mPa・sより高い粘度を有す
るジオルガノポリシロキサン樹脂100重量部、 b 有機過酸化物0.1〜7重量部、及び c 本発明に従う沈降シリカ5〜150重量部を含
む。 a)で言及した25℃で1000000mPa・sより高
い粘度を有するこのジオルガノポリシロキサン樹
脂は、式R2SiO単位の結合した列からできてお
り、その鎖の各々の末端が式R3SiO0.5単位及び/
または式OR′のラジカルによつてブロツクされて
おり;これらの式中、Rは同一または異なり、メ
チル、エチル、n−プロピル、フエニル、ビニル
及び3,3,3−トリフルオロプロピルラジカル
であり、これらのラジカルの少なくとも60%がメ
チルであり且つ3%以下がビニルであり、そして
記号R′は水素原子、炭素原子1〜4個を含むア
ルキルラジカル、またはβ−メトキシエチルラジ
カルを示す。 更にこれらの組成物は、25℃で5000mPa・s
を超えない粘度を有し且つ式R″2SiOの単位の結
合した列でできており、その鎖の各々の末端が式
OR′のラジカルによつてブロツクされているジオ
ルガノポリシロキサンを0.5〜15部含むことが好
ましく;これらの式中記号R″は同一または異な
り、メチル、フエニル、またはビニルラジカルで
あり、これらのラジカルの少なくとも40%がメチ
ルであり、そして記号R′が上記a)で与えた意
味である。 これらの組成物の種々の構成成分を以下に一層
詳細に説明する。 25℃で1000000mpa・sより高い粘度、好まし
くは25℃で2000000mpa・sより高い粘度を有す
るジオルガノポリシロキサン樹脂a)は、ジオル
ガノポリシロキサン鎖が上記式R2SiO単位で本質
的にできている高分子量の線状ポリマーであり;
この鎖は各々の末端が式R3SiO0.5単位及び/また
は式OR′のラジカルによつてブロツクされてい
る。しかしながら、ジオルガノポリシロキサン鎖
に沿つて式R2SiO以外の単位、例えば、式RSiO1.
5及び/またはSiO2単位の少量が存在することは、
R2SiOの単位の数に関して2%を超えない割合と
いう規定を外れるものではない。ラジカルR及び
R′の意味は上記で明らかにされているけれども、
アルキルラジカルとはC1−C4アルキルラジカル
を意味しそして一層特に、メチル、エチル、n−
プロピル及びn−ブチルラジカルを意味するもの
と理解されよう。 式R2SiO及びR3SiO0.5単位及び式OR′ラジカル
の具体例として、下記式のものを挙げ得る: (CH3)2SiO,CH3(CH2=CH)SiO,CH3
(C6H5)SiO, (C6H5)2SiO, CH3(C2H5)SiO,(CH3CH2CH2)CH3SiO, CH3(n−C3H7)SiO, (CH3)(C6H5)(CH2=CH)SiO0.5, −OH,−OCH3,−OC2H5,−O−n−C3H7,−O
−iso−C3H7, −O−n−C4H9, −OCH2CH2OCH3。 これらの樹脂a)は、本発明に従う樹脂組成物
の100部に該当するのに混合させて用い得、一般
に、3%より少ないビニル基を含みそして殆どの
場合これらのビニル基はシリコン原子に結合した
ラジカルの数の0.005〜1.5%に該当する。 樹脂a)はケイ素の製造者によつて販売されて
おり、更に樹脂a)は既に知られている方法を用
いて製造することができる。 d)において挙げたジオルガノポリシロキサン
オイルは、樹脂a)100部当たり0〜15部、好ま
しくは0.3〜12部の割合で用いる。このオイルま
たはこれらのオイルは比較的低粘度、25℃で
5000mPa・sを超えない、好ましくは、25℃で
4000mPa・sを超えない粘度の線状高分子であ
り;ジオルガノポリシロキサンの鎖は本質的には
上記式R″2SiOの単位からできており;この鎖は
各々の末端が上記式OR′のラジカルによつてブロ
ツクされている。ラジカルR″の少なくとも40%、
好ましくは45%がメチルラジカルである。 記号R″及びR′の意味は上記で明らかにした。 式R″2SiO及び式OR′のラジカル単位の具体例
として、下記式のものを挙げ得る: (CH3)2SiO,CH3(CH2=CH)SiO,CH3
(C6H5)SiO, (C6H5)2SiO, C6H5(CH2=CH)SiO, −OH,−OCH3,−OC2H5,−O−n−C3H7,−
OCH2CH2OCH3。 好ましくは以下のものを用いる。 25℃で10〜200mPa・sの粘度を有するジメチ
ルポリシロキサンオイルであつて、それらの鎖
の各々の末端がヒドロキシル、メトキシまたは
β−メトキシエトキシラジカルによつてブロツ
クされたもの; 25℃で40〜2000mPa・sの粘度を有するCH3
(C6H5)SiO単位からなるメチルフエニルポリ
シロキサンオイルであつて、それらの鎖の各々
の末端がヒドロキシル及び/またはメトキシラ
ジカルによつてブロツクされているもの。 これらのオイルd)を用いることは本発明の組
成物が保存中に変化、一層正確には組織化及び硬
化を蒙ることを妨げることを意図し;従つてそれ
らは抗組織化剤である。補強シリカc)の量が多
いとき、例えば、樹脂a)100部当たり30〜40部
より多いときに、それらの使用をとりわけ推奨す
る。 他の抗組織化剤を全部または部分的にオイル
d)、例えば下記式のジフエニルシランジオール
及びシランに代えることができる: しかしながら、それらは、オイルd)を用いる
よりも、しばしば一層費用がかかり及び/または
発明の組成物中に分散するために一層労力を要す
