JPH021482A - ヘテロ環化合物およびこれを含有する液晶材料を用いた液晶素子 - Google Patents
ヘテロ環化合物およびこれを含有する液晶材料を用いた液晶素子Info
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- JPH021482A JPH021482A JP1044154A JP4415489A JPH021482A JP H021482 A JPH021482 A JP H021482A JP 1044154 A JP1044154 A JP 1044154A JP 4415489 A JP4415489 A JP 4415489A JP H021482 A JPH021482 A JP H021482A
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- liquid crystal
- nujol
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的コ
（産業上の利用分野）
本発明は、新規なヘテロ環化合物、およびこれを含有す
る液晶材料を用いた液晶素子に関する。
る液晶材料を用いた液晶素子に関する。
（従来の技術）
液晶素子は、腕時計、電卓をはじめとしてパーソナルコ
ンピュータ用デイスプレィ、ポケットカラーテレビなど
幅広く電気光学装置に利用されている。しかし現在使用
されているネマチック液晶は電気光学応答時間が約５０
ｍ５ｅｃと遅いため、高速応答が要求される分野での利
用には制限があり、また表示容量の点でも限界に達しつ
つある。
ンピュータ用デイスプレィ、ポケットカラーテレビなど
幅広く電気光学装置に利用されている。しかし現在使用
されているネマチック液晶は電気光学応答時間が約５０
ｍ５ｅｃと遅いため、高速応答が要求される分野での利
用には制限があり、また表示容量の点でも限界に達しつ
つある。
一方、強誘電性液晶はμＳｅＣ単位の高速応答性を示す
ため、その実用化により液晶素子の用途の飛躍的拡大を
もたらすことが期待されている。
ため、その実用化により液晶素子の用途の飛躍的拡大を
もたらすことが期待されている。
強誘電性液晶材料、は１９７５年、Ｒ，Ｂ、メイヤー等
によって合成されたいわゆるＤＯＢＡＭＢＣから端を発
しくＪ、ｄｅ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ、３８．１〜８９（１
９７５））現在に至っている。強誘電性液晶はカイラル
スメクチックＣ相（以下Ｓｃ本相と略記）を有すること
を特徴とするが上記ＤＯＢＡＭＢＣではＳｃネ相の温度
範囲が７３〜９３℃と高温にあり、単独での実用的使用
は困難である。また分子内にシッフ塩基と炭素−炭素２
重結合を有する点から化学的安定性にも問題をもってい
る。
によって合成されたいわゆるＤＯＢＡＭＢＣから端を発
しくＪ、ｄｅ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ、３８．１〜８９（１
９７５））現在に至っている。強誘電性液晶はカイラル
スメクチックＣ相（以下Ｓｃ本相と略記）を有すること
を特徴とするが上記ＤＯＢＡＭＢＣではＳｃネ相の温度
範囲が７３〜９３℃と高温にあり、単独での実用的使用
は困難である。また分子内にシッフ塩基と炭素−炭素２
重結合を有する点から化学的安定性にも問題をもってい
る。
実用上の観点から強誘電性液晶には室温を含む広い温度
範囲でのＳｅ４相の出現と、化学的安定性が一義的に求
められる。最近この点に注意を払われた様々な強誘電性
液晶、すなわちエステル系、ビフェニル系、ピリミジン
系の合成が精力的に進められてきている。
範囲でのＳｅ４相の出現と、化学的安定性が一義的に求
められる。最近この点に注意を払われた様々な強誘電性
液晶、すなわちエステル系、ビフェニル系、ピリミジン
系の合成が精力的に進められてきている。
しかし、上記の系の材料は化学的安定性は満足するもの
の単一組成の強誘電性液晶で実用に供せられるような広
い温度範囲を有するものを得ることは困難である。その
ため既に実用化されているネマチック液晶の場合と同様
に強誘電性液晶においても、数種類の材料をブレンドす
ることによって、Ｓｅ４相の温度範囲を拡大する方法が
現在用いられている。またブレンドはＳｅ４相の温度範
囲の拡大以外にも各種の諸物性、例えば電気光学的な応
答性や配向性に影響を及ぼすピッチ等の改善に重要な手
法である。
の単一組成の強誘電性液晶で実用に供せられるような広
い温度範囲を有するものを得ることは困難である。その
ため既に実用化されているネマチック液晶の場合と同様
に強誘電性液晶においても、数種類の材料をブレンドす
ることによって、Ｓｅ４相の温度範囲を拡大する方法が
現在用いられている。またブレンドはＳｅ４相の温度範
囲の拡大以外にも各種の諸物性、例えば電気光学的な応
答性や配向性に影響を及ぼすピッチ等の改善に重要な手
法である。
しかし現在ブレンドに用いる際に必要な強誘電性液晶の
種類はネマチック液晶に比べると非常に少なく不充分な
状態にあるといえる。
種類はネマチック液晶に比べると非常に少なく不充分な
状態にあるといえる。
特に、−室温近傍で広い温度範囲のＳｃ本相を呈する系
はフェニルピリミジン系やエステル系などの極くわずか
なものしかなく、ブレンドを行なう際の選択の自由度は
限定されている。
はフェニルピリミジン系やエステル系などの極くわずか
なものしかなく、ブレンドを行なう際の選択の自由度は
限定されている。
（発明が解決しようとする課題）
以上述べた様にブレンド材として用いられる強誘電性液
晶の種類は非常に少ない事から、液晶素子として必要な
諸物性値、例えば、液晶相の相転移系列、Ｓｅ４相の温
度範囲、チルト角、Δｎ１Ｓｃ＊相のピッチ、応答時間
等を全て満足する液晶組成物を得ることは非常に困難で
ある。
晶の種類は非常に少ない事から、液晶素子として必要な
諸物性値、例えば、液晶相の相転移系列、Ｓｅ４相の温
度範囲、チルト角、Δｎ１Ｓｃ＊相のピッチ、応答時間
等を全て満足する液晶組成物を得ることは非常に困難で
ある。
本発明は骨格構造として従来にない全く新規なペテロ環
を用いることによって、上記諸物性値を改善するために
有用な液晶組成物の成分となるヘテロ環化合物およびこ
れを含有する液晶組成物を用いた液晶素子を提供するこ
とを目的とする。
を用いることによって、上記諸物性値を改善するために
有用な液晶組成物の成分となるヘテロ環化合物およびこ
れを含有する液晶組成物を用いた液晶素子を提供するこ
とを目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
本発明は
一般式
（式中、Ｒ］はアルキルまたはアルコキシ、ン、ｎｌ、
ｎ−２およびｎ４は０または１、ｎ３は０〜６の整数で
あり、ｎｌと０２は同時に０ではないものとし、Ｃ＊は
不斉炭素原子を示す）で示されるヘテロ環化合物および
このヘテロ環化合物を含有する液晶材料を用いた液晶素
子に関づる。
ｎ−２およびｎ４は０または１、ｎ３は０〜６の整数で
あり、ｎｌと０２は同時に０ではないものとし、Ｃ＊は
不斉炭素原子を示す）で示されるヘテロ環化合物および
このヘテロ環化合物を含有する液晶材料を用いた液晶素
子に関づる。
−服代
ＣＩ）
で示される本発明のへテロ環化合
物は、
下記の合成経路によって製造することかできる。
またはその塩
十
合成経路３
（ＩＩ２−１）
ＣＵ３−１）
またはその反応性
Ｉ
またはその反応性誘導体
＋
■
合成経路４
Ｒ１（）ＣＯＮＨＮＨ２
またはその塩
（Ｉｆ４−１）
＋
（Ｕ５−２）
またはその塩
またはその反応性誘導体
（Ｕ４−２）
（Ｕ５）
この発明の目的化合物を合成するための原料化合物は新
規化合物を含む。これらの原料化合物は下記の合成経路
によって製造することができる。
規化合物を含む。これらの原料化合物は下記の合成経路
によって製造することができる。
■
原料合成経路Ａ
原料合成経路Ｄ
（ＩＩＤ−１）
（ＩＩ、−２）
（ＩＩ５−２）
またはその塩
Ｈｏ％ｃｏｏｃｕ ３＋ Ｒ１′Ｙ。
Ｒ” Ｏ−ＱケＣ００ＣＨ３
Ｒ” Ｏ０ＣＯＮＨＮＨ２
（ｎ４−１’ ）
またはその塩
原料合成経路Ｅ
（Ｉ［２
原料合成経路Ｆ
ＨＯ−＠）−Ｃ００ＣＨ３
（ＩＩ、−１）
−１′
Ｒ，−４防Ｃ００ＣＨ３
（ＩＩ、−２）
Ｒ，（）ＣＯＮＨＮＨ９
（ＩＩＦ−３）
またはその塩
原料合成経路Ｇ
（Ｉｆｏ−２）
（ＩＩＰ−５）
［
（ＩＩＨ−１）
（ＩＩ２−１’ ）
上記、合成経路を示す式中、Ｒ’ Ｑ、Ａ、Ｘ、ｎｌ
、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４はそれぞれ前と同じ意味であ
り、 ＹＹＹＹＹＹ およびＹｃ １ゝ ２ゝ Ａ’ Ｃ’ Ｄ’ Ｅは酸残基、 Ｙ ′はハロゲン、 １′ Ｒはアルキルであり、 ＲおよびＲＨは保護されたヒドロキシである。
、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４はそれぞれ前と同じ意味であ
り、 ＹＹＹＹＹＹ およびＹｃ １ゝ ２ゝ Ａ’ Ｃ’ Ｄ’ Ｅは酸残基、 Ｙ ′はハロゲン、 １′ Ｒはアルキルであり、 ＲおよびＲＨは保護されたヒドロキシである。
この明細書の種々の定義の好ましい例および説明を以下
に詳細に述べる。
に詳細に述べる。
Ｒ１のアルキルおよびアルコキシの“アルキル“１′
部分ならびにＲのアルキルとしては、炭素数１〜２０の
直鎖状または分岐鎖状のアルキルが挙げられ、具体的に
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネ
オペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘ
キサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル
、イコシルなどが挙げられる。
直鎖状または分岐鎖状のアルキルが挙げられ、具体的に
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネ
オペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘ
キサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル
、イコシルなどが挙げられる。
ＸおよびＹ のハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。
素、ヨウ素が挙げられる。
ＹＹＹＹ
１’ ２’ Ａ’ Ｃ’ Ｄ゛ＹＥおよびＹＧ
の酸残基としては、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素）、アレンスルホニルオキシ（ベンゼンスルホニル
オキシ、トシルオキシなど）、低級アルカンスルホニル
オキシ（メシルオキシ、エタンスルホニルオキシなど）
、低級アルカノイルオキシ（アセチルオキシ、プロピオ
ニルオキシなど）などのようなアシルオキシが挙げられ
る。
の酸残基としては、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素）、アレンスルホニルオキシ（ベンゼンスルホニル
オキシ、トシルオキシなど）、低級アルカンスルホニル
オキシ（メシルオキシ、エタンスルホニルオキシなど）
、低級アルカノイルオキシ（アセチルオキシ、プロピオ
ニルオキシなど）などのようなアシルオキシが挙げられ
る。
Ｒ１およびＲＨの保護されたヒドロキシとしては、アル
（低級）アルコキシ（ベンジルオキシ、トリチルオキシ
など）などが挙げられる。
（低級）アルコキシ（ベンジルオキシ、トリチルオキシ
など）などが挙げられる。
この発明の目的化合物の製造法を以下で詳細に説明する
。
。
合成経路１
化合物（Ｉ工）は化合物（■、−１）またはその塩と化
合物（ＩＩ、−２）とを反応させることによって製造す
ることができる。
合物（ＩＩ、−２）とを反応させることによって製造す
ることができる。
化合物（ｎ、−１）の塩としては塩酸塩、酢酸塩などが
挙げられる。
挙げられる。
二の反応は酢酸、そのアルカリ金属塩（酢酸ナトリウム
、酢酸カリウムなど）の存在下で行われる。
、酢酸カリウムなど）の存在下で行われる。
この反応は通常、アルコール（メタノール、エタノール
など）、塩化メチレン、それらの混合物または反応に悪
影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
など）、塩化メチレン、それらの混合物または反応に悪
影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
反応は通常加温ないし加熱下で行われる。
化合物（ｎｌ−１）は新規な化合物を含み、それらは原
料合成経路Ｂ、の方法によって製造することができる。
料合成経路Ｂ、の方法によって製造することができる。
化合物（ＩＩ、−２）は新規な化合物を含み、それらは
原料合成経路への方法またはそれと類似の方法によって
製造することができる。
原料合成経路への方法またはそれと類似の方法によって
製造することができる。
合成経路２
化合物（１）は化合物（ＩＩ２−１）と化合物（■２−
２）とを反応させることによって製造することかできる
。
２）とを反応させることによって製造することかできる
。
この反応は水素化アルカリ金属（水素化ナトリウムなど
）の塩基の存在下に行うことができる。
）の塩基の存在下に行うことができる。
この反応はジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、酢酸エチル、塩化メチレン、それらの混
合物または反応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で
行われる。
、ジオキサン、酢酸エチル、塩化メチレン、それらの混
合物または反応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で
行われる。
この反応は通常、冷却下ないし加温下で行われる。
化合物（ｎ２−１）は新規な化合物を含み、それらは原
料合成経路ＥおよびＦあるいは原料合成経路ＧとＨを組
合せた方法によって製造することができる。
料合成経路ＥおよびＦあるいは原料合成経路ＧとＨを組
合せた方法によって製造することができる。
合成経路３
化合物（Ｉ ）は化合物（ｎ２−１）と（■３−１）
またはその反応性誘導体とを反応させることによって製
造することができる。
またはその反応性誘導体とを反応させることによって製
造することができる。
化合物（ｎ３−１）の反応性誘導体としては酸ハライド
（酸クロリドなど）、酸無水物、活性アミド、活性エス
テルなどが挙げられる。
（酸クロリドなど）、酸無水物、活性アミド、活性エス
テルなどが挙げられる。
この反応は通常、水、アルコール（メタノール、エタノ
ールなど）、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフラン、ピリジン、それらの混合物または反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
ールなど）、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフラン、ピリジン、それらの混合物または反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却下ないし加温下
に行われる。
に行われる。
化合物（ｎ３−１）を遊離の酸の状態で用いる場合には
、常用の縮合剤（ジシクロへキシルカルボジイミドなど
）の存在下で行うのが好ましい。
、常用の縮合剤（ジシクロへキシルカルボジイミドなど
）の存在下で行うのが好ましい。
合成経路４
化合物（１）は化合物（ＩＩ４−１）またはその塩と化
合物（ＩＩ４−２）またはその反応性誘導体とを反応さ
せてＮ−アシルヒドラジド体とした後、五硫化リンを作
用させることによって製造することかできる。
合物（ＩＩ４−２）またはその反応性誘導体とを反応さ
せてＮ−アシルヒドラジド体とした後、五硫化リンを作
用させることによって製造することかできる。
化合物（ｎ４−１）の塩としては塩酸塩などの酸付加塩
が挙げられる。
が挙げられる。
化合物（ＩＩ４−２）の反応性誘導体としては合成経路
３で化合物（ｎ３−１）の反応性誘導体として挙げたも
のと同様のものが挙げられる。
３で化合物（ｎ３−１）の反応性誘導体として挙げたも
のと同様のものが挙げられる。
この反応は通常、水、アルコール（メタノール、エタノ
ールなど）、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフラン、ピリジン、それらの混合物または反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
ールなど）、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフラン、ピリジン、それらの混合物または反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却下ないし加熱下
に行われる。
に行われる。
化合物（ＩＩ４−２）を遊離の酸の状態で用いる場合に
は、常用の縮合剤（ジシクロへキシルカルボジイミドな
ど）の存在下で行うのが好ましい。
は、常用の縮合剤（ジシクロへキシルカルボジイミドな
ど）の存在下で行うのが好ましい。
化合物（ｎ４−１）は新規化合物を含み、原料化合物合
成経路ＢおよびＣの方法で製造することができる。
成経路ＢおよびＣの方法で製造することができる。
合成経路５
化合物（１）は化合物（ＩＩ５−１）またはその反応性
誘導体と化合物（ｎ５−２）またはその塩を反応させて
Ｎ−アシルヒドラジド体とした後、五硫化リンを作用さ
せることによって製造することができる。
誘導体と化合物（ｎ５−２）またはその塩を反応させて
Ｎ−アシルヒドラジド体とした後、五硫化リンを作用さ
せることによって製造することができる。
この反応は合成経路４で説明した反応と同様に行われる
。
。
原料化合物の製造法を以下で詳細に説明する。
原料合成経路Ａ
化合物ＣＵ、−２’）は化合物（ＩＩＡ−１）と化合物
（ＩＩＡ−２）とを塩基（水素化ナトリウム、炭酸カリ
ウムなど）の存在下に、ジメチルホルムアミドなどの溶
媒中で加温ないし加熱下で反応させて化合物（ｎＡ−３
）とした後、例えば、ハロゲン（塩素、臭素など）をエ
ーテルとジオキサンの混液中で作用させて化合物（ｎＡ
−３）のハロゲン化物である化合物（ｎ、−２’）に導
くことによって製造することができる。
（ＩＩＡ−２）とを塩基（水素化ナトリウム、炭酸カリ
ウムなど）の存在下に、ジメチルホルムアミドなどの溶
媒中で加温ないし加熱下で反応させて化合物（ｎＡ−３
）とした後、例えば、ハロゲン（塩素、臭素など）をエ
ーテルとジオキサンの混液中で作用させて化合物（ｎＡ
−３）のハロゲン化物である化合物（ｎ、−２’）に導
くことによって製造することができる。
原料合成経路Ｂ
化合物（ｎ −１）は化合物（ＩＩＢ−１）またはそ
の反応性誘導体に抱水ヒドラジンを反応させることによ
って製造することができる。
の反応性誘導体に抱水ヒドラジンを反応させることによ
って製造することができる。
化合物（■８−１）の反応性誘導体としてはヒドラジン
の高い反応性を考慮してメチルエステル、エチルエステ
ルなどのような活性の弱いものを用いるのが好ましい。
の高い反応性を考慮してメチルエステル、エチルエステ
ルなどのような活性の弱いものを用いるのが好ましい。
この反応はアルコール（メタノール、エタノールなど）
中で加温ないし加熱下で行われる。
中で加温ないし加熱下で行われる。
原料合成経路Ｃ
化合物（ｎ４−１’ ）またはその塩は化合物（ｎｏ−
１）と化合物（ＩＩｏ−２）とを合成経路２と同様の方
法で反応させて化合物（ｎｏ−３）を製造し、原料合成
経路Ｂと同様の方法で抱水ヒドラジンと反応させること
によって製造することができる。
１）と化合物（ＩＩｏ−２）とを合成経路２と同様の方
法で反応させて化合物（ｎｏ−３）を製造し、原料合成
経路Ｂと同様の方法で抱水ヒドラジンと反応させること
によって製造することができる。
原料合成経路り
化合物（ＩＩ５−２）またはその塩は化合物（ｎＤ−１
）と化合物（ＩＩＤ−２）とを合成経路２と同様の方法
で反応させて化合物（■Ｄ−３）を製造し、さらに原料
合成経路Ｂと同様の方法で抱水ヒドラジンと反応させる
ことによって製造することができる。
）と化合物（ＩＩＤ−２）とを合成経路２と同様の方法
で反応させて化合物（■Ｄ−３）を製造し、さらに原料
合成経路Ｂと同様の方法で抱水ヒドラジンと反応させる
ことによって製造することができる。
原料合成経路Ｅ
化合物（ＩＩ２ １’）は化合物（ＩＩ 、−１）と化
合物（ＩＩＥ−１）とを合成経路１と同様の方法で反応
させることによって製造することができる。
合物（ＩＩＥ−１）とを合成経路１と同様の方法で反応
させることによって製造することができる。
原料合成経路Ｆ
化合物（ｎ２−１’ ）は化合物（ＩＩＦ−１）のヒド
ロキシ基を常法に従って、たとえばベンジル基などで保
護した後、原料合成経路Ｂと同様の方法で抱水ヒドラジ
ンと反応させて化合物（■。
ロキシ基を常法に従って、たとえばベンジル基などで保
護した後、原料合成経路Ｂと同様の方法で抱水ヒドラジ
ンと反応させて化合物（■。
３）に導き、さら□に合成経路４と同様の方法で化合物
（ＩＩＦ−４）と反応させてＮ−アシルヒドラジド体と
した後、五硫化リンを作用させて化合物（ＩＩＦ−５）
に導いた後、常法に従って保護されたヒドロキシ基にお
ける保護基の脱離反応に付すことによって製造すること
ができる。
（ＩＩＦ−４）と反応させてＮ−アシルヒドラジド体と
した後、五硫化リンを作用させて化合物（ＩＩＦ−５）
に導いた後、常法に従って保護されたヒドロキシ基にお
ける保護基の脱離反応に付すことによって製造すること
ができる。
原料合成経路Ｇ
化合物（ＩＩｏ−２）は化合物（ＩＩ ｐ −３）と化
合物（ＩＩｏ−１）とを合成経路１と同様の方法で反応
させることによって得ることができる。
合物（ＩＩｏ−１）とを合成経路１と同様の方法で反応
させることによって得ることができる。
原料合成経路Ｈ
化合物（ＩＩＨ−２）は化合物（ＩＩ Ｈ−，１）を常
法に従って保護されたヒドロキシ基における保護基の脱
離反応に付すことによって得ることができる。
法に従って保護されたヒドロキシ基における保護基の脱
離反応に付すことによって得ることができる。
製造例１
（１）６０％水素化ナトリウム（１，５１ｇ ）のジメ
チルホルムアミド（３０＋＋＋１）懸濁液に、水冷下ｐ
−ヒドロキシアセトフェノン（４，６８ｇ ）のジメチ
ルホルムアミド（１５ｍｌ）溶液を徐々に滴下し、室温
に戻し３０分間攪拌した。（ｓ）−ｅ−メチルオクチル
−ｐ−ｈルエンスルホネート（１０，２２ｇ）を１０分
間で加え、６０℃の油浴上で５時間攪拌した。減圧下に
ジメチルホルムアミドを留去し、残渣に水およびエーテ
ルを加え、エーテル層を分取した。エーテル層を水洗後
、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下にエーテルを留去し
て油状残渣を得た。これをシリカゲルカラム（１５０ｇ
）に付しエーテル−〇−へキサン（１：２）の混合溶媒
で溶出して淡黄色油状物質として目的とする（Ｓ）−４
−（［ｉ−メチルオクチルオキシ）アセトフェノン（８
，８７ｇ ）を得た。
チルホルムアミド（３０＋＋＋１）懸濁液に、水冷下ｐ
−ヒドロキシアセトフェノン（４，６８ｇ ）のジメチ
ルホルムアミド（１５ｍｌ）溶液を徐々に滴下し、室温
に戻し３０分間攪拌した。（ｓ）−ｅ−メチルオクチル
