JPH0214833A - シリカガラスの製造法 - Google Patents

シリカガラスの製造法

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Publication number
JPH0214833A
JPH0214833A JP16192588A JP16192588A JPH0214833A JP H0214833 A JPH0214833 A JP H0214833A JP 16192588 A JP16192588 A JP 16192588A JP 16192588 A JP16192588 A JP 16192588A JP H0214833 A JPH0214833 A JP H0214833A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gel
silica glass
morpholine
sol
cracks
Prior art date
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Pending
Application number
JP16192588A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoichi Machii
洋一 町井
Fusaji Hayashi
林 房司
Koichi Takei
康一 武井
Toshikatsu Shimazaki
俊勝 嶋崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP16192588A priority Critical patent/JPH0214833A/ja
Publication of JPH0214833A publication Critical patent/JPH0214833A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光学用、半導体工業用、電子工業用、理化学用
等に使用されるシリカガラスの製造法に関する。
(従来の技術) 近年、シリカガラスの新たな製造法として注目をあびて
いるのが、ゾル−ゲル法である。
ゾル−ゲル法によるシリカガラスの製造法は次の通りで
ある。
一般式Si (OR) a (但しRはアルキル基を表
す)で示されるシリコンアルコキシド及び/又はその重
縮合物、例えば (RO)*5i(O3i(OR))nO5i(OR)+
(n−0〜8 )に水(あらかじめ触媒として酸、アル
カリを加えておいてもよい)を加え、加水分解しシリカ
ヒドロシルとする。この時、シリコンアルコキシドと水
とが均一な系となる様に溶媒として適当なアルコールを
加えてもよい。このシリカゾル溶液を静置、昇温、ゲル
化剤添加等によりゲル化させる。
その後、ゲルを乾燥することによりシリカゲルとする。
この乾燥ゲルを適当な雰囲気中で焼結することによりシ
リカガラスを得る。
このゾル−ゲル法には以下の特長がある。
(113iCIa等を原料とする火炎加水分解等により
生成するスートを焼結してガラス化する従来の気相化学
蒸着法よりも低温で製造できるため、省エネルギーで低
コスト化できる。
(2)原料として液体状態で使用可能のため、精製が容
易に行え高純度化できる。
(3)室温で液相混合できるため、他成分と混合した場
合も均質かガラスができる。
このように種々の特長をもつゾル−ゲル法によるシリカ
ガラスの製造にもまだ未解決の問題が残されている。
特にゲルを乾燥する過程でゲルにクランクや割れが発生
し易く、モノリシックな大形の乾燥ゲルを歩留りよく製
造することが困難であるという問題である。クラックや
割れの発生する原因の一つにゲル乾燥時に水やアルコー
ル等の蒸発に伴いゲル中に応力が発生し、この応力がゲ
ルの強度より大きいとゲルはクランクや割れが発生する
と考えられている。またこの応力は次式 %式% (ΔP一応力、r−表面張力、θ=ぬれ角、r−細孔径
)で表されるように、表面張力が大きい程また細孔径が
小さい程大きくなる。
そこでこのような割れやクラックを防止する方法として
、ゾル溶液中の水の量を多くしてゲル強度を上げる方法
、加水分解温度を高くして細孔径を大きくする方法など
の方策が講じられている。
又、特開昭61−183129号公報には、割れやクラ
ンクを防止するため沸点が水より高い溶媒、例えばl−
ブタノール、l−ペンタノール、l−ヘキサノール、ト
ルエンをシリコンアルコキシドに添加する方法が提案さ
れている。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら上記の方法ではいずれも十分に大きな乾燥
ゲル体を得るのは困難で、シリカガラス体となった時の
寸法があまり大きなものは得られなかった。
本発明は、クランクや割れの発生しないシリカガラスの
製造を提供するものである。
(課題を解決するための手段) 本発明は、ゲル乾燥中、水やアルコール等の蒸発に伴っ
て発生する応力がクランクや割れの一因になるものと考
え、このような大きな応力の発生を回避するために、シ
リコンアルコキシドの溶媒として、モルホリン及び/又
はN−モルホリンを用いるものである。
本発明に用いるシリコンアルコキシドはシリコンアルコ
キシド単量体のみでなく重縮合物を用いてもよい、例え
ば (C1130) ssi (OSi (OC113) 
z)nO5i (OC113) 2 (n = 0〜8
 )を挙げることができる。これらは一種でも複数でも
使用可能である。シリコンアルコキシドのアルキル基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
が好ましい。
加水分解のために加える水は予め触媒として塩酸、硝酸