る。 有機過酸化物b)を、樹脂a)100部当たり0.1
〜7部、好ましくは0.2〜5部の割合で用いる。
それらは当業者にはよく知られており、一層特に
過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイル
ペルオキシド、ジクミルペルオキシド、2,5−
ビス−(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、t−
ブチルペルベンゾエート、t−ブチルペルオキシ
イソプロピルカーボネート、ジ−t−ブチルペル
オキシド、1,1−ビス(t−ブチルペルオシ)
−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン及び
2,5−ジ−メチル−2,5−ジ(t−ブチルペ
ルオキシ)ヘキサンを含む。 これらの種々の過酸化物は、時には、異なる温
度及び速度で分解する。それらを必要な硬化条件
の関数として選択する。 灰色でない加硫物を得ることができるこれらの
組成物は、ケイ素原子に結合したアクリロイルオ
キシアルキレンまたはメタクリロイルオキシアル
キレン基の少なくとも一種を含有する有機ケイ素
化合物の0.02〜4部(樹脂a)100部当たり)、好
ましくは、0.03〜3部を含み、上記化合物は下記
式を有する: (式中、記号R″はメチル、フエニルまたはビ
ニルラジカルを表わし、記号R3は水素原子また
はメチルラジカルを表わし、記号R4はメチル、
エチル、n−プロピルまたはβ−メトキシエチル
ラジカルを表わし、記号wは1〜5の数を表わし
そして記号uは0〜2の数を表わす。 このタイプの生成物は、例えば米国特許第
3567497号に記載されている。具体例として、下
記式を有する生成物を挙げ得る: CH2=CH−COOCH2Si(OCH3)3 CH2=CH−COOCH2Si
(OCH2CH2OCH3)2C6H5 CH2=CH−COO(CH2)3Si(OC2H5)3 CH2=C(CH3)COO(CH2)3Si(OCH3)3 CH2=C(CH3)COO(CH2)3SiCH3(OCH3)2 CH2=C(CH3)COO(CH2)5Si(OCH3)3 これらの組成物の製造は知られた機械的手段、
例えば、ニーダー、ロールミル及びスクリユーミ
ツキサーの助けより実施することができる。種々
の構成成分を任意の順序でこれらの装置に加え得
る。しかしながら、先ず最初に樹脂a)及び本発
明に従う沈降シリカc)を充填しそしてそれから
最後に過酸化物b)を充填することを推奨する。 [例] 平均粒度1.5ミクロン及びBET表面積175m2/
gを有する、フランス特許第2471947号の実施例
1に従いローヌプーラン社により製造された商品
RP175MSの沈降シリカを、それぞれ、 D4により400℃にて2時間、 D4により250℃にて2時間、 D3+D4により250℃にて4時間、処理した。 これらの処理の各々において用いた沈降シリカ
の量は30gであつた。用いた装置は、上記で言及
したガラス製のものであつた。スターラーを
90rpmで回転した。窒素流15/時間で、一方、
D4またはD3+D4の流量を20g/時間にした。D3
+D4で処理する場合、この混合物にD333重量部
及びD467重量部を含ませた。 エラストマー(加硫物)を、異なる処理にかけ
たこれらのシリカの各々より製造した。これらの
加硫物を、 ジオルガノポリシロキサン樹脂であつて、25℃
で5×106mPa・s(ミリパスカル・秒)の粘度を
有し、その鎖の各々の末端がトリメチルシロキシ
単位でブロツクされており、その鎖中に0.2モル
%のメチルビニルシロキシ基を含むもの100部、 上記の3つの処理の一つにかけたPR175MSシ
リカ40部、 ポリジメチルシロキサンオイルであつて、25℃
で40mPa・sの粘度を有し、その鎖の各々の末
端が末端シリコン原子に結合したヒドロキシルラ
ジカルによつてブロツクされているもの1.4部、
及び 2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペ
ルオキシ)ヘキサン0.5部 を、3ロールミルで、周囲温度にて混合して製造
した。 その後、得られた混合物を170℃、150バールで
10分間加硫して、厚さ2mmのサンプルを得た。 以下の表は、D4(400℃及び250℃にて)、また
はD3+D4(250℃にて)により処理した後に得た
RP175MSシリカの性質をシリカにより得た加硫
物の性質といつしよに示す。
【表】
【表】
この表は、250℃(すなわち特許請求の範囲に
記載の温度範囲内である)にてD3+D4処理にか
けた沈降シリカRP175MSが84より大きなY輝度
及び20より大きいメタノール値を有し、一方D4
で400℃にて処理した同じシリカは実質上同等の
メタノール値を、しかしかなり一層小さい輝度を
有し、そしてD4で250℃で処理したシリカがわず
かに低いY輝度及びかなり一層低いメタノール値
を有することを示している。 この表は、また、250℃にてD3+D4で処理した
シリカより得た加硫物が最大のY輝度及びD4に
より400℃にて処理したシリカで得られた加硫物
の性質に相当する最良の機械的性質を有すること
を示している。 同様の結果は、デグサにより販売されている、
平均粒度6ミクロンを有する沈降シリカ商品
FK160により得られるということを知るべきであ
る。 更に、もし沈降シリカFK160またはRP175MS
を280℃を超える温度でD3+D4により処理するな