−ｐ−ｈルエンスルホネート（１０，２２ｇ）を１０分
間で加え、６０℃の油浴上で５時間攪拌した。減圧下に
ジメチルホルムアミドを留去し、残渣に水およびエーテ
ルを加え、エーテル層を分取した。エーテル層を水洗後
、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下にエーテルを留去し
て油状残渣を得た。これをシリカゲルカラム（１５０ｇ
）に付しエーテル−〇−へキサン（１：２）の混合溶媒
で溶出して淡黄色油状物質として目的とする（Ｓ）−４
−（［ｉ−メチルオクチルオキシ）アセトフェノン（８
，８７ｇ ）を得た。
ＩＲ（フィルム）：１６７３．１６００．１５７０ｃｌ
’Ｍａｓｓ ｍ／ｚ： ２［ｉ２ （Ｍ ” ）ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜２．００（１７
１１，ｎ＋） 、２．５５（３１１，ｓ）、４．０２（
２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、６．９３（２１１，ｄ、
Ｊ−８１１ｚ）−。
’Ｍａｓｓ ｍ／ｚ： ２［ｉ２ （Ｍ ” ）ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜２．００（１７
１１，ｎ＋） 、２．５５（３１１，ｓ）、４．０２（
２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、６．９３（２１１，ｄ、
Ｊ−８１１ｚ）−。
７．９５（２１！、ｄ、Ｊ−８１１ｚ）（２） （Ｓ）
−４−（８−メチルオクチルオキシ）アセトフェノン（
６，８２ｇ ）をエーテル（３０ｎ＋Ｉ）とジオキサン
（３０＋ｎｌ）の混液に溶解し、水冷攪拌上臭素（４，
５７ｇ ）を徐々に滴下した。続いて水冷下に２時間、
室温で１時間攪拌した後、反応液を水にあけ、エーテル
で抽出した。エーテル層を５％炭酸水素ナトリウム水溶
液および水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下に濃縮乾固して油状の粗生成物を得た。これをシ
リカゲルカラム（３００ｇ）に付しｎ−ヘキサン−エー
テル（ｔｏ：、１）の混合溶媒で溶ｄ’ｌ して油状の
目的物（Ｓ）−２−ブロモ−４’−（Ｇ−メチルオクチ
ルオキシ）アセトフェノン（Ｇ、１５ｇ ）を得た。
−４−（８−メチルオクチルオキシ）アセトフェノン（
６，８２ｇ ）をエーテル（３０ｎ＋Ｉ）とジオキサン
（３０＋ｎｌ）の混液に溶解し、水冷攪拌上臭素（４，
５７ｇ ）を徐々に滴下した。続いて水冷下に２時間、
室温で１時間攪拌した後、反応液を水にあけ、エーテル
で抽出した。エーテル層を５％炭酸水素ナトリウム水溶
液および水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下に濃縮乾固して油状の粗生成物を得た。これをシ
リカゲルカラム（３００ｇ）に付しｎ−ヘキサン−エー
テル（ｔｏ：、１）の混合溶媒で溶ｄ’ｌ して油状の
目的物（Ｓ）−２−ブロモ−４’−（Ｇ−メチルオクチ
ルオキシ）アセトフェノン（Ｇ、１５ｇ ）を得た。
１１？（フィルム）：１［ｉ７０．１５９５．１５７０
ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３４２ （Ｍ ” ＋
２） 、３４０ （Ｍ ” ）ＮＭｌ？（ＣＤＣＩ
３ ）δ： ０．７１〜２．００（１７１１，ｍ） 、
４．０８（２＋１．ｔ、Ｊ−７１１２）、４．４２（２
＋１．ｓ）、（ｉ、９Ｂ（２１１，ｄ、Ｊ−８ｔｌｚ）
、８．０２（２１＋、ｄ、Ｊ−８１１２）製造例２ （１）製造例１− （１）と同様の方法で下記の化合物
を得た。
ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３４２ （Ｍ ” ＋
２） 、３４０ （Ｍ ” ）ＮＭｌ？（ＣＤＣＩ
３ ）δ： ０．７１〜２．００（１７１１，ｍ） 、
４．０８（２＋１．ｔ、Ｊ−７１１２）、４．４２（２
＋１．ｓ）、（ｉ、９Ｂ（２１１，ｄ、Ｊ−８ｔｌｚ）
、８．０２（２１＋、ｄ、Ｊ−８１１２）製造例２ （１）製造例１− （１）と同様の方法で下記の化合物
を得た。
（Ｓ）−４−（２−メチルブトキシ）アセトフェノンＩ
Ｒ（フィルム）：１６７０、ｌ５９５．１５７０．１５
０３ｃ「’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２０Ｇ （Ｍ÷）Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７５〜２．１０（９
１（、市）、２．４２（３１１゜Ｓ）、３．７０〜４．
００（２Ｈ，ｍ）、６．９８（２１１，ｄ、Ｊ−８１１
ｚ）、７．９５（２１１，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） （２）製造例１−（２）と同様の方法で下記の化合物を
得た。
Ｒ（フィルム）：１６７０、ｌ５９５．１５７０．１５
０３ｃ「’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２０Ｇ （Ｍ÷）Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７５〜２．１０（９
１（、市）、２．４２（３１１゜Ｓ）、３．７０〜４．
００（２Ｈ，ｍ）、６．９８（２１１，ｄ、Ｊ−８１１
ｚ）、７．９５（２１１，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） （２）製造例１−（２）と同様の方法で下記の化合物を
得た。
（Ｓ）−２−ブロモ−４’−（２−メチルブトキシ）ア
セトフェノン Ｉｔ？（フィルム）：１８８０．１５９５．１５６８．
１５０４ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｒａ／ｚ： ２８ｆｉ（Ｍ
” ＋２） 、２８４（Ｍ ” ）ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣＩ３ ） δ ： ０．８０〜２．２０（９１１
，ｍ）、３．７５〜４．３０（２１１，ｍ）、４．４０
（２１１，Ｓ）、７．００（２＋１．ｄ、Ｊ−７１１２
）、８．２０（２＋１．ｄ、Ｊ−７１１２）製造例３ （１）製造例１− （１）と同様の方法で下記の化合物
を得た。
セトフェノン Ｉｔ？（フィルム）：１８８０．１５９５．１５６８．
１５０４ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｒａ／ｚ： ２８ｆｉ（Ｍ
” ＋２） 、２８４（Ｍ ” ）ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣＩ３ ） δ ： ０．８０〜２．２０（９１１
，ｍ）、３．７５〜４．３０（２１１，ｍ）、４．４０
（２１１，Ｓ）、７．００（２＋１．ｄ、Ｊ−７１１２
）、８．２０（２＋１．ｄ、Ｊ−７１１２）製造例３ （１）製造例１− （１）と同様の方法で下記の化合物
を得た。
（Ｓ）−４−（４−メチルへキシルオキシ）アセトフェ
ノン ＩＩ？（フィルム）：１０７０．１５９５．１５７０．
１５００ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２３４（Ｍ
” ）ＮＭＩ？（ＣＤＣＩ ３ ） δ ：
０．７０〜２．０５（１３１１，ｎ＋） 、２．
５０（３１１，Ｓ）、４．０２（２）！、ｔ、Ｊ−７１
１２）、６．９１３（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）、７
．９７（２１，ｄ、８１１２） （２）製造例１−（２）と同様の方法で下記の化合物を
得た。
ノン ＩＩ？（フィルム）：１０７０．１５９５．１５７０．
１５００ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２３４（Ｍ
” ）ＮＭＩ？（ＣＤＣＩ ３ ） δ ：
０．７０〜２．０５（１３１１，ｎ＋） 、２．
５０（３１１，Ｓ）、４．０２（２）！、ｔ、Ｊ−７１
１２）、６．９１３（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）、７
．９７（２１，ｄ、８１１２） （２）製造例１−（２）と同様の方法で下記の化合物を
得た。
（Ｓ）−２−ブロモ−４’ −（４−メチルへキシルオ
キシ）アセトフェノン ＩＲ（フィルム） ： １６８０（ｓｈ、） 、１６
６５、ｌ５９０．１５７０．１５００ｃｍ−’ Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３１４（Ｍ ” ＋２）
、３１２（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）δ：
０．７５〜２．０３（１３１１，ｍ） 、４．０３（２
１１、ｔ 、 Ｊ ”７１１ｚ）、４．３９（２＋１．
Ｓ）、（ｉ、９２（２１１，ｄ、Ｊ−７１１ｚ）、７．
９３（２１１，ｄ、Ｊ＝７１１ｚ）製造例４ ４−ヘキシル安息呑酸（８，０ｇ）のメタノール（１０
０ｍ１ ）溶液に濃硫酸（０，７０ｇ ）を加え４時間
加熱還流し、冷後、炭酸カリウム（１，５ｇ）を加え減
圧下に溶媒を留去した。残渣を゛エーテルに溶解し、水
洗、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して（８
，５ｇ）の油状物を得た。この油状物に抱水ヒドラジン
（１５，０ｇ ） 、エタノール（１０ｎ＋ｌ）を加え
ｔｏｏ−ｔｔｏ℃で１４時間攪拌した。反応液を水冷し
、析出した白色固体を濾取し、水洗後、減圧下に乾燥し
て無色結晶の４−へキシルベンゾヒドラジド（７，８ｇ
）を得た。
キシ）アセトフェノン ＩＲ（フィルム） ： １６８０（ｓｈ、） 、１６
６５、ｌ５９０．１５７０．１５００ｃｍ−’ Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３１４（Ｍ ” ＋２）
、３１２（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）δ：
０．７５〜２．０３（１３１１，ｍ） 、４．０３（２
１１、ｔ 、 Ｊ ”７１１ｚ）、４．３９（２＋１．
Ｓ）、（ｉ、９２（２１１，ｄ、Ｊ−７１１ｚ）、７．
９３（２１１，ｄ、Ｊ＝７１１ｚ）製造例４ ４−ヘキシル安息呑酸（８，０ｇ）のメタノール（１０
０ｍ１ ）溶液に濃硫酸（０，７０ｇ ）を加え４時間
加熱還流し、冷後、炭酸カリウム（１，５ｇ）を加え減
圧下に溶媒を留去した。残渣を゛エーテルに溶解し、水
洗、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して（８
，５ｇ）の油状物を得た。この油状物に抱水ヒドラジン
（１５，０ｇ ） 、エタノール（１０ｎ＋ｌ）を加え
ｔｏｏ−ｔｔｏ℃で１４時間攪拌した。反応液を水冷し
、析出した白色固体を濾取し、水洗後、減圧下に乾燥し
て無色結晶の４−へキシルベンゾヒドラジド（７，８ｇ
）を得た。
ＪＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２７０、Ｉ［１２０ｃｏ
＋−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８７（３１
１，Ｌ、Ｊ＝８１１ｚ）、１．ｌＯ〜１．８３（８１１
，ｍ）、２．［１３（２１１，Ｌ、Ｊ−７１１ｚ）、４
．２〜ｆ３．０（３１１、ｂｒ）、７．２２（２１１，
ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．７０（２１１，ｄ、Ｊ−８１
１ｚ）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２２０（Ｍ ” ）製造例
５ 製造例４と同様の方法で下記の化合物を得た。
＋−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８７（３１
１，Ｌ、Ｊ＝８１１ｚ）、１．ｌＯ〜１．８３（８１１
，ｍ）、２．［１３（２１１，Ｌ、Ｊ−７１１ｚ）、４
．２〜ｆ３．０（３１１、ｂｒ）、７．２２（２１１，
ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．７０（２１１，ｄ、Ｊ−８１
１ｚ）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２２０（Ｍ ” ）製造例
５ 製造例４と同様の方法で下記の化合物を得た。
（１）４−へブチルベンゾヒドラジド
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２００．１（ｉ５０．１
６００．１５６０．１５４０ｃ「’ ＮＭＲ（ＣＤＣＬＩ ） δ ： ０．８９（３１
１，ｔ、Ｊ−８１２）、１．１０〜１、Ｈ（１０１１，
ｎ＋） 、２．６５（２１！、ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、
３．４０〜４．ＧＯ（３１１浦「、）、７．２６（２＋
１．ｄ、Ｊ−８１１幻、７．７３（２＋１．ｄ、Ｊ−８
１１ｚ） （２）４−オクチルベンゾヒドラジド ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００．３１８０．１６
４５．１６１５．１５６０ｃｌ’ ＮＭＩ？（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８７（３１１，
ｔ、Ｊ−０１１ｚ）、１．１０〜１．８３（１２＋１．
＋ｎ） 、２．（ｉ３（２＋１．ｔ、Ｊ−７１１２）、
３．９０〜５．９０（３１１，ｂｒ、）、７．２５（２
１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．７２（２＋１．ｄ、Ｊ
−Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２４８（Ｍ ” ）（３）４−
ノニルベンゾヒドラジド ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０．１６５０．１０
０５ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８７
（３１１，ｔ、Ｊ−６１１ｚ）、１．１０〜１．１９（
１４１１，ｌ１１） 、２．６３（２ｔ（、Ｌ、Ｊ−７
１１ｚ）、４．２０〜５．４０（３１１，ｂｒ、）、７
．２０（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．７０（２＋
１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ） Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２８２（Ｍ ” ）製造例６ ６０％水素化ナトリウム（１，７６ｇ ）をジメチルホ
ルムアミド（１０１０１）に懸濁し、これに、水冷下、
４−ヒドロキシ安息香酸メチル（６，１ｇ）のジメチル
ホルムアミド（２０〜ｔ）溶液を１５分で滴下した。室
温で１時間攪拌後、（ｓ）−ｅ−メチルオクチル−ｐ−
トルエンスルホネート（１３，１ｇ ）を３０分で滴下
し、５０℃で１５時間攪拌した。反応液を氷水にあけ、
エーテルで抽出した。有機層を水洗後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に濃縮して油状の（Ｓ）−４−（６
−メチルオクチルオキシ）安息香酸メチルを得た。これ
に抱水ヒドラジン（１４，４ｇ ） 、エタノール（１
４〜ｔ）を加え１００〜１１０℃で１６時間攪拌した。
６００．１５６０．１５４０ｃ「’ ＮＭＲ（ＣＤＣＬＩ ） δ ： ０．８９（３１
１，ｔ、Ｊ−８１２）、１．１０〜１、Ｈ（１０１１，
ｎ＋） 、２．６５（２１！、ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、
３．４０〜４．ＧＯ（３１１浦「、）、７．２６（２＋
１．ｄ、Ｊ−８１１幻、７．７３（２＋１．ｄ、Ｊ−８
１１ｚ） （２）４−オクチルベンゾヒドラジド ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００．３１８０．１６
４５．１６１５．１５６０ｃｌ’ ＮＭＩ？（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８７（３１１，
ｔ、Ｊ−０１１ｚ）、１．１０〜１．８３（１２＋１．
＋ｎ） 、２．（ｉ３（２＋１．ｔ、Ｊ−７１１２）、
３．９０〜５．９０（３１１，ｂｒ、）、７．２５（２
１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．７２（２＋１．ｄ、Ｊ
−Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２４８（Ｍ ” ）（３）４−
ノニルベンゾヒドラジド ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０．１６５０．１０
０５ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８７
（３１１，ｔ、Ｊ−６１１ｚ）、１．１０〜１．１９（
１４１１，ｌ１１） 、２．６３（２ｔ（、Ｌ、Ｊ−７
１１ｚ）、４．２０〜５．４０（３１１，ｂｒ、）、７
．２０（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．７０（２＋
１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ） Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２８２（Ｍ ” ）製造例６ ６０％水素化ナトリウム（１，７６ｇ ）をジメチルホ
ルムアミド（１０１０１）に懸濁し、これに、水冷下、
４−ヒドロキシ安息香酸メチル（６，１ｇ）のジメチル
ホルムアミド（２０〜ｔ）溶液を１５分で滴下した。室
温で１時間攪拌後、（ｓ）−ｅ−メチルオクチル−ｐ−
トルエンスルホネート（１３，１ｇ ）を３０分で滴下
し、５０℃で１５時間攪拌した。反応液を氷水にあけ、
エーテルで抽出した。有機層を水洗後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下に濃縮して油状の（Ｓ）−４−（６
−メチルオクチルオキシ）安息香酸メチルを得た。これ
に抱水ヒドラジン（１４，４ｇ ） 、エタノール（１
４〜ｔ）を加え１００〜１１０℃で１６時間攪拌した。
反応液を冷却し、析出した結晶を濾取、水洗後、乾燥し
て無色結晶の（Ｓ）−４−（０−メチルオクチルオキシ
）ベンゾヒドラジド（８，９ｇ）を得た。
て無色結晶の（Ｓ）−４−（０−メチルオクチルオキシ
）ベンゾヒドラジド（８，９ｇ）を得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０．１６５０．１６
００．１５９０．１５６０．１５００ｃ「’ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．６０〜Ｃ００（ｌ
ｌｉｌｌ、ｍ）、ｌ、００〜２．１０（ｌｌｌ＋、＋ｎ
） 、４．００（２１１，ｔ、Ｊ−７！Ｉｚ）、３．Ｇ
Ｏ〜４．５０（２Ｈ，ｂｒ、）、８．９５（２Ｈ，ｄ、
Ｊ−８１１２）、７．５０〜７．９５（３０゜ｍ） Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２７８（Ｍ ” ）製造
例７ 製造例６と同様の方法で下記の化合物を得た。
００．１５９０．１５６０．１５００ｃ「’ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．６０〜Ｃ００（ｌ
ｌｉｌｌ、ｍ）、ｌ、００〜２．１０（ｌｌｌ＋、＋ｎ
） 、４．００（２１１，ｔ、Ｊ−７！Ｉｚ）、３．Ｇ
Ｏ〜４．５０（２Ｈ，ｂｒ、）、８．９５（２Ｈ，ｄ、
Ｊ−８１１２）、７．５０〜７．９５（３０゜ｍ） Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２７８（Ｍ ” ）製造
例７ 製造例６と同様の方法で下記の化合物を得た。
（１） （Ｓ）−４−（４−メチルへキシルオキシ）ベ
ンゾヒドラジド ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０．１６６０．１５９
０．１５７０．１５００ｃｌ’ ＮＭｌ？（ＣＤＣｌ２ ） δ ： ０．７０〜ｔ
、＋ｏ（ｅｎ、＋＋＋）、 １．１０〜２．１０（７１
１，ｍ）、４．００（２１１，Ｌ、Ｊ−７１１ｚ）、４
．１３（３ｉ１．ｓ）、６．９０（２１１，ｄ、Ｊ＝８
ｉ１ｚ）、７．７３（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａ
ｓｓ ｔｎ／ｚ ： ２５０（Ｍ ” ）（２） （Ｓ
）−４−（２−メチルブチルオキシ）ベンゾヒドラジド １１？（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２７０．１６００．１
５７０．１５２０．１５００ｃ「Ｉ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ： ０．８３〜２．１
０（９１１，＋ｎ）、３．７７〜４．２０（４１１，＋
ｎ）、６．９３（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）、７．（
ｉ３（１１１，ｓ）、７．７５（２１１，ｄ、Ｊ−８１
１２）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２２２（Ｍ ” ）（３）
４−オクチルオキシベンゾヒドラジドＩＲ（Ｎｕｊｏｌ
） ： ３３００，３１５０．１６４０．１６１０
．１５７０．１５００ｃｌ’ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．７０〜
１．０３（３１１，ｍ）、１．０３〜２．１０（１２！
１．ｒａ） 、３．９７（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ
）、３．５３〜４．５０（２１１，ｂｒ、）、６．９０
（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）、７．５８（１１１，ｓ
）、７．７２（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）製造例８ （１）６０％水素化ナトリウム（５，５ｇ）をジメチル
ホルムアミド（３０〜ｔ）に懸濁し、水冷攪拌下に４−
ヒドロキシ安息香酸メチル（１７，５ｇ ）のジメチル
ホルムアミド（７０１）溶液を３０分で滴下した。徐々
に室温に戻した後、１時間攪拌し、ベンジルプロミド（
２５ｇ）を３０分で滴下した。室温で６時間、さらに６
０℃で６時間攪拌した後、反応液を水にあけエーテルで
２回抽出し、エーテル層を集めて水洗した。硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下に濃縮乾固して結晶性の粗
生成物を得た。この粗生成物に抱水ヒドラジン（４８ｇ
） 、エタノール（２０１Ｗｌ）を加え９０〜１００
℃で６時間攪拌した。反応液を水冷し析出した白色固体
を濾取し、水洗後、減圧下に乾燥して白色結晶性粉末の
４−ベンジルオキシベンゾヒドラジド（２５，０ｇ ）
を得た。
ンゾヒドラジド ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０．１６６０．１５９