などの鉱酸、ギ酸、酢酸などの有機酸、また塩基として
アンモニアばかりでなくエチレンジアミンなどの有機塩
ボを加えておいても良い。
シリコンアルコキシドに添加するモルホリン及び/又は
N−モルホリンの添加量はシリコンアルコキシドに対し
て0.1〜5.0倍(モル比)が好ましい。また通常使
用されるエタノール等のアルコールを併用することもで
きる。さらにケトン、類、エステル類を併用することも
できる。
シリコンアルコキシドとモルホリン及び/又はN−モル
ホリン並びに水とは生成するゾルをできるだけ均一なも
のとするためにスタータなどを用いてよ(混合する。ま
た超音波を照射してもよい。
ゾル調整時にシリカの微粒子を加えても良い。
生成したゾル溶液は手早く他の容器に移してゲル化させ
る。ゲル化時には生成したゲルからの溶媒の発散を防ぐ
ために容器を密封することが好ましく、またゲル化時の
温度は0℃以上が好ましい。
乾燥する工程では穴のある蓋に代えて、適当な雰囲気下
で乾燥収縮固化させて乾燥ゲルとする。
その後ゲル−ゾル法で焼結することによりシリカガラス
を製造する。
ゲル化する工程、乾燥する工程、焼結する工程は一般に
用いられる条件が使用される。例えばそれぞれ、0℃〜
100℃で数分〜数10日放置、室温〜100℃で数時
間〜数10日放置、適当な雰囲気下で1000〜130
0℃に50〜b 実施例1 モルホリンとテトラメトキシシランを重量比で11対l
Oの割合で混合し均一な溶液を作成し、さらにコリンの
0.01 mol/ 11水溶液をテトラメトキシシラ
ンに対して声量比で0.64倍添加し、充分混合してシ
リカゾルを得た。得られたゾルを直径200 amのテ
フロンをコーティングしたガラスシャーレに深さ10鳳
■まで入れ密封して室温でゲル化させ5日放置した。そ
のa−60℃で7日間乾燥、さらに120℃で1日乾燥
して直径約160顛鶴の乾燥ゲルを得た。こうして得ら
れた乾燥ゲルのかさ密度は0.65 g /cdであり
クラックや割れのないものであった。この乾燥ゲルを空
気中1250℃まで60℃/時間の速度で昇温加熱して
クランクや発泡などのない直径約100mmのシリカガ
ラスを得た。このシリカガラスには失透や気泡はなく品
質の高いものである。又分析の結果、このシリカガラス
は市販のシリカガラスとその特性が一致した。
実施例2 メタノール:モルホリン=7:3の体積比になるように
した混合溶媒を使用する以外は実施例1と同様にして直
径約120a+の乾燥ゲルを得た。
こうして得られた乾燥ゲルはクラ゛ツクや割れのないも
のであった。この乾燥ゲルを実施例1と同様にして加熱
してクラックや発泡などのない直径約8011IImの
シリカガラスを得た。このシリカガラスには失透や気泡
はなく品質の高いものである。又分析の結果、このシリ
カガラスは市販のシリカガラスとその特性が一致した。
(発明の効果) 本発明によれば、大型のシリカガラスをゾル−ゲル法に
よりクラックや割れを発生ずることなく、容易に製造が
可能となる。その大きさは基本的には制約がなく形状も
板状の物に限らず棒状、管状のものも製造可能となり従
来よりも安価に製造することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、シリコンアルコキシドを加水分解してゾル溶液とす
    る工程、ゾルをゲル化する工程、ゲルを乾燥する工程及
    び焼成する工程とからなるシリカガラスの製造において
    、ゾル溶液とする工程でモルホリン及び/又はN−モル
    ホリンを添加することを特徴とするシリカガラスの製造
    法。
JP16192588A 1988-06-29 1988-06-29 シリカガラスの製造法 Pending JPH0214833A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16192588A JPH0214833A (ja) 1988-06-29 1988-06-29 シリカガラスの製造法

Applications Claiming Priority (1)

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JP16192588A JPH0214833A (ja) 1988-06-29 1988-06-29 シリカガラスの製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0214833A true JPH0214833A (ja) 1990-01-18

Family

ID=15744642

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16192588A Pending JPH0214833A (ja) 1988-06-29 1988-06-29 シリカガラスの製造法

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JP (1) JPH0214833A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5785111A (en) * 1995-12-15 1998-07-28 Sintokogio, Ltd. Blow-squeeze molding machine

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5785111A (en) * 1995-12-15 1998-07-28 Sintokogio, Ltd. Blow-squeeze molding machine

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