JPH0214833A - シリカガラスの製造法 - Google Patents
シリカガラスの製造法Info
- Publication number
- JPH0214833A JPH0214833A JP16192588A JP16192588A JPH0214833A JP H0214833 A JPH0214833 A JP H0214833A JP 16192588 A JP16192588 A JP 16192588A JP 16192588 A JP16192588 A JP 16192588A JP H0214833 A JPH0214833 A JP H0214833A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gel
- silica glass
- morpholine
- sol
- cracks
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 12
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 abstract description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 abstract description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光学用、半導体工業用、電子工業用、理化学用
等に使用されるシリカガラスの製造法に関する。
等に使用されるシリカガラスの製造法に関する。
(従来の技術)
近年、シリカガラスの新たな製造法として注目をあびて
いるのが、ゾル−ゲル法である。
いるのが、ゾル−ゲル法である。
ゾル−ゲル法によるシリカガラスの製造法は次の通りで
ある。
ある。
一般式Si (OR) a (但しRはアルキル基を表
す)で示されるシリコンアルコキシド及び/又はその重
縮合物、例えば (RO)*5i(O3i(OR))nO5i(OR)+
(n−0〜8 )に水(あらかじめ触媒として酸、アル
カリを加えておいてもよい)を加え、加水分解しシリカ
ヒドロシルとする。この時、シリコンアルコキシドと水
とが均一な系となる様に溶媒として適当なアルコールを
加えてもよい。このシリカゾル溶液を静置、昇温、ゲル
化剤添加等によりゲル化させる。
す)で示されるシリコンアルコキシド及び/又はその重
縮合物、例えば (RO)*5i(O3i(OR))nO5i(OR)+
(n−0〜8 )に水(あらかじめ触媒として酸、アル
カリを加えておいてもよい)を加え、加水分解しシリカ
ヒドロシルとする。この時、シリコンアルコキシドと水
とが均一な系となる様に溶媒として適当なアルコールを
加えてもよい。このシリカゾル溶液を静置、昇温、ゲル
化剤添加等によりゲル化させる。
その後、ゲルを乾燥することによりシリカゲルとする。
この乾燥ゲルを適当な雰囲気中で焼結することによりシ
リカガラスを得る。
リカガラスを得る。
このゾル−ゲル法には以下の特長がある。
(113iCIa等を原料とする火炎加水分解等により
生成するスートを焼結してガラス化する従来の気相化学
蒸着法よりも低温で製造できるため、省エネルギーで低
コスト化できる。
生成するスートを焼結してガラス化する従来の気相化学
蒸着法よりも低温で製造できるため、省エネルギーで低
コスト化できる。
(2)原料として液体状態で使用可能のため、精製が容
易に行え高純度化できる。
易に行え高純度化できる。
(3)室温で液相混合できるため、他成分と混合した場
合も均質かガラスができる。
合も均質かガラスができる。
このように種々の特長をもつゾル−ゲル法によるシリカ
ガラスの製造にもまだ未解決の問題が残されている。
ガラスの製造にもまだ未解決の問題が残されている。
特にゲルを乾燥する過程でゲルにクランクや割れが発生
し易く、モノリシックな大形の乾燥ゲルを歩留りよく製
造することが困難であるという問題である。クラックや
割れの発生する原因の一つにゲル乾燥時に水やアルコー
ル等の蒸発に伴いゲル中に応力が発生し、この応力がゲ
ルの強度より大きいとゲルはクランクや割れが発生する
と考えられている。またこの応力は次式 %式% (ΔP一応力、r−表面張力、θ=ぬれ角、r−細孔径
)で表されるように、表面張力が大きい程また細孔径が
小さい程大きくなる。
し易く、モノリシックな大形の乾燥ゲルを歩留りよく製
造することが困難であるという問題である。クラックや
割れの発生する原因の一つにゲル乾燥時に水やアルコー
ル等の蒸発に伴いゲル中に応力が発生し、この応力がゲ
ルの強度より大きいとゲルはクランクや割れが発生する
と考えられている。またこの応力は次式 %式% (ΔP一応力、r−表面張力、θ=ぬれ角、r−細孔径
)で表されるように、表面張力が大きい程また細孔径が
小さい程大きくなる。
そこでこのような割れやクラックを防止する方法として
、ゾル溶液中の水の量を多くしてゲル強度を上げる方法
、加水分解温度を高くして細孔径を大きくする方法など
の方策が講じられている。
、ゾル溶液中の水の量を多くしてゲル強度を上げる方法
、加水分解温度を高くして細孔径を大きくする方法など
の方策が講じられている。
又、特開昭61−183129号公報には、割れやクラ
ンクを防止するため沸点が水より高い溶媒、例えばl−
ブタノール、l−ペンタノール、l−ヘキサノール、ト
ルエンをシリコンアルコキシドに添加する方法が提案さ
れている。
ンクを防止するため沸点が水より高い溶媒、例えばl−
ブタノール、l−ペンタノール、l−ヘキサノール、ト
ルエンをシリコンアルコキシドに添加する方法が提案さ
れている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら上記の方法ではいずれも十分に大きな乾燥
ゲル体を得るのは困難で、シリカガラス体となった時の
寸法があまり大きなものは得られなかった。
ゲル体を得るのは困難で、シリカガラス体となった時の
寸法があまり大きなものは得られなかった。
本発明は、クランクや割れの発生しないシリカガラスの
製造を提供するものである。
製造を提供するものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、ゲル乾燥中、水やアルコール等の蒸発に伴っ
て発生する応力がクランクや割れの一因になるものと考
え、このような大きな応力の発生を回避するために、シ