０．１５７０．１５００ｃｌ’ ＮＭｌ？（ＣＤＣｌ２ ） δ ： ０．７０〜ｔ
、＋ｏ（ｅｎ、＋＋＋）、 １．１０〜２．１０（７１
１，ｍ）、４．００（２１１，Ｌ、Ｊ−７１１ｚ）、４
．１３（３ｉ１．ｓ）、６．９０（２１１，ｄ、Ｊ＝８
ｉ１ｚ）、７．７３（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａ
ｓｓ ｔｎ／ｚ ： ２５０（Ｍ ” ）（２） （Ｓ
）−４−（２−メチルブチルオキシ）ベンゾヒドラジド １１？（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２７０．１６００．１
５７０．１５２０．１５００ｃ「Ｉ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ： ０．８３〜２．１
０（９１１，＋ｎ）、３．７７〜４．２０（４１１，＋
ｎ）、６．９３（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）、７．（
ｉ３（１１１，ｓ）、７．７５（２１１，ｄ、Ｊ−８１
１２）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２２２（Ｍ ” ）（３）
４−オクチルオキシベンゾヒドラジドＩＲ（Ｎｕｊｏｌ
） ： ３３００，３１５０．１６４０．１６１０
．１５７０．１５００ｃｌ’ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．７０〜
１．０３（３１１，ｍ）、１．０３〜２．１０（１２！
１．ｒａ） 、３．９７（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ
）、３．５３〜４．５０（２１１，ｂｒ、）、６．９０
（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）、７．５８（１１１，ｓ
）、７．７２（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）製造例８ （１）６０％水素化ナトリウム（５，５ｇ）をジメチル
ホルムアミド（３０〜ｔ）に懸濁し、水冷攪拌下に４−
ヒドロキシ安息香酸メチル（１７，５ｇ ）のジメチル
ホルムアミド（７０１）溶液を３０分で滴下した。徐々
に室温に戻した後、１時間攪拌し、ベンジルプロミド（
２５ｇ）を３０分で滴下した。室温で６時間、さらに６
０℃で６時間攪拌した後、反応液を水にあけエーテルで
２回抽出し、エーテル層を集めて水洗した。硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下に濃縮乾固して結晶性の粗
生成物を得た。この粗生成物に抱水ヒドラジン（４８ｇ
） 、エタノール（２０１Ｗｌ）を加え９０〜１００
℃で６時間攪拌した。反応液を水冷し析出した白色固体
を濾取し、水洗後、減圧下に乾燥して白色結晶性粉末の
４−ベンジルオキシベンゾヒドラジド（２５，０ｇ ）
を得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２７０、＋６３０Ｓ＋５
９５．１５７０．１５２５ｃｎ＋−’ （２）実施例７と同様の方法により下記の化合物を得た
。
９５．１５７０．１５２５ｃｎ＋−’ （２）実施例７と同様の方法により下記の化合物を得た
。
２−（４−ベンジルオキシフェニル）−５−オクチル１
．３．４−チアジアゾールの製造 ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６１５．１５９０．１５
３０ｃ「’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．００〜
１．００（３１１，ｍ）、Ｌ、ＯＯ〜２．００（Ｌ２ｆ
ｌ、ｍ） 、３．１２（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、
、５．１４（２１１，ｓ）、７．０５（２＋１．ｄ、Ｊ
−８＋１２）１．７．２３〜７．５７（５１１，ｍ）、
７，９０（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ） Ｍａｓｓ ｒｎ／ｚ： ３８０（Ｍ ” ）（３）２−
（４−ベンジルオキシフェニル）−５−オクチル−１，
３，４−チアジアゾール（１，０ｇ）に酢酸（２ｍｌ）
、４７％臭化水素酸（１ｍｌ）を加え、６０℃で３時間
攪拌した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレンで２回抽
出し、塩化メチレン層を集めて水洗した。硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下に濃縮乾固して油状の粗生成
物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムに付し、ｎ−ヘ
キサン−エーテル混液で溶出して白色結晶性粉末の２−
（４−ヒドロキシフェニル）−５−オクチル−１，３，
４−チアジアゾール（０，５５ｇ ）を得た。
．３．４−チアジアゾールの製造 ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６１５．１５９０．１５
３０ｃ「’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．００〜
１．００（３１１，ｍ）、Ｌ、ＯＯ〜２．００（Ｌ２ｆ
ｌ、ｍ） 、３．１２（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、
、５．１４（２１１，ｓ）、７．０５（２＋１．ｄ、Ｊ
−８＋１２）１．７．２３〜７．５７（５１１，ｍ）、
７，９０（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ） Ｍａｓｓ ｒｎ／ｚ： ３８０（Ｍ ” ）（３）２−
（４−ベンジルオキシフェニル）−５−オクチル−１，
３，４−チアジアゾール（１，０ｇ）に酢酸（２ｍｌ）
、４７％臭化水素酸（１ｍｌ）を加え、６０℃で３時間
攪拌した。反応液を氷水にあけ、塩化メチレンで２回抽
出し、塩化メチレン層を集めて水洗した。硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下に濃縮乾固して油状の粗生成
物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムに付し、ｎ−ヘ
キサン−エーテル混液で溶出して白色結晶性粉末の２−
（４−ヒドロキシフェニル）−５−オクチル−１，３，
４−チアジアゾール（０，５５ｇ ）を得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３０５０．１６００．１５
７０．１５１０ｃ＋ｎ−’ＮＭＩ？（ＣＤＣＩ ！ ）
δ： ０．ＢＯ〜１．００（３１１，ｍ）、１．００〜
２．１０（１２Ｈ，ｍ） 、３．１０（２！１．ｔ、Ｊ
＝７１１ｚ）、７．０７（２Ｈ，ｄ。
７０．１５１０ｃ＋ｎ−’ＮＭＩ？（ＣＤＣＩ ！ ）
δ： ０．ＢＯ〜１．００（３１１，ｍ）、１．００〜
２．１０（１２Ｈ，ｍ） 、３．１０（２！１．ｔ、Ｊ
＝７１１ｚ）、７．０７（２Ｈ，ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、７．８３（２１Ｌｄ、Ｊ−８ｔｌｚ）
Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２９０（Ｍ ” ）製造例９ ヘプタノヒドラジド（４，３３ｇ ）とｐ−ヒドロキシ
フェナシルプロミド（３，２３ｇ ）をエタノール（６
０ｍ１）と酢酸（２０ｍｌ）に溶かし、これに酢酸ナト
リウム（２，７１ｇ ）を加えて１０時間加熱還流した
。
Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２９０（Ｍ ” ）製造例９ ヘプタノヒドラジド（４，３３ｇ ）とｐ−ヒドロキシ
フェナシルプロミド（３，２３ｇ ）をエタノール（６
０ｍ１）と酢酸（２０ｍｌ）に溶かし、これに酢酸ナト
リウム（２，７１ｇ ）を加えて１０時間加熱還流した
。
冷却後、反応液を減圧下に濃縮し、残渣に塩化メチレン
を加えてこれを水洗した。硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧下に濃縮乾固して粗生成物を得た。これをシリ
カゲルカラム（２００ｇ）に付し、ｎ−へキサンとエー
テルの混液（３：１〜１：１ ）で溶出することにより
目的とする３−へキシル−６−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１，２，４−）リアジン（１，ｏｌｇ ）を淡黄
色結晶として得た。
を加えてこれを水洗した。硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧下に濃縮乾固して粗生成物を得た。これをシリ
カゲルカラム（２００ｇ）に付し、ｎ−へキサンとエー
テルの混液（３：１〜１：１ ）で溶出することにより
目的とする３−へキシル−６−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１，２，４−）リアジン（１，ｏｌｇ ）を淡黄
色結晶として得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００（ｓｈ、） 、１
８００．１５８０ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２５７
（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２ ）δ： ０．８ｇ（
３１１，Ｌ、Ｊ−７１１２）、１．１３〜２．１２（８
１１，ｍ）、３．２０（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、
７．１８（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、８．０８（２
１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、９．０５（ｌｌＩ、ｓ）製
造例１０ 製造例９と同様の方法で下記の化合物を製造した。
８００．１５８０ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２５７
（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２ ）δ： ０．８ｇ（
３１１，Ｌ、Ｊ−７１１２）、１．１３〜２．１２（８
１１，ｍ）、３．２０（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、
７．１８（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、８．０８（２
１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、９．０５（ｌｌＩ、ｓ）製
造例１０ 製造例９と同様の方法で下記の化合物を製造した。
（１）３−エチル−６−（４−ヒドロキシフェニル）−
１，２゜４−トリアジン １１？（Ｎｕｊｏｌ） ： １０００．１５８２ｃ「
’Ｍａｓｓ ＩＩＩＨｚ： ２０１（Ｍ ” ）ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： １．４５（３１１，ｔ、Ｊ−
７１１２）、３．１５（２＋１゜ｑ、Ｊ−７１１ｚ）、
７．００（２１１，ｄ、Ｊ−８１１２）、７．９７（２
＋１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、８．９Ｇ（ｌＩｌ、５） （２）３−プロピル−６−（４−ヒドロキシフェニル）
−１゜２．４−）リアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００．１６００．１
５８０ｃｏ−’Ｍａｓｓ Ｉａ／ｚ： ２１５（Ｍ
” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ：
１．０５（３１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、ｔ、ｅｏ〜
２．２５（２１１，ｍ）、３．１７（２＋１．Ｌ、Ｊ−
７１１２）、７．２２（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、
８．０５（２１１，ｄ、Ｊ−８肚）、９．０３（ｌＩｌ
、５）（３）３−ブチル−６−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１，２゜４−トリアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５８０ｃｉ’
Ｍａｓｓ ａｄｚ： ２２９（Ｍ ＋ ）ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．９８（３１１，ｔ、Ｊ−
７１１２）、１．２４〜２．１３（４１１，ｍ）、３．
２０（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、７．２０（２＋１
．ｄ、Ｊ＝９１１ ｚ ）、８．０３（２＋１．ｄ、Ｊ
−９１１２）、９．００（１＋１．５）（４）３−オク
チル−６−（４−ヒドロキシフェニル）−１゜２．４−
）リアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １８００．１５７０ｃｍ−
’Ｍａｓｓ ＩＩＩＨｚ： ２８５（Ｍ ” ）ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７Ｑ 〜２．２０（１５
１１，ｍ） 、３．２１（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）
、７．２０（２１１，ｄ、Ｊ−９１１ｚ）、８．０６（
２＋１．ｄ。
１，２゜４−トリアジン １１？（Ｎｕｊｏｌ） ： １０００．１５８２ｃ「
’Ｍａｓｓ ＩＩＩＨｚ： ２０１（Ｍ ” ）ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： １．４５（３１１，ｔ、Ｊ−
７１１２）、３．１５（２＋１゜ｑ、Ｊ−７１１ｚ）、
７．００（２１１，ｄ、Ｊ−８１１２）、７．９７（２
＋１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、８．９Ｇ（ｌＩｌ、５） （２）３−プロピル−６−（４−ヒドロキシフェニル）
−１゜２．４−）リアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３３００．１６００．１
５８０ｃｏ−’Ｍａｓｓ Ｉａ／ｚ： ２１５（Ｍ
” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ：
１．０５（３１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、ｔ、ｅｏ〜
２．２５（２１１，ｍ）、３．１７（２＋１．Ｌ、Ｊ−
７１１２）、７．２２（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、
８．０５（２１１，ｄ、Ｊ−８肚）、９．０３（ｌＩｌ
、５）（３）３−ブチル−６−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１，２゜４−トリアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５８０ｃｉ’
Ｍａｓｓ ａｄｚ： ２２９（Ｍ ＋ ）ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．９８（３１１，ｔ、Ｊ−
７１１２）、１．２４〜２．１３（４１１，ｍ）、３．
２０（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、７．２０（２＋１
．ｄ、Ｊ＝９１１ ｚ ）、８．０３（２＋１．ｄ、Ｊ
−９１１２）、９．００（１＋１．５）（４）３−オク
チル−６−（４−ヒドロキシフェニル）−１゜２．４−
）リアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １８００．１５７０ｃｍ−
’Ｍａｓｓ ＩＩＩＨｚ： ２８５（Ｍ ” ）ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７Ｑ 〜２．２０（１５
１１，ｍ） 、３．２１（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）
、７．２０（２１１，ｄ、Ｊ−９１１ｚ）、８．０６（
２＋１．ｄ。
Ｊ−９１１ｚ）、９．０２（１１１，ｓ）製造例１１
３−（４−ベンジルオキシフェニル）−６−へキシル−
１，２，４−）リアジン（７７０ＩＩ１ｇ ）を酢酸（
６１）に溶解し、４７％臭化水素酸（２ｍｌ）を加えて
、１２０℃の油浴上で２０分間加熱攪拌した。反応液を
水にあけエーテルで２回抽出し、エーテルを合わせて水
洗後、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下に濃縮乾固した
。残渣をシリカゲルカラム（２０ｇ）に付しｎ−ヘキサ
ン−エーテルの混合溶媒で溶出して３−（４−ヒドロキ
シフェニル）−６−ヘキジルー１．２．４−トリアジン
（２４０ｍｇ ）を淡黄色結晶として得た。
１，２，４−）リアジン（７７０ＩＩ１ｇ ）を酢酸（
６１）に溶解し、４７％臭化水素酸（２ｍｌ）を加えて
、１２０℃の油浴上で２０分間加熱攪拌した。反応液を
水にあけエーテルで２回抽出し、エーテルを合わせて水
洗後、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下に濃縮乾固した
。残渣をシリカゲルカラム（２０ｇ）に付しｎ−ヘキサ
ン−エーテルの混合溶媒で溶出して３−（４−ヒドロキ
シフェニル）−６−ヘキジルー１．２．４−トリアジン
（２４０ｍｇ ）を淡黄色結晶として得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １８０５．１５８５ｃ＋ｎ
−’Ｍａｓｓ ｍノｚ： ２５７０１ ＋ ）Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７５〜２．００（１
１１１，１１１） 、３．００（２１１，ｔ、Ｊ＝７１
１ｚ）、７．０６（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）、８．
４６（２＋１．ｄ。
−’Ｍａｓｓ ｍノｚ： ２５７０１ ＋ ）Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７５〜２．００（１
１１１，１１１） 、３．００（２１１，ｔ、Ｊ＝７１
１ｚ）、７．０６（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）、８．
４６（２＋１．ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、８．５８（１１１，ｓ）製造例１２
４−ベンジルオキシベンゾヒドラジド（４，８５ｇ ）
、■−ブロモーオクタンー２−オン（２，０７ｇ ）お
よび酢酸ナトリウム（０，’１８ｇ ）をエタノール（
３０ＩＩ＋ｌ）と酢酸（１０＋ｎｌ）の混合溶媒に順次
加え、１２０℃の油浴上で７時間加熱攪拌した。反応液
を減圧下に濃縮乾固し、残渣に水と塩化メチレンを加え
た。塩化メチレン層を分取し、水洗した後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し油状残渣を得た
。これをシリカゲルカラム（１５ｇ）に付し、ｎ−へキ
サンとエーテルの混合溶媒で溶出し目的とする３−（４
−ベンジルオキシフェニル）−６−ヘキジルー１．２．
４．− ）リアジン（１，０ｇ）を淡黄色結晶として得
た。
、■−ブロモーオクタンー２−オン（２，０７ｇ ）お
よび酢酸ナトリウム（０，’１８ｇ ）をエタノール（
３０ＩＩ＋ｌ）と酢酸（１０＋ｎｌ）の混合溶媒に順次
加え、１２０℃の油浴上で７時間加熱攪拌した。反応液
を減圧下に濃縮乾固し、残渣に水と塩化メチレンを加え
た。塩化メチレン層を分取し、水洗した後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去し油状残渣を得た
。これをシリカゲルカラム（１５ｇ）に付し、ｎ−へキ
サンとエーテルの混合溶媒で溶出し目的とする３−（４
−ベンジルオキシフェニル）−６−ヘキジルー１．２．
４．− ）リアジン（１，０ｇ）を淡黄色結晶として得
た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １１３０２．１５８０ｃｍ
−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３４７（Ｍ ” ）ＮＭＲ（
ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．７０〜２．
００（ｌｌ１１．ｍ） 、 ２．９７（２＋（、ｔ、
Ｊ−８１１２）、 ５．１４（２１１，ｓ）、 ７．Ｌ
Ｏ（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）ｙ、４５（５ｔ１．ｍ
）、８．４６（ｌｉｔ、ｓ）、８．４９（２＋１．ｄ、
Ｊ−８１１２）製造例１３ 水素化アルミニウムリチウム（２，５ｇ）を乾燥エーテ
ル（７０ｍｌ）に懸濁し、水冷下、（２Ｓ、３８）−２
−クロロ−３−メチルペンタン酸（９，５ｇ）の乾燥エ
ーテル溶液（３０ｎ＋１）を徐々に滴下した。室温で２
時間攪拌後、２０分間加熱還流した。反応液を水冷し、
過剰の試薬を水（１０ｍｌ）で分解した後、２０％硫酸
（３０１）で析出物を溶解させた。エーテル層を分取し
水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮
して油状の粗生成物を得た。これを減圧下に蒸留して（
ｂ、ｐ、７１１ｍ１１ｇ ６５．５〜［ｉ７．０℃）
、（２Ｓ、３Ｓ）−２−クロロ−３−メチルペンタノー
ル（４，５ｇ）を得た。
−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３４７（Ｍ ” ）ＮＭＲ（
ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．７０〜２．
００（ｌｌ１１．ｍ） 、 ２．９７（２＋（、ｔ、
Ｊ−８１１２）、 ５．１４（２１１，ｓ）、 ７．Ｌ
Ｏ（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）ｙ、４５（５ｔ１．ｍ
）、８．４６（ｌｉｔ、ｓ）、８．４９（２＋１．ｄ、
Ｊ−８１１２）製造例１３ 水素化アルミニウムリチウム（２，５ｇ）を乾燥エーテ
ル（７０ｍｌ）に懸濁し、水冷下、（２Ｓ、３８）−２
−クロロ−３−メチルペンタン酸（９，５ｇ）の乾燥エ
ーテル溶液（３０ｎ＋１）を徐々に滴下した。室温で２
時間攪拌後、２０分間加熱還流した。反応液を水冷し、
過剰の試薬を水（１０ｍｌ）で分解した後、２０％硫酸
（３０１）で析出物を溶解させた。エーテル層を分取し
水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮
して油状の粗生成物を得た。これを減圧下に蒸留して（
ｂ、ｐ、７１１ｍ１１ｇ ６５．５〜［ｉ７．０℃）
、（２Ｓ、３Ｓ）−２−クロロ−３−メチルペンタノー
ル（４，５ｇ）を得た。
ＩＲ（Ｎｅａｔ） ： ３３５０．１４６０．１３８０
ｃｍ−’製造例１４ （２Ｓ、３Ｓ）−２−クロロ −８−メチルペンタノー
ル（４，Ｏｇ）のピリジン（＋０ｍ１）溶液に水冷攪拌
下、ｐ−トルエンスルホニルクロライド（５，９ｇ）を
少しづつ加え、さらに室温下１５時間攪拌した。反応液
を氷水にあけ塩酸酸性とした後、エーテルで２回抽出し
た。
ｃｍ−’製造例１４ （２Ｓ、３Ｓ）−２−クロロ −８−メチルペンタノー
ル（４，Ｏｇ）のピリジン（＋０ｍ１）溶液に水冷攪拌
下、ｐ−トルエンスルホニルクロライド（５，９ｇ）を
少しづつ加え、さらに室温下１５時間攪拌した。反応液
を氷水にあけ塩酸酸性とした後、エーテルで２回抽出し
た。
エーテル層を水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下
に濃縮して、油状の（２Ｓ、３Ｓ）−２−クロロ−３−
メチルペンチル−ｐ−トルエンスルホネート（８，４ｇ
）を得た。
に濃縮して、油状の（２Ｓ、３Ｓ）−２−クロロ−３−
メチルペンチル−ｐ−トルエンスルホネート（８，４ｇ
）を得た。
ＩＲ（Ｎｅａｔ） ： １５９０．１４５０．１３６０
、ｌ１７０ｃｍ−’製造例１５ ６０％水素化ナトリウム（１，２２ｇ）をジメチルホル
ムアミド（１０１）に懸濁し、これに水冷下、４−ヒド
ロキシ安息香酸メチル（４，４ｇ）のジメチルホルムア
ミド（１０ｍ１）溶液を１５分で滴下した。室温で１時
間攪拌後、（Ｓ）−５−メチルへブチル−ｐ−トルエン
スルホネート（８，７ｇ）を３０分で滴下した。５０℃
で１５時間攪拌した後、反応液を氷水にあけエーテルで
抽出し、有機層を集めて水洗した。硫酸マグネシウムで
乾燥した後、減圧・下に濃縮して、油状の（Ｓ） −４
−（５−メチルへブチルオキシ）安息香酸メチル（８，
０ｇ）を得た。これに抱水ヒドラジン（１１，５ｇ）と
、エタノール（５ｍ１）を加え １００〜１１０℃で１
５時間攪拌した。反応液を冷却し析出した結晶を濾取し
、水洗後、乾燥して無色結晶の（Ｓ）−４−（５−メチ
ルへブチルオキシ）安息香酸ヒドラジド（７，５ｇ）を
得た。
、ｌ１７０ｃｍ−’製造例１５ ６０％水素化ナトリウム（１，２２ｇ）をジメチルホル
ムアミド（１０１）に懸濁し、これに水冷下、４−ヒド
ロキシ安息香酸メチル（４，４ｇ）のジメチルホルムア
ミド（１０ｍ１）溶液を１５分で滴下した。室温で１時
間攪拌後、（Ｓ）−５−メチルへブチル−ｐ−トルエン
スルホネート（８，７ｇ）を３０分で滴下した。５０℃
で１５時間攪拌した後、反応液を氷水にあけエーテルで
抽出し、有機層を集めて水洗した。硫酸マグネシウムで
乾燥した後、減圧・下に濃縮して、油状の（Ｓ） −４
−（５−メチルへブチルオキシ）安息香酸メチル（８，
０ｇ）を得た。これに抱水ヒドラジン（１１，５ｇ）と
、エタノール（５ｍ１）を加え １００〜１１０℃で１
５時間攪拌した。反応液を冷却し析出した結晶を濾取し
、水洗後、乾燥して無色結晶の（Ｓ）−４−（５−メチ
ルへブチルオキシ）安息香酸ヒドラジド（７，５ｇ）を
得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： ３２５０、ｌＧ６０．１８
００．１５７０．１５００ｃｍ−’ Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２０４（Ｍ ” ）ＮＭｌ？（Ｃ
ＤＣＩ ３ ） δ： ０．００〜１．００（６１１，
ｍ）、１．００〜２．２０（９１１，ｎ＋）、３．９３
（２１１，ｔ、Ｊ−１７１１ｚ）、４．１０〜４．８０
＜２１１．ｂｒ） 、ｆ３．９０（２＋１．ｄ、Ｊ−
８＋１ｚ）、７．７０（２１１，ｄ。
００．１５７０．１５００ｃｍ−’ Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ２０４（Ｍ ” ）ＮＭｌ？（Ｃ
ＤＣＩ ３ ） δ： ０．００〜１．００（６１１，
ｍ）、１．００〜２．２０（９１１，ｎ＋）、３．９３
（２１１，ｔ、Ｊ−１７１１ｚ）、４．１０〜４．８０
＜２１１．ｂｒ） 、ｆ３．９０（２＋１．ｄ、Ｊ−
８＋１ｚ）、７．７０（２１１，ｄ。
Ｊ＝８１１ｚ）、９．５０（Ｉｌｌ、ｓ）実施例１
オクタノヒドラジド（１，８４ｇ ） 、（Ｓ）−２−
ブロモ−４’−（６−メチルオクチルオキシ）アセトフ
ェノン（１，７１ｇ ）および、酢酸ナトリウム＜０．
４１ｇ ）をエタノール（１５ｍｌ）と酢酸（５ｍｌ
）の混液に順次加え、１２０℃の油浴上で２時間加熱攪
拌した。反応液を減圧下に濃縮乾固し、残渣に水と塩化
メチレンを加えた。塩化メチレン層を分取し、これを水
洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒
を除去し油状残渣を得た。これをシリカゲルカラム（１
００ｇ）に付しｎ−へ牛サンーエーテルの混合溶媒で溶
出して、目的とする（Ｓ）−６−１４−（Ｂ−メチルオ
クチルオキシ）フェニル）−３−オクチル−１，２，４
，−）リアジン（０，３２ｇ）を淡黄色結晶として得た
。
ブロモ−４’−（６−メチルオクチルオキシ）アセトフ
ェノン（１，７１ｇ ）および、酢酸ナトリウム＜０．
４１ｇ ）をエタノール（１５ｍｌ）と酢酸（５ｍｌ
）の混液に順次加え、１２０℃の油浴上で２時間加熱攪
拌した。反応液を減圧下に濃縮乾固し、残渣に水と塩化
メチレンを加えた。塩化メチレン層を分取し、これを水
洗した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒
を除去し油状残渣を得た。これをシリカゲルカラム（１
００ｇ）に付しｎ−へ牛サンーエーテルの混合溶媒で溶
出して、目的とする（Ｓ）−６−１４−（Ｂ−メチルオ
クチルオキシ）フェニル）−３−オクチル−１，２，４
，−）リアジン（０，３２ｇ）を淡黄色結晶として得た
。
！Ｒ（Ｎｕｊｏｌ） ： １００２、ｌ５７８．１５
１０ｃ「’Ｍａｓｓ １ＩＨｚ： ４１１（Ｍ ” ）
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．６４〜２．１８
（３２１（、ｍ）、３．１５（２１！ 、 ｔ 、 Ｊ
−７１１ｚ）、４．０５（２１！、ｔ、Ｊ−７１１ｚ）
、７．０６（２１１，ｄ。
１０ｃ「’Ｍａｓｓ １ＩＨｚ： ４１１（Ｍ ” ）
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．６４〜２．１８
（３２１（、ｍ）、３．１５（２１！ 、 ｔ 、 Ｊ
−７１１ｚ）、４．０５（２１！、ｔ、Ｊ−７１１ｚ）
、７．０６（２１１，ｄ。
Ｊ−８Ｈｚ）、８．０８（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８）１ｚ）、
８．９４（ＬＨ，ｓ）実施例２ 実施例１と同様の方法で下記の化合物を得た。
８．９４（ＬＨ，ｓ）実施例２ 実施例１と同様の方法で下記の化合物を得た。
（１） （Ｓ）−３−ブチル−６−（４−（４−メチル
へキシルオキシ）フェニルｌ−１，２，４４リアジンＩ
Ｒ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６０２．１５７０．１５１
０ｅ「’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３２７（Ｍ ” ）ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７８〜２．１０（２０
１１，ｍ） 、３．１６（２１１、ｔ 、 Ｊ−７１１
ｚ）、４．０１（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７．０
５（２＋１．ｄ。
へキシルオキシ）フェニルｌ−１，２，４４リアジンＩ
Ｒ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６０２．１５７０．１５１
０ｅ「’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３２７（Ｍ ” ）ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７８〜２．１０（２０
１１，ｍ） 、３．１６（２１１、ｔ 、 Ｊ−７１１
ｚ）、４．０１（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７．０
５（２＋１．ｄ。
Ｊ＝７１１ｚ）、８．０６（２１１，ｄ、Ｊ−７１１ｚ
）、８．９０（１１１，ｓ）（２） （Ｓ）−Ｇ−１４
−（８−メチルオクチルオキシ）フェニル）−３−ベン
チルー１．２，４．−）リアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
ｌ［ｉｏｏ、１５７０．１５０８ｃ＋ｎ−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ ： ３０９（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
）δ： ０．７０〜２．１０（２４１１，ｍ） 、３
．１３（２Ｈ，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４．０３（２Ｈ，
ｔ、Ｊ−７Ｈ２）、７．０４（２Ｈ，ｄ。
）、８．９０（１１１，ｓ）（２） （Ｓ）−Ｇ−１４
−（８−メチルオクチルオキシ）フェニル）−３−ベン
チルー１．２，４．−）リアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
ｌ［ｉｏｏ、１５７０．１５０８ｃ＋ｎ−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ ： ３０９（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
）δ： ０．７０〜２．１０（２４１１，ｍ） 、３
．１３（２Ｈ，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４．０３（２Ｈ，
ｔ、Ｊ−７Ｈ２）、７．０４（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝８Ｈｚ）、８．０７（２Ｈ，ｄ、Ｊ−［（ｚ）、８
．９２（ＩＩＩ、Ｓ）（３） （Ｓ）−８−１４−（４
−メチルへキシルオキシ）フェニル）−３−ベンチルー
１．２．４− トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
ＬＧｏｏ、１５７０．１５１０ｃｍ−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３４１（Ｍ ” ）ＮＭＩ？（ＣＤＣ
Ｉ ３ ） δ ： ０．７０〜２．２０（２２１１
，ｍ） 、３．１０（２＋１．ｔ、Ｊ−７１１２）、
４．０４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、７．０（ｉ（
２＋（、ｄ。
．９２（ＩＩＩ、Ｓ）（３） （Ｓ）−８−１４−（４
−メチルへキシルオキシ）フェニル）−３−ベンチルー
１．２．４− トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
ＬＧｏｏ、１５７０．１５１０ｃｍ−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３４１（Ｍ ” ）ＮＭＩ？（ＣＤＣ
Ｉ ３ ） δ ： ０．７０〜２．２０（２２１１
，ｍ） 、３．１０（２＋１．ｔ、Ｊ−７１１２）、
４．０４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、７．０（ｉ（
２＋（、ｄ。
Ｊ＝７１１ｚ）、８．０７（２＋１．ｄ、Ｊ−７１１２
）、８．９４（１１１，３）（４）（Ｓ）−３−ヘキシ
ル−（１−１４−（４−メチルへキシルオキシ）フェニ
ルｌ−１，２，４−トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
： １６００、ｌ５７５．１５１０ｃｍ−’Ｍａｓｓ
ｔｎ／ｚ： ３５５（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３
）δ： ０．７０〜２．２０（２４１１，ｍ） 、３．
１８（２＋１．Ｌ、Ｊ−７１１Ｚ）、４．０８（２１１
，Ｌ、Ｊ−７１１ｚ）、７．０７ （２１１，ｄ 。
）、８．９４（１１１，３）（４）（Ｓ）−３−ヘキシ
ル−（１−１４−（４−メチルへキシルオキシ）フェニ
ルｌ−１，２，４−トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
： １６００、ｌ５７５．１５１０ｃｍ−’Ｍａｓｓ
ｔｎ／ｚ： ３５５（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３
）δ： ０．７０〜２．２０（２４１１，ｍ） 、３．
１８（２＋１．Ｌ、Ｊ−７１１Ｚ）、４．０８（２１１
，Ｌ、Ｊ−７１１ｚ）、７．０７ （２１１，ｄ 。
Ｊ−７１１ｚ）、８．０８（２１１，ｄ、Ｊ−７１１ｚ
）、８．９５（ＩＩＩ、５）（５）（Ｓ）−３−ヘプチ
ル−６−１４−（６−メチルオクチルオキシ）フェニル
ｌ−１，２，４−トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１６０２．１５７３．１５１０ｃｍ−’ＭｉｌＳＳ
ｍＨｚ ： ３９７（Ｍ ＋ ）ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ３ ）δ： ０．７０〜２．１０（３０１
１，ｍ） 、３．１３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、
４．０４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７．０Ｇ（２
＋１．ｄ。
）、８．９５（ＩＩＩ、５）（５）（Ｓ）−３−ヘプチ
ル−６−１４−（６−メチルオクチルオキシ）フェニル
ｌ−１，２，４−トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１６０２．１５７３．１５１０ｃｍ−’ＭｉｌＳＳ
ｍＨｚ ： ３９７（Ｍ ＋ ）ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ３ ）δ： ０．７０〜２．１０（３０１
１，ｍ） 、３．１３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、
４．０４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７．０Ｇ（２
＋１．ｄ。
Ｊ＝７１１ｚ）、８．０７（２１１，ｄ、Ｊ−７１１２
）、８．９０（１１１，５）（６）（Ｓ）−３−ヘプチ
ル−６−１４−（４−メチルヘキシルオキシ）フェニル
ｌ−１，２，４−）リアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１８００．１５７３．１５０７ｃ１１１−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３８９（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
）δ： ０．７０〜２．２０（２６１１，ｍ） 、３
．１４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４．０４（２１
＋、ｔ、Ｊ−７１１２）、７．０５（２１１，ｄ。
）、８．９０（１１１，５）（６）（Ｓ）−３−ヘプチ
ル−６−１４−（４−メチルヘキシルオキシ）フェニル
ｌ−１，２，４−）リアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１８００．１５７３．１５０７ｃ１１１−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３８９（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
）δ： ０．７０〜２．２０（２６１１，ｍ） 、３
．１４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４．０４（２１
＋、ｔ、Ｊ−７１１２）、７．０５（２１１，ｄ。
Ｊ−７１１ｚ）、８．０６（２１１，ｄ、Ｊ−７１１ｚ
）、８．９２（１１１，ｓ）（７） （Ｓ）−ｅ−１４
−（４−メチルへキシルオキシ）フェニル１−３−オク
チル−１，２，４，−）リアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
： １８００．１５７０．１５１０ｃｍ−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３８３（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
）δ： ０．６５〜２．１０（２８１１，ｍ） 、３
．１４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４．０４（２１
，ｔ、Ｊ−７１（ｚ）、７．０５（２＋１．ｄ。
）、８．９２（１１１，ｓ）（７） （Ｓ）−ｅ−１４
−（４−メチルへキシルオキシ）フェニル１−３−オク
チル−１，２，４，−）リアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
： １８００．１５７０．１５１０ｃｍ−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３８３（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
）δ： ０．６５〜２．１０（２８１１，ｍ） 、３
．１４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４．０４（２１
，ｔ、Ｊ−７１（ｚ）、７．０５（２＋１．ｄ。
Ｊ −７ＩＩ ｚ ）、８．０７（２１１，ｄ、Ｊ−７
ｔｌｚ）、８．９２（ｌＨ，ｓ）（８） （Ｓ）−６−
［４−（２−メチルブトキシ）フェニル）−３−オクチ
ル−１，２，４−）リアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１８０３．１５７２．１５１０ｃｎ＋−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３５５（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
）δ： ０．８７〜２．１０（２４１１，ｍ） 、３．
１５（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、３．８８〜４．１
６（２１１，ｍ）、７．０４（２１１，ｄＪ＝７１１ｚ
）、８．０７（２１１，ｄ、Ｊ−７１１２）、８．９２
（ＬＩｌ、ｓ）（９）（Ｓ）−ト＋４−（８−メチルオ
クチルオキシ）フェニル）−３−ノニル−１，２，４−
トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５
０５ｃｍ−’Ａａｓｓ ｍＨｚ： ４２５（Ｍ ” ）
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８５〜２．１０（
３４１１，ｍ） 、３．１３（２１１，ｔ 、 Ｊ＝７
１１ｚ）、４．０４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、７
．０６（２＋１．ｄ。
ｔｌｚ）、８．９２（ｌＨ，ｓ）（８） （Ｓ）−６−
［４−（２−メチルブトキシ）フェニル）−３−オクチ
ル−１，２，４−）リアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１８０３．１５７２．１５１０ｃｎ＋−’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３５５（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
）δ： ０．８７〜２．１０（２４１１，ｍ） 、３．
１５（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、３．８８〜４．１
６（２１１，ｍ）、７．０４（２１１，ｄＪ＝７１１ｚ
）、８．０７（２１１，ｄ、Ｊ−７１１２）、８．９２
（ＬＩｌ、ｓ）（９）（Ｓ）−ト＋４−（８−メチルオ
クチルオキシ）フェニル）−３−ノニル−１，２，４−
トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５
０５ｃｍ−’Ａａｓｓ ｍＨｚ： ４２５（Ｍ ” ）
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８５〜２．１０（
３４１１，ｍ） 、３．１３（２１１，ｔ 、 Ｊ＝７
１１ｚ）、４．０４（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、７
．０６（２＋１．ｄ。
Ｊ−７１１ｚ）、８．０６（２１１，ｄ、Ｊ−７１１ｚ
）、８．９４（１１１，ｓ）（１０） （Ｓ）−３−デ
シル−０−＋４−（６−メチルオクチルオキシ）フェニ
ルｌ−１，２，４−トリアジン１１？（Ｎｕｊｏｌ）
： １１３００．１５７０．１５０５ｃｍ−’Ｍａｓ
ｓ ｍＨｚ： ４３９（Ｍ ＋ ）ＮＭＲ（ＣＤ
ＣＩ３ ）δ：０．７０〜２．１０（３ｆ３１１．ｍ）
、３．１［１（２１１，ｔ 、 Ｊ−７１１ｚ）、４
．０２（２１１，ｔ、Ｊ−７１［ｚ）、７．０４（２＋
１．ｄ。
）、８．９４（１１１，ｓ）（１０） （Ｓ）−３−デ
シル−０−＋４−（６−メチルオクチルオキシ）フェニ
ルｌ−１，２，４−トリアジン１１？（Ｎｕｊｏｌ）
： １１３００．１５７０．１５０５ｃｍ−’Ｍａｓ
ｓ ｍＨｚ： ４３９（Ｍ ＋ ）ＮＭＲ（ＣＤ
ＣＩ３ ）δ：０．７０〜２．１０（３ｆ３１１．ｍ）
、３．１［１（２１１，ｔ 、 Ｊ−７１１ｚ）、４
．０２（２１１，ｔ、Ｊ−７１［ｚ）、７．０４（２＋
１．ｄ。
Ｊ−７１１ｚ）、８．０３（２１（、ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）
、９．０１（１１１，ｓ）（１１） （Ｓ）−８−１４
−（２−メチルブトキシ）フェニルｌ−３−（４−オク
チルオキシフェニル）−１，２，４−トリアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６０５ 、１５７８
、１５１０ｃ＋ｎ−言Ｍａｓｓ ｍＨｚ ： ４４７
（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ：
０．７０〜２．１０（２４１１，ａ） 、３．７５
〜４．２０（４１１，ｍ）、７．００〜７．２０（４１
１，ｍ）、８．１５（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、８
．５８（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）、９．００（ｌｌ
ｌ、ｓ）（１２） （Ｓ）−６−＋４−（２−メチルブ
トキシ）フェニルｌ−３−（４−オクチルフェニル）−
