JPH02156567A - カラー固体撮像装置の製造方法 - Google Patents

カラー固体撮像装置の製造方法

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JPH02156567A
JPH02156567A JP63310430A JP31043088A JPH02156567A JP H02156567 A JPH02156567 A JP H02156567A JP 63310430 A JP63310430 A JP 63310430A JP 31043088 A JP31043088 A JP 31043088A JP H02156567 A JPH02156567 A JP H02156567A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [概要] カラー固体撮像装置に関し、 入射光に対する画素の感度の低下やバラツキを防止し、
入射光の透過率を向上させ、また高画素化を実現するこ
とができるカラー固体撮像装置およびその製造方法を提
供することを目的とし、複数の画素とこれら画素を覆っ
ているカバー層とを有する画素部上に、前記画素に対応
して複数の色のカラーフィルタ層を設けたカラー固体撮
像装置において、前記複数の色のカラーフィルタ層が、
前記画素部の前記カバー層上に形成されているように構
成する。
[産業上の利用分野] 本発明は、カラー固体撮像装置およびその製造方法に関
する。
[従来の技術] 従来のオンチップ式のカラー固体撮像装置およびその製
造方法、特にそのカラーフィルタ部の製造方法を、第5
図を用いて説明する。
カラー固体撮像装置の画素部は、例えばシリコン基板3
2表面に配置された複数のフォトダイオードからなる画
素34と、これら画素34間のシリコン基板32上に配
線されたアルミニウム(AIt)配線層36とを有して
いる。そしてその全面は、PSG膜からなる透明なカバ
ー[38によって覆われている。
そして、このカラー固体撮像装置の画素部の例えば赤色
用画素34・上方のカバー膜38上に、赤の色層および
シリコン酸化膜系の5OGJIQからなる透明な混色防
止層を順に塗布し、リングラフィ技術を用いて選択的な
エツチング除去を行ない、赤のカラーフィルタ層40お
よびその上の混色防止層42を形成する(第3図(a)
参照)。
次いで、全面にシリコン酸化膜系のSOG膜からなる透
明な分離層44を塗布する。続いて、この分離層44上
に、例えば緑の色層および混色防止層を順に塗布し、リ
ングラフィ技術を用いて、選択的なエツチング除去を行
ない、緑のカラーフィルタ層46およびその上の混色防
止層48を、緑色用画素34上方に形成する(第3図(
b)参照)。
次いで、全く同様にして、全面にシリコン酸化膜系のS
OG膜からなる透明な分離層50を塗布し、この分離層
50上に例えば青の色層および混色防止層を順に塗布し
た後、リングラフィ技術を用いて青のカラーフィルタ層
52およびその上の混色防止層54を、青色用画素34
上方に形成する。そして全面にシリコン酸化膜系の5O
GJIOからなる透明な分離層56を塗布する(第3図
(c)参照)。
こうして、カラー固体撮像装置の3層構造のカラーフィ
ルタ部が形成される。
[発明が解決しようとする課IEli]しかしながら、
上記従来のカラー固体撮像装置においては、分離層44
.50が下地段差によって傾斜しているため、これらの
分離層44.50上に形成される2番目以降に形成され
たカラーフィルタ層、例えば緑のカラーフィルタ層46
および青のカラーフィルタ層52は、それぞれ傾いて形
成される。このため、カラーフィルタ層46゜52を通
る入射光が、これらのカラーフィルタ層46.52−T
方の画素34に真っ直ぐに入射されなくなり、感度の低
下やバラツキが生じるという問題があった。
また、分離層44,50.56も3層構造になっている
ため、画素34上方の分離層44,50゜56を含む全
体とし・ての透明保護膜の膜厚も厚くなり、透過率が低
下するという問題もあった。
さらにまた、カラーフィルタ層40,46.52の間隔
が狭くなればなるほど、例えば緑のカラーフィルタ層4
6および青のカラーフィルタ層52の傾きは大きくなる
ため、カラーフィルタ層40.46.52の密度を高め
て高画素化を図ることが困難であるという問題があった
そこで本発明は、入射光に対する画素の感度の低下やバ
ラツキを防止し、入射光の透過率を向上させ、また高画
素化を実現することができるカラー固体撮像装置および
その製造方法を提供することを目11勺とする。
[課題を解決するための手段] 上記課題は、複数の画素とこれら画素を覆っているカバ
ー層とを有する画素部上に、前記画素に対応して複数の
色のカラーフィルタ層を設けたカラー固体撮像装置にお