リコンアルコキシドの溶媒として、モルホリン及び/又
はN−モルホリンを用いるものである。
て発生する応力がクランクや割れの一因になるものと考
え、このような大きな応力の発生を回避するために、シ
リコンアルコキシドの溶媒として、モルホリン及び/又
はN−モルホリンを用いるものである。
本発明に用いるシリコンアルコキシドはシリコンアルコ
キシド単量体のみでなく重縮合物を用いてもよい、例え
ば (C1130) ssi (OSi (OC113)
z)nO5i (OC113) 2 (n = 0〜8
)を挙げることができる。これらは一種でも複数でも
使用可能である。シリコンアルコキシドのアルキル基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
が好ましい。
キシド単量体のみでなく重縮合物を用いてもよい、例え
ば (C1130) ssi (OSi (OC113)
z)nO5i (OC113) 2 (n = 0〜8
)を挙げることができる。これらは一種でも複数でも
使用可能である。シリコンアルコキシドのアルキル基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
が好ましい。
加水分解のために加える水は予め触媒として塩酸、硝酸
などの鉱酸、ギ酸、酢酸などの有機酸、また塩基として
アンモニアばかりでなくエチレンジアミンなどの有機塩
ボを加えておいても良い。
などの鉱酸、ギ酸、酢酸などの有機酸、また塩基として
アンモニアばかりでなくエチレンジアミンなどの有機塩
ボを加えておいても良い。
シリコンアルコキシドに添加するモルホリン及び/又は
N−モルホリンの添加量はシリコンアルコキシドに対し
て0.1〜5.0倍(モル比)が好ましい。また通常使
用されるエタノール等のアルコールを併用することもで
きる。さらにケトン、類、エステル類を併用することも
できる。
N−モルホリンの添加量はシリコンアルコキシドに対し
て0.1〜5.0倍(モル比)が好ましい。また通常使
用されるエタノール等のアルコールを併用することもで
きる。さらにケトン、類、エステル類を併用することも
できる。
シリコンアルコキシドとモルホリン及び/又はN−モル
ホリン並びに水とは生成するゾルをできるだけ均一なも
のとするためにスタータなどを用いてよ(混合する。ま
た超音波を照射してもよい。
ホリン並びに水とは生成するゾルをできるだけ均一なも
のとするためにスタータなどを用いてよ(混合する。ま
た超音波を照射してもよい。
ゾル調整時にシリカの微粒子を加えても良い。
生成したゾル溶液は手早く他の容器に移してゲル化させ
る。ゲル化時には生成したゲルからの溶媒の発散を防ぐ
ために容器を密封することが好ましく、またゲル化時の
温度は0℃以上が好ましい。
る。ゲル化時には生成したゲルからの溶媒の発散を防ぐ
ために容器を密封することが好ましく、またゲル化時の
温度は0℃以上が好ましい。
乾燥する工程では穴のある蓋に代えて、適当な雰囲気下
で乾燥収縮固化させて乾燥ゲルとする。
で乾燥収縮固化させて乾燥ゲルとする。
その後ゲル−ゾル法で焼結することによりシリカガラス
を製造する。
を製造する。
ゲル化する工程、乾燥する工程、焼結する工程は一般に
用いられる条件が使用される。例えばそれぞれ、0℃〜
100℃で数分〜数10日放置、室温〜100℃で数時
間〜数10日放置、適当な雰囲気下で1000〜130
0℃に50〜b 実施例1 モルホリンとテトラメトキシシランを重量比で11対l
Oの割合で混合し均一な溶液を作成し、さらにコリンの
0.01 mol/ 11水溶液をテトラメトキシシラ
ンに対して声量比で0.64倍添加し、充分混合してシ
リカゾルを得た。得られたゾルを直径200 amのテ
フロンをコーティングしたガラスシャーレに深さ10鳳
■まで入れ密封して室温でゲル化させ5日放置した。そ
のa−60℃で7日間乾燥、さらに120℃で1日乾燥
して直径約160顛鶴の乾燥ゲルを得た。こうして得ら
れた乾燥ゲルのかさ密度は0.65 g /cdであり
クラックや割れのないものであった。この乾燥ゲルを空
気中1250℃まで60℃/時間の速度で昇温加熱して
クランクや発泡などのない直径約100mmのシリカガ
ラスを得た。このシリカガラスには失透や気泡はなく品
質の高いものである。又分析の結果、このシリカガラス
は市販のシリカガラスとその特性が一致した。
用いられる条件が使用される。例えばそれぞれ、0℃〜
100℃で数分〜数10日放置、室温〜100℃で数時
間〜数10日放置、適当な雰囲気下で1000〜130
0℃に50〜b 実施例1 モルホリンとテトラメトキシシランを重量比で11対l
Oの割合で混合し均一な溶液を作成し、さらにコリンの
0.01 mol/ 11水溶液をテトラメトキシシラ
ンに対して声量比で0.64倍添加し、充分混合してシ
リカゾルを得た。得られたゾルを直径200 amのテ
フロンをコーティングしたガラスシャーレに深さ10鳳
■まで入れ密封して室温でゲル化させ5日放置した。そ
のa−60℃で7日間乾燥、さらに120℃で1日乾燥
して直径約160顛鶴の乾燥ゲルを得た。こうして得ら
れた乾燥ゲルのかさ密度は0.65 g /cdであり
クラックや割れのないものであった。この乾燥ゲルを空
気中1250℃まで60℃/時間の速度で昇温加熱して
クランクや発泡などのない直径約100mmのシリカガ
ラスを得た。このシリカガラスには失透や気泡はなく品
質の高いものである。又分析の結果、このシリカガラス
は市販のシリカガラスとその特性が一致した。
実施例2
メタノール:モルホリン=7:3の体積比になるように
した混合溶媒を使用する以外は実施例1と同様にして直
径約120a+の乾燥ゲルを得た。
した混合溶媒を使用する以外は実施例1と同様にして直
径約120a+の乾燥ゲルを得た。
こうして得られた乾燥ゲルはクラ゛ツクや割れのないも
のであった。この乾燥ゲルを実施例1と同様にして加熱
してクラックや発泡などのない直径約8011IImの
シリカガラスを得た。このシリカガラスには失透や気泡
はなく品質の高いものである。又分析の結果、このシリ
カガラスは市販のシリカガラスとその特性が一致した。
のであった。この乾燥ゲルを実施例1と同様にして加熱
してクラックや発泡などのない直径約8011IImの
シリカガラスを得た。このシリカガラスには失透や気泡
はなく品質の高いものである。又分析の結果、このシリ
カガラスは市販のシリカガラスとその特性が一致した。
(発明の効果)
