JPH02154424A - 半導体装置等の洗浄方法 - Google Patents
半導体装置等の洗浄方法Info
- Publication number
- JPH02154424A JPH02154424A JP30803488A JP30803488A JPH02154424A JP H02154424 A JPH02154424 A JP H02154424A JP 30803488 A JP30803488 A JP 30803488A JP 30803488 A JP30803488 A JP 30803488A JP H02154424 A JPH02154424 A JP H02154424A
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- JP
- Japan
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- water
- washing
- vessel
- pure water
- cleaning tank
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- Pending
Links
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
半導体装置又は半導体製造用治具を純水を使用して洗浄
する洗浄方法に関する。
する洗浄方法に関する。
従来の技術
従来の洗浄方法を第２図を用いて説明する。
１は洗浄槽、２は純水を射出するためのノズル、３は射
出された純水の水流、３′は洗浄槽１に溜っている純水
の水流を示す。
出された純水の水流、３′は洗浄槽１に溜っている純水
の水流を示す。
発明が解決しようとする課題
従来の構成では、洗浄槽１の表層の流速が速いために洗
浄槽１の中央から下層にかけての溜水は水流３゛のよう
な循環を起こし、比重が大きい汚れは洗浄槽外に排出さ
れにり＜、時間と共に洗浄槽内の汚れは増加していく。
浄槽１の中央から下層にかけての溜水は水流３゛のよう
な循環を起こし、比重が大きい汚れは洗浄槽外に排出さ
れにり＜、時間と共に洗浄槽内の汚れは増加していく。
本発明はこのような従来の問題を解決し、比重が大きい
汚れを速やかに洗浄槽から排出てき、そのため高い洗浄
効果が持続して得られる洗浄方法を提供するものである
。
汚れを速やかに洗浄槽から排出てき、そのため高い洗浄
効果が持続して得られる洗浄方法を提供するものである
。
課題を解決するための手段
本発明は、洗浄槽の底部近傍にノズルを設（）、洗浄槽
の純水の表面とほぼ平行に純水を射出するものである。
の純水の表面とほぼ平行に純水を射出するものである。
作用
本発明によれば、ノズルから射出された純水はまず洗浄
槽底面とほぼ平行に流れ、次にその水圧により洗浄槽内
の溜水を上層に押し」二げるために、下層から上層に向
って水の流れができ、比重の大きい汚れも確実に排出さ
れていく。
槽底面とほぼ平行に流れ、次にその水圧により洗浄槽内
の溜水を上層に押し」二げるために、下層から上層に向
って水の流れができ、比重の大きい汚れも確実に排出さ
れていく。
実施例
以下、本発明の一実施例について第１図を参照しながら
説明する。第１図において、第２図の従来例と同じ部分
には同一の番号を付与し、説明を詳細する。
説明する。第１図において、第２図の従来例と同じ部分
には同一の番号を付与し、説明を詳細する。
４は純水を射出するためのノズルであり、その射出口は
洗浄槽１の底面付近に位置し、水面と平行に設番」られ
ている。５は射出された純水の水流、５′、５“は洗浄
槽内を循環する水流を示す。
洗浄槽１の底面付近に位置し、水面と平行に設番」られ
ている。５は射出された純水の水流、５′、５“は洗浄
槽内を循環する水流を示す。
前記構成において、ノズル４から射出された純水は洗浄
槽内を上層から上層に向かって斜めに通過し、洗浄槽１
の端からあふれ出て排出されてい比重が大きい汚れが洗
浄槽１の底面に溜っている場合には、前記底面と平行な
水流によって舞い上げられ、水圧により洗浄槽１の表層
へ運搬されて排出される。又、５′、５“は水流５によ
って引き起こされる循環水流であって、洗浄槽１の内側
壁に付着した汚れを舞い上らせ、やはり水流５にのせて
洗浄槽の表層へ運搬し排出される。
槽内を上層から上層に向かって斜めに通過し、洗浄槽１
の端からあふれ出て排出されてい比重が大きい汚れが洗
浄槽１の底面に溜っている場合には、前記底面と平行な
水流によって舞い上げられ、水圧により洗浄槽１の表層
へ運搬されて排出される。又、５′、５“は水流５によ
って引き起こされる循環水流であって、洗浄槽１の内側
壁に付着した汚れを舞い上らせ、やはり水流５にのせて
洗浄槽の表層へ運搬し排出される。
発明の効果
本発明によれば、洗浄槽内の溜水が常に入れ換わり、し
かも、洗浄槽内の汚れを効率的に排出てきるので、高い
洗浄力を持続することがてきる。
かも、洗浄槽内の汚れを効率的に排出てきるので、高い
洗浄力を持続することがてきる。
第１図は本発明の一実施例の概念図、第２図は従来例の
概念図である。 １・・・・・・洗浄槽、４−・・・・・・ノズル、５・
・・・・・水流、５′、５″・・・・・・槽内を循環す
る水流。
概念図である。 １・・・・・・洗浄槽、４−・・・・・・ノズル、５・
・・・・・水流、５′、５″・・・・・・槽内を循環す
る水流。
Claims (1)
- 純水を満たした洗浄槽と、前記洗浄槽の底部近傍に設け
られたノズルを有し、前記ノズルから前記洗浄槽の純水
の表面とほぼ平行に純水を射出することを特徴とする半
導体装置等の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30803488A JPH02154424A (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 半導体装置等の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30803488A JPH02154424A (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 半導体装置等の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02154424A true JPH02154424A (ja) | 1990-06-13 |
Family
ID=17976091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30803488A Pending JPH02154424A (ja) | 1988-12-06 | 1988-12-06 | 半導体装置等の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02154424A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07100443A (ja) * | 1993-10-04 | 1995-04-18 | Sankyo Eng Kk | ワークの洗浄方法及び装置 |
-
1988
- 1988-12-06 JP JP30803488A patent/JPH02154424A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07100443A (ja) * | 1993-10-04 | 1995-04-18 | Sankyo Eng Kk | ワークの洗浄方法及び装置 |
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