いて、前記複数の色のカラーフィルタ層が、前記画素部
の前記カバー層上に形成されていることを特徴とするカ
ラー固体tm像装置によって達成される。
また、複数の画素とこれら画素を覆っているカバー層と
を有する画素部上に、前記画素に対応して複数の色のカ
ラーフィルタ層を設けたカラー固体撮像装置の製造方法
において、前記複数の画素中の第1の画素に対応する前
記カバー層上の第1の位置に、第1のカラーフィルタ層
およびこの第1のカラーフィルタ層上の混色防止層を形
成する第1の工程と、全面に、第2の色層を堆積した後
、選択的にエツチングして前記複数の画素中の第2の画
素に対応する前記カバー層上の第2の位置に第2のカラ
ーフィルタ層を形成する第2の工程とを有することを特
徴とするカラー固体撮像装置の製造方法によって達成さ
れる。
[作 用] すなわち本発明は、複数の色のカラーフィルタ層が画素
部のカバー層に直接に形成され、いわゆる単層構造とな
っているため、これらのカラーフィルタ層を通る入射・
光が真っ直ぐに画素に入射されるようにすることができ
る。
また、画素上方に3層構造の分離層を形成する必要がな
いため、カラーフィルタ層以外の透明保護膜の膜厚を薄
くすることができる。
また、池の色のカラーフィルタ層の傾斜した分離層上に
カラーフィルタ層を形成するのではないため、カラーフ
ィルタ層の相互の間隔を狭くしても、カラーフィルタ層
が傾くことはなく、カラーフィルタ層の高密度化を図る
ことができる。
[実施例コ 以下、本発明を図示する実施例に基づいて具体的に説明
する。
第1図は本発明の一実施例によるカラー固体機1象装置
を示す断面図である。
例えばシリコン基板2表面に複数のフォトダイオードか
らなる画素4が配置され、これら画素4間のシリコン基
板2上にAI配線層6が配線されている。そしてこれら
の画素4およびAj配線層6は、PSGIIIからなる
透明なカバー膜8によって覆われ、平坦化されている。
こうして、カラー固体撮像装置の画素部が形成されてい
る。
そして、このカラー固体ta像装置の画素部のカバー膜
8上には、例えば赤色用、緑色用、および青色用の各画
素4に対応して、赤のカラーフィルタ層10、緑のカラ
ーフィルタ層12、および青のカラーフィルタ14がそ
れぞれ直接に形成されている。すなわちこれらの赤のカ
ラーフィルタ層10、緑のカラーフィルタ層12、およ
び青のカラーフィルタ14は、画素部のカバー膜8上の
単層構造となっている。
そして赤のカラーフィルタ層10、緑のカラーフィルタ
層12、および青のカラーフィルタ14上には、それぞ
れ透明な混色防止層16.18.20が形成され、さら
に全面にシリコン酸化膜系のSOG膜からなる透明なカ
バー膜22が形成され、赤のカラーフィルタ層10、緑
のカラーフィルタ層12、青のカラーフィルタ14およ
びそれらの上面の混色防止層16.18.20を覆って
いる。
このように本実施例によれば、平坦なカバー膜8上に、
所望のカラーフィルタNJ10,12.14が直接に形
成されているため、これらのカラーフィルタ層!0,1
2.14を通る入射光は、真っ直ぐに各画素4に入射さ
れ、感度の低下やバラツキを生じること魂ない。
また、カラーフィルタ層10.12.14が単層構造と
なっていて、従来の3層構造の分離層を必要としないた
め、画素4上方のカラーフィルタ層以外の透明保護膜の
全体としての膜厚を十分に薄くすることができ、入射光
の透過率を向上させることができる。
さらにまた、他の色のカラーフィルタ層の傾斜した分離
層上にカラーフィルタ層を形成しているのではないため
、カラーフィルタ層10.1214の間隔を狭くしても
、カラーフィルタ層1o。
12.14が傾くことはなく、従ってカラーフィルタJ
WI0.12.14の密度を高めて高画素化を実現する
ことができる。
なお、第2図に示すように、赤のカラーフィルタ層10
、緑のカラーフィルタ層12、および青のカラーフィル
タ14の側面に、それぞれ混色防止用のサイドウオール
24,26.28を設けてもよい。これは、後述する本
発明によるカラー固体tii像装置の製造方法において
、各色の混色を防止するために用いられるものである。
次に、第3図を用いて、第1図に示したカラー固体機@
装置の製造方法を説明する。
カラー固体撮像装置の画素部は、例えばシリコン基板2
表面に配置された複数のフォトダイオードからなる画素
4と、これら画素4間のシリコン基板上に配線されたA
j配線層6とを有している。
そしてその全面は、PSGJIgからなる透明なカバー
膜8によって覆われ、平坦化されている。
そして、この画素部の平坦なカバー膜8上の全面に、第
1の色として例えば赤の色層10a、シリコン酸化膜系
のSOG膜からなる透明な混色防止層16a、およびレ
ジストを順に塗布する。そしてこのレジストのパターニ
ングを行ない、赤色用画素4上方にレジスト14を残留