１，２，４−トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １
６００．１５７０．１５１０ｃ「’Ｍａｓｓ ｔａ／ｚ
： ４３１（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）６
： ０．６５〜２．１０（２４１１，ｍ） 、２．７
０（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、３．７５〜４．１０
（２１１，ｒａ）、７．１０（２１１，６゜Ｊ−８１１
ｚ）、７．３８（２１１，ｄ、Ｊ−８１１２）、８．１
４（２１１，ｄ、Ｊ−８１１２）８．５０（２１１，ｄ
、Ｊ＝８Ｈｚ）、９．００（ｌｉｔ、ｓ）（１３） （
Ｓ）−０−＋４−（０−メチルオクチルオキシ）フェニ
ルｌ−３−（４−オクチルオキシフェニル）−１，２，
４−トリアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００、 ■５７０
、１５１０ｃ１１−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ５０３（Ｍ
” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．８
８〜２．１０（３２１１，ｍ） 、４．０７（２１１
，ｔ 、 Ｊ−７１１ｚ）、８．９９〜７．２０（４１
１，１＋１）、８．１３（２１＋、ｄ。
、９．０１（１１１，ｓ）（１１） （Ｓ）−８−１４
−（２−メチルブトキシ）フェニルｌ−３−（４−オク
チルオキシフェニル）−１，２，４−トリアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６０５ 、１５７８
、１５１０ｃ＋ｎ−言Ｍａｓｓ ｍＨｚ ： ４４７
（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ：
０．７０〜２．１０（２４１１，ａ） 、３．７５
〜４．２０（４１１，ｍ）、７．００〜７．２０（４１
１，ｍ）、８．１５（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、８
．５８（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）、９．００（ｌｌ
ｌ、ｓ）（１２） （Ｓ）−６−＋４−（２−メチルブ
トキシ）フェニルｌ−３−（４−オクチルフェニル）−
１，２，４−トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １
６００．１５７０．１５１０ｃ「’Ｍａｓｓ ｔａ／ｚ
： ４３１（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）６
： ０．６５〜２．１０（２４１１，ｍ） 、２．７
０（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、３．７５〜４．１０
（２１１，ｒａ）、７．１０（２１１，６゜Ｊ−８１１
ｚ）、７．３８（２１１，ｄ、Ｊ−８１１２）、８．１
４（２１１，ｄ、Ｊ−８１１２）８．５０（２１１，ｄ
、Ｊ＝８Ｈｚ）、９．００（ｌｉｔ、ｓ）（１３） （
Ｓ）−０−＋４−（０−メチルオクチルオキシ）フェニ
ルｌ−３−（４−オクチルオキシフェニル）−１，２，
４−トリアジン ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００、 ■５７０
、１５１０ｃ１１−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ５０３（Ｍ
” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．８
８〜２．１０（３２１１，ｍ） 、４．０７（２１１
，ｔ 、 Ｊ−７１１ｚ）、８．９９〜７．２０（４１
１，１＋１）、８．１３（２１＋、ｄ。
Ｊ−７１１ｚ）、Ｉ！、５５（２１１，ｄ、Ｊ＝７１１
ｚ）、８．９８＜１１１．ｓ）実施例３ ６０％水素化ナトリウム（１１０ｍｇ ）をジメチルホ
ルムアミド（ｌｏｍｌ）に懸濁し、水冷攪拌下に３−へ
キシル−６−（４−ヒドロキシフェニル）−１，２，４
−トリアジン（ａ４ａｍｇ ）を少しずつ加えた。さら
に水冷下に１０分間攪拌したのち（ｓ）−ｅ−メチルオ
クチル−ｐ−トルエンスルホネート（８２０ｍｇ ）を
加え、室温で１．５時間さらに００℃で１．５時間攪拌
した。反応液を水（２００ｍｌ ）にあけエーテル（１
００ｍｌ Ｘ３ ）で抽出しエーテル層を集め水洗した
。硫酸マグネシウムで乾燥したのち減圧下に濃縮乾固し
て結晶性の粗生成物を得た。シリカゲルカラム（１００
ｇ）に付しｎ−ヘキサン−エーテル（７：ｌ ）の混合
溶媒で溶出し目的とする（Ｓ）−３−へキシル−〇−１
４−（［ｉ−メチルオクチルオキシ）フェニルｌ−１，
２，４−トリアジン（４８０＋ｎｇ ）を得た。
ｚ）、８．９８＜１１１．ｓ）実施例３ ６０％水素化ナトリウム（１１０ｍｇ ）をジメチルホ
ルムアミド（ｌｏｍｌ）に懸濁し、水冷攪拌下に３−へ
キシル−６−（４−ヒドロキシフェニル）−１，２，４
−トリアジン（ａ４ａｍｇ ）を少しずつ加えた。さら
に水冷下に１０分間攪拌したのち（ｓ）−ｅ−メチルオ
クチル−ｐ−トルエンスルホネート（８２０ｍｇ ）を
加え、室温で１．５時間さらに００℃で１．５時間攪拌
した。反応液を水（２００ｍｌ ）にあけエーテル（１
００ｍｌ Ｘ３ ）で抽出しエーテル層を集め水洗した
。硫酸マグネシウムで乾燥したのち減圧下に濃縮乾固し
て結晶性の粗生成物を得た。シリカゲルカラム（１００
ｇ）に付しｎ−ヘキサン−エーテル（７：ｌ ）の混合
溶媒で溶出し目的とする（Ｓ）−３−へキシル−〇−１
４−（［ｉ−メチルオクチルオキシ）フェニルｌ−１，
２，４−トリアジン（４８０＋ｎｇ ）を得た。
１１？（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００ｃｎ＋−’Ｍａ
ｓｓ ｍＨｚ： ３８３（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ
３ ）δ： ０．７２〜２．１２（２８１１，ｍ）
、３．１７（２＋１．Ｌ、Ｊ−７１１２）、 ４．０７
（２１１，Ｌ、Ｊ−７１１ｚ）、 ７．０７（２＋１．
ｄ。
ｓｓ ｍＨｚ： ３８３（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ
３ ）δ： ０．７２〜２．１２（２８１１，ｍ）
、３．１７（２＋１．Ｌ、Ｊ−７１１２）、 ４．０７
（２１１，Ｌ、Ｊ−７１１ｚ）、 ７．０７（２＋１．
ｄ。
Ｊ＝８１１ｚ）、８．１０（２＋Ｉ、ｄ、Ｊ−８１１２
）、８．９２（！！Ｉ、ｓ）実施例４ 実施例２と同様の方法で下記の化合物を得た。
）、８．９２（！！Ｉ、ｓ）実施例４ 実施例２と同様の方法で下記の化合物を得た。
（１） （Ｓ）−３−エチル−６−＋４−（１３−メチ
ルオクチルオキシ）フェニルｌ−１，２，４−トリアジ
ンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １８００ｃ「’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３２７（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
） δ ： Ｏ，０９〜１．９８（２０１１，ｍ）
、３．１９（２１１，Ｑ、Ｊ−７１１２）、４．Ｈ
（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、７．０７（２１１，ｄ
。
ルオクチルオキシ）フェニルｌ−１，２，４−トリアジ
ンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １８００ｃ「’Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３２７（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３
） δ ： Ｏ，０９〜１．９８（２０１１，ｍ）
、３．１９（２１１，Ｑ、Ｊ−７１１２）、４．Ｈ
（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、７．０７（２１１，ｄ
。
Ｊ−８１１ｚ）、８．０５（２１［、ｄ、Ｊ−８ｔ（ｚ
）、８．９１（１１１，ｓ）（２） （Ｓ）−８−１４
−（６−メチルオクチルオキシ）フェニル）−３−プロ
ピル−１，２，４−トリアジン１１？（Ｎｕｊｏｌ）
： １（ｉ００ｃｎ＋−’Ｍａｓｓ ＩＩｌ／ｚ：
３４１（Ｍ ” ）ＮＭＩ？ （ＣＤＣＩ ３ ）δ：
０．７０〜２．１５（２２１１，ｍ） 、３．１４＜
２Ｈ，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４．０５（２１Ｌｔ、Ｊ−
７ｔｌｚ）、７．０６（２＋１．ｄ。
）、８．９１（１１１，ｓ）（２） （Ｓ）−８−１４
−（６−メチルオクチルオキシ）フェニル）−３−プロ
ピル−１，２，４−トリアジン１１？（Ｎｕｊｏｌ）
： １（ｉ００ｃｎ＋−’Ｍａｓｓ ＩＩｌ／ｚ：
３４１（Ｍ ” ）ＮＭＩ？ （ＣＤＣＩ ３ ）δ：
０．７０〜２．１５（２２１１，ｍ） 、３．１４＜
２Ｈ，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４．０５（２１Ｌｔ、Ｊ−
７ｔｌｚ）、７．０６（２＋１．ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、８．１）８（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８Ｈｚ）
、１１．９３（ＩＩＩ、ｓ）（３） （Ｓ）−３−ブチ
ル−６−（４−（６−メチルオクチルオキシ）フェニル
ｌ−１，２，４−トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１６０３．１５７５ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３
５５（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．
７５〜２．１０（２４１１，ｍ） 、３．１８（２１１
，ｔ、Ｊ＝８１１ｚ）、４．０５（２＋１． ｔ、Ｊ＝
８１１ｚ）、７．０８（２＋１．ｄ。
、１１．９３（ＩＩＩ、ｓ）（３） （Ｓ）−３−ブチ
ル−６−（４−（６−メチルオクチルオキシ）フェニル
ｌ−１，２，４−トリアジンＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１６０３．１５７５ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３
５５（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．
７５〜２．１０（２４１１，ｍ） 、３．１８（２１１
，ｔ、Ｊ＝８１１ｚ）、４．０５（２＋１． ｔ、Ｊ＝
８１１ｚ）、７．０８（２＋１．ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、８．１０（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ
）、８．９５（１１１，ｓ）実施例５ ６−（４−ヒドロキシフェニル）−３−オクチル−１，
２，４トリアジン（１，００ｇ ）の塩化メチレン（２
０ｍｌ）溶液に（２Ｓ、 ３８）−２−クロロ−３−メ
チルペンタン酸（０，５５ｇ ）と４−ピロリジノピリ
ジン（０，１Ｈｇ ＞、ジシクロへキシルカルボジイミ
ド（０，７８ｇ ）を加え室温下に１５時間攪拌した。
）、８．９５（１１１，ｓ）実施例５ ６−（４−ヒドロキシフェニル）−３−オクチル−１，
２，４トリアジン（１，００ｇ ）の塩化メチレン（２
０ｍｌ）溶液に（２Ｓ、 ３８）−２−クロロ−３−メ
チルペンタン酸（０，５５ｇ ）と４−ピロリジノピリ
ジン（０，１Ｈｇ ＞、ジシクロへキシルカルボジイミ
ド（０，７８ｇ ）を加え室温下に１５時間攪拌した。
不溶物を濾去し、濾液を、３％塩酸水溶液、５％炭酸水
素ナトリウム水溶液で順次洗浄後、水洗しさらに硫酸マ
グネシウムで乾燥し減圧下に濃、縮乾固した。残渣をシ
リカゲルカラムで精製（ｎ−ヘキサン−エーテルで溶出
）し目的とする（２Ｓ、 ３８）−６−＋４−（２−ク
ロロ−３−メチルペンタノイルオキシ）フェニル）−３
−オクチル−１，２，４−）リアジン（０，３９ｇ ）
を得た。
素ナトリウム水溶液で順次洗浄後、水洗しさらに硫酸マ
グネシウムで乾燥し減圧下に濃、縮乾固した。残渣をシ
リカゲルカラムで精製（ｎ−ヘキサン−エーテルで溶出
）し目的とする（２Ｓ、 ３８）−６−＋４−（２−ク
ロロ−３−メチルペンタノイルオキシ）フェニル）−３
−オクチル−１，２，４−）リアジン（０，３９ｇ ）
を得た。
ＩＲ（Ｃ１ｌ ２ ＣＩ２溶液） ： １７６０．１
６００ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４１７（Ｍ ”
）Ｎ）ｌＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜２．３
５（２Ｌ１１．Ｉ） 、ＬＬ？＜２１１．１．Ｊ−７１
１２）、４．４０（１１１，ｄ、Ｊ−７１１２）、７．
３４（２１１，ｄ。
６００ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４１７（Ｍ ”
）Ｎ）ｌＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜２．３
５（２Ｌ１１．Ｉ） 、ＬＬ？＜２１１．１．Ｊ−７１
１２）、４．４０（１１１，ｄ、Ｊ−７１１２）、７．
３４（２１１，ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、８．１８（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ
）、８．９８（ｉｌｌ、ｓ）実施例６ ６−（４−ヒドロキシフェニル）−３−オクチル−１，
２，４トリアジン（０，９０ｇ ）を塩化メチレン（１
５ｍ１）に溶解し、水冷攪拌下に（ｓ）−ｅ−メチルオ
クタノイルクロリド（０，７１ｇ ）とトリエチルアミ
ン（０，４１ｇ）を加え、同温下に４０分間攪拌した。
）、８．９８（ｉｌｌ、ｓ）実施例６ ６−（４−ヒドロキシフェニル）−３−オクチル−１，
２，４トリアジン（０，９０ｇ ）を塩化メチレン（１
５ｍ１）に溶解し、水冷攪拌下に（ｓ）−ｅ−メチルオ
クタノイルクロリド（０，７１ｇ ）とトリエチルアミ
ン（０，４１ｇ）を加え、同温下に４０分間攪拌した。
反応液に塩化メチレンを加え、５％塩酸水溶液で洗浄し
、さらに５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、水洗
、硫酸マグネシウムによる乾燥後、減圧下に濃縮乾固し
た。残渣をシリカゲルカラムに付しｎ−ヘキサン−エー
テルの混合溶媒で溶出して目的とする（Ｓ）−８−１４
−（６−メチルオクタノイルオキシ）フェニル）−３−
オクチル−１，２，４−トリアジン（０，７３ｇ ）を
得た。
、さらに５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、水洗
、硫酸マグネシウムによる乾燥後、減圧下に濃縮乾固し
た。残渣をシリカゲルカラムに付しｎ−ヘキサン−エー
テルの混合溶媒で溶出して目的とする（Ｓ）−８−１４
−（６−メチルオクタノイルオキシ）フェニル）−３−
オクチル−１，２，４−トリアジン（０，７３ｇ ）を
得た。
１１？（Ｎｕｊｏｌ） ： １７４３、１０００
ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４２５（Ｍ ” ）ＮＭ
Ｉ？ （ＣＤＣｌ ３ ）δ： ０．７０〜２．２０（
３０１１，ｆｆ１） 、２．６２（２１ｔ、ｔ、Ｊ−７
１１２）、３．２Ｌ（２）１．ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７
．：＋４（２１１，ｄ。
ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４２５（Ｍ ” ）ＮＭ
Ｉ？ （ＣＤＣｌ ３ ）δ： ０．７０〜２．２０（
３０１１，ｆｆ１） 、２．６２（２１ｔ、ｔ、Ｊ−７
１１２）、３．２Ｌ（２）１．ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７
．：＋４（２１１，ｄ。
Ｊ−８Ｈｚ）、８．２０（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８Ｈｚ）、９
．００（１１１，８）実施例７ ４−へキシルベンゾヒドラジド（２，０ｇ）をピリジン
（１５ｍｌ）に溶解し、水冷下（Ｓ）−６−メチルオク
タノイルクロリド（１，７７ｇ ）を１５分で滴下し、
室温で０．５時間、さらに８０℃で３時間攪拌した。反
応液を室温に冷却した後、五硫化リン（１０，０ｇ ）
を３回に分けて加え、６０℃で０．５時間攪拌し、さら
に１５時間加熱還流した。反応液を氷水にあけ、濃塩酸
でｐＨを２以下に、凋整した後、エーテルで２回抽出し
た。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下に濃縮して黒褐色の油状物を得た。粗生成物をシ
リカゲルカラムに付し、ｎ−ヘキサン−エーテル混液で
溶出して無色油状物の（Ｓ）−２−（４−へキシルフェ
ニル）−５−（５−メチルへブチル）−１，３，４−チ
アジアゾール（１，８１ｇ ）を得た。
．００（１１１，８）実施例７ ４−へキシルベンゾヒドラジド（２，０ｇ）をピリジン
（１５ｍｌ）に溶解し、水冷下（Ｓ）−６−メチルオク
タノイルクロリド（１，７７ｇ ）を１５分で滴下し、
室温で０．５時間、さらに８０℃で３時間攪拌した。反
応液を室温に冷却した後、五硫化リン（１０，０ｇ ）
を３回に分けて加え、６０℃で０．５時間攪拌し、さら
に１５時間加熱還流した。反応液を氷水にあけ、濃塩酸
でｐＨを２以下に、凋整した後、エーテルで２回抽出し
た。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、
減圧下に濃縮して黒褐色の油状物を得た。粗生成物をシ
リカゲルカラムに付し、ｎ−ヘキサン−エーテル混液で
溶出して無色油状物の（Ｓ）−２−（４−へキシルフェ
ニル）−５−（５−メチルへブチル）−１，３，４−チ
アジアゾール（１，８１ｇ ）を得た。
１１？（Ｎｕｊｏｌ） ： １０００．１４００ｃｍ
−’ＮＭＩ？ （ＣＤＣｌ ３ ）δ： ０．７０〜１
．００（９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（１７１１
，ｎ＋） 、 ２．（＋３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１
ｚ）、 ３．１０（２１１，ｔ。
−’ＮＭＩ？ （ＣＤＣｌ ３ ）δ： ０．７０〜１
．００（９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（１７１１
，ｎ＋） 、 ２．（＋３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１
ｚ）、 ３．１０（２１１，ｔ。
Ｊ＝７１１ｚ）、７．２５（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２
）、２．８３（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ＩＩＩ／Ｚ： ３５８（Ｍ ” ）実施例８ 実施例７と同様の方法によって下記の化合物を得た。
）、２．８３（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ＩＩＩ／Ｚ： ３５８（Ｍ ” ）実施例８ 実施例７と同様の方法によって下記の化合物を得た。
（１） （Ｓ）−２−（４−へブチルフェニル）−５−
（５−メチルヘプチル）−１，３，４−チアジアゾール
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １８００．１４００ｃｍ−
’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．１３０〜１．０
０（９１１，ｍ）、１．１０〜２．００（１９１１，１
５） 、２．０５（２１１，１，Ｊ−７１１２）、３．
１３（２＋１．１゜Ｊ−７１１ｚ）、７．２６（２１１
，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．８７（２１１，ｄｉ−８１
１２）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３７２（Ｍ ” ）（２’
） （Ｓ）−２−（４−オクチルフェニル）−５−（５
−メチルヘプチル）−１，３，４−チアジアゾールＩＲ
（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１４００ｃｍ−’Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜１．０３（９
Ｈ，ｎ＋）、１．０７〜２．０７（２ＬＨ，＋ｎ） 、
２．６７（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、３．１３（２１
１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７．２９（２１１，ｄ、Ｊ−
８１１ｚ）、７．８８（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍ
ａｓｓ ｍＨｚ： ３８Ｂ（Ｍ ” ）（３） （Ｓ）
−２−（４−ノニルフェニル）−５−（５−メチルへブ
チル）−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ
） ： １６００．１４００ｃ１１−’ＮＭＲ（ＣＤ
ＣＩ ３ ） δ ： ０．５７〜１．００（９１
１，ｍ）、１．００〜２．０３（２３１１，ｍ） 、
２．６３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、３．１０（２
＋１．１゜Ｊ−７１１ｚ）、７．２５（２１１，ｄ、
Ｊ−８１１ｚ）、７．８７（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ
）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４００（Ｍ ” ）（
４） （Ｓ）−２−（４−オクチルフェニル）−５−（
３−メチルペンチル）−１，３，４−チアジアゾールＩ
Ｒ（Ｎｕｊｏｌ） ： １０００１１４００ｃｍ−’
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： Ｏ，ＱＯ〜１．１０（
９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（１７１１，ｍ）
、２．６０＜２１１．ｔ、Ｊ”７１１ｚ）、３．１０（
２＋１．ｔ。
（５−メチルヘプチル）−１，３，４−チアジアゾール
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １８００．１４００ｃｍ−
’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．１３０〜１．０
