JPH02150028A - 遠心乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は半導体デバイスの製造工程にてウェット処理さ
れた後の半導体基板の乾燥に使用する遠心乾燥装置に関
する。

［従来の技術］ 第３図は従来の遠心乾燥装置をを示す縦断面図である。

収納容器２内にはウェット処理後の多数の半導体基板１
がその面を水平にして収納されており、この収納容器２
は乾燥室５内にその回転中心を鉛直にして回転可能に設
置されるようになっている。乾燥室らの頭部に設けられ
たＮ７は脱着可能になっており、蓋７を収り外すことに
より乾燥室５内に対する半導体基板１の装入及び収出を
行う。蓋７には多数の空気取入口８が設けられていて、
蓋７が乾燥室５の頭部に設置された場合には、この空気
取入口８を介して空気が乾燥室５内に供給される。乾燥
室５の底部５ａには、その周縁部に排気管９が設けられ
ており、前述の空気取入口８を介して乾燥室５内に導入
された空気は図中矢印にて示す空気流１３となって乾燥
室５内を通流し、排気管９から外部に排出される。

乾燥室５の底部５ａの下方には、モータ等の駆動源６が
その駆動軸３を鉛直にし、先端を上方に向けて設けられ
ている。この駆動軸３は乾燥室５の底部５ａの中央に設
けられた軸受部４により支持されており、その先端部が
軸受部４を挿通して乾燥室５内に挿入されている。そし
て、駆動軸３の先端部は乾燥室５内の収納容器２に連結
されており、駆動源６が起動されて駆動軸３が回転する
ことにより、゛収納容器２は所定の回転速度で鉛直軸の
周りに回転駆動される。

このように構成された従来装置においては、ウェット処
理後の半導体基板１を収納容器２内に収納し、この収納
容器２を乾燥室５内に設置した後、駆動源６を起動して
収納容器２をその中心の鉛直回転軸の周りに高速回転さ
せる。そうすると、収納容器２内の半導体基板１には遠
心力が作用し、半導体基板１の表面に付着していた水分
が半導体基板１の面に平行の方向に飛散する。この水分
は蓋７の空気取入口８から乾燥室５内に導入された空気
流１３にのって乾燥室５の外部に排出される。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上述した従来の遠心乾燥装置においては
、半導体基板１に付着していた水分は除去することかで
きるものの、半導体基板１の表面に付着していた有機物
は除去することができず、そのまま半導体基板１の表面
に残留してしまうという欠点がある。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
水分に加えて有機物も半導体基板の表面から除去するこ
とができる遠心乾燥装置を提供することを目的とする。

し課題を解決するための手段］ 本発明に係る遠心乾燥装置は、半導体基板が装入される
チャンバと、このチャンバ内で前記半導体基板に遠心力
を付与して脱水乾燥させる遠心力付与手段と、前記チャ
ンバ内に設けられ前記半導体基板に紫外線を照射する紫
外線発生器とを有することを特徴とする。

［作用］ 本発明においては、チャンバ内に紫外線発生器を設け、
遠心力付与手段により遠心力を付与されている半導体基
板の表面に紫外線を照射する。これにより、半導体基板
の表面に残留している有機物が分解してガス化し、水分
と共にチャンバ内から排出される。

［実施例］ 次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して説
明する。

第１図は本発明の第１の実施例を示す縦断面図である。

第１図において、第３図と同一物は同一符号を付してそ
の詳しい説明を省略する。

乾燥室５の蓋７には、その中央に棒状の紫外線ランプ１
０ａが乾燥室５の中心に位置するようにその長手方向を
鉛直にして垂架されている。紫外線ランプ１０ａには電
源１１がケーブル１２により接続されている。

このように構成された遠心乾燥装置においては、駆動源
６の駆動により収納容器２及び半導体基板１を回転させ
て遠心力を付与するときに、電源１１から紫外線ランプ
１０ａに給電し、このランプ１０ａから紫外線を発光さ
せ、この紫外線で半導体基板１を照射する。これにより
、半導体基板１の表面に残留している有機物が分解し、
ガス化される。このガスは空気取入口８から排気管９へ
至る空気流１３にのって、水分と共に乾燥室５外へ排出
される。

第２図は本発明の第２の実施例を示す縦断面図である。

第２図において、第１図と同一物には同一符号を付して
説明を省略する。本実施例においては、紫外線ランプ１
０ｂが乾燥室５の側壁内面に取付られている。

この実施例では、ランプ１０ｂを第１の実施例の場合よ
りも多数設けることができるという利点を有するため、
有機物の分解ガス化がより一層迅速化される。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明は、紫外線ランプを遠心乾燥
用チャンバ内へ設けたから、乾燥時に半導体基板に紫外
線を照射することにより、半導体基板に残留する有機物
をガス化して除去することができ、半導体基板の歩留り
を著しく向上させることができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例に係る遠心乾燥装置を示
す縦断面図、第２図は本発明の第２の実施例に係る遠心
乾燥装置を示す縦断面図、第３図は従来の遠心乾燥装置
を示す縦断面図である。 １；半導体基板、２；収納容器、３；駆動軸、４；軸受
部、５；乾燥室、６；駆動源、７；蓋、８；空気収入口
、９；排気管、１０ａ、１０ｂ；紫外線ランプ、１１；
電源、１２；ケーブル、１３；空気流 ８；　９に〃スＤ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）半導体基板が装入されるチャンバと、このチャン
   バ内で前記半導体基板に遠心力を付与して脱水乾燥させ
   る遠心力付与手段と、前記チャンバ内に設けられ前記半
   導体基板に紫外線を照射する紫外線発生器とを有するこ
   とを特徴とする遠心乾燥装置。