させる(第3図(a)参照)。
次いで、このレジスト14をマスクとして、赤の色層1
0aおよび混色防止層16aのエツチングを行ない、赤
のカラーフィルタ層10およびこのカラーフィルタ層1
0上の混色防止層16を形成する(第3図(b)参照)
次いで、全面に第2の色として例えば緑の色層12aお
よびシリコン酸化膜系のSOG膜からなる透明な混色防
止層18aを順に塗布する(第3図<c)”)照)、続
いて、赤のカラーフィルタ層10およびこのカラーフィ
ルタ層10上の混色防止層16の形成と同様にして、緑
色用画素4上方に、緑のカラーフィルタ層12およびこ
のカラーフィルタ層12上の混色防止層18を形成する
(第3図(d)参照)。
次いで、全く同様にして、第3の色として例えば青のカ
ラーフィルタ層14およびこのカラーフィルタ層14上
の透明な混色防止層20aを、青色用画素4上方に形成
する。このようにして、所望の色のカラーフィルタ層1
0,12.14を形成した後、全面にシリコン酸化膜系
の5OGJliからなる透明なカバー膜22を形成する
(第3図(e)参照)。
こうして、カラー固体撮像装置の画素部のカバー膜8上
に、例えば赤、緑、青等のカラーフィルタ層10,12
.14が、直接に単層横道で設けられたカラー固t*撮
倣装置が形成される。
次に、第4図を用いて、第2図に示したカラー固体撮像
装置の製造方法を説明する。
第3図(a)〜(b)の工程と同様にして、例えばシリ
コン基板2表面に配置された複数のフォトダイオードか
らなる画素4と、これら画素4間のシリコン基板上に配
線されたAj配線層6とを有し、全面が平坦なPSGW
AからなるカバーWA8によって覆よれているカラー固
体撮像装置の画素部の例えば赤色用画素4上方のカバー
膜8上に、第1の色として赤のカラーフィルタ層10お
よびこのカラーフィルタ層10上の透明な混色防止層1
6を形成する(第4図(a)参照)。
次いで、全面にシ・リコン酸化膜系の300824 a
 f!−塗布する(第4図(b)参照)、続いて、エツ
チングガスCF4  (100SCCI) 102 (
10SCC1l)を用いて10分間程度、5OGlli
24 aのエツチングを行ない、カバー膜8上の5OG
IIA24aを除去すると共に、赤のカラーフィルタ層
10側面に混色防止用のサイドウオール24を形成する
(第4図(c)参照)。
次いで、全面に第2の色として例えば緑の色層I2aお
よびシリコン酸化j摸゛系の5OGJIQからなる透明
な混色1vj止層18aを順に塗布する(第4図(d)
参照)、続いて、赤のカラーフィルタ層10、このカラ
ーフィルタ層10上の混色防止層16、およびカラーフ
ィルタ層10111!面の混色防止用のサイドウオール
24の形成と同様にして、緑色用画素4上方に、緑のカ
ラーフィルタ層12、このカラーフィルタ層12上の混
色防止層18、およびカラーフィルタ層12111面の
混色防止用のサイドウオール26を形成する(第4図(
e)参照)。
次いで、全く同様にして、例えば青用画素4上方に、第
3の色として青のカラーフィルタ層14、このカラーフ
ィルタ層14上の透明な混色防止層20、およびカラ−
フィルタ層14側面の混色防止用のサイドウオール28
を形成する。このようにして、所望の色のカラーフィル
タ層10.12゜14を形成した後、全面にシリコン酸
化膜系のSOG膜からなる透明なカバーII!22を形
成する(第1図(f)参照)。
こうして、カラー固体撮像装置の画素部のカバー)摸8
上に、側面にそれぞれ混色防止用のサイドウオール24
.26.28を伴った例えば赤、緑、青等のカラーフィ
ルタ層10.12.14が、直接に単層構造で設けられ
たカラー固体i像装置が形成される。
このようなサイドウオール24,26.28を有してい
ない第3図に示される実施例においては、第3図(c)
の工程に示されるように、例えば赤のカラーフィルタ層
10およびこのカラーフィルタ層10上の混色防止層1
6を形成した後、全面に例えば緑の色層1,2aを塗布
する際に、赤のカラーフィルタ層10と緑の色層L2a
とが混色を起こすおそれがある。
これに対して、本実施例においてカラーフィルタ層10
.12.14の側面にそれぞれ形成された混色防止用の
サイドウオール24,26.28は、このような混色の
危険を完全に無くすることができる。
従って、本実施例によれば、前述したように、平坦なカ
バー1118上に直接に形成されるカラーフィルタNJ
I0,12.14を通って入射光は真っ直ぐに各画素4
に入射され、感度の低下やバラツキを生じることはない
。また、画素4上方のカラーフィルタ層以外の透明保護
膜の全体としての膜厚を十分に薄くなり、入射光の透過
率が向上する。
さらによた、カラーフィルタ層10,12.14の間隔
を狭くしても、カラーフィルタ層10.12.111が
傾くことはないため、カラーフィルタ層10,12.1