０（９１１，ｍ）、１．１０〜２．００（１９１１，１
５） 、２．０５（２１１，１，Ｊ−７１１２）、３．
１３（２＋１．１゜Ｊ−７１１ｚ）、７．２６（２１１
，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．８７（２１１，ｄｉ−８１
１２）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３７２（Ｍ ” ）（２’
） （Ｓ）−２−（４−オクチルフェニル）−５−（５
−メチルヘプチル）−１，３，４−チアジアゾールＩＲ
（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１４００ｃｍ−’Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜１．０３（９
Ｈ，ｎ＋）、１．０７〜２．０７（２ＬＨ，＋ｎ） 、
２．６７（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、３．１３（２１
１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７．２９（２１１，ｄ、Ｊ−
８１１ｚ）、７．８８（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍ
ａｓｓ ｍＨｚ： ３８Ｂ（Ｍ ” ）（３） （Ｓ）
−２−（４−ノニルフェニル）−５−（５−メチルへブ
チル）−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ
） ： １６００．１４００ｃ１１−’ＮＭＲ（ＣＤ
ＣＩ ３ ） δ ： ０．５７〜１．００（９１
１，ｍ）、１．００〜２．０３（２３１１，ｍ） 、
２．６３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、３．１０（２
＋１．１゜Ｊ−７１１ｚ）、７．２５（２１１，ｄ、
Ｊ−８１１ｚ）、７．８７（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ
）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４００（Ｍ ” ）（
４） （Ｓ）−２−（４−オクチルフェニル）−５−（
３−メチルペンチル）−１，３，４−チアジアゾールＩ
Ｒ（Ｎｕｊｏｌ） ： １０００１１４００ｃｍ−’
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： Ｏ，ＱＯ〜１．１０（
９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（１７１１，ｍ）
、２．６０＜２１１．ｔ、Ｊ”７１１ｚ）、３．１０（
２＋１．ｔ。
Ｊ−７１１ｚ）、７．２８（２１＋、ｄ、Ｊ−８１１２
）、７．８０（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３５８（Ｍ ” ）（５） （Ｓ）−２−（
４−ノニルフェニル）−５−（３−メチルペンチル）−
１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１６００．１４００ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）
δ： ０．７３〜１．１０（９１１，＋ｎ）、１．１０
〜２．１７（＋９１１．ｍ） 、２．６７（２１１，ｔ
、Ｊ＝７１１ｚ）、３．１３（２＋１．ｔ。
）、７．８０（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３５８（Ｍ ” ）（５） （Ｓ）−２−（
４−ノニルフェニル）−５−（３−メチルペンチル）−
１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ：
１６００．１４００ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）
δ： ０．７３〜１．１０（９１１，＋ｎ）、１．１０
〜２．１７（＋９１１．ｍ） 、２．６７（２１１，ｔ
、Ｊ＝７１１ｚ）、３．１３（２＋１．ｔ。
Ｊ−７１１ｚ）、７．２８（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ
）、７．８３（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３７２（Ｍ ” ）（６）（Ｓ）−２−へブ
チル−５−１４−（［ｉ−メチルオクチルオキシ）フェ
ニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ
） ： １８００．１５７０．１５１０ｃ「’ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．６０〜１．
００（９１１，＋ｎ）、１．００〜２．１０（２１１１
，ｍ） 、３．１０（２１１，Ｌ、Ｊ−７Ｈｚ）、４
．００（２＋１．ｔ。
）、７．８３（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３７２（Ｍ ” ）（６）（Ｓ）−２−へブ
チル−５−１４−（［ｉ−メチルオクチルオキシ）フェ
ニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ
） ： １８００．１５７０．１５１０ｃ「’ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．６０〜１．
００（９１１，＋ｎ）、１．００〜２．１０（２１１１
，ｍ） 、３．１０（２１１，Ｌ、Ｊ−７Ｈｚ）、４
．００（２＋１．ｔ。
Ｊ−７１１Ｚ）、６．９５（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ
）、７．８７（２１１，ｄｉ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｒｎ／ｚ： ４０２（Ｍ ” ）（７） （Ｓ）
−２−オクチル−５−＋４−（６−メチルオクチルオキ
シ）フェニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎ
ｕｊｏｌ） ： １１３００．１５７０．１５１０ｃ
ｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜１．
０５（９１１，ｍ）、１．０５〜２．１０（２３＋１．
ｎ＋） 、３．１３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、４
．０３（２１＋、ｔ。
）、７．８７（２１１，ｄｉ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｒｎ／ｚ： ４０２（Ｍ ” ）（７） （Ｓ）
−２−オクチル−５−＋４−（６−メチルオクチルオキ
シ）フェニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎ
ｕｊｏｌ） ： １１３００．１５７０．１５１０ｃ
ｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜１．
０５（９１１，ｍ）、１．０５〜２．１０（２３＋１．
ｎ＋） 、３．１３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、４
．０３（２１＋、ｔ。
Ｊ＝７１１ｚ）、７．００（２１１，ｄ、Ｊ−８１１２
）、７．９０（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ４１Ｂ（Ｍ ” ）（８） （Ｓ）−２−ノ
ニル−５−（４−（１３−メチルオクチルオキシ）フェ
ニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ
） ： １ｆ３００．１５７０．１５１０ｃｌ’ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．６５〜１．０３（９）
１．＋ｎ）、１．０３〜２．１７（２５Ｈ，ｍ） 、３
．１２（２Ｈ，ｔ、Ｊ−７）１ｚ）、４．０３（２１＋
、ｔ。
）、７．９０（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ４１Ｂ（Ｍ ” ）（８） （Ｓ）−２−ノ
ニル−５−（４−（１３−メチルオクチルオキシ）フェ
ニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ
） ： １ｆ３００．１５７０．１５１０ｃｌ’ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．６５〜１．０３（９）
１．＋ｎ）、１．０３〜２．１７（２５Ｈ，ｍ） 、３
．１２（２Ｈ，ｔ、Ｊ−７）１ｚ）、４．０３（２１＋
、ｔ。
Ｊ−７１１ｚ）、７．００（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８Ｈｚ）、
７．９０（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ ｍＨ
ｚ： ４３０（Ｍ ＋）（９） （Ｓ）−２−ヘプチル
−５−１４−（４−メチルヘキシルオキシ）フェニルｌ
−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
： ＩＧｏｏ、１５７０．１５１０ｃｍ−’ＮＭＩ？（
ＣＤＣＩ ３）δ： ０．７０〜１．００（９！ｌ、＋
ｎ）、１．００〜２．００（１７Ｈ，ｌ１ｌ） 、３．
１０（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、３．９７（２１１
，ｔ。
７．９０（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ ｍＨ
ｚ： ４３０（Ｍ ＋）（９） （Ｓ）−２−ヘプチル
−５−１４−（４−メチルヘキシルオキシ）フェニルｌ
−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
： ＩＧｏｏ、１５７０．１５１０ｃｍ−’ＮＭＩ？（
ＣＤＣＩ ３）δ： ０．７０〜１．００（９！ｌ、＋
ｎ）、１．００〜２．００（１７Ｈ，ｌ１ｌ） 、３．
１０（２１１，ｔ、Ｊ−７１１２）、３．９７（２１１
，ｔ。
Ｊ＝７１１ｚ）、８．９５（２１１，ｄ、 Ｊ−８１１
ｚ）、７．８７（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３７４（Ｍ ” ）（１０） （Ｓ）−２
−オクチル−５１４−（４−メチルへキシルオキシ）フ
ェニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏ
ｌ） ： １８００．１５７０．１５１０ｃ１’ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ１３）δ： ０．７１−１．００（９１１，
ｍ）、１．００〜２．００（１９１１，ｍ） 、３．１
２（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、４．０２（２１１，
Ｌ。
ｚ）、７．８７（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３７４（Ｍ ” ）（１０） （Ｓ）−２
−オクチル−５１４−（４−メチルへキシルオキシ）フ
ェニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏ
ｌ） ： １８００．１５７０．１５１０ｃ１’ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ１３）δ： ０．７１−１．００（９１１，
ｍ）、１．００〜２．００（１９１１，ｍ） 、３．１
２（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、４．０２（２１１，
Ｌ。
Ｊ−７１１ｚ）、６．９５（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ
）、７．８６（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３８８（Ｍ ” ）（１１） （Ｓ）−５
−ノニル−２−＋４−（４−メチルへキシルオキシ）フ
ェニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏ
ｌ） ： １０００．１５７０．１．５１０ｃ＋ｎ−
’ＮＭＩ？（ＣＤＣＩ ］ ）δ： ０．７Ｑ 〜１．
１０（９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（２１１！、
ｍ） 、３．１０（２１１，−ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４
．００（２１１，ｔ。
）、７．８６（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ３８８（Ｍ ” ）（１１） （Ｓ）−５
−ノニル−２−＋４−（４−メチルへキシルオキシ）フ
ェニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏ
ｌ） ： １０００．１５７０．１．５１０ｃ＋ｎ−
’ＮＭＩ？（ＣＤＣＩ ］ ）δ： ０．７Ｑ 〜１．
１０（９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（２１１！、
ｍ） 、３．１０（２１１，−ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、４
．００（２１１，ｔ。
Ｊ−７１１ｚ）、１３．９０（２＋１．６．Ｊ−８１１
２）、７．９０（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｒｎ／ｚ： ４０２Ｕ ” ）（１２） （Ｓ）−２
−オクチル−５−（４−（２−メチルブトキシ）フェニ
ル）−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
： １６００．１５７ＯＳ１５１０ｃｍ−’ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜２．１０（２４１
１，ｍ） 、３．１０（２１１，ｔ 、 Ｊ−７１１ｚ
）、３．７６〜４．１０（２１１，ＩＱ）、６．９５（
２１１，ｄ。
２）、７．９０（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｒｎ／ｚ： ４０２Ｕ ” ）（１２） （Ｓ）−２
−オクチル−５−（４−（２−メチルブトキシ）フェニ
ル）−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）
： １６００．１５７ＯＳ１５１０ｃｍ−’ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜２．１０（２４１
１，ｍ） 、３．１０（２１１，ｔ 、 Ｊ−７１１ｚ
）、３．７６〜４．１０（２１１，ＩＱ）、６．９５（
２１１，ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、７．８７（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ
）Ｍａｓｓ Ｉｌｌ／ｚ： ３６０（Ｍ ＋ ）
（１３） （Ｓ）−２−（４−オクチルオキシフェニル
）−５−（５−メチルへブチル）−１，３，４−チアジ
アゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： Ｉ（ｔｏｏ、１５
７０．１５１０ｃｍ−’ＮＭｌ？（ＣＤＣＩ ３ ）δ
： ０．７０〜１．００（９１１，ｍ）、１．００〜２
．００（２１１１，ｍ） 、３．１２（２＋１．ｔ、Ｊ
−７１１２）、４．０３（２１１，ｔ。
）Ｍａｓｓ Ｉｌｌ／ｚ： ３６０（Ｍ ＋ ）
（１３） （Ｓ）−２−（４−オクチルオキシフェニル
）−５−（５−メチルへブチル）−１，３，４−チアジ
アゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： Ｉ（ｔｏｏ、１５
７０．１５１０ｃｍ−’ＮＭｌ？（ＣＤＣＩ ３ ）δ
： ０．７０〜１．００（９１１，ｍ）、１．００〜２
．００（２１１１，ｍ） 、３．１２（２＋１．ｔ、Ｊ
−７１１２）、４．０３（２１１，ｔ。
Ｊ−７１１ｚ）、（ｉ、９８（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８！１ｚ
）、７．７４（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｔｏ／ｚ： ４０２（Ｍ ” ）（１４） （Ｓ）−２
−（４−オクチルオキシフェニル）−５−１４−（Ｇ−
メチルオクチルオキシ）フェニルｌ−１，３，４−チア
ジアゾール ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５７０．１
５１０ｃｍ’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８０
〜１．００（９１１，＋ｎ）、１．００〜２．００（２
３１１，ｍ） 、４．０３（４１１，Ｌ、Ｊ−７１１
ｚ）、０．９８（４１１，ｄ。
）、７．７４（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）Ｍａｓｓ
ｔｏ／ｚ： ４０２（Ｍ ” ）（１４） （Ｓ）−２
−（４−オクチルオキシフェニル）−５−１４−（Ｇ−
メチルオクチルオキシ）フェニルｌ−１，３，４−チア
ジアゾール ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５７０．１
５１０ｃｍ’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．８０
〜１．００（９１１，＋ｎ）、１．００〜２．００（２
３１１，ｍ） 、４．０３（４１１，Ｌ、Ｊ−７１１
ｚ）、０．９８（４１１，ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、７．９３（４１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ
）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ５０ｇ（Ｍ ” ）（
１５） （Ｓ）−２−オクチルフェニル−５−（６−メ
チルオクチルオキシフェニル）−１，３，４−チアジア
ゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５７０
．１５１０ｃＩ＋１−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩｘ ）δ：
０．７０〜１．（１３（９１１，ｍ）、１．０３〜２．
０３（２３１１，ｍ） 、２．６８（２１１，ｔ、Ｊ−
７！Ｉｚ）、４．０５（２＋１．ｔ。
）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ５０ｇ（Ｍ ” ）（
１５） （Ｓ）−２−オクチルフェニル−５−（６−メ
チルオクチルオキシフェニル）−１，３，４−チアジア
ゾールＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５７０
．１５１０ｃＩ＋１−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩｘ ）δ：
０．７０〜１．（１３（９１１，ｍ）、１．０３〜２．
０３（２３１１，ｍ） 、２．６８（２１１，ｔ、Ｊ−
７！Ｉｚ）、４．０５（２＋１．ｔ。
Ｊ−７１１ｚ）、７．００（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２
）、７．３３（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）７．９５（
２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．９８（２＋１．ｄ、
Ｊ−８１１２）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４９２（Ｍ ”
）（１６） （Ｓ）−２−デシル−５−１４−（Ｇ−メ
チルオクチルオキシ）フェニルｌ −１，、３、４−チ
アジアゾールＩＲ（ＮｕｊｏＤ ： １Ｇ００．１５
７（１，１５ＬＯｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ
： ０．７３〜１．００（９１１，ｎ＋）、１．００〜
２．０７（２７１１，ｍ）、３．ｉｏ （２Ｈ，Ｌ、Ｊ
−７１１ｚ）、４．０３（２Ｈ。
）、７．３３（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）７．９５（
２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．９８（２＋１．ｄ、
Ｊ−８１１２）Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４９２（Ｍ ”
）（１６） （Ｓ）−２−デシル−５−１４−（Ｇ−メ
チルオクチルオキシ）フェニルｌ −１，、３、４−チ
アジアゾールＩＲ（ＮｕｊｏＤ ： １Ｇ００．１５
７（１，１５ＬＯｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ
： ０．７３〜１．００（９１１，ｎ＋）、１．００〜
２．０７（２７１１，ｍ）、３．ｉｏ （２Ｈ，Ｌ、Ｊ
−７１１ｚ）、４．０３（２Ｈ。
Ｌ、Ｊ−７１１ｚ）、ｌｉ、９７（２１１，ｄ、Ｊ−８
１１ｚ）、７．８８（２＋１．ｄ、Ｊ−８！ｌｚ） Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４４４（Ｍ ” ）（１７） （
Ｓ）−２−デシル−５−１４−（４−メチルへキシルオ
キシ）フェニル）−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（
Ｎｕｊｏｌ） ： １６００ 、１５７０、１５
１０ｃｍ −冒ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ） δ ：
０．７０〜１．０３（９１１，ｍ）、１．０３〜２．１
０（２３１１，ｍ） 、 ３．１０ （２１１，Ｌ
、Ｊ−７１１ｚ）、４．０Ｑ（２１１゜ｔ、Ｊ−７１１
ｚ）、６．９５（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．８
８（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ） Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４１Ｂ（Ｍ ” ）（１８）
（Ｓ）−２−（４−オクチルオキシフェニル）−５−
（３−メチルペンチル）−１，３，４−チアジアゾール
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １０００．１５７０．１５