らば、この種のシリカのY輝度は84を下回り、得
られる加硫物は47未満のY輝度を有する。一方、
もし、これらのシリカD3+D4により230℃を下回
る温度で処理したならば、加硫物の機械的性質は
一層悪く、このシリカのメタノール値は20より小
さい。
記載の温度範囲内である)にてD3+D4処理にか
けた沈降シリカRP175MSが84より大きなY輝度
及び20より大きいメタノール値を有し、一方D4
で400℃にて処理した同じシリカは実質上同等の
メタノール値を、しかしかなり一層小さい輝度を
有し、そしてD4で250℃で処理したシリカがわず
かに低いY輝度及びかなり一層低いメタノール値
を有することを示している。 この表は、また、250℃にてD3+D4で処理した
シリカより得た加硫物が最大のY輝度及びD4に
より400℃にて処理したシリカで得られた加硫物
の性質に相当する最良の機械的性質を有すること
を示している。 同様の結果は、デグサにより販売されている、
平均粒度6ミクロンを有する沈降シリカ商品
FK160により得られるということを知るべきであ
る。 更に、もし沈降シリカFK160またはRP175MS
を280℃を超える温度でD3+D4により処理するな
らば、この種のシリカのY輝度は84を下回り、得
られる加硫物は47未満のY輝度を有する。一方、
もし、これらのシリカD3+D4により230℃を下回
る温度で処理したならば、加硫物の機械的性質は
一層悪く、このシリカのメタノール値は20より小
さい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 20より大きいメタノール値、84より大きいY
輝度、50m2/gより大きいBET比表面積、0.1〜
20ミクロンの平均粒度を有し、且つヘキサメチル
シクロトリシロキサン(D3)及びオクタメチル
シクロテトラシロキサン(D4)の混合物により、
スズ化合物の不存在下で、処理されていることを
特徴とする沈降シリカ。 2 230〜280℃の温度にてD3+D4混合物により
処理され、BET比表面積が50〜350m2/gであ
り、平均粒度が0.5〜10ミクロンである請求項1
に記載の沈降シリカ。 3 D3+D4混合物100重量部当たり5〜35重量部
のD3を含むD3+D4混合物により処理されている
請求項1または2に記載の沈降シリカ。 4 D3+D4の混合物により30分〜10時間処理さ
れている前記請求項のうちいずれか1項に記載の
沈降シリカ。 5 窒素の存在下で、D3+D4混合物により処理
されている前記請求項のうちいずれか1項に記載
の沈降シリカ。 6 沈降シリカの30gが、D3を5〜35重量%含
むD3+D4混合物5〜40g/時間及び窒素5〜20
/時間を、同時に用いて30分〜10時間処理され
ている請求項5に記載の沈降シリカ。 7 シリカのnm2当たり結合している基Dの数が
1.5〜5である前記請求項のうちいずれか一項に
記載の沈降シリカ。 8 請求項1〜7のいずれか一項に記載のシリカ
を、加熱して加硫することが可能なオルガノポリ
シロキサンエラストマーを補強するために用いる
方法。 9 加熱して加硫することが可能なオルガノポリ
シロキサン組成物であつて、 a 25℃で1000000mPa・sより高い粘度を有す
るジオルガノポリシロキサン樹脂100重量部、 b 有機過酸化物0.1〜7重量部、 c 請求項1〜7のいずれか1項に記載の沈降シ
リカ5〜150重量部、及び d ジオルガノポリシロキサンオイルであつて25
℃で5000mPa・sを超えない粘度を有し、式
R″2SiO単位の結合した列からできており、鎖
の各々の末端が式OR′のラジカルでブロツクさ
れているもの0〜15重量部 (これらの式中、記号R″は同一または異な
り、メチル、フエニル及びビニルラジカルを示
しこれらのラジカルの少なくとも40%がメチル
であり、そして記号R′は水素原子、炭素原子
1〜4個を有するアルキルラジカルまたはβ−
メトキシエチルラジカルである) を含む上記組成物。 10 少なくとも47のY輝度を有する請求項9に
記載の組成物により得られる加硫物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8805952A FR2630722B1 (fr) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | Silice de precipitation hydrophobe a proprietes ameliorees |
| FR88/05952 | 1988-04-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0214809A JPH0214809A (ja) | 1990-01-18 |
| JPH054324B2 true JPH054324B2 (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=9365957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10613589A Granted JPH0214809A (ja) | 1988-04-28 | 1989-04-27 | 改善された特性を有する疎水性沈降シリカ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0340129A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0214809A (ja) |