4の密度を高めて高画素化を実現することができる。
そしてこのような効果と件に、各カラ−フィルタ層10
,12.14間の混色を完全に防止することができる。
なお、上記実施例においては、色として赤、緑、青の3
色を用いたが、これらの色や数に限定されることはなく
、用途に応じて必要な色を必要な数たけ用いればよい。
また、第3図または第4図に示した実施例によるカラー
固体撮像装置の製造方法においては、カラー固体撮像装
置の画素部上に直接にカラーフィルタ部を形成するオン
チップ式の場合を述べたが、本発明は、貼り合わせ方式
にも適用することができる。
すなわら、カラー固体撮像装置の画素部のカバー膜8上
にではなく、ガラス基板上において、将来貼り合わせる
べき画素部の所定の画素に対応する位置に、それぞれの
色のカラーフィルタ層を、単層構造で形成すればよい。
そして、このようにして形成したカラーフィルタ部を、
カラー固体撮像装置の画素部に貼り合わせて、カラー固
体撮像装置を作製すること・ができる。
[発明の効果コ 以上のように本発明によれば、複数の色のカラーフィル
タ層が画素部のカバー層上に直接に形成されて、いわゆ
る1W層構造となっているため、これらのカラーフィル
タ層を通る入射光が真っ直ぐに画素に入射され、感度の
低下やバラツキを生じるないようにすることができる。
また、カラーフィルタ層が単層構造となっているため、
従来の3層椙逍の分離層を必要とせず、画素上方のカラ
ーフィルタ層以外の透明C%N膜の全体としての膜厚を
十分に薄くすることができ、入射光の透過率を向上させ
ることができる。
また、池の色のカラーフィルタ層の傾斜した分離層上に
カラーフィルタ層を形成しているのではないため、カラ
ーフィルタ層の相互の間隔を狭くしても、カラーフィル
タ層が傾くことはなく、従ってカラーフィルタ層の密度
を高めて高画素化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例によるカラー固体撮像装置
を示す断面図、 第2図は、本発明の曲の実施例によるカラー固体撮像袋
!を示す断面図、 第3図は、第1図のカラー固体撮像装置の製造方法を示
す工程図、 第4図は、第2図のカラー固体撮像装置の製造方法を示
す工程図、 第5図は、従来のカラー固体撮像装置の製造方法を示す
工程図である。 16、 18. 18a、  20. 42. 48・
・・・・・混色防止層、 24.26.28・・・・・・サイドウオール、24a
・−・−5OGp14. 44.50.56・・・・・・分離層。 図において、 2.32・・・・・・シリコン基板、 4.34・・・・・・画素、 6.36・・・・・・A1配線層、 8.22.38・・・・・・カバー膜、10.12,1
4,40,46.52・・・・・・カラーフィルタ層、 12a・・・・・・色層、 第3図 莞4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、複数の画素とこれら画素を覆っているカバー層とを
    有する画素部上に、前記画素に対応して複数の色のカラ
    ーフィルタ層を設けたカラー固体撮像装置において、 前記複数の色のカラーフィルタ層が、前記画素部の前記
    カバー層上に形成されている ことを特徴とするカラー固体撮像装置。 2、複数の画素とこれら画素を覆っているカバー層とを
    有する画素部上に、前記画素に対応して複数の色のカラ
    ーフィルタ層を設けたカラー固体撮像装置の製造方法に
    おいて、 前記複数の画素中の第1の画素に対応する前記カバー層
    上の第1の位置に、第1のカラーフィルタ層およびこの
    第1のカラーフィルタ層上の混色防止層を形成する第1
    の工程と、 全面に、第2の色層を堆積した後、選択的にエッチング
    して前記複数の画素中の第2の画素に対応する前記カバ
    ー層上の第2の位置に第2のカラーフィルタ層を形成す
    る第2の工程と を有することを特徴とするカラー固体撮像装置の製造方
    法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970067920A (ko) * 1996-03-07 1997-10-13 문정환 고체촬상소자의 제조방법

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JPS63143504A (ja) * 1986-12-05 1988-06-15 Toshiba Corp カラ−固体撮像装置の製造方法
JPS63155002A (ja) * 1986-12-19 1988-06-28 Fujitsu Ltd 固体撮像装置の製造方法

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