１０ｃｌ’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）δ： ０．７０〜１
．１０（９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（１７１１
，ｎ＋）、３．１３ （２＋１．１．Ｊ−７１１２）、
４．０３（２１１，ｔ、Ｊ＝７）１ｚ）、（ｉ、９７（
２！１．ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）、７．９０（２＋１．ｄ。
１１ｚ）、７．８８（２＋１．ｄ、Ｊ−８！ｌｚ） Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４４４（Ｍ ” ）（１７） （
Ｓ）−２−デシル−５−１４−（４−メチルへキシルオ
キシ）フェニル）−１，３，４−チアジアゾールＩＲ（
Ｎｕｊｏｌ） ： １６００ 、１５７０、１５
１０ｃｍ −冒ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ） δ ：
０．７０〜１．０３（９１１，ｍ）、１．０３〜２．１
０（２３１１，ｍ） 、 ３．１０ （２１１，Ｌ
、Ｊ−７１１ｚ）、４．０Ｑ（２１１゜ｔ、Ｊ−７１１
ｚ）、６．９５（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．８
８（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ） Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ４１Ｂ（Ｍ ” ）（１８）
（Ｓ）−２−（４−オクチルオキシフェニル）−５−
（３−メチルペンチル）−１，３，４−チアジアゾール
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １０００．１５７０．１５
１０ｃｌ’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）δ： ０．７０〜１
．１０（９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（１７１１
，ｎ＋）、３．１３ （２＋１．１．Ｊ−７１１２）、
４．０３（２１１，ｔ、Ｊ＝７）１ｚ）、（ｉ、９７（
２！１．ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）、７．９０（２＋１．ｄ。
Ｈｌｚ）
Ｍａｓｓ ｃｍ／ｚ： ３７４（Ｍ ＋）実施例９
２−（４−ヒドロキシフェニル）−５−オクチル−１，
３，４−チアジアゾール（０，５ｇ）をピリジン（５ｍ
ｌ ）に溶解し、水冷攪拌下に、（Ｓ）−８−メチルオ
クタノイルクロリド（０，３４ｇ ）を加え同温で１時
間、さらに室温で１時攪拌した。反応液を氷水にあけ塩
酸酸性とした後、エーテルで２回抽出した。エーテル層
を水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮乾
固した。残渣をシリカゲルカラムに付し、ｎ−ヘキサン
−エーテルの混合溶媒で溶出して、白色結晶性粉末の（
Ｓ）−２−オクチル−５−＋４−（８−メチルオクタノ
イルオキシ）フェニルｌ−１，３，４−チアジアゾール
（０，６１ｇ ）を得た。
３，４−チアジアゾール（０，５ｇ）をピリジン（５ｍ
ｌ ）に溶解し、水冷攪拌下に、（Ｓ）−８−メチルオ
クタノイルクロリド（０，３４ｇ ）を加え同温で１時
間、さらに室温で１時攪拌した。反応液を氷水にあけ塩
酸酸性とした後、エーテルで２回抽出した。エーテル層
を水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮乾
固した。残渣をシリカゲルカラムに付し、ｎ−ヘキサン
−エーテルの混合溶媒で溶出して、白色結晶性粉末の（
Ｓ）−２−オクチル−５−＋４−（８−メチルオクタノ
イルオキシ）フェニルｌ−１，３，４−チアジアゾール
（０，６１ｇ ）を得た。
１１？（Ｎｕｊｏｌ） ： １７４５．１５９０．１
５８０．１５００ｅＩ１１−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）
δ： ０．７０〜１．００（９１１，ｍ）、！、００〜
２．００（２１＋１．ｍ） 、２．ｔｉＯ（２１１，ｔ
、Ｊ−７ｉ１ｚ）、３．１７（２１１，ｔ。
５８０．１５００ｅＩ１１−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）
δ： ０．７０〜１．００（９１１，ｍ）、！、００〜
２．００（２１＋１．ｍ） 、２．ｔｉＯ（２１１，ｔ
、Ｊ−７ｉ１ｚ）、３．１７（２１１，ｔ。
Ｊ−７１１ｚ）、７．２２（２＋１．ｃｌ、Ｊ−１１１
１ｚ）、８．００（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）Ｍａｓ
ｓ ｍＨｚ： ４３０（Ｍ ” ）実施例１０ 実施例つと同様の方法で下記の化合物を得た。
１ｚ）、８．００（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）Ｍａｓ
ｓ ｍＨｚ： ４３０（Ｍ ” ）実施例１０ 実施例つと同様の方法で下記の化合物を得た。
（Ｓ）−２−オクチル−５−１４−（４−メチルヘキサ
ノイル）フェニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ
（Ｎｕｊｏｌ） ： １７５０．１５９５．１５８０
．１５０５ｃｍ’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．
７０〜１．１０（９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（
１７１１，ｎ＋） 、２．５７（２１１，Ｌ、Ｊ−７１
１ｚ）、３．１２（２１１，Ｌ。
ノイル）フェニルｌ−１，３，４−チアジアゾールＩＲ
（Ｎｕｊｏｌ） ： １７５０．１５９５．１５８０
．１５０５ｃｍ’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．
７０〜１．１０（９１１，ｍ）、１．１０〜２．１０（
１７１１，ｎ＋） 、２．５７（２１１，Ｌ、Ｊ−７１
１ｚ）、３．１２（２１１，Ｌ。
Ｊ＝８１１ｚ）、７．２０（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ
）、７．９５（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
Ｈｌｚ： ４０２（Ｍ ” ）実施例１１ ２−（４−ヒドロキシフェニル）−５−オクチル−１，
３，４−チアジアゾール（０，５ｇ）の塩化メチレン（
１０ｍｌ）溶液に、（２８，３Ｓ） −２−クロロ−３
−メチルペンタン酸（０，２９ｇ ）、４−ピロリジノ
ピリジン（５０ｍ１）、ジシクロへキシルカルボジイミ
ド（０，３９ｇ ）を加え室温下に１６時間攪拌した。
）、７．９５（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ
Ｈｌｚ： ４０２（Ｍ ” ）実施例１１ ２−（４−ヒドロキシフェニル）−５−オクチル−１，
３，４−チアジアゾール（０，５ｇ）の塩化メチレン（
１０ｍｌ）溶液に、（２８，３Ｓ） −２−クロロ−３
−メチルペンタン酸（０，２９ｇ ）、４−ピロリジノ
ピリジン（５０ｍ１）、ジシクロへキシルカルボジイミ
ド（０，３９ｇ ）を加え室温下に１６時間攪拌した。
不溶物を濾去し、濾液を３％塩酸水溶液、５％炭酸水素
ナトリウム水溶７（ｋで順次洗浄後、水洗しさらに硫酸
マグネシウムで乾燥して減圧下に濃縮乾固した。残渣を
シリカゲルカラムに付し、ｎ−ヘキサン−エーテルの混
合溶媒で溶出して、白色結晶性粉末の（２８，３Ｓ）
−２−オクチル−５−１４−（２−クロロ−３−メチル
ペンタノイルオキシ）フェニルＪ−１，３，４−チアジ
アゾール（０゜２ｇ）を得た。
ナトリウム水溶７（ｋで順次洗浄後、水洗しさらに硫酸
マグネシウムで乾燥して減圧下に濃縮乾固した。残渣を
シリカゲルカラムに付し、ｎ−ヘキサン−エーテルの混
合溶媒で溶出して、白色結晶性粉末の（２８，３Ｓ）
−２−オクチル−５−１４−（２−クロロ−３−メチル
ペンタノイルオキシ）フェニルＪ−１，３，４−チアジ
アゾール（０゜２ｇ）を得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １７５５．１７４５．１７
００．１６８０．１５９０ｃｌ’ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）δ： ０．７０〜２．００（２
４１１，ｍ） 、３．１２（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ
）、４．３７（１１１，ｄ、Ｊ−７１１２）、７．２０
（２＋１．ｄＪ−８１１ｚ）、８．０５（２１１，ｄ、
Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ ｍＨｚ ： ４２２（Ｍ
” ）実施例１２ 実施例６と同様の方法で下記の化合物を得た。
００．１６８０．１５９０ｃｌ’ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３ ）δ： ０．７０〜２．００（２
４１１，ｍ） 、３．１２（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ
）、４．３７（１１１，ｄ、Ｊ−７１１２）、７．２０
（２＋１．ｄＪ−８１１ｚ）、８．０５（２１１，ｄ、
Ｊ−８１１ｚ）Ｍａｓｓ ｍＨｚ ： ４２２（Ｍ
” ）実施例１２ 実施例６と同様の方法で下記の化合物を得た。
（Ｓ）−６−へキシル−３−１４−（Ｇ−メチルオクタ
ノイルオキシ）フェニルｌ−１，２，４−トリアジン１
１７（Ｎｕｊｏｌ） ： １７５５．１６００．１５
００ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３９７（Ｍ
＋ ）ＮＭ！？（ＣＤＣＩ ３ ） δ
： ０．７０〜２．００（２６＋１．ｍ） 、 ２．
５８（２１Ｌ、 ｔ 、 Ｊ−７１１ｚ）、２．９７（
２＋１．ｔ、Ｊ−月ｌｚ）、７．２３（２＋１．ｄ。
ノイルオキシ）フェニルｌ−１，２，４−トリアジン１
１７（Ｎｕｊｏｌ） ： １７５５．１６００．１５
００ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３９７（Ｍ
＋ ）ＮＭ！？（ＣＤＣＩ ３ ） δ
： ０．７０〜２．００（２６＋１．ｍ） 、 ２．
５８（２１Ｌ、 ｔ 、 Ｊ−７１１ｚ）、２．９７（
２＋１．ｔ、Ｊ−月ｌｚ）、７．２３（２＋１．ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、８．５２（１１１，Ｓ）、８．５Ｇ（
２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）実施例１３ 実施例３と同様の方法で下記の化合物を得た。
２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）実施例１３ 実施例３と同様の方法で下記の化合物を得た。
（ｓ）−ｅ−へキシル−３−＋４−（８−メチルオクチ
ルオキシ）フェニルｌ−１，２，４−）リアジン ＩＩ？（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５８０．１
５０５ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３８３（Ｍ ”
）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）δ： ０．６７〜２．１Ｇ（２
８１１，ｍ） 、２．９８＜２１１． Ｌ 、 Ｊ＝７
！Ｉｚ）、４．０３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７
．０２（２＋１．ｄ。
ルオキシ）フェニルｌ−１，２，４−）リアジン ＩＩ？（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００．１５８０．１
５０５ｃｍ−’Ｍａｓｓ ｍＨｚ： ３８３（Ｍ ”
）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）δ： ０．６７〜２．１Ｇ（２
８１１，ｍ） 、２．９８＜２１１． Ｌ 、 Ｊ＝７
！Ｉｚ）、４．０３（２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７
．０２（２＋１．ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、８．４５（１１１，ｓ）、８．４７（
２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）実施例１４ ６０％水素化ナトリウム（１５４ｍｇ）をジメチルホル
ムアミド（１０ｍｌ）に懸濁し、水冷攪拌下に３−へキ
シル−〇−（４−ヒドロキシフェニル）−１，２，４−
１−リアジン（９０１ｍｇ ）を少しずつ加えた。さら
に水冷下に１０分間攪拌したのち（Ｓ）−５−メチルへ
ブチル−ｐ−トルエンスルホネート（１，０９５ｇ ）
を加え、室温で１．５時間さらに６０℃で３時間攪拌し
た。反応液を水（３００＋ｎｌ ）にあけエーテル（１
５０１Ｘ２ ）で抽出しエーテル層を集め水洗した。硫
酸マグネシウムで乾燥したのち減圧下に濃縮乾固して結
晶性の粗生成物を得た。シリカゲルカラム（ＧＯｇ）に
付し、ｎ−ヘキサン−エーテル（Ｇ：ｌ ）の混合溶媒
で溶出し目的とする（Ｓ）−ａ−へキシル−６−１４−
（５−メチルへブチルオキシ）フェニルｌ−１，２，４
−）リアジン（３２０Ｂ ）を得た。
２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）実施例１４ ６０％水素化ナトリウム（１５４ｍｇ）をジメチルホル
ムアミド（１０ｍｌ）に懸濁し、水冷攪拌下に３−へキ
シル−〇−（４−ヒドロキシフェニル）−１，２，４−
１−リアジン（９０１ｍｇ ）を少しずつ加えた。さら
に水冷下に１０分間攪拌したのち（Ｓ）−５−メチルへ
ブチル−ｐ−トルエンスルホネート（１，０９５ｇ ）
を加え、室温で１．５時間さらに６０℃で３時間攪拌し
た。反応液を水（３００＋ｎｌ ）にあけエーテル（１
５０１Ｘ２ ）で抽出しエーテル層を集め水洗した。硫
酸マグネシウムで乾燥したのち減圧下に濃縮乾固して結
晶性の粗生成物を得た。シリカゲルカラム（ＧＯｇ）に
付し、ｎ−ヘキサン−エーテル（Ｇ：ｌ ）の混合溶媒
で溶出し目的とする（Ｓ）−ａ−へキシル−６−１４−
（５−メチルへブチルオキシ）フェニルｌ−１，２，４
−）リアジン（３２０Ｂ ）を得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １６００ｃ＋ｎ−’Ｍａｓ
ｓ ｍＨｚ： ３８９（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ
３ ）δ： ０．８０〜２．１０（２６Ｈ，ｎ＋） 、
３．１０（２Ｈ，ｔ、Ｊ−７）１ｚ）、４．０５（２１
（、ｔ、Ｊ−７Ｈｚ）、７．０４（２１１，ｄ。
ｓ ｍＨｚ： ３８９（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ
３ ）δ： ０．８０〜２．１０（２６Ｈ，ｎ＋） 、
３．１０（２Ｈ，ｔ、Ｊ−７）１ｚ）、４．０５（２１
（、ｔ、Ｊ−７Ｈｚ）、７．０４（２１１，ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、８．Ｈ（２１１，ｄ、Ｊ−８１１ｚ）
、８．９０（１１１，８）実施例１５ 実施例１４と同様の方法で下記の化合物を得た。
、８．９０（１１１，８）実施例１５ 実施例１４と同様の方法で下記の化合物を得た。
（１） （Ｓ）−６ｉ４−（５−メチルへブチルオキシ
）フェニル）−３−オクチル−１，２，４−トリアジン
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １［ｉｏｏｃｍ−’Ｍａｓ
ｓ ｔｏ／ｚ： ３９７（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ
］ ）δ： ０．８７〜２．０５（３０１１，ｍ）
、３．１７（２１１，Ｌ、Ｊ＝７１１ｚ）、４．０４（
２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７．００（２１＋、ｄ。
）フェニル）−３−オクチル−１，２，４−トリアジン
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １［ｉｏｏｃｍ−’Ｍａｓ
ｓ ｔｏ／ｚ： ３９７（Ｍ ” ）ＮＭＲ（ＣＤＣＩ
］ ）δ： ０．８７〜２．０５（３０１１，ｍ）
、３．１７（２１１，Ｌ、Ｊ＝７１１ｚ）、４．０４（
２１１，ｔ、Ｊ−７１１ｚ）、７．００（２１＋、ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、８．０１（２１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ
）、８．８７（Ｉｌｌ、ｓ）（２） （２Ｓ、３Ｓ）−
６−１４−（２−クロロ−３−メチルペンチルオキシ）
フェニル）−３−オクチル−１，２，４−１−リアジン ＩＩ？（Ｎｕｊｏｌ） ： １ＧＯＯｃ「’Ｍａｓ
ｓ ｍＨｚ： ４０３（Ｍ÷〉 ＮＭｌ？（ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．７３
〜２．２Ｇ（２４１１，＋ｎ） 、３．１５（２１１
、ｔ 、 Ｊ ＝７ ｌ１ｚ）、４．１０〜４．３９（
３１１，ｌｌ１）、７．０４（２１１，ｄ。
）、８．８７（Ｉｌｌ、ｓ）（２） （２Ｓ、３Ｓ）−
６−１４−（２−クロロ−３−メチルペンチルオキシ）
フェニル）−３−オクチル−１，２，４−１−リアジン ＩＩ？（Ｎｕｊｏｌ） ： １ＧＯＯｃ「’Ｍａｓ
ｓ ｍＨｚ： ４０３（Ｍ÷〉 ＮＭｌ？（ＣＤＣＩ ３ ） δ ： ０．７３
〜２．２Ｇ（２４１１，＋ｎ） 、３．１５（２１１
、ｔ 、 Ｊ ＝７ ｌ１ｚ）、４．１０〜４．３９（
３１１，ｌｌ１）、７．０４（２１１，ｄ。
Ｊ−８１１ｚ）、８．０３（２１＋、ｄ、Ｊ−８１１２
）、８．８９（１１１，ｓ）実施例１６ （Ｓ）−４−（５−メチルへブチルオキシ）安息香酸ヒ
ドラジド（１，５ｇ）をピリジン（１ｆｌｎｌ）に溶解
し、水冷下ノニルクロリド（１，１ｇ）を１５分で滴下
し、室温で０．５時間、さらに８０℃で２時間攪拌した
。反応液を室温に冷却した後、五硫化リン（６，３ｇ
）を３回に分けて加え、６０℃で０．５時間攪拌し、さ
らに１５時間加熱還流した。反応液を氷水にあけ、濃塩
酸でｐＩＩを２以下に調整した後、エーテルで２回抽出
した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後
、減圧下に濃縮して黒褐色の油状物を得た。この粗生成
物をシリカゲルカラムに付し、ｎ−ヘキサン−エーテル
混液で溶出して、微黄色結晶の（Ｓ）−２−１４−（５
−メチルへブチルオキシ）フェニル１−５−オクチル−
１，’３．４−チアジアゾール（Ｌ、１ｇ）を得た。
）、８．８９（１１１，ｓ）実施例１６ （Ｓ）−４−（５−メチルへブチルオキシ）安息香酸ヒ
ドラジド（１，５ｇ）をピリジン（１ｆｌｎｌ）に溶解
し、水冷下ノニルクロリド（１，１ｇ）を１５分で滴下
し、室温で０．５時間、さらに８０℃で２時間攪拌した
。反応液を室温に冷却した後、五硫化リン（６，３ｇ
）を３回に分けて加え、６０℃で０．５時間攪拌し、さ
らに１５時間加熱還流した。反応液を氷水にあけ、濃塩
酸でｐＩＩを２以下に調整した後、エーテルで２回抽出
した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後
、減圧下に濃縮して黒褐色の油状物を得た。この粗生成
物をシリカゲルカラムに付し、ｎ−ヘキサン−エーテル
混液で溶出して、微黄色結晶の（Ｓ）−２−１４−（５
−メチルへブチルオキシ）フェニル１−５−オクチル−
１，’３．４−チアジアゾール（Ｌ、１ｇ）を得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １８００ｃｎ＋−’ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜１．００（９１１
，ｍ）、１．１０〜２．００（２１Ｈ，ｍ） 、３．１
０（２１１，ｔ、Ｊ−７１（ｚ）、４．００（２１１，
ｔ。
（ＣＤＣＩ ３ ）δ： ０．７０〜１．００（９１１
，ｍ）、１．１０〜２．００（２１Ｈ，ｍ） 、３．１
０（２１１，ｔ、Ｊ−７１（ｚ）、４．００（２１１，
ｔ。
Ｊ＝７１１ｚ）、８．９０（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２
）、７．８０（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ４０２（Ｍ ＋）実施例１７ ２−（４−ヒドロキシフェニル）−５−オクチル−１，
３，４−チアジアゾール（０，７ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド溶液（５１）に、水冷下、６０％水素化
ナトリウム（０，ＩＬｇ）を加え、徐々に室温に戻し
１時間攪拌した。（２Ｓ、 ３Ｓ）−２−クロロ−３−
メチルペンチル−ｐ−ｔ−ルエンスルホネート（０，７
７ｇ ）を加え、５０℃で８時間攪拌した。反応液を氷
水にあけ、エーテルで２回抽出した。エーテル層を水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留
去して微黄色固体を得た。この粗生成物をシリカゲルカ
ラムに付し、ｎ−ヘキサン−エーテルの混合溶媒で溶出
して、白色結晶の、（２３，３８）−２−＋４〜（２−
クロロ−３−メチルペンチルオキシ）フェニル）−５−
オクチル−１，３，４−チアジアゾール（０，４３ｇ）
を得た。
）、７．８０（２＋１．ｄ、Ｊ−８１１２）Ｍａｓｓ
ｍＨｚ： ４０２（Ｍ ＋）実施例１７ ２−（４−ヒドロキシフェニル）−５−オクチル−１，
３，４−チアジアゾール（０，７ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド溶液（５１）に、水冷下、６０％水素化
ナトリウム（０，ＩＬｇ）を加え、徐々に室温に戻し
１時間攪拌した。（２Ｓ、 ３Ｓ）−２−クロロ−３−
メチルペンチル−ｐ−ｔ−ルエンスルホネート（０，７
７ｇ ）を加え、５０℃で８時間攪拌した。反応液を氷
水にあけ、エーテルで２回抽出した。エーテル層を水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留
去して微黄色固体を得た。この粗生成物をシリカゲルカ
ラムに付し、ｎ−ヘキサン−エーテルの混合溶媒で溶出
して、白色結晶の、（２３，３８）−２−＋４〜（２−
クロロ−３−メチルペンチルオキシ）フェニル）−５−
オクチル−１，３，４−チアジアゾール（０，４３ｇ）
を得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ） ： １ｔ３００ｃｍ−’ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ ３ ） δ： ０．７５〜２．２０（２５
１１，ｎ＋） 、３．１ＣＩ（２１１，１，Ｊ−７１１