| BR (1) | BR8902457A (ja) |
| FR (1) | FR2630722B1 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6191122B1 (en) | 1996-03-29 | 2001-02-20 | DEGUSSA HüLS AKTIENGESELLSCHAFT | Partially hydrophobic precipitated silicas |
| JP3478521B2 (ja) * | 1997-02-17 | 2003-12-15 | 株式会社トクヤマ | 歯科用軟質裏装材 |
| US6316050B1 (en) | 1997-12-22 | 2001-11-13 | Degussa | Method of producing hydrophobic pyrogenically produced oxides |
| DE19757210A1 (de) * | 1997-12-22 | 1999-07-01 | Degussa | Hydrophobierte, pyrogen hergestellte Oxide |
| DE10138491A1 (de) | 2001-08-04 | 2003-02-13 | Degussa | Verfahren zur Herstellung einer hydrophoben Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad und extrem niedriger Feuchtigkeitsaufnahme |
| DE10138492A1 (de) | 2001-08-04 | 2003-02-13 | Degussa | Hydrophobe, nicht getemperte Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad |
| DE10138490A1 (de) | 2001-08-04 | 2003-02-13 | Degussa | Hydrophobe Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad und extrem niedriger Feuchtigkeitsaufnahme |
| EP1559744A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-03 | Rhodia Chimie | Use of a pretreated precipitated silica as a reinforcing filler for silicone elastomer and curable compositions thus obtained |
| JP5357020B2 (ja) | 2006-06-26 | 2013-12-04 | ダウ・コーニング・コーポレイション | シリコーンゴムエラストマーの製造 |
| US9947770B2 (en) | 2007-04-03 | 2018-04-17 | Vishay-Siliconix | Self-aligned trench MOSFET and method of manufacture |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3948676A (en) * | 1970-11-24 | 1976-04-06 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Process for preparing hydrophobic particles |
| DE2754484C2 (de) * | 1977-12-07 | 1983-07-21 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zum Herstellen von hydrophobem Siliciumdioxyd |
-
1988
- 1988-04-28 FR FR8805952A patent/FR2630722B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-04-27 EP EP89420153A patent/EP0340129A1/fr not_active Withdrawn
- 1989-04-27 JP JP10613589A patent/JPH0214809A/ja active Granted
- 1989-04-28 BR BR898902457A patent/BR8902457A/pt not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2630722A1 (fr) | 1989-11-03 |
| BR8902457A (pt) | 1990-01-16 |
| EP0340129A1 (fr) | 1989-11-02 |
| JPH0214809A (ja) | 1990-01-18 |
| FR2630722B1 (fr) | 1990-09-07 |
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