本発明によれば、大型のシリカガラスをゾル−ゲル法に
よりクラックや割れを発生ずることなく、容易に製造が
可能となる。その大きさは基本的には制約がなく形状も
板状の物に限らず棒状、管状のものも製造可能となり従
来よりも安価に製造することができる。
よりクラックや割れを発生ずることなく、容易に製造が
可能となる。その大きさは基本的には制約がなく形状も
板状の物に限らず棒状、管状のものも製造可能となり従
来よりも安価に製造することができる。
Claims (1)
- 1、シリコンアルコキシドを加水分解してゾル溶液とす
る工程、ゾルをゲル化する工程、ゲルを乾燥する工程及
び焼成する工程とからなるシリカガラスの製造において
、ゾル溶液とする工程でモルホリン及び/又はN−モル
ホリンを添加することを特徴とするシリカガラスの製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16192588A JPH0214833A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | シリカガラスの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16192588A JPH0214833A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | シリカガラスの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0214833A true JPH0214833A (ja) | 1990-01-18 |
Family
ID=15744642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16192588A Pending JPH0214833A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | シリカガラスの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0214833A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5785111A (en) * | 1995-12-15 | 1998-07-28 | Sintokogio, Ltd. | Blow-squeeze molding machine |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP16192588A patent/JPH0214833A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5785111A (en) * | 1995-12-15 | 1998-07-28 | Sintokogio, Ltd. | Blow-squeeze molding machine |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0214833A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0214832A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0214831A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPS62265130A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0238321A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0825757B2 (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0238327A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0214830A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0238326A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0238324A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JP2504148B2 (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0238322A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0214836A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0214834A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0238325A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0829951B2 (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0238323A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JP2621491B2 (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPS63288920A (ja) | ケイ酸塩ガラスの製造法 | |
| JPH0761876B2 (ja) | シリカガラスを製造する方法 | |
| JPH01176235A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPS61270225A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0825759B2 (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPS63288921A (ja) | シリカガラスの製造法 | |
| JPH0259437A (ja) | シリカガラスの製造法 |