２）、４．２０ （２＋１． Ｓ）、６．９５ （２＋
１． ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．８５（２１１，ｄ、Ｊ
−８１１ｚ）Ｍａｓｓ ｍ／ｚ： ４０８（Ｍ ” ）
次に、各々の化合物の相転移温度を表１〜３にまとめる
。
（ＣＤＣＩ ３ ） δ： ０．７５〜２．２０（２５
１１，ｎ＋） 、３．１ＣＩ（２１１，１，Ｊ−７１１
２）、４．２０ （２＋１． Ｓ）、６．９５ （２＋
１． ｄ、Ｊ−８１１ｚ）、７．８５（２１１，ｄ、Ｊ
−８１１ｚ）Ｍａｓｓ ｍ／ｚ： ４０８（Ｍ ” ）
次に、各々の化合物の相転移温度を表１〜３にまとめる
。
表中、Ｃは結晶相、Ｓ３は未同定のスメチック相、Ｓｅ
ｔはカイラルスメクチックＣ相、ＳＡはスメクチック人
相、ｒｓｏは等方性液体相を各々意味する。
ｔはカイラルスメクチックＣ相、ＳＡはスメクチック人
相、ｒｓｏは等方性液体相を各々意味する。
（以下余白）
（以下余白）
実施例１８
液晶組成物（Ａ）として下記構造式で示される３種類の
化合物を等モル混合した物を調製した。
化合物を等モル混合した物を調製した。
液晶組成物（Ａ）は下記に示す相転移温度を有するが、
非光学活性物質のみで構成されているため、強誘電性液
晶組成物ではない。
非光学活性物質のみで構成されているため、強誘電性液
晶組成物ではない。
Ｃ−２℃ Ｓ ｃ＊５３℃ ５Ａ８５℃ Ｎ＊６９℃
Ｉ ｓ。
Ｉ ｓ。
次いで（Ａ）に下記構造式で示される本発明による実施
例２（１）の化合物を３０ｗｔ％添加したところ、
（以下余白）Ｓｃ＊相が室温を
含む領域に出現し、強誘電性液晶組成物ＣＢ）を得るこ
とができた。（式中、Ｃに付記された（Ｓ）は、その不
斉炭素原子がＳ−絶対配置であることを表している。） この強誘電性液晶組成物（Ｂ）の相転移温度を以下に示
す。
例２（１）の化合物を３０ｗｔ％添加したところ、
（以下余白）Ｓｃ＊相が室温を
含む領域に出現し、強誘電性液晶組成物ＣＢ）を得るこ
とができた。（式中、Ｃに付記された（Ｓ）は、その不
斉炭素原子がＳ−絶対配置であることを表している。） この強誘電性液晶組成物（Ｂ）の相転移温度を以下に示
す。
Ｃ＜０℃ Ｓ ｃ＊４２℃ ５Ａ５Ｂ℃ Ｎ＊８
０”ＣＩｓ。
０”ＣＩｓ。
さらに、上記液晶組成物（Ｂ）を用いて以下のようにし
て液晶セルを組立てた。
て液晶セルを組立てた。
まず図示するように、ガラス基板１．２に透明電極３．
４を形成し、表面にポリイミドフェスを塗布し、表面を
ラビング処理して配向層５．６を形成した後、このガラ
ス基板１．２を２μｍ間隔でラビング層を対向させて保
持し、この間に上記の液晶組成物（Ｂ）を充填させて液
晶セルを作成した。７はシール材である。この液晶セル
の上下に２枚の偏光板８．９を配置して温度を２５℃に
保持した状態で電界を印加したところ、電界の極性によ
って二つの状態の表示をすることが確認できた。この時
の応答時間は±ＩＯＶの電圧印加に対して、■３００μ
Ｓｅｅであった。また、２状態間の角度は４５″と複屈
折形表示用の最適値であった。
４を形成し、表面にポリイミドフェスを塗布し、表面を
ラビング処理して配向層５．６を形成した後、このガラ
ス基板１．２を２μｍ間隔でラビング層を対向させて保
持し、この間に上記の液晶組成物（Ｂ）を充填させて液
晶セルを作成した。７はシール材である。この液晶セル
の上下に２枚の偏光板８．９を配置して温度を２５℃に
保持した状態で電界を印加したところ、電界の極性によ
って二つの状態の表示をすることが確認できた。この時
の応答時間は±ＩＯＶの電圧印加に対して、■３００μ
Ｓｅｅであった。また、２状態間の角度は４５″と複屈
折形表示用の最適値であった。
さらに、Ｓｃ＊相の高温側にＮ＊相とＳＡ相の両者を有
するために配向性にも優れ、配向領域の全面にわたり容
易にモノドメインが形成できた。
するために配向性にも優れ、配向領域の全面にわたり容
易にモノドメインが形成できた。
実施例１９
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記構造式で
示される本発明による実施例３の化合物を３０ｖｔ％添
加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｃ）を得る
ことができた。（以下、式中でＣに付記された（Ｓ）は
、その不斉炭素原子がＳ−絶対配置であることを表す。
示される本発明による実施例３の化合物を３０ｖｔ％添
加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｃ）を得る
ことができた。（以下、式中でＣに付記された（Ｓ）は
、その不斉炭素原子がＳ−絶対配置であることを表す。
）
この強誘電性液晶組成物（Ｃ）の相転移温度を以下に示
す。
す。
Ｃく０℃ Ｓｃ＊８２℃ ＳＡ ７０℃ Ｉｓ。
さらに、上記液晶組成物（Ｃ）を用いて実施例１８と同
様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印加
に対する応答時間を測定したところ５２０μＳｅｅであ
った。また、２状態間の角度は、２８°であった。
様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印加
に対する応答時間を測定したところ５２０μＳｅｅであ
った。また、２状態間の角度は、２８°であった。
実施例２０
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記構造式で
示される本発明による実施例２（７）の化合物を３０ｗ
ｔ％添加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｄ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
示される本発明による実施例２（７）の化合物を３０ｗ
ｔ％添加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｄ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
Ｃく０ ℃ Ｓｃ本 ８０℃ ＳＡ ６７
℃ Ｉｓ。
℃ Ｉｓ。
さらに、上記液晶組成物（Ｄ）を用いて、実施例１８と
同様のセルを作製して、室温における±ｌＯＶの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ１２００μＳｅｅ
であった。また、２状態間の角度は３２°であった。
同様のセルを作製して、室温における±ｌＯＶの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ１２００μＳｅｅ
であった。また、２状態間の角度は３２°であった。
実施例２１
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記構造式で
示される本発明による実施例８（１０）の化合物をａｏ
ｖｔ％添加したところ、実施例１８と同様に、強誘電性
液晶組成物（Ｅ）を得ることができた。相転移温度を以
下に示す。
示される本発明による実施例８（１０）の化合物をａｏ
ｖｔ％添加したところ、実施例１８と同様に、強誘電性
液晶組成物（Ｅ）を得ることができた。相転移温度を以
下に示す。
Ｃ＜［ｌ’ＣＳｃ＊ ５７℃ Ｎ＊ ６１℃ ｔｓ。
さらに、上記液晶組成物（Ｅ）を用いて、実施例１８と
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ４３０μＳｅｅで
あった。また、２状態間の角度は４３°であった。
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ４３０μＳｅｅで
あった。また、２状態間の角度は４３°であった。
実施例２２
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記（を造式
で示される本発明による実施例９の化合物をｌＯνｔ％
添加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｆ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
で示される本発明による実施例９の化合物をｌＯνｔ％
添加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｆ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
Ｃ（０℃ Ｓ ｃ＊５８℃ ５Ａ６２℃ Ｎ
本 ６５℃ ｒｓ。
本 ６５℃ ｒｓ。
さらに、上記液晶組成物（Ｆ）を用いて、実施例１８と
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ５１０μｓｅｃで
あった。また、２状態間の角度は２２″であった。
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ５１０μｓｅｃで
あった。また、２状態間の角度は２２″であった。
実施例２３
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記構造式で
示される本発明による実施例６の化合物を１Ｏｖｔ％添
加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｇ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
示される本発明による実施例６の化合物を１Ｏｖｔ％添
加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｇ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
Ｃ＜０℃ Ｓ ｃ＊６０℃ ５ＡＮＧ℃ Ｎ本
６７で Ｉｓ。
６７で Ｉｓ。
さらに、上記液晶組成物（Ｇ）を用いて、実施例１８と
同様のセルを作製して、室温における±ｌＯＶの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ８２０μｓｅｃで
あった。
同様のセルを作製して、室温における±ｌＯＶの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ８２０μｓｅｃで
あった。
実施例２４
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記構造式で
示される本発明による実施例１１の化合物を５ｖｔ％添
加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｈ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
示される本発明による実施例１１の化合物を５ｖｔ％添
加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｈ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
Ｃ−２℃ Ｓ ｃ＊５２℃ ５Ａ６１℃ Ｎ＊６６℃
Ｉ ＳＯさらに、上記液晶組成物（Ｈ）を用いて、実施
例１８と同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖ
の電圧印加に対する応答時間を測定したところ３９０μ
ＳｅＱであった。また、２状態間の角度は４５”であっ
た。
Ｉ ＳＯさらに、上記液晶組成物（Ｈ）を用いて、実施
例１８と同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖ
の電圧印加に対する応答時間を測定したところ３９０μ
ＳｅＱであった。また、２状態間の角度は４５”であっ
た。
実施例２５
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記構造式で
示される本発明による実施例５の化合物を５ｗｔ％添加
したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（１）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
示される本発明による実施例５の化合物を５ｗｔ％添加
したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（１）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
Ｃ−３℃ Ｓ ｃ＊５３℃ ５Ａ８１℃ Ｎ本６６℃
Ｉｓ。
Ｉｓ。
さらに、上記液晶組成物（１）を用いて、実施例１８と
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ１９０μＳｅｅで
あった。また、２状態間の角度は４０＠であった。
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ１９０μＳｅｅで
あった。また、２状態間の角度は４０＠であった。
実施例２６
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記構造式で
示される本発明による実施例１４の化合物を３０ｗｔ％
添加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｊ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
示される本発明による実施例１４の化合物を３０ｗｔ％
添加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｊ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
Ｃ（０℃ Ｓ ｃ＊５５℃ ５Ａ６４℃ Ｉｓ。
さらに、上記液晶組成物（Ｊ）を用いて、実施例１８と
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ７００μｓｅｃで
あった。また、２状態間の角度は３８°であった。
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ７００μｓｅｃで
あった。また、２状態間の角度は３８°であった。
実施例２７
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記構造式で
示される本発明による実施例１５（２）の化合物を５ｗ
ｔ％添加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｋ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
示される本発明による実施例１５（２）の化合物を５ｗ
ｔ％添加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｋ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
Ｃく０℃ Ｓ ｃ＊４８℃ ５Ａ８２℃ Ｎ＊
６６℃ Ｉｓ。
６６℃ Ｉｓ。
さらに、上記液晶組成物（Ｋ）を用いて、実施例１８と
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ １１０μＳｅｅ
であった。また、２状態間の角度は３１’であった。
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ １１０μＳｅｅ
であった。また、２状態間の角度は３１’であった。
実施例２８
実施例１８と同様に、液晶組成物（Ａ）に下記構造式で
示される本発明による実施例１７の化合物を５ｗｔ％添
加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｌ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
示される本発明による実施例１７の化合物を５ｗｔ％添
加したところ、 実施例１８と同様に、強誘電性液晶組成物（Ｌ）を得る
ことができた。相転移温度を以下に示す。
Ｃ＜０℃ Ｓ ｃ＊４８℃ ５ＡＩＬ℃ Ｎ＊
６５℃ Ｉｓ。
６５℃ Ｉｓ。
さらに、上記液晶組成物（Ｌ）を用いて、実施例１８と
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ １００μｓｅｃ
であった。また、２状態間の角度は３０＠であった。
同様のセルを作製して、室温における±１０Ｖの電圧印
加に対する応答時間を測定したところ １００μｓｅｃ
であった。また、２状態間の角度は３０＠であった。
［発明の効果］
以上の実施例から明らかな通り、本発明のへテロ環化合
物を用いて液晶組成物を調製した場合、その諸物性（相
転移系列、Ｓｃ＊相温度範囲、応答時間、チルト角等）
を容易に変化させることが可能であり、高応答性、高配
向性の液晶組成物を容易に提供することができる。した
がって、本発明の化合物を含む液晶組成物を用いた液晶
素子は、電気光学機器等の表示装置として広く使用する
ことができる。
物を用いて液晶組成物を調製した場合、その諸物性（相
転移系列、Ｓｃ＊相温度範囲、応答時間、チルト角等）
を容易に変化させることが可能であり、高応答性、高配
向性の液晶組成物を容易に提供することができる。した
がって、本発明の化合物を含む液晶組成物を用いた液晶
素子は、電気光学機器等の表示装置として広く使用する
ことができる。
図面は液晶素子の構成を示す断面図である。
１．２・・・ガラス基板
３．４・・・透明電極
５．６・・・配向層
７・・・・・・・・・シール材
８．９・・・偏光板
Claims (2)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアルキルまたはアルコキシ、Ｑは▲数
式、化学式、表等があります▼、または▲数式、化学式
、表等があります▼、 Ａは結合手、−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があり
ます▼、Ｘはハロゲン、ｎ１、ｎ２およびｎ４は０また
は１、ｎ３は０〜６の整数であり、ｎ１とｎ２は同時に
０ではないものとし、Ｃ＊は不斉炭素原子を示す）で表
わされるヘテロ環化合物。 - （２）少なくとも一方が透明な一対の基板間に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアルキルまたはアルコキシ、Ｑは▲数
式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、
表等があります▼、 Ａは結合手、−Ｏ−または▲数式、化学式、表等があり
ます▼、Ｘはハロゲン、ｎ１、ｎ２およびｎ４は０また
は１、ｎ３は０〜６の整数であり、ｎ１とｎ２は同時に
０ではないものとし、Ｃ＊は不斉炭素原子を示す）で表
わされるヘテロ環化合物を含有する液晶材料を挟持させ
てなる事を特徴とする液晶素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1044154A JPH021482A (ja) | 1988-02-25 | 1989-02-23 | ヘテロ環化合物およびこれを含有する液晶材料を用いた液晶素子 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-43021 | 1988-02-25 | ||
| JP4302188 | 1988-02-25 | ||
| JP1044154A JPH021482A (ja) | 1988-02-25 | 1989-02-23 | ヘテロ環化合物およびこれを含有する液晶材料を用いた液晶素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021482A true JPH021482A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26382766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1044154A Pending JPH021482A (ja) | 1988-02-25 | 1989-02-23 | ヘテロ環化合物およびこれを含有する液晶材料を用いた液晶素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH021482A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5091109A (en) * | 1989-08-25 | 1992-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Mesomorphic compound, liquid crystal composition containing same and liquid crystal device using same |
| EP0502110B1 (fr) * | 1989-11-24 | 1995-02-01 | Synthelabo | Derives d'(hetero) arylmethyloxy-4 phenyl diazole, leur procede de preparation et leur application en therapeutique |
| WO1998020004A1 (en) * | 1996-11-01 | 1998-05-14 | Chisso Corporation | 2-(4-alkylphenyl)-5-alkylthiadiazoles |
| CN105713621A (zh) * | 2015-12-16 | 2016-06-29 | 南开大学 | 一种基于二苯乙烯的1,3,4-噻二唑类液晶化合物及其制备方法 |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP1044154A patent/JPH021482A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5091109A (en) * | 1989-08-25 | 1992-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Mesomorphic compound, liquid crystal composition containing same and liquid crystal device using same |
| EP0502110B1 (fr) * | 1989-11-24 | 1995-02-01 | Synthelabo | Derives d'(hetero) arylmethyloxy-4 phenyl diazole, leur procede de preparation et leur application en therapeutique |
| WO1998020004A1 (en) * | 1996-11-01 | 1998-05-14 | Chisso Corporation | 2-(4-alkylphenyl)-5-alkylthiadiazoles |
| CN105713621A (zh) * | 2015-12-16 | 2016-06-29 | 南开大学 | 一种基于二苯乙烯的1,3,4-噻二唑类液晶化合物及其制备方